JPWO2010125823A1 - カラーフィルタ、液晶表示装置、カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

ブラインドシャッターを用いて隣接する露光領域を遮光する小型マスク連続露光方式を用いつつ、表示画素領域の外側の着色層上に均一な高さを有するダミーフォトスペーサーが形成されたカラーフィルタを提供する。まず、小型マスク連続露光方式によって、Ｘ軸方向に延び、表示画素領域と額縁領域とを跨ぐ着色層を形成する。このとき、ブラインドシャッターのＹ軸に平行な端縁は、最外周の開口部の外周縁を構成する辺であって、Ｙ軸方向に延びる額縁領域に最も近い辺から５００〜１０００μｍだけ離して配置する。次に、当該Ｙ軸方向に延びる額縁領域に最も近い辺から３００μｍ以内の範囲にフォトスペーサーの中心軸が位置するように、着色層上にフォトスペーサーを形成する。

Description

本発明は、液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法に関する。

液晶表示装置などの表示装置において、カラー画像表示、反射率低減、コントラスト調整、分光特性制御等を目的として、カラーフィルタが広く用いられている。カラーフィルタを作製するには、基板上にマトリクス状に配列する着色画素を形成する必要がある。基板上に着色画素を形成するには、一般にフォトリソグラフィ法が広く用いられている。具体的には、まず、顔料や染料などの着色剤を分散させた感光性樹脂（以下、「レジスト」という）を、スピンコート法やスピンレスコート法を用いて基板上に塗布した後、プリベークでレジスト中の余分な溶剤を除去する。次に、着色画素に対応した開口パターン（ネガ型レジストの場合）を有するフォトマスクを用いて、レジストに当該開口パターンを露光する。露光は、例えば、高圧水銀灯を光源とする活性エネルギー線をフォトマスクを介してレジストに照射することで行う。最後に、レジストと現像液を接触させて不要なレジストを溶解除去した後、洗浄及びポストベークを行う。これを着色画素の色数だけ繰り返し行う。

レジストに開口パターンを露光するには、基板表面全体に一括して露光できるプロキシミティ露光（近接露光）方式が用いられることがある。プロキシミティ露光方式に用いられる露光装置においては、光源である超高圧水銀灯から照射される光の照度分布がフライアイレンズで一様にされる。その後、フライアイレンズから出射された光はコリメータレンズにより平行光に変換される。フォトマスクは、基板との間隔（ギャップ）が数十〜数百μｍとなるように配置される。そして、上記の平行な照射光が当該フォトマスク全面に照射される。この結果、開口パターンが基板上のレジストに同倍率で転写される。

プロキシミティ露光方式に用いられる露光装置は、例えば投影光学系を備えた露光装置と比較して、装置の構造がシンプルである。従って、プロキシミティ露光方式を採用すると、装置コストが低減できるという利点が生じる。更に、一回でフォトマスクと同じ面積が露光できるため、基板上の露光領域のサイズに対応したフォトマスクを用いることで、露光工程の処理タクトを低減できるという利点もある。

しかし、近年、液晶パネルを構成するカラーフィルタ及びＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板のサイズは大型化される傾向にある。基板サイズの一例を挙げると、１５００ｍｍ×１８００ｍｍ（第６世代）、２１６０ｍｍ×２４００ｍｍ（第８世代）、２８５０ｍｍ×３０５０ｍｍ（第１０世代）等がある。カラーフィルタ基板等の大型化に従い、必然的にフォトマスクのサイズの大型化、及び、プロキシミティ露光装置の照明光学系の大型化が要求される。この結果、フォトマスクの製造コストが増大するという問題が発生する。更に、カラーフィルタ基板の大型化は照射領域の増大に繋がるため、照射光のエネルギー効率が低下するという問題もある。

