JPWO2010134470A1 - 表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサ - Google Patents

表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサ Download PDF

Info

Publication number
JPWO2010134470A1
JPWO2010134470A1 JP2011514392A JP2011514392A JPWO2010134470A1 JP WO2010134470 A1 JPWO2010134470 A1 JP WO2010134470A1 JP 2011514392 A JP2011514392 A JP 2011514392A JP 2011514392 A JP2011514392 A JP 2011514392A JP WO2010134470 A1 JPWO2010134470 A1 JP WO2010134470A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film thickness
different
dielectric member
excitation sensor
plasmon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011514392A
Other languages
English (en)
Inventor
高敏 彼谷
高敏 彼谷
二宮 英隆
英隆 二宮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Publication of JPWO2010134470A1 publication Critical patent/JPWO2010134470A1/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/645Specially adapted constructive features of fluorimeters
    • G01N21/648Specially adapted constructive features of fluorimeters using evanescent coupling or surface plasmon coupling for the excitation of fluorescence

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Abstract

反応層の所望位置に捕捉されたアナライトを標識した蛍光物質を、確実に励起させて高感度に蛍光検出を行うことができ、さらに複数のアナライト検出を低コストでしかも短時間で行うことのできる表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサを提供することを目的とする。プラズモン励起センサは、第1誘電体部材と、前記第1誘電体部材の上面に形成された金属薄膜と、前記金属薄膜の上面に形成された第2誘電体部材と、前記第2誘電体部材の上面に形成された反応層と、から少なくとも構成され、前記第2誘電体部材は、その膜厚の一部が他の部分とは異なる異膜厚部を有する。

