JPWO2009060882A1

JPWO2009060882A1 - アミド化合物及び農園芸用細菌性病害防除剤

Info

Publication number: JPWO2009060882A1
Application number: JP2009540072A
Authority: JP
Inventors: 裕明菅; 潤五十嵐
Original assignee: Otsuka Chemical Co Ltd; University of Tokyo NUC
Current assignee: Otsuka Chemical Co Ltd; University of Tokyo NUC
Priority date: 2007-11-09
Filing date: 2008-11-06
Publication date: 2011-03-24
Also published as: WO2009060882A1; US20100261920A1; EP2221293A1; US8436210B2; KR20100090284A; TW200926979A; KR101252606B1

Abstract

本発明は、抗細菌性活性を有するアミド化合物、及び該アミド化合物を含有する農園芸用細菌性病害防除剤を提供することを目的とする。本発明の新規なアミド化合物は、一般式（１）[式中、Ｒは基−ＣＨ（Ｒ１）（Ｒ２）又は基−ＣＯ（Ｒ２）を示す。Ｒ１は水素原子又は水酸基を示し、Ｒ２はＣ１−１２アルキル基を示す。]で表される。

Description

本発明は、アミド化合物及び農園芸用細菌性病害防除剤に関する。

細菌性の植物病害は、難防除病害として知られている。一般に市販されているカビ（糸状菌）による植物病害に有効な薬剤は、その大半が細菌性病害に対して有効でなく、僅かに無機又は有機の銅剤、ストレプトマイシン剤、オキソリニック酸、生物農薬等が細菌性病害防除剤として使用されるに止まっている。しかも、これら防除剤を使用しても、作物によっては必ずしも満足できる防除効果が得られていない。さらに、近年、オキソリニック酸の耐性モミ枯細菌病菌の発生が報告される等、細菌性植物病害の防除がますます困難な状況となってきている。

特許文献１には、ある種のアミド化合物が細菌類のバイオフィルム（生物膜）形成を調整する作用を有することが報告されている。しかしながら、該文献には、細菌性植物病害に対する該アミド化合物の防除効果について一切記載されておらず、事実、後記試験例から明らかなように、該文献記載のアミド化合物は細菌性病害に対して防除効果を有していない。

このように、細菌性植物病害に有効な薬剤の種類が不足しており、細菌性植物病害に対して優れた防除効果を有する薬剤の開発が強く要望されているのが実情である。
特表２００６−５１２２９０号公報

本発明は、細菌性病害の防除に極めて有効な化合物を提供することを課題とする。

本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねてきた。その結果、ある種のアミド構造を有する化合物が、抗細菌活性、より詳しくは細菌の毒素産生を抑制する作用を有しており、上記課題を解決できることを見出した。本発明は、この様な知見に基づき完成されたものである。

本発明は、下記項１〜９に示すアミド化合物、及び該アミド化合物を含有する農園芸用細菌性病害防除剤を提供する。
項１．一般式（１）

[式中、Ｒは基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）又は基−ＣＯ（Ｒ^２）を示す。Ｒ^１は水素原子又は水酸基を示し、Ｒ^２はＣ_１−１２アルキル基を示す。]
で表されるアミド化合物。
項２．一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）、Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がＣ_２−１０アルキル基である項１に記載のアミド化合物。
項３．一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）、Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がＣ_４−８アルキル基である項１に記載のアミド化合物。
項４．一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）、Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がｎ−ヘキシル基である項１に記載のアミド化合物。
項５．一般式（１）

[式中、Ｒは基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）又は基−ＣＯ（Ｒ^２）を示す。Ｒ^１は水素原子又は水酸基を示し、Ｒ^２はＣ_１−１２アルキル基を示す。]
で表されるアミド化合物を有効成分として含有する農園芸用細菌性病害防除剤。
項６．一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）、Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がＣ_２−１０アルキル基であるアミド化合物を含有する項５に記載の防除剤。
項７．一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がＣ_４−８アルキル基であるアミド化合物を含有する項５に記載の防除剤。
項８．一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）、Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がｎ−ヘキシル基であるアミド化合物を含有する項５に記載の防除剤。
項９．農園芸用細菌性病害がもみ枯れ細菌病である項５〜８のいずれかに記載の防除剤。