上記した問題を解決するために、フォトマスクを用いずに、レーザー光で基板上に直接パターンを描画する露光方式（以下、「マスクレス露光方式」という）が用いられる場合がある。これは、基板上のレジストにレーザー光を走査させながら、描画パターンに応じて当該レーザー光を適宜変調させるものである。従って、マスクレス露光方式には、高価なフォトマスクを使用しなくても良いという利点がある。しかし、マスクレス露光方式では、レーザー光を変調する変調素子や使用するレーザーに適したレジストの開発が困難である。マスクレス露光方式には、製造コストを低減させながら大型サイズのカラーフィルタを露光するには未だ多くの課題がある。

そこで、並べて配置した複数の小型マスクを用い、基板を搬送しながら、基板上のレジストにフォトマスクの開口パターンを繰り返し露光する方式（以下、「小型マスク連続露光方式」という）が用いられることがある。この小型マスク連続露光方式では、フォトマスクと光源との間に配置されるブラインドシャッターが基板の搬送と同期して開閉することで、レジストへの光の照射及び遮光の切り替えが適宜制御される。この結果、基板上のレジストは、露光される領域（以下、「露光領域」という）と露光されない領域（以下、「非露光領域」という）とに自在に区画される。

特開２００７−１１２３１号公報 特開２００７−２８１３１７号公報 特開２００７−１２１３４４号公報

小型マスク連続露光方式を用いてカラーフィルタを基板上に形成する場合には、製造コストを抑えるために、同一基板上に複数のカラーフィルタが露光される。各々のカラーフィルタの表示画素領域に対応する基板上の露光領域には、着色画素パターンを構成する着色層が基板搬送方向に順次露光される。一方、基板搬送方向に隣接する露光領域の間は、ブラインドシャッターが閉じられて、露光されない。この時、基板搬送方向におけるブラインドシャッター端縁では、照射光の回折及びコリメーション角が影響することで、基板搬送方向における露光領域の近傍に、照射量が不十分な領域（この領域を以下、「グレーゾーン」という）が発生する。グレーゾーンに形成される着色層の膜厚は、他の露光領域の着色層の膜厚に比べて相対的に薄く、かつ、基板搬送方向における着色層の両端部にかけて徐々に薄くなる。

ここで、カラーフィルタ基板の表示画素領域には、上記した着色層の他に、フォトスペーサーが形成される。また、フォトスペーサーは、表示画素領域の外側の領域にも設けられることが一般的である（以下、表示画素領域の外側に設けられるフォトスペーサーを、便宜上、「ダミーフォトスペーサー」という）。ダミーフォトスペーサーを設けることで、表示画素領域の外側における基板と対向基板との間隔（セルギャップ）が一定に保持される。

製品の仕様によっては、表示画素領域の外側の着色層上にダミーフォトスペーサーを設けたい場合がある。しかし、小型マスク方式で作製したカラーフィルタにおいては、表示画素領域の外側における着色層の膜厚は一定ではない。従って、ダミーフォトスペーサーの高さが不均一になり、表示品質が低下する虞があるという問題が発生する。

それ故に、本発明の目的は、ブラインドシャッターを用いて隣接する露光領域を遮光する露光方式で形成され、表示画素領域の外側の着色層上にほぼ均一な高さのダミーフォトスペーサーを有するカラーフィルタ及びこれを備えた液晶表示装置を提供することである。また、本発明の他の目的は、ブラインドシャッターを用いて隣接する露光領域を遮光する露光方式で、表示画素領域の外側の着色層上にほぼ均一な高さのダミーフォトスペーサーを有するカラーフィルタを製造する方法を提供することである。