Description

本発明は、表面プラズモン励起増強蛍光分光法(SPFS;Surface Plasmon-field enhanced Fluorescence Spectroscopy)の原理に基づいた表面プラズモン増強蛍光測定装置およびこの表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサに関する。
従来より、表面プラズモン励起増強蛍光分光法(SPFS)の原理に基づき、例えば生体内の極微少なアナライトの検出が行われている。
表面プラズモン励起増強蛍光分光法(SPFS)は、光源より照射したレーザ光(励起光)が金属薄膜表面で全反射減衰(ATR;attenuated total reflectance)する条件において、金属薄膜表面に粗密波(表面プラズモン)を発生させることによって、光源より照射したレーザ光(励起光)が有するフォトン量を数十倍〜数百倍に増やし(表面プラズモンの電場増強効果)、これにより金属薄膜近傍の蛍光物質を効率良く励起させ、この励起された蛍光を検出することで極微量および/または極低濃度のアナライトを検出するようにしたものである。
近年、このような表面プラズモン励起増強蛍光分光法(SPFS)の原理に基づいた表面プラズモン増強蛍光測定装置の開発が進められており、例えば特許文献1や特許文献2などにその技術開示がなされている。
このような表面プラズモン増強蛍光測定装置100は、図10に示したように基本的な構造において、まず金属薄膜102と、金属薄膜102の一方側面に形成された反応層104と、この金属薄膜102の他方側面に形成された誘電体部材106と、を有するプラズモン励起センサ108を備えている。
そして、プラズモン励起センサ108の誘電体部材106側には、誘電体部材106内に入射され、金属薄膜102に向かって励起光110を照射する光源112を備え、さらに光源112から照射され金属薄膜102で反射した金属薄膜反射光114を受光する受光手段116が備えられている。
一方、プラズモン励起センサ108の反応層104側には、反応層104で捕捉されたアナライトを標識した蛍光物質が発する蛍光118を受光する光検出手段120が設けられている。
なお、反応層104と光検出手段120との間には、蛍光118を効率よく集光するための集光部材122と、蛍光118以外に含まれる光を除去し、必要な蛍光のみを選択する波長選択機能部材124が設けられている。
そして、表面プラズモン増強蛍光測定装置100の使用においては、金属薄膜102上に、あらかじめ蛍光物質で標識されたアナライトが捕捉された反応層104を形成しておき、この状態で光源112より誘電体部材106内に励起光110を照射し、この励起光110が特定の角度(共鳴角)126で金属薄膜102に入射することで、金属薄膜102上に粗密波(表面プラズモン)を生ずることとなる。
なお、金属薄膜102上に粗密波(表面プラズモン)が生ずる際には、励起光110と金属薄膜102中の電子振動とがカップリングし、金属薄膜反射光114の光量減少という現象が生ずる。
このため、受光手段116で受光される金属薄膜反射光114のシグナルが変化(光量が減少)する地点を見つければ、粗密波(表面プラズモン)が生ずる共鳴角126を得ることができる。
そして、この粗密波(表面プラズモン)を生ずる現象により、金属薄膜102上の反応層104の蛍光物質が効率良く励起され、これにより蛍光物質が発する蛍光118の光量が増大することとなる。
この増大した蛍光118を、集光部材122および波長選択機能部材124を介して光検出手段120で受光することで、極微量および/または極低濃度のアナライトを検出することができるようになっている。
なお、上記した表面プラズモン増強蛍光測定装置100のように、金属薄膜102上に直に蛍光分子が載せられていると、クエンチングにより蛍光118が生じ難くなるという現象が生ずる場合がある。
このため図11に示したように、金属薄膜102と反応層104との間に、さらに別の誘電体部材128を設けることでクエンチングを防止するといった工夫が既に本発明者らによってなされている。また、このような誘電体部材128の追加は、電場増強をさらに高める効果を有しており、超高精度な蛍光検出を行うのに重要な役割をなしている。
このような表面プラズモン増強蛍光測定装置100は、特に生体分子間などの微細な分子活動を観察するのに好適である。
特許第3294605号公報 特開2006−208069号公報
従来の表面プラズモン増強蛍光測定装置100では、反応層104において1種類のアナライトが捕捉されている場合、検出対象となるアナライトが替わる度にプラズモン励起センサ108を用意する必要があり、複数のアナライト検出を行うのに、コストや時間がかかっているのが現状である。
本発明はこのような現状に鑑みなされたものであって、反応層の所望位置に捕捉されたアナライトを標識した蛍光物質を、確実に励起させて高感度に蛍光検出を行うことのできる表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサを提供することを目的とする。
さらに本発明は、複数のアナライト検出を低コストでしかも短時間に行うことのできる表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサを提供することを目的とする。
本発明は、前述したような従来技術における問題点を解決するために発明されたものであって、
本発明のプラズモン励起センサは、
金属薄膜の一方側に励起光を照射し、前記金属薄膜上の電場を増強させることにより、前記金属薄膜の他方側に形成された反応層の蛍光物質を励起させ、これにより増強された蛍光を光検出手段にて検出するようにした表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサであって、
前記プラズモン励起センサは、
第1誘電体部材と、
前記第1誘電体部材の上面に形成された金属薄膜と、
前記金属薄膜の上面に形成された第2誘電体部材と、
前記第2誘電体部材の上面に形成された反応層と、
から少なくとも構成され、
前記第2誘電体部材は、
その膜厚の一部が他の部分とは異なる異膜厚部を有することを特徴とする。
このように、金属薄膜と反応層との間に第2誘電体部材を設けているのでクエンチングにより蛍光が生じ難くなるという現象を防ぐことが可能となる。また第2誘電体部材が異膜厚部を有していれば、膜厚によって異なる電場増強特性を利用して、電場増強させたいエリアと、そうでないエリアとに確実に区分けすることができる。