本発明のアミド化合物は、一般式（１）

[式中、Ｒは基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）又は基−ＣＯ（Ｒ^２）を示す。Ｒ^１は水素原子又は水酸基を示し、Ｒ^２はＣ_１−１２アルキル基を示す。]
で表される。

本発明において、Ｃ_４−８アルキル基、Ｃ_２−１０アルキル基及びＣ_１−１２アルキル基は、それぞれ以下の通りである。

Ｃ_４−８アルキル基としては、例えばｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−メチル−ｎ−ブチル、２−メチル−ｎ−ブチル、３−メチル−ｎ−ブチル、１，１−ジメチル−ｎ−プロピル、１，２−ジメチル−ｎ−プロピル、２，２−ジメチル−ｎ−プロピル、１−エチル−ｎ−プロピル、ｎ−ヘキシル、１−メチル−ｎ−ペンチル、２−メチル−ｎ−ペンチル、３−メチル−ｎ−ペンチル、４−メチル−ｎ−ペンチル、１，１−ジメチル−ｎ−ブチル、１，２−ジメチル−ｎ−ブチル、１，３−ジメチル−ｎ−ブチル、２，２−ジメチル−ｎ−ブチル、２，３−ジメチル−ｎ−ブチル、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル、１−エチル−ｎ−ブチル、２−エチル−ｎ−ブチル、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロピル、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロピル、１−メチル−１−エチル−ｎ−ペンチル、ｎ−ヘプチル、２−ヘプチル、１−エチル−１，２−ジメチル−ｎ−プロピル、１−エチル−２，２−ジメチル−ｎ−プロピル、ｎ−オクチル、３−オクチル、４−メチル−３−ｎ−ヘプチル、６−メチル−２−ｎ−ヘプチル、２−プロピル−１−ｎ−ヘプチル、２，４，４−トリメチル−１−ｎ−ペンチル等の炭素数４〜８の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を挙げることができる。

Ｃ_２−１０アルキル基としては、前記Ｃ_４−８アルキル基に加え、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ノニル、２−ノニル、２，６−ジメチル−４−ｎ−ヘプチル、３−エチル−２，２−ジメチル−３−ｎ−ペンチル、３，５，５−トリメチル−１−ｎ−へキシル、ｎ−デシル、２−デシル、４−デシル、３，７−ジメチル−１−ｎ−オクチル、３，７−ジメチル−３−ｎ−オクチル等の炭素数２〜１０の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を挙げることができる。

Ｃ_１−１２アルキル基としては、前記Ｃ_２−１０アルキル基に加え、例えばメチル、ｎ−ウンデシル、２−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル等の炭素数１〜１２の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。

上記一般式（１）で表される本発明のアミド化合物には、下記一般式（１ａ）及び（１ｂ）で表されるアミド化合物が包含される。

[式中、Ｒ^１及びＲ^２は前記に同じ。]

[式中、Ｒ^２は前記に同じ。]
上記一般式（１ａ）及び式（１ｂ）で表されるアミド化合物の中では、一般式（１ａ）で表されるアミド化合物が、防除効果の観点から好ましい。

上記一般式（１ａ）で表されるアミド化合物の中では、Ｒ^１が水素原子を示すアミド化合物が好ましい。一般式（１ａ）で表されるアミド化合物の中では、Ｒ^２がＣ_２−１０アルキル基である化合物が好ましく、Ｒ^２がＣ_４−８アルキル基である化合物がより好ましく、Ｒ^２がｎ−ヘキシル基である化合物が特に好ましい。

上記一般式（１）で表される本発明のアミド化合物は、例えば、下記反応式−１又は反応式−２に示す方法に従って製造することができる。

反応式−１

［式中、Ｒは前記に同じ。Ｘは水酸基又はハロゲン原子を示す。］
上記反応式−１に示すように、式（２）で表される３−アミノ−２−シクロヘキセン−１−オン（以下、化合物（２）と言うことがある）と一般式（３）で表されるカルボン酸化合物（以下、カルボン酸化合物（３）ということがある）とを反応させることにより、本発明のアミド化合物（１）が製造できる。化合物（２）とカルボン酸化合物（３）との反応は、適当な縮合剤の存在下に、不活性溶媒中で行うことができる。