本発明に係るカラーフィルタは、第１の方向及びこれと直交する第２の方向に複数の画素がマトリクス状に配列され、第１の方向に同一色の画素が整列する。カラーフィルタは、基板と、基板上において、画素の各々に対応する複数の開口部を区画する格子状の遮光層と、開口部を覆うように形成される複数の着色層と、着色層上に形成される複数のフォトスペーサーとを備える。開口部が配列される矩形状領域の外側において当該矩形状領域の第２の方向の辺に沿って延びる一対の領域では、着色層の厚みは、第１の方向の少なくとも両端部近傍で一定ではなく、かつ、開口部の外周縁を構成する辺であって、当該一対の領域の最も近くに位置する辺から３００μｍ以内の範囲にのみフォトスペーサーの中心軸が位置するように、着色層上にフォトスペーサーが形成される。

本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、第１の方向及びこれと直交する第２の方向に複数の着色画素がマトリクス状に配列され、第１の方向に同一色の画素が整列するカラーフィルタを、１枚の基板上に、少なくとも第１の方向に複数並べて形成する。詳細には、基板上に、画素の各々に対応する複数の開口部を区画する格子状の遮光層を含み、カラーフィルタの形成領域となる矩形状領域を、第１の方向に間欠的に複数並べて形成し、レジストを塗布した基板を第１の方向に搬送しながら連続的または間欠的に露光する処理と、ブラインドシャッターを用いて第１の方向に隣接する矩形状領域の間を部分的に遮光する処理とを複数回繰り返し、開口部を覆う複数の着色層を形成し、複数の着色層の形成をカラーフィルタを構成する着色画素の色数分だけ繰り返して、複数色の着色層を形成し、着色層上にフォトスペーサーを形成し、ブラインドシャッターを用いて矩形状領域の間を部分的に遮光する処理において、ブラインドシャッターの第２の方向の一対の端縁は、開口部の外周縁を構成する辺であって、開口部が配列される矩形状領域の外側において当該矩形状領域の第２の方向の辺に沿って延びる一対の領域に最も近い辺から５００〜１０００μｍだけ離して配置され、フォトスペーサーの形成において、開口部の外周縁を構成する辺であって、一対の領域の最も近くに位置する辺から３００μｍ以内の範囲にのみフォトスペーサーの中心軸が位置するように、フォトスペーサーを配置する。

本発明によれば、ブラインドシャッターで隣接する露光領域間を遮光する露光方法で、表示画素領域の外側の着色層上に均一な高さのダミーフォトスペーサーを有するカラーフィルタ及びこれを備えた液晶表示装置を実現できる。

図１は、本発明の実施形態に係る露光方法の概略図である。 図２は、図１に示すフォトマスクの部分拡大図である。 図３は、小型マスク連続露光方式の露光状態を示す断面図である。 図４は、グレーゾーンの発生メカニズムを説明する断面図である。 図５は、着色層端部のプロファイル図である。 図６は、本発明の実施形態に係るカラーフィルタの部分拡大図である。

（実施形態）
図１は、本発明の実施形態に係る露光方法の概略図であり、図２は、図１に示すフォトマスクの部分拡大図であり、図３は、小型マスク連続露光方式の露光状態を示す断面図である。尚、以下の全ての図において、基板搬送方向をＸ軸正方向とする。

本発明の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法は、同一基板上に、複数のカラーフィルタを少なくともＸ軸方向に間欠的に複数並べて形成するためのものである。

本実施形態では、図１に示すように、２行に分けて並べた１２枚のフォトマスクｂを用いて基板上のレジストをパターニングする。より詳細には、１行目（基板の投入側）には、所定間隔を空けて６枚のフォトマスクｂが配置され、２行目には、１行目のフォトマスクの間隔部分に対応して、６枚のフォトマスクｂが相補的に配置されている。図２に示すように、フォトマスクｂには、Ｘ軸方向に延びる開口ｅがＹ軸方向に整列したストライプ状のスリットａが設けられている。１２枚のフォトマスクｂによって、Ｙ軸方向に並ぶ４つの表示画素領域の夫々がＸ軸方向に間欠的または連続的に露光される。