このため、例えば異膜厚部の膜厚の際に最適な電場増強が生ずるよう励起光の共鳴角を設定しておけば、異膜厚部でのみ電場増強がなされるため、蛍光検出エリアを電場増強エリアに絞ることができ、S/N比を向上させて高感度に蛍光検出を行うことができる。
また、第2誘電体部材の膜厚の違いにより粗密波(表面プラズモン)が生ずる共鳴角がそれぞれ異なることが確認されているため、プラズモン励起センサの反応層に複数種類のアナライトを捕捉していても、第2誘電体部材の「異膜厚部の箇所」と「主となる膜厚を有する箇所」のそれぞれの位置に合わせて反応層のアナライトを位置決めして捕捉しておけば、共鳴角の角度を変えることによりそれぞれの箇所で異なるアナライトの検出を行うことができ、アナライト検出におけるコストを抑えるとともに、検出時間を短縮させることができる。
また、本発明のプラズモン励起センサは、
前記異膜厚部が、
前記第2誘電体部材に複数箇所設けられていることを特徴とする。
このように異膜厚部が複数箇所設けられていれば、少なくとも電場増強させたいエリアと、そうでないエリアとに確実に区分けすることができる。さらに、2種類以上のアナライト検出を同一のプラズモン励起センサ上で行うことができるようになる。
また、本発明のプラズモン励起センサは、
複数の前記異膜厚部は、前記異膜厚部のそれぞれの厚みが一定となるように構成されていることを特徴とする。
このように、異膜厚部のそれぞれの厚みが一定であれば、電場増強エリアを1つのプラズモン励起センサに複数箇所設けることができるため、確実に所望のアナライト検出が行え、検出精度を高めることができる。
また、本発明のプラズモン励起センサは、
複数の前記異膜厚部は、複数の異なる厚みの前記異膜厚部から構成されていることを特徴とする。
第2誘電体部材の膜厚の違いにより粗密波(表面プラズモン)が生ずる共鳴角がそれぞれ異なることが確認されているため、このように、複数の異なる厚みの異膜厚部から構成されていれば、共鳴角を変更することにより厚みの種類の数と同じ種類のアナライト検出を同一のプラズモン励起センサ上で行うことができる。
また、本発明のプラズモン励起センサは、
複数の前記異膜厚部は、前記異膜厚部のそれぞれの厚みが一定である部分と、前記一定である部分とは異なる厚みを有する部分と、を有することを特徴とする。
このように、複数の異膜厚部のうちでそれぞれの厚みが一定である部分と、この一定である部分とは異なる厚みを有する部分とを有していれば、電場増強エリアを1つのプラズモン励起センサに複数箇所設けることができ、確実に所望のアナライト検出が行えるとともに、厚みの違う箇所の数と同じ種類のアナライト検出を同一のプラズモン励起センサ上で行うことができる。
また、本発明のプラズモン励起センサは、
複数の前記異膜厚部は、前記異膜厚部の上面視形状が同一形状であることを特徴とする。
このように、複数の異膜厚部のそれぞれの上面視形状が同一形状であれば、形状ごとに電場増強効果が同様となる傾向にあるためアナライト検出精度も略一定とすることができる。
また、本発明のプラズモン励起センサは、
複数の前記異膜厚部は、複数種類の異なる上面視形状から構成されていることを特徴とする。
このように、複数の異膜厚部が複数種類の異なる上面視形状で構成されていれば、形状の違いや共鳴角により電場増強効果が異なることが確認されているため、共鳴角に合わせ電場増強に適した形状を調べることができ、より高精度なアナライト検出を行うことができる。
また、本発明のプラズモン励起センサは、
複数の前記異膜厚部は、前記異膜厚部のそれぞれの上面視形状が、同一形状である部分と、前記同一形状とは異なる異形状である部分と、を有することを特徴とする。
このように、複数の異膜厚部のうちでそれぞれの上面視形状が同一形状である部分と、この同一形状とは異なる異形状である部分とを有していれば、形状ごとのアナライト検出精度を略一定とすることができるとともに、共鳴角に合わせ電場増強に適した形状を調べることができる。
また、本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置は、
上記いずれかに記載のプラズモン励起センサを配設してなることを特徴とする。
このように第2誘電体部材が異膜厚部を有したプラズモン励起センサを配設した表面プラズモン増強蛍光測定装置であれば、部分的に電場増強エリアを作ることができるのでアナライト検出を精度良く行うことができる。
また、異膜厚部の位置に合わせて複数種類のアナライトを反応層に捕捉しておけば、同一センサ上で、複数のアナライト検出を高精度に行うことができる。
本発明によれば、第2誘電体部材に異膜厚部を設けることで、反応層の所望位置に捕捉されたアナライトを標識した蛍光物質を、確実に励起させて高感度に蛍光検出を行うことのできる表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサを提供することができる。
また、第2誘電体部材の異膜厚部を複数箇所に設け、それぞれ膜厚を変えておけば、複数種類のアナライト検出を同一センサ上で行うことのできる表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサを提供することができる。
図1は、本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置の概略図である。 図2は、本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサの第1の実施例を説明するための概略図である。 図3は、本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサの第1の実施例を説明するためのものであって、反応層の大きさを検出エリアの大きさに合わせた場合を説明する概略図である。 図4は、本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサの第2の実施例を説明するための概略図である。 図5は、本発明のプラズモン励起センサにおける第2誘電体層の上面図である。 図6は、本発明のプラズモン励起センサにおける他の第2誘電体層の上面図である。 図7は、本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサの第3の実施例を説明するための概略図である。 図8は、本発明のプラズモン励起センサの第1誘電体部材の他の形態を説明するための概略図である。 図9は、第2誘電体部材の膜厚と電場増強度との関係をしめすグラフである。 図10は、従来の表面プラズモン増強蛍光測定装置の概略図である。 図11は、従来の表面プラズモン増強蛍光測定装置の概略図である。