上記反応で使用される縮合剤としては、公知の脱水縮合剤を広く使用でき、例えば、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、塩化チオニル等の酸ハロゲン化物生成剤；クロロぎ酸エチル、塩化メタンスルホニル等の混合酸無水物生成剤；Ｎ,Ｎ'−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド等のカルボジイミド類；Ｎ,Ｎ−カルボニルジイミダゾール、２−エトキシ−Ｎ−エトキシカルボニル−１,２−ジヒドロキノリン（ＥＥＤＱ）、トリフェニルホスフィン−四塩化炭素（錯体）等を挙げることができる。

縮合剤は、カルボン酸化合物（３）１モルに対して０．８〜５モル程度、好ましくは１〜３モル程度使用される。

上記反応で使用される不活性溶媒としては、反応に悪影響を与えない限り公知の溶媒を広く使用でき、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素；ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族乃至脂環式炭化水素；ジクロロメタン、１,２−クロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル；アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド（ＨＭＰＡ）等のアミド；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド；又はこれらの混合溶媒等を挙げることができる。

化合物（２）及びカルボン酸化合物（３）の使用割合は、広い範囲内から適宜選択することができ、例えば、化合物（２）は、カルボン酸化合物（３）１モルに対して、通常、０．８〜５モル程度、好ましくは１〜３モル程度使用される。

上記反応は、冷却下、室温下及び加温下のいずれでも行われる。例えば、−１０℃から溶媒の沸点温度以下の範囲内で反応を行えば良い。反応時間は、反応基質の種類及び使用割合、反応温度等により異なり、一概には言えないが、一般に５〜１０時間程度で反応は終了する。

本発明のアミド化合物（１）は、下記の反応式−２に示すように、化合物（２）と一般式（４）で表されるカルボン酸ハロゲン化物（以下、カルボン酸ハロゲン化物（４）ということがある）とを適当な溶媒中、必要に応じて塩基の存在下で、反応させることによっても製造することができる。

反応式−２

［式中、Ｒは前記に同じ。Ｘはハロゲン原子を示す。］
化合物（２）とカルボン酸ハロゲン化物（４）との反応において使用される溶媒としては、例えば、上記反応式−１に示す化合物（２）とカルボン酸化合物（３）との反応において使用される溶媒と同じ溶媒を挙げることができる。

上記反応で使用される塩基としては、公知の塩基を広く使用でき、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩又は炭酸水素塩；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の酢酸塩；水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水素化物；水酸化アンモニウム、炭酸アンモニウム、酢酸アンモニウム等のアンモニウム塩；又はトリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）等の第三級アミン等を挙げることができる。

塩基の使用量は、化合物（２）に対して、通常、１．０〜２．０モル程度、好ましくは１．１〜１．５モル程度とすれば良い。

化合物（２）及びカルボン酸ハロゲン化物（４）の使用割合は、広い範囲から適宜選択することができ、例えば、化合物（２）は、カルボン酸ハロゲン化物（４）１モルに対して、通常、０．８〜５モル程度、好ましくは１〜３モル程度使用される。

上記反応式−１におけるカルボン酸化合物（３）及び反応式−２におけるカルボン酸ハロゲン化物（４）のＲが基−ＣＯ（Ｒ^２）である場合、それぞれの反応に供する前に、当該カルボニル基を適当な保護基で保護しておくのが好ましい。

当該カルボニル基を保護する場合、使用される保護基は特に制限されず、例えばProtective Groups in Organic Synthesis, Theodora W. Greene著、1981年に記載のカルボニル基の保護基を適宜選択すれば良い。上記反応式−１又は反応式−２で示されるアミド化反応の後に、選択した保護基の脱保護方法を適用して脱保護することにより、それぞれ目的とするアミド化合物（１）を得ることができる。