また、本実施形態では、図３に示すように、基板ｇは基板搬送装置（図示せず）によって、Ｘ軸正方向に搬送される（図の矢印ｉ）。フォトマスクｂの各々は、露光ヘッド内において、光源からの光（図示せず）の照射範囲内に固定されている。更に、フォトマスクｂと光源との間には、ブラインドシャッターｍが図示しない移動機構によってＸ軸方向に移動自在に配置される。

カラーフィルタ基板を作製するには、まず、基板ｇ上に、遮光層としてブラックマトリックス（図示せず）を形成する。より詳細には、基板ｇ上の矩形状の表示画素領域ｈに、複数の開口部を区画する格子状のブラックマトリクスが形成される。また、表示画素領域ｈを取り囲む矩形環状かつ帯状の領域（額縁領域）においては、ブラックマトリクスは基板ｇ上の全面に形成される。更に、表示画素領域ｈの外側には、周辺ダミーパターン及びアライメントマークが同時に形成される。

尚、ブラックマトリクスの形成方法は特に限定されず、フォトリソグラフィ法等の種々の手法を適用可能である。また、基板ｇは、カラーフィルタとして使用される際に要求される透明性、強度、耐熱性及び耐候性を有するものであれば良く、例えば、ガラス基板、石英基板、アクリル等の透明樹脂基板などを好適に用いることができる。

次に、１色目（例えば赤色）のカラーレジストを塗布した基板ｇをＸ軸正方向に搬送しながら、表示画素領域ｈに１色目の着色層を形成する。より詳細には、ブラインドシャッターｍを開いた状態で、基板ｇをＸ軸正方向に連続的に搬送しながら光源からの光をフォトマスクｂに照射する。光源からの光を連続的に照射すると、ストライプ状のスリットａのパターンが、Ｘ軸方向に連続的に、表示画素領域ｈのカラーレジスト上に焼きつけられる。この時、ブラックマトリクス及びフォトマスクｂのスリットａの位置をＣＣＤカメラで読み取りながら、逐次、基板ｇとフォトマスクｂとの相対的な位置が調整される。一方、Ｘ軸方向に隣接する一対の表示画素領域ｈの間は、Ｘ軸方向に隣接する表示画素領域の間隔より幅の狭いブラインドシャッターで、部分的に遮光する。尚、ブラインドシャッターのＸ軸方向の幅は可変であり、レジストの種類や露光条件（照射量、現像時間）に応じて適宜調整される。この時、ブラインドシャッターｍは閉じた状態で、基板ｇの搬送と同期して移動される（図３の矢印方向ｎ）。この連続露光処理と遮光処理とを複数回繰り返した後、現像や洗浄等の所定の工程を行う。以上の工程によって、１色目の着色層は、Ｘ軸方向に延び、表示画素領域ｈにおけるＸ軸方向に連なる開口部を連続的に覆うように形成される。尚、光源からの光を点滅させながら照射することにより、カラーレジストにドット状に開口パターンを焼き付けても良い。

１色目の着色層の形成後、２色目（例えば青色）及び３色目（例えば緑色）の着色層についても、上記した着色層形成処理を繰り返し行うことで、１色目の着色層と同様の形態に形成される。この結果、Ｘ軸方向に延びる、赤、青及び緑色の着色層が一定の順序（例えば、赤、青及び緑の順）でＹ軸方向に繰り返し配列される。赤、青及び緑色に加えて、４色目（例えば、黄色）の着色層を形成する場合も、同様の露光方法を適用できる。

その後、基板上の着色層及びブラックマトリクスの表面全体を覆うように、透明電極膜として酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）をスパッタリング法にて形成する。