以下、本発明の実施の形態について、図面に基づいてより詳細に説明する。
図1は、本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置の概略図、図2は、本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサの第1の実施例を説明するための概略図、図3は、反応層の大きさを検出エリアの大きさに合わせた場合を説明する概略図である。
本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサは、反応層の所望位置に捕捉されたアナライトを標識した蛍光物質を、確実に励起させて高感度に蛍光検出を行うことができ、また複数のアナライト検出を低コストでしかも短時間で行うことができるものである。
また、本明細書中でいう「表面プラズモン」とは、広義の意味で用いられるものであって、「局在プラズモン」についても含まれるものである。さらに、本明細書中で「異膜厚部」とは、第2誘電体部材の膜厚が、主となる膜厚を有する箇所とは異なる膜厚を有する箇所を指すものである。ここで主な膜厚を有する箇所と、これとは膜厚が異なる箇所(異膜厚部)とは、どこを「主な膜厚を有する箇所」とするかで、その都度変わるものである。
例えば、第2誘電体部材の形状が図2に示したように凸字形状である場合、略中央部を「異膜厚部」とすると、略中央部から一段下がった部分が「主となる膜厚を有する部分」となる。
反対に、略中央部を「主となる膜厚を有する部分」とすると、略中央部から一段下がった部分が「異膜厚部」となる。また、図7に示したように複数の段を有する(異なる膜厚部分を複数有する)第2誘電体部材の場合には、いずれの段についても「主な膜厚を有する箇所」と、「主な膜厚を有する箇所とは膜厚が異なる箇所(異膜厚部)」となり得るものであるが、説明の便宜上、いずれの段も異膜厚部として説明する。
<表面プラズモン増強蛍光測定装置10>
本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置10は、図1に示したように、まず第1誘電体部材16と、第1誘電体部材16の上面に形成された金属薄膜12と、金属薄膜12の上面に形成された第2誘電体部材38と、第2誘電体部材38の上面に形成された反応層14と、を有するプラズモン励起センサ18を備えている。
そして、プラズモン励起センサ18の第1誘電体部材16側には、第1誘電体部材16内に入射され、金属薄膜12に向かって励起光20を照射する光源22を備え、さらに光源22から照射され金属薄膜12に反射した金属薄膜反射光24を受光する受光手段26が備えられている。
光源22から照射される励起光20としてはレーザ光が好ましく、波長200〜900nm、0.001〜1,000mWのLDレーザ、または波長230〜800nm、0.01〜100mWの半導体レーザが好適である。
一方、プラズモン励起センサ18の反応層14側には、反応層14で生じた蛍光28を受光する光検出手段30が設けられている。光検出手段30としては、超高感度の光電子増倍管、または多点計測が可能なCCDイメージセンサを用いることが好ましい。
なお、プラズモン励起センサ18の反応層14と光検出手段30との間には、光を効率よく集光するための集光部材32と、光の内で蛍光28のみを選択するように形成された波長選択機能部材34が設けられている。
集光部材32としては、光検出手段30に蛍光シグナルを効率よく集光することを目的とするものであれば、任意の集光系で良い。簡易な集光系としては、顕微鏡などで使用されている市販の対物レンズを転用してもよい。対物レンズの倍率としては、10〜100倍が好ましい。
一方、波長選択機能部材34としては、光学フィルタ,カットフィルタなどを用いることができる。光学フィルタとしては、減光(ND)フィルタ,ダイアフラムレンズなどが挙げられる。
さらにカットフィルタとしては、外光(装置外の照明光),励起光(励起光の透過成分),迷光(各所での励起光の散乱成分),プラズモンの散乱光(励起光を起源とし、プラズモン励起センサ表面上の構造体または付着物などの影響で発生する散乱光),酵素蛍光基質の自家蛍光などの各種ノイズ光を除去するフィルタであって、例えば干渉フィルタ,色フィルタなどが挙げられる。
そして、このような表面プラズモン増強蛍光測定装置10の使用においては、金属薄膜12上に、例えばあらかじめ蛍光物質で標識されたアナライトが捕捉された反応層14を設け、この状態で、光源22より第1誘電体部材16内に励起光20を照射し、この励起光20が特定の角度(共鳴角(電場増強時に励起光20と金属薄膜12の垂線とから成る角度)符号36)で金属薄膜12に入射することで、金属薄膜12上に粗密波(表面プラズモン)を生ずるようになる。
なお、金属薄膜12上に粗密波(表面プラズモン)が生ずる際には、励起光20と金属薄膜12中の電子振動とがカップリングし、金属薄膜反射光24のシグナルが変化(光量が減少)することとなるため、受光手段26で受光される金属薄膜反射光24のシグナルが変化(光量が減少)する地点を見つければ良い。
そして、この粗密波(表面プラズモン)により、金属薄膜12上の反応層14で生じた蛍光物質が効率良く励起され、これにより蛍光物質が発する蛍光28の光量が増大し、この蛍光28を集光部材32および波長選択機能部材34を介して光検出手段30で受光することで、極微量および/または極低濃度のアナライトを検出することができる。
なお、プラズモン励起センサ18の金属薄膜12の材質としては、好ましくは金,銀,アルミニウム,銅,および白金からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属からなり、より好ましくは金からなり、さらにこれら金属の合金から成ることである。
このような金属は、酸化に対して安定であり、かつ粗密波(表面プラズモン)による電場増強が大きくなることから金属薄膜12に好適である。
また、金属薄膜12の形成方法としては、例えばスパッタリング法,蒸着法(抵抗加熱蒸着法,電子線蒸着法など),電解メッキ,無電解メッキ法などが挙げられる。中でもスパッタリング法,蒸着法は、薄膜形成条件の調整が容易であるため好ましい。
さらに金属薄膜12の厚さとしては、金:5〜500nm、銀:5〜500nm、アルミニウム:5〜500nm、銅:5〜500nm、白金:5〜500nm、およびそれらの合金:5〜500nmの範囲内であることが好ましい。