なお、上記反応式−１及び反応式−２で使用される、化合物（２）、カルボン酸化合物（３）及びカルボン酸ハロゲン化物（４）は、いずれも商業的に容易に入手でき、また、公知の方法に従って製造することもできる。

斯くして得られるアミド化合物（１）は、通常の分離手段、例えば、カラムクロマトグラフィー、再結晶法等の手段により反応混合物から容易に単離し、精製することができる。

本発明のアミド化合物は、エルヴィニア属、シュードモナス属又はキサントモナス属に属する細菌、例えば、イネ白葉枯病菌（Xanthomonas oryzae pv. oryzae）、イネもみ枯細菌病菌（Pseudomonas glumae）、イネ苗立枯細菌病菌（Pseudomonas plantarii）、キュウリ斑点細菌病菌（Pseudomonas syringae）、カンキツかいよう病菌（Xanthomonas campestris pv. citri）、リンゴ火傷病菌（Erwinia amylovora）、モモ/アンズ穿孔細菌病菌（Xanthomonas campestris pv. pruni）、ウメかいよう病菌（Pseudomonas syringae pv.morsprunorum）、キャベツ黒腐病（Xanthomonas campestris）、アブラナ科野菜の黒斑細菌病菌（Pseudomonas syringae pv. maculicola）、はくさい軟腐病菌（Erwinia carotovora）、レタス腐敗病（Pseudomonas cicihorii，P. marginars，P. viridiflava）、コンニャクの腐敗病菌（Erwinia carotovora subsp. cartovora）、トマト／なす青枯病菌（Pseudomonas solanacearum）等による病害に対して有効であり、シュードモナス属、特にイネもみ枯細菌病菌に対して優れた防除効果を発揮する。

本発明のアミド化合物を殺細菌剤又は農園芸用細菌性病害防除剤として使用する場合、他の成分を加えずにそのまま防除剤として使用しても良いが、例えば、固体状、液体状、ガス状等の各種担体と混合し、更に必要に応じて界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤等を添加して、乳剤、水和剤、ドライフロアブル剤、フロアブル剤、水溶剤、粒剤、微粒剤、顆粒剤、粉剤、塗布剤、スプレー用製剤、エアゾール製剤、マイクロカプセル製剤、燻蒸用製剤、燻煙用製剤等の各種製剤形態に製剤して用いても良い。

これらの製剤において、有効成分である本発明のアミド化合物の含有量は、その製剤形態、使用場所等の各種条件に応じて、幅広い範囲から適宜選択すれば良いが、製剤全体量に対して、通常０．０１〜９５重量％程度、好ましくは０．１〜５０重量％程度とすれば良い。

本発明の製剤中に混合され得る固体状の担体としては、例えば、カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等の粘土類、タルク類、セラミック、セライト、石英、硫黄、活性炭、炭酸シリカ、水和シリカ等の無機鉱物、化学肥料等の微粉末、粒状物等が挙げられる。

また、本発明の製剤中に混合され得る液体状の担体としては、例えば、水、アルコール；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン；ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、灯油、軽油等の脂肪族乃至脂環式炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン等の芳香族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル；アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル；ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等のエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド；ジクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素；ジメチルスルホキシド、大豆油、綿実油等の植物油等が挙げられる。

本発明の製剤中に混合され得るガス状の担体としては、一般に噴射剤として用いられているものを用いればよく、例えば、ブタンガス、液化石油ガス、ジメチルエーテル、炭酸ガス等が挙げられる。

製剤中に混合され得る界面活性剤としては、例えば、ボリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ポリエチレンソルビタンアルキルエステル等の非イオン界面活性剤；アルキルベンゼンスルホネート、アルキルスルホサクシネート、アルキルサルフェート、ポリオキシエチレンアルキルサルフェート、アリルスルホネート、リグニン亜硫酸塩等の陰イオン界面活性剤等が挙げられる。

固着剤及び分散剤としては、例えば、カゼイン、ゼラチン、多糖類（澱粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等）等が挙げられる。