最後に、着色層を形成した後の基板に、対向基板との間隔を規制するためのフォトスペーサーを表示画素領域に形成し、表示画素領域の外側にダミーフォトスペーサーを形成する。ここで、着色層上においては、開口部の外周縁を構成する辺であって、ブラインドシャッターで遮光される領域の最も近くに位置する辺から３００μｍ以内の範囲にのみフォトスペーサーの中心軸が位置するように、ダミーフォトスペーサーを形成する（このダミーフォトスペーサーの形成位置の詳細については後述する）。基板上にフォトスペーサーを形成するには、フォトスペーサー、及び、ダミーフォトスペーサーを露光するためのレジストを塗布する。そして、フォトスペーサー及びダミーフォトスペーサーに対応するパターンが設けられたフォトマスクを用いて基板の全面に一括露光を行う。

以下に、上記した着色層上のダミーフォトスペーサー形成位置の詳細について説明する。

図４は、グレーゾーンの発生メカニズムを説明する断面図である

ブラインドシャッターｍによる遮光時には、Ｙ軸と平行なブラインドシャッターｍの端縁によって光が回折され、ｑで示す領域の照射強度が、表示画素領域ｈに対する照射強度に比べて小さくなる。また、照射光はコリメーション角ｏ（被照射面に入射する光の角度）を有するため、ブラインドシャッターｍの下側へと光が入り込んだり、逆に照射される光の一部がブラインドシャッターｍで遮光されたりする（ｐで示す領域）。この結果、光の照射量が不十分となる領域（グレーゾーン）ｑが生じる。このグレーゾーンｑ内の光の照射量は、表示画素領域ｈの外方かつＸ軸方向（図４では、Ｘ軸正方向）に進むにつれて少なくなる。尚、図４では、スペースの都合上、ブラインドシャッターｍのＹ軸に平行な一方の端縁近傍のみを示しているが、Ｙ軸と平行な他方のブラインドシャッターｍの端縁でも同様のグレーゾーンが形成される。

図５は、グレーゾーンにおける着色層のプロファイル図である。

上記したグレーゾーンｑに形成される着色層（図５のグレーゾーン発生領域に対応する部分）は、露光時におけるブラインドシャッターを表示画素領域の外側に配置することで、額縁領域上に位置させている。グレーゾーンに形成される着色層は、表示画素領域に形成される着色層に比べて、相対的に膜厚が薄くなる。より詳細には、グレーゾーン開始部からＸ軸正方向に３００μｍ以上離れた位置からグレーゾーン先端部にかけて、着色層の膜厚は急激に減少する。これに対し、グレーゾーン発生開始部からＸ軸正方向に３００μｍ以内の範囲では、着色層の膜厚の減少程度は小さい。これは、当該３００μｍ以内の範囲では、図４で説明した回折の影響が比較的少ないためである。尚、ブラインドシャッター端縁近傍で遮光されていた他の部分にも全て同様に膜厚が減少した着色層が形成される。

また、グレーゾーンｑに形成される着色層の長さ（Ｘ軸方向）は、最大値が６００μｍ程度であり、実際に形成される長さは３００〜６００μｍの範囲内でばらつく。そこで、ブラインドシャッターの位置精度を加味して、露光時には、ブラインドシャッターのＹ軸に平行な端縁は、最外周の開口部の外周縁を構成する辺（図６（ｃ）の辺ｗ）から５００〜１０００μｍだけ離して配置する。このようにブラインドシャッターの位置を調整する事により、ブラインドシャッターの配置に誤差が生じても、グレーゾーンを表示画素領域の外側に常に位置させることができる。この結果、ブラインドシャッターの位置精度にかかわらず、開口部の外周縁を構成する辺ｗ（図６（ｃ））から、外方かつＸ軸方向に３００μｍ以内に位置する着色層の膜厚変動を小さくすることができる。

ここで、グレーゾーン発生開始部から３００μｍ以内の領域における着色層の膜厚を、任意に選択した５箇所（ｎ：１〜５）について測定した。その結果から、表示画素領域における着色層の膜厚に対して膜厚が減少した値を表１に示す。