電場増強効果の観点からは、金:20〜70nm、銀:20〜70nm、アルミニウム:10〜50nm、銅:20〜70nm、白金:20〜70nm、およびそれらの合金:10〜70nmの範囲内であることがより好ましい。
金属薄膜12の厚さが上記範囲内であれば、粗密波(表面プラズモン)が発生し易く好適である。また、このような厚さを有する金属薄膜12であれば、大きさ(縦×横)は特に限定されないものである。
さらに、アナライト検出時に用いられる検体としては、血液,血清,血漿,尿,鼻孔液,唾液,便,体腔液(髄液,腹水,胸水等)などが挙げられる。また、検体中に含有されるアナライトは、例えば、核酸(一本鎖であっても二本鎖であってもよいDNA,RNA,ポリヌクレオチド,オリゴヌクレオチド,PNA(ペプチド核酸)等、またはヌクレオシド,ヌクレオチドおよびそれらの修飾分子),タンパク質(ポリペプチド、オリゴペプチド等),アミノ酸(修飾アミノ酸も含む。),糖質(オリゴ糖,多糖類,糖鎖等),脂質,またはこれらの修飾分子,複合体などが挙げられ、具体的には、AFP(αフェトプロテイン)等のがん胎児性抗原や腫瘍マーカー,シグナル伝達物質,ホルモンなどであってもよく、特に限定されない。
さらに蛍光物質としては、所定の励起光20を照射するか、または電界効果を利用することで励起し、蛍光28を発する物質であれば特に限定されないものである。なお本明細書でいう蛍光28とは、燐光など各種の発光も含まれるものである。
また、第1誘電体部材16としては、光学的に透明な各種の無機物,天然ポリマー,合成ポリマーを用いることができ、化学的安定性,製造安定性および光学的透明性の観点から、二酸化ケイ素(SiO)または二酸化チタン(TiO)を含むことが好ましい。
さらに、このような表面プラズモン増強蛍光測定装置10は、光源22から金属薄膜12に照射される励起光20による表面プラズモン共鳴の最適角(共鳴角36)を調整するため、角度可変部(図示せず)や、光検出手段30に入力された情報を処理するためのコンピュータ(図示せず)などを有しても良いものである。
ここで、角度可変部(図示せず)は、サーボモータで全反射減衰(ATR)条件を求めるために受光手段26と光源22とを同期し、45〜85°の角度変更を可能とし、分解能が0.01°以上であることが好ましい。
上記した構成を有する本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置10は、特にプラズモン励起センサ18の第2誘電体部材38において特徴的な構造を有している。
このような第2誘電体部材38には、その膜厚の一部が他の部分とは異なる異膜厚部40を有する構造となっている。以下、このような構造の第2誘電体部材38を有するプラズモン励起センサ18の実施例について説明する。
<第2誘電体部材38>
本発明のプラズモン励起センサ18に用いられる第2誘電体部材38は、図2に示したように、その膜厚の一部(本図では略中央部分)が他の部分とは異なる異膜厚部40を有している。
このような第2誘電体部材38は、その膜厚の違いによって電場増強効果が異なり、また第2誘電体部材38の膜厚の違いにより、プラズモン共鳴を生ずる共鳴角36も異なることが本発明者らによって確認された。
つまり、図2に示したプラズモン励起センサ18のように、第2誘電体部材38の一部に異膜厚部40が設けられていると、膜厚の違いによる電場増強の違いにより、電場増強エリアとそうでないエリアとに区分けが可能となる。
例えば、図2において、第2誘電体部材38の略中央部の異膜厚部40の膜厚T1の際に電場増強効果が高まるよう、予め共鳴角36を設定した場合には、この第2誘電体部材38の異膜厚部40に対応する略中央部のエリアのみで電場増強がなされるため、このエリアの直上に位置する反応層14のアナライトだけが検出対象となる。
逆に第2誘電体部材38の略中央部以外の箇所を異膜厚部40とし、この膜厚T2の際に電場増強効果が高まるよう予め共鳴角36を設定した場合には、この第2誘電体部材38の略中央部以外のエリアでのみ、電場増強がなされるため、このエリアの直上に位置する反応層14のアナライトだけが検出対象となる。
このため、反応層14が第2誘電体部材38の面方向外形寸法と略同サイズであっても、電場増強エリアは略中央部分(略中央部分以外)に限定できるため、反応層14の略中央部(略中央部以外)でのみ蛍光励起がなされ、この部分だけを光検出手段30で検出するようにすれば、検出範囲が狭まるためS/N比が向上し、超高精度にアナライトの検出を行うことができる。
このような第2誘電体部材38は、第1誘電体部材16と基本的に同様の材質からなり、光学的に透明な各種の無機物,天然ポリマー,合成ポリマーを用いることができ、化学的安定性,製造安定性および光学的透明性の観点からは、二酸化ケイ素(SiO)または二酸化チタン(TiO)を含むことが好ましい。
また、第2誘電体部材38の異膜厚部40は、第2誘電体部材38上にマスキングを行い、エッチング処理することで所望の位置に異膜厚部40を形成することができる。さらに同一膜厚の誘電体部材上に部分的に他の誘電体部材を積層することにより異膜厚部40を形成しても良い。
第2誘電体部材38の膜厚Tの下限値としては50nmである。下限値以上であればクエンチングの影響を少なくすることができ、且つ誘電体未使用時(膜厚Tがゼロ)よりも有利な電場増強を得ることが可能となる。第2誘電体部材38の適正な範囲としては50nm〜1000nmおよび10000nm以上である。電場増強度はTiO2膜厚条件で不規則に変動し、上記条件範囲内にいくつかのピークを持つ(後述の図9参照)。従ってこの範囲で膜厚Tの条件を設定することで、電場増強度としても高値に設定することができるため、測定上高感度な検出が可能となるだけでなく、異膜厚の設定条件によっては電場増強度のコントラストを大きく設定することが可能となるためである。
また第2誘電体部材の異なる複数種類の膜厚の組み合わせとして、一の膜厚Taの領域での電場増強が最適となる共鳴角36で励起光20を照射したときに他の膜厚Tbの領域では膜厚Taの電場増強の強度よりも弱い電場増強となるように設定するものがある。これは反応層の蛍光物質(及びアナライト)の捕捉数が想定した量よりも多く、膜厚Taの領域では電場増強により蛍光物質から発せられる蛍光28の光量が光検出手段の検出感度を超えてオーバーレンジしていたような場合に有効である。これよりも電場増強の強度が弱い膜厚Tbの領域を検出対象とすればオーバーレンジを防ぐことができる。