安定剤としては、例えば、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、界面活性剤、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。

本発明の製剤は、有機染料及び／又は無機染料を用いて着色しても良い。

本発明の製剤は、そのまま用いても良いし、水等の溶媒で希釈して用いても良い。粒剤、粉剤等の場合は、通常、希釈することなくそのまま使用される。また、乳剤、水和剤、フロアブル剤等を水等の溶媒で希釈して使用する場合には、通常、有効成分濃度が０．０００１〜１００重量％程度、好ましくは０．００１〜１０重量％程度となるようにすれば良い。

本発明のアミド化合物は、他の除草剤、殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、植物成長調節剤、共力剤、土壌改良剤等と予め混合して製剤化しても良い。また、本発明の製剤と上記各剤とを、使用の際に併用して用いても良い。

本発明のアミド化合物を栽培植物に施用する方法としては、例えば、地上液剤散布、地上固形散布、空中液剤散布、空中固形散布、液面散布、施設内施用、土壌混和施用、土壌潅中施用、表面処理（種子粉衣、塗布処理等）、育苗箱施用、単花処理、株元処理等の方法を挙げることができる。従来、細菌性植物病害に対しては予防的に種子処理（消毒）されることが多いが、本発明のアミド化合物は、発生が観察された時点で茎葉散布によっても効果を発現することができ、多様な処理方法を選択できる。

本発明のアミド化合物の施用量は、特に制限されず、製剤の形態、施用方法、施用時期、施用場所、施用作物の種類、細菌の種類等の各種条件に応じて広い範囲から適宜選択されるが、通常、１００ｍ^２あたり０．１ｇ〜１０００ｇ程度、好ましくは１０〜５００ｇ程度である。また、乳剤、水和剤、フロアブル剤等を水で希釈して用いる場合は、その施用濃度は、通常１〜１０００ｐｐｍ程度、好ましくは１０〜５００ｐｐｍ程度である。粒剤、粉剤等は、通常、希釈することなく製剤のままで施用される。

本発明のアミド化合物は、難防除である細菌性植物病害に対して優れた防除効果を有している。本発明のアミド化合物は、特に、もみ枯細菌等の毒素産生を極めて効果的に抑制できる。従って、本発明のアミド化合物は、農園芸用細菌性病害防除剤として好適に使用され得る。

図１は、試験例１において化合物（１ａ−３）及び比較化合物について供試濃度（μＭ）と毒素量（μｇ／ｍｌ）との関係を示すグラフである。試験例２において、化合物（１ａ−３）についてもみ枯細菌病の発生を評価し、数値化したグラフである。試験例３において、化合物（１ａ−３）についてもみ枯細菌病の発生を評価し、数値化したグラフである。

以下に、参考例、本発明のアミド化合物の製造例、製剤例及び試験例を挙げて、本発明を一層明らかにするが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下において、Ｅｔはエチル基を意味する。単に「部」とあるのは「重量部」を意味する。

参考例１３，３−エチレングリコシルヘキサノイル酸の合成
（１）３−オキソヘキサノイル酸エチルエステルの合成
メルドラム酸（2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン）6.15 g（42.7 mmol）とトリエチルアミン8.63 g（85.4 mmol）とをジクロロメタン60 mlに溶解させ、得られた溶液に氷冷下ブタン酸クロライド4.99 g（46.9 mmol）を滴下して加えて、室温で約12時間撹
拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を希塩酸及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝8／2）で精製して5-ブチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンを得た。

得られた5-ブチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンをエタノール中で２時間還流した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝8／2）で精製して下式で表される３−オキソヘキサノイル酸エチルエステルを得た。

収量：4.85 g（30.7 mmol）
収率：72%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.94ppm(t, 3H), 1.30ppm(t, 3H), 1.66ppm(m, 2H), 2.54ppm(m, 2H), 3.45ppm(s, 2H), 4.22ppm(q, 2H)。