表１に示されるように、グレーゾーン発生開始部から３００μｍ以内では、上記の着色層の膜厚の減少値は、概ね０．０５μｍ以内に収まっていることが確認された。

図６は、本発明の実施形態に係るカラーフィルタの部分拡大図である。より詳細には、図６（ａ）は、カラーフィルタの一部を示す図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）のｒ部の拡大図であり、図６（ｃ）は、図６（ｂ）のＣ−Ｃ線に沿った断面図である。

本実施形態で製造されたカラーフィルタは、着色層の上において、開口部の外周辺を構成する辺であって、Ｙ軸方向に伸びる一対の額縁領域ｓに最も近い辺ｗ（図６では、一対のうち一方の辺ｗのみが示されている）から３００μｍ以内の範囲（図６のｘで示す範囲が３００μｍ以下となる）にダミーフォトスペーサーｖの中心軸が位置するようにのみ、ダミーフォトスペーサーｖが形成されている。尚、ｕは各着色層のｗを連ねた仮想線である。この結果、着色層の膜厚が一定ではない領域を確実に避けてダミーフォトスペーサーｖを配置することができる。

以上より、本実施形態に係るカラーフィルタの製造方法を用いると、ブラインドシャッターを用いて隣接する露光領域を遮光する小型マスク連続露光方式を用いつつ、表示画素領域の外側の着色層上に均一な高さを有するダミーフォトスペーサーを形成することができる。この結果、表示品質が良好な表示装置の作製が実現可能となる。

尚、上記の実施形態では、遮光層としてブラックマトリクスを用いているが、特にこれに限定されない。遮光層は画素の各々に対応する複数の開口部を区画できるものであれば良く、例えば、基板上に形成される金属薄膜からなる電極層でも良い。

更に、上記の実施形態では、各色の着色層はＸ軸方向に連続的に延びる帯状に形成されているが、同一色のドット形状でＸ軸方向に延びる着色層を形成しても良い。

上記の実施形態に係るカラーフィルタを用いた液晶表示装置は、カラーフィルタとこれに対向する対向基板とを貼り合わせ、両基板の間に液晶を封入することによって作製できる。

本発明は、液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタ等を製造するために用いることができる。

ａ スリット
ｂ フォトマスク
ｄ スリットの一部
ｅ 開口
ｇ 基板
ｈ 表示画素領域
ｍ ブラインドシャッター
ｏ コリメーション角
ｐ コリメーション角に起因する低照度領域
ｑ グレーゾーン
ｓ 額縁領域
ｔ 着色層端部
ｗ 開口部外周縁
ｕ 仮想線
ｖ ダミーフォトスペーサー

本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、第１の方向及びこれと直交する第２の方向に複数の着色画素がマトリクス状に配列され、第１の方向に同一色の着色画素が整列するカラーフィルタを、１枚の基板上に、少なくとも第１の方向に複数並べて形成する。詳細には、基板上に、着色画素の各々に対応する複数の開口部を区画する格子状の遮光層を含み、カラーフィルタの形成領域となる矩形状領域を、第１の方向に間欠的に複数並べて形成し、レジストを塗布した基板を第１の方向に搬送しながら連続的または間欠的に露光する処理と、ブラインドシャッターを用いて第１の方向に隣接する矩形状領域の間を部分的に遮光する処理とを複数回繰り返し、開口部を覆う複数の着色層を形成し、複数の着色層の形成をカラーフィルタを構成する着色画素の色数分だけ繰り返して、複数色の着色層を形成し、着色層上にフォトスペーサーを形成し、ブラインドシャッターを用いて矩形状領域の間を部分的に遮光する処理において、ブラインドシャッターの第２の方向の一対の端縁は、開口部の外周縁を構成する辺であって、開口部が配列される矩形状領域の外側において当該矩形状領域の第２の方向の辺に沿って延びる一対の領域に最も近い辺から５００〜１０００μｍだけ離して配置され、フォトスペーサーの形成において、開口部の外周縁を構成する辺であって、一対の領域の最も近くに位置する辺から３００μｍ以内の範囲にのみフォトスペーサーの中心軸が位置するように、フォトスペーサーを配置する。