また第2誘電体部材の膜厚Tを異ならせることにより、この上面にある反応層14の高さが異なることになる。蛍光28は、反応層14に捕捉されている蛍光物質から発生するので、反応層14の高さが異なれば、蛍光が発生する箇所の高さが異なることになる。このような構成を利用するために、光検出手段30に共焦点光学系を用いて、光検出手段30を上下に僅かに移動させながら焦点位置を、異なる高さの反応層14のそれぞれの領域に順に合わせてゆくことにより、各領域の検出を順次行うことが可能となる。
また、図3に示したように、予め第2誘電体部材38の略中央部を異膜厚部40として電場増強エリアにした場合、反応層14の異膜厚部40の直上に位置するエリアのみを検出エリア42とし、この検出エリア42にのみアナライトを捕捉するようにしても良い。
このように、本実施例におけるプラズモン励起センサ18は、第2誘電体部材38の一部に異膜厚部40が設けられているため、電場増強エリアを絞ることができ、これにより反応層14の所望位置に捕捉されたアナライトを標識した蛍光物質を確実に励起させて高感度に蛍光検出を行うことができる。
次に、図4に示したプラズモン励起センサ18は、本発明の第2の実施例における概略図である。
図4に示したプラズモン励起センサ18は、図2または図3に示した第1の実施例のプラズモン励起センサ18と基本的には同じ構成であるので、同じ構成部材には同じ参照番号を付してその詳細な説明を省略する。
図4に示したプラズモン励起センサ18は、第2誘電体部材38の異膜厚部40が複数箇所設けられている点で、実施例1と異なっている。
このような第2誘電体部材38は、第2誘電体部材38の膜厚が、異膜厚部40の膜厚T3の部分と、そうでない膜厚T4の部分とが交互となるように設定されており、例えば図5に示したように四角形状を交互に並べたタイプや図6に示したように三角形状を並べたタイプなどとすることができる。
この場合、共鳴角36の設定により異膜厚部40の膜厚T3のエリアを電場増強エリアに設定しておけば、電場増強エリアをセンサ上に複数得ることができる。また電場増強エリアは、形状の頂点部分にでき易いことが本発明者らによって確認されている。このため複数の異膜厚部40を設ければ、当然頂点部分が複数形成されるため、さらに電場増強効果を高めることができる。
したがって、例えば図5および図6に示したように複数の異膜厚部40を形成すれば、電場増強エリアを複数個所に設けることができ、しかも電場増強効果も高められるため、超高精度にアナライトの検出を行うことができる。
次に、図7に示したプラズモン励起センサ18は、本発明の第3の実施例における概略図である。図7に示したプラズモン励起センサ18は、図2または図3に示した第1の実施例のプラズモン励起センサ18と基本的には同じ構成であるので、同じ構成部材には同じ参照番号を付してその詳細な説明を省略する。
図7に示したプラズモン励起センサ18は、第2誘電体部材38の異膜厚部40が複数箇所設けられており、複数の異なる厚みの異膜厚部40から構成されている点で実施例1と異なっている。
このような第2誘電体部材38は、それぞれの異膜厚部40の直上の反応層14に、それぞれの異膜厚部40と対応する箇所に、それぞれ異なるアナライトを捕捉するようにした検出エリア42a,42b,42cが形成されている。このため、検出エリア42a,42b,42c毎に励起光20の共鳴角36を変えるだけで、複数種類のアナライトを同一センサ18上で検出することができる。
このため、複数のアナライト検出を低コストでしかも短時間で行うことができる。以上、本発明における表面プラズモン増強蛍光測定装置10およびこれに用いられるプラズモン励起センサ18の好ましい形態について説明したが、本発明は上記の形態に限定されるものではないものである。
例えばプラズモン励起センサ18の第1誘電体部材16は一つの部材からなっていても、図8に示したように断面略三角状の誘電体部材16aの上に板状の誘電体部材16bを重ねた積層体であっても良く、特に限定されないものである。なお、複数の部材から誘電体部材16が構成されている場合には、それぞれの部材の材質を同様にすれば良い。
また、第2誘電体部材38の異膜厚部40の形状は図5や図6に示したように全て同一であっても異なっていても良く、またこれらの形状以外の円形状、星形状など如何なる形状であっても良く、本発明の目的を逸脱しない範囲で種々の変更が可能なものである。
次に、第2誘電体部材38の膜厚Tと電場増強度との関係について説明する。実施例として、第1誘電体部材16をガラスBK7(n=1.52)、金属薄膜12を膜厚50nmのAu、第2誘電体部材38をTiOで膜厚T、その上の反応層14には水(H0)を配置させた。この条件で、第2誘電体部材38の膜厚Tを変更した際の電場増強度(電場増強最大値ともいう)との関係を計算した。その結果を図9に示す。
図9は第2誘電体部材38の膜厚Tと電場増強度との関係を示したグラフである。横軸は、膜厚T(nm)であり縦軸は電場増強度である。同図からわかるように10nm≦膜厚T≦50nmの範囲では電場増強度は1倍以下であり、クエンチングの影響を受けている。100nm≦膜厚T≦1000nmの範囲においては、400nm、1000nmの膜厚において電場増強度が25〜30倍のピークを持つ。10000nm≦膜厚Tの範囲においては電場増強度が20倍以上となっている。
異膜厚部40の膜厚Tをこのようなピークとなるように設定することにより電場増強度として高く設定することができるので高感度の検出が可能となる。また複数の異なる厚みの異膜厚部の組み合わせる際に一方をピークとなる膜厚に設定し、他方をピークとなる膜厚からずらした設定とすることにより両者のコントラストを大きくすることが可能となる。
10 表面プラズモン増強蛍光測定装置
12 金属薄膜
14 反応層
16 誘電体部材
16a 誘電体部材
16b 誘電体部材
18 プラズモン励起センサ
20 励起光
22 光源
24 金属薄膜反射光
26 受光手段
28 蛍光
30 光検出手段
32 集光部材
34 波長選択機能部材
36 共鳴角
38 誘電体部材
40 異膜厚部
42 検出エリア
42a 検出エリア
42b 検出エリア
42c 検出エリア
T1 膜厚
T2 膜厚
T3 膜厚
T4 膜厚
100 表面プラズモン増強蛍光測定装置
102 金属薄膜
104 反応層
106 誘電体部材
108 プラズモン励起センサ
110 励起光
112 光源
114 金属薄膜反射光
116 受光手段
118 蛍光
120 光検出手段
122 集光部材
124 波長選択機能部材
126 共鳴角
128 誘電体部材