（２）３，３−エチレングリコシルヘキサノイル酸エチルエステルの合成
上記（１）で得られた３−オキソヘキサノイル酸エチルエステル4.00 g（25.3 mmol）、エチレングリコール7.84 g（126.5 mmol）及びｐ−トルエンスルホン酸一水和物 475 mg（2.5 mmol）をベンゼン50 mlに溶解させ、ディーンスターク装置を備えた還流装置で６時間還流した。冷却後、反応液を飽和重曹水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝6／4）で精製して下式で表される３，３−エチレングリコシルヘキサノイル酸エチルエステルを得た。

収量：4.48 g（22.2 mmol）
収率：88%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.94ppm(t, 3H), 1.29ppm(t, 3H), 1.45ppm(m, 2H), 1.81ppm(m, 2H), 2.67ppm(s, 2H), 4.00ppm(m, 4H), 4.20ppm(q, 2H)。

（３）３，３−エチレングリコシルヘキサノイル酸
上記（２）で得られた３，３−エチレングリコシルヘキサノイル酸エチルエステル4.48g（22.2 mmol）及び水酸化リチウム一水和物4.66 g（111 mmol）をテトラヒドロフラン50 mlと蒸留水50 mlとの混合液に溶解させ、室温で約12時間撹拌した。反応液を希塩酸で中和し、減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／メタノール＝2／8）で精製して下式で表される３,３−エチレングリコシルヘキサノイル酸を得た。

収量：2.31 g（13.3 mmol）
収率：60%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.69ppm(t, 3H), 1.17ppm(m, 2H), 1.55ppm(m, 2H), 2.32ppm(s, 2H), 3.80ppm(m, 4H)。

参考例２３，３−エチレングリコシルオクタノイル酸の合成
（１）３−オキソオクタノイル酸エチルエステルの合成
メルドラム酸6.15 g（42.7 mmol）とトリエチルアミン8.63 g（85.4 mmol）とをジクロロメタン75 mlに溶解させ、氷冷下ヘキサン酸クロライド6.31 g（46.9 mmol）を滴下して加えて、室温で約12時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を希塩酸及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝8／2）で精製して5-ヘキサノイル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンを得た。

得られた5-ヘキサノイル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンをエタノール中で2時間還流した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝8／2）で精製して下式で表される３−オキソオクタノイル酸エチルエステルを得た。

収量：7.45 g（40.1 mmol）
収率：94%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.91ppm(t, 3H), 1.25ppm(m, 7H), 1.62ppm(m, 2H), 2.54ppm(m, 2H), 3.45ppm(s, 2H), 4.20ppm(q, 2H)。

（２）３，３−エチレングリコシルオクタノイル酸エチルエステルの合成
上記（１）で得られた３−オキソオクタノイル酸エチルエステル6.01 g（32.3 mmol）、エチレングリコール10.01 g（161.5 mmol）及びｐ−トルエンスルホン酸一水和物 627 mg（3.3 mmol）をベンゼン50 mlに溶解させ、ディーンスターク装置を備えた還流装置で6時間還流した。冷却後、反応液を飽和重曹水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝6／4）で精製して下式で表される３，３−エチレングリコシルオクタノイル酸エチルエステルを得た。

収量：6.83 g（29.7 mmol）
収率：92%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.91ppm(t, 3H), 1.29ppm(m, 7H), 1.33ppm(m, 2H), 1.74ppm(m, 2H), 2.67ppm(s, 2H), 4.01ppm(m, 4H), 4.19ppm(q, 2H)。

（３）３，３−エチレングリコシルオクタノイル酸
上記（２）で得られた３，３−エチレングリコシルオクタノイル酸エチルエステル6.83g（29.7 mmol）及び水酸化リチウム一水和物6.24 g（148.5 mmol）をテトラヒドロフラン50 mlと蒸留水50 mlとの混合液に溶解させ、室温で約12時間撹拌した。反応液を希塩酸で中和し、減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／メタノール＝2／8）で精製して下式で表される３，３−エチレングリコシルオクタノイル酸を得た。

収量：4.75 g（23.5 mmol）
収率：79%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.84ppm(t, 3H), 1.22ppm(m, 4H), 1.30ppm(m, 2H), 1.66ppm(m, 2H), 2.65ppm(s, 2H), 3.97ppm(m, 4H)。