Claims (3)

1. 第１の方向及びこれと直交する第２の方向に複数の画素がマトリクス状に配列され、前記第１の方向に同一色の画素が整列するカラーフィルタであって、
   基板と、
   前記基板上において、前記画素の各々に対応する複数の開口部を区画する格子状の遮光層と、
   前記開口部を覆うように形成される複数の着色層と、
   前記着色層上に形成される複数のフォトスペーサーとを備え、
   前記開口部が配列される矩形状領域の外側において当該矩形状領域の前記第２の方向の辺に沿って延びる一対の領域では、前記着色層の厚みは、前記第１の方向の少なくとも両端部近傍で一定ではなく、かつ、前記開口部の外周縁を構成する辺であって、当該一対の領域の最も近くに位置する辺から３００μｍ以内の範囲にのみ前記フォトスペーサーの中心軸が位置するように、着色層上に前記フォトスペーサーが形成される、カラーフィルタ。
2. 第１の方向及びこれと直交する第２の方向に複数の画素が配列される液晶表示装置であって、
   カラーフィルタと、
   前記カラーフィルタと対向する対向基板と、
   前記カラーフィルタ及び前記対向基板の間に封入される液晶とを備え、
   前記カラーフィルタは、
   基板と、
   前記基板上において、前記画素の各々に対応する複数の開口部を区画する格子状の遮光層と、
   前記開口部を覆うように形成される複数の着色層と、
   前記着色層上に形成される複数のフォトスペーサーとを備え、
   前記開口部が配列される矩形状領域の外側において当該矩形状領域の前記第２の方向の辺に沿って延びる一対の領域では、前記着色層の厚みは、前記第１の方向の少なくとも両端部近傍で一定ではなく、かつ、前記開口部の外周縁を構成する辺であって、当該一対の領域の最も近くに位置する辺から３００μｍ以内の範囲にのみ着色層上に前記フォトスペーサーが形成される、液晶表示装置。
3. 第１の方向及びこれと直交する第２の方向に複数の着色画素がマトリクス状に配列され、前記第１の方向に同一色の画素が整列するカラーフィルタを、１枚の基板上に、少なくとも前記第１の方向に複数並べて形成するカラーフィルタの製造方法であって、
   前記基板上に、前記画素の各々に対応する複数の開口部を区画する格子状の遮光層を含み、前記カラーフィルタの形成領域となる矩形状領域を、前記第１の方向に間欠的に複数並べて形成し、
   レジストを塗布した前記基板を前記第１の方向に搬送しながら連続的または間欠的に露光する処理と、ブラインドシャッターを用いて第１の方向に隣接する矩形状領域の間を部分的に遮光する処理とを複数回繰り返し、前記開口部を覆う複数の着色層を形成し、
   前記複数の着色層の形成をカラーフィルタを構成する着色画素の色数分だけ繰り返して、複数色の着色層を形成し、
   前記着色層上にフォトスペーサーを形成し、
   前記ブラインドシャッターを用いて矩形状領域の間を部分的に遮光する処理において、前記ブラインドシャッターの前記第２の方向の一対の端縁は、前記開口部の外周縁を構成する辺であって、前記開口部が配列される矩形状領域の外側において当該矩形状領域の前記第２の方向の辺に沿って延びる一対の領域に最も近い辺から５００〜１０００μｍだけ離して配置され、
   前記フォトスペーサーの形成において、前記開口部の外周縁を構成する辺であって、前記一対の領域の最も近くに位置する辺から３００μｍ以内の範囲にのみ前記フォトスペーサーの中心軸が位置するように、前記フォトスペーサーを配置する、カラーフィルタの製造方法。

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