Claims (9)

  1. 金属薄膜の一方側に励起光を照射し、前記金属薄膜上の電場を増強させることにより、前記金属薄膜の他方側に形成された反応層の蛍光物質を励起させ、これにより増強された蛍光を光検出手段にて検出するようにした表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサであって、
    前記プラズモン励起センサは、
    第1誘電体部材と、
    前記第1誘電体部材の上面に形成された金属薄膜と、
    前記金属薄膜の上面に形成された第2誘電体部材と、
    前記第2誘電体部材の上面に形成された反応層と、
    から少なくとも構成され、
    前記第2誘電体部材は、
    その膜厚の一部が他の部分とは異なる異膜厚部を有することを特徴とするプラズモン励起センサ。
  2. 前記異膜厚部が、
    前記第2誘電体部材に複数箇所設けられていることを特徴とする請求項1に記載のプラズモン励起センサ。
  3. 複数の前記異膜厚部は、前記異膜厚部のそれぞれの厚みが一定となるように構成されていることを特徴とする請求項2に記載のプラズモン励起センサ。
  4. 複数の前記異膜厚部は、複数の異なる厚みの前記異膜厚部から構成されていることを特徴とする請求項2に記載のプラズモン励起センサ。
  5. 複数の前記異膜厚部は、前記異膜厚部のそれぞれの厚みが一定である部分と、前記一定である部分とは異なる厚みを有する部分と、を有することを特徴とする請求項2に記載のプラズモン励起センサ。
  6. 複数の前記異膜厚部は、前記異膜厚部の上面視形状が同一形状であることを特徴とする請求項2から5のいずれかに記載のプラズモン励起センサ。
  7. 複数の前記異膜厚部は、複数種類の異なる上面視形状から構成されていることを特徴とする請求項2から5のいずれかに記載のプラズモン励起センサ。
  8. 複数の前記異膜厚部は、前記異膜厚部のそれぞれの上面視形状が、同一形状である部分と、前記同一形状とは異なる異形状である部分と、を有することを特徴とする請求項2から5のいずれかに記載のプラズモン励起センサ。
  9. 請求項1から8のいずれかに記載のプラズモン励起センサを配設してなることを特徴とする表面プラズモン増強蛍光測定装置。
JP2011514392A 2009-05-20 2010-05-14 表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサ Pending JPWO2010134470A1 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009122047 2009-05-20
JP2009122047 2009-05-20
PCT/JP2010/058178 WO2010134470A1 (ja) 2009-05-20 2010-05-14 表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPWO2010134470A1 true JPWO2010134470A1 (ja) 2012-11-12

Family

ID=43126151

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011514392A Pending JPWO2010134470A1 (ja) 2009-05-20 2010-05-14 表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサ

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPWO2010134470A1 (ja)
WO (1) WO2010134470A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5669312B2 (ja) * 2011-03-31 2015-02-12 富士フイルム株式会社 検出方法および検出装置
JP5971240B2 (ja) * 2011-05-19 2016-08-17 コニカミノルタ株式会社 表面プラズモン励起増強蛍光測定装置およびこれを用いた蛍光検出方法
JP5949761B2 (ja) * 2011-06-17 2016-07-13 コニカミノルタ株式会社 表面プラズモン励起増強蛍光分光測定方法および表面プラズモン励起増強蛍光分光測定装置
WO2016093037A1 (ja) * 2014-12-09 2016-06-16 コニカミノルタ株式会社 検出装置および検出方法
WO2016093039A1 (ja) * 2014-12-09 2016-06-16 コニカミノルタ株式会社 検出チップおよび検出方法
JP6854134B2 (ja) 2017-01-16 2021-04-07 矢崎総業株式会社 高選択性腐食センサーシステム

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001337036A (ja) * 2000-05-25 2001-12-07 Masao Karube 差動式sprセンサー及び該センサーを用いた測定法
WO2007105771A1 (ja) * 2006-03-15 2007-09-20 Omron Corporation 表面プラズモン共鳴センサ用チップおよび表面プラズモン共鳴センサ
JP2009080011A (ja) * 2007-09-26 2009-04-16 Fujifilm Corp 蛍光検出方法
JP2009079970A (ja) * 2007-09-26 2009-04-16 Fujifilm Corp 分子分析光検出方法およびそれに用いられる分子分析光検出装置、並びにサンプルプレート

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006177725A (ja) * 2004-12-21 2006-07-06 Sony Corp 物質間の相互作用検出部と該検出部を用いるバイオアッセイ用基板、装置及び方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001337036A (ja) * 2000-05-25 2001-12-07 Masao Karube 差動式sprセンサー及び該センサーを用いた測定法
WO2007105771A1 (ja) * 2006-03-15 2007-09-20 Omron Corporation 表面プラズモン共鳴センサ用チップおよび表面プラズモン共鳴センサ
JP2009080011A (ja) * 2007-09-26 2009-04-16 Fujifilm Corp 蛍光検出方法
JP2009079970A (ja) * 2007-09-26 2009-04-16 Fujifilm Corp 分子分析光検出方法およびそれに用いられる分子分析光検出装置、並びにサンプルプレート

Also Published As

Publication number Publication date
WO2010134470A1 (ja) 2010-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5573843B2 (ja) 表面プラズモン増強蛍光測定装置
JP5637266B2 (ja) 表面プラズモン増強蛍光センサおよび表面プラズモン増強蛍光センサに用いられる集光部材
JP5971240B2 (ja) 表面プラズモン励起増強蛍光測定装置およびこれを用いた蛍光検出方法
WO2010134470A1 (ja) 表面プラズモン増強蛍光測定装置および表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるプラズモン励起センサ
JP5949761B2 (ja) 表面プラズモン励起増強蛍光分光測定方法および表面プラズモン励起増強蛍光分光測定装置
JP2011257216A (ja) 表面プラズモン増強蛍光センサおよび表面プラズモン増強蛍光センサに用いられるチップ構造体ユニット
JP2010203900A (ja) 表面プラズモン増強蛍光センサおよび表面プラズモン増強蛍光センサに用いられるチップ構造体
JP6003645B2 (ja) 蛍光検出装置およびこれを用いた蛍光検出方法
JP5831230B2 (ja) 表面プラズモン増強蛍光測定装置
JP5895965B2 (ja) 表面プラズモン増強蛍光センサおよび表面プラズモン増強蛍光センサに用いられるチップ構造体
WO2014017433A1 (ja) 光学式検体検出装置
WO2014007134A1 (ja) センサーチップ
JP2012181024A (ja) 光学式検体検出装置
JP5663905B2 (ja) チップ構造体
JP5387131B2 (ja) 表面プラズモン増強蛍光センサおよび表面プラズモン増強蛍光センサに用いられるチップ構造体ならびに表面プラズモン増強蛍光センサを用いた検体検出方法
JP5786985B2 (ja) 表面プラズモン増強蛍光センサおよび表面プラズモン増強蛍光センサに用いられるチップ構造体ユニット
JP2013250282A (ja) チップ構造体
JP2012251863A (ja) 表面プラズモン励起増強蛍光測定装置および表面プラズモン励起増強蛍光測定装置に用いられるセンサ構造体
JP5803933B2 (ja) 表面プラズモン励起増強蛍光測定装置およびこれに用いられるセンサ構造体、ならびにこのセンサ構造体に配設される補助誘電体部材
JP2012220256A (ja) 表面プラズモン測定装置に用いられるセンサーチップおよびセンサーチップを用いた表面プラズモン測定装置
JP2015062038A (ja) 表面プラズモン測定装置に用いられるセンサーチップおよびセンサーチップを用いた表面プラズモン測定装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130507

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20130710

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140311

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140512

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140603