参考例３３，３−エチレングリコシルデカノイル酸の合成
（１）３−オキソデカノイル酸エチルエステルの合成
メルドラム酸6.15 g（42.7 mmol）とトリエチルアミン8.63 g（85.4 mmol）とをジクロロメタン75 mlに溶解させ、氷冷下オクタン酸クロライド7.62 g（46.9 mmol）を滴下して加えて、室温で約12時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を希塩酸及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝8／2）で精製して5-オクタノイル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンを得た。

得られた5-オクタノイル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンをエタノール中で２時間還流した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝8／2）で精製して下式で表される３−オキソデカノイル酸エチルエステルを得た。

収量：8.22 g（38.4 mmol）
収率：90%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.91ppm(t, 3H), 1.30ppm(m, 11H), 1.62ppm(m, 2H), 2.55ppm(m, 2H), 3.46ppm(s, 2H), 4.20ppm(q, 2H)。

（２）３,３−エチレングリコシルデカノイル酸エチルエステルの合成
上記（１）で得られた３−オキソデカノイル酸エチルエステル5.99 g（28 mmol）、エチレングリコール8.68 g（140 mmol）及びｐ−トルエンスルホン酸一水和物 532 mg（2.8mmol）をベンゼン50 mlに溶解させ、ディーンスターク装置を備えた還流装置で６時間還流した。冷却後、反応液を飽和重曹水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝6／4）で精製して下式で表される３,３−エチレングリコシルデカノイル酸エチルエステルを得た。

収量：6.50 g（25.2 mmol）
収率：90%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.91ppm(t, 3H), 1.29ppm(m, 11H), 1.33ppm(m, 2H), 1.81ppm(m, 2H), 2.67ppm(s, 2H), 4.01ppm(m, 4H), 4.19ppm(q, 2H)。

（３）３，３−エチレングリコシルデカノイル酸
上記（２）で得られた３，３−エチレングリコシルデカノイル酸エチルエステル6.50 g（25.2 mmol）及び水酸化リチウム一水和物5.29 g（126 mmol）をテトラヒドロフラン50 mlと蒸留水50 mlとの混合液に溶解させ、室温で約12時間撹拌した。反応液を希塩酸で中和し、減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／メタノール＝2／8）で精製して下式で表される３，３−エチレングリコシルデカノイル酸を得た。

収量：4.05 g（17.6 mmol）
収率：70%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.84ppm(t, 3H), 1.22ppm(m, 8H), 1.33ppm(m, 2H), 1.76ppm(m, 2H), 2.65ppm(s, 2H), 3.97ppm(m, 4H)。

参考例４３,３−エチレングリコシルドデカノイル酸の合成
（１）３−オキソドデカノイル酸エチルエステルの合成
メルドラム酸7.20 g（50 mmol）とトリエチルアミン5.56 g（55 mmol）とをジクロロメタン50 mlに溶解させ、氷冷下でデカン酸クロライド10.48 g（55 mmol）を滴下して加えた。反応液を室温で約12時間撹拌した後、減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル層を希塩酸及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝3／7）で精製して5-デカノイル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンを得た。

得られた5-デカノイル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンをエタノール中で2時間還流した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝3／7）で精製して下式で表される３−オキソドデカノイル酸エチルエステルを得た。

収量：11.85 g（48.9 mmol）
収率：98%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.91ppm(t, 3H), 1.30ppm(m, 15H), 1.62ppm(m, 2H), 2.55ppm(m, 2H), 3.45ppm(s, 2H), 4.20ppm(q, 2H)。

（２）３,３−エチレングリコシルドデカノイル酸の合成
上記（１）で得られた３−オキソドデカノイル酸エチルエステル6.05 g（25 mmol）、
エチレングリコール7.75 g（125 mmol）、及びｐ−トルエンスルホン酸一水和物 0.48 g（2.5 mmol）をベンゼン50 mlに溶解させ、ディーンスターク装置を備えた還流装置で6時間還流した。冷却後、反応液を飽和重曹水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝5／5）で精製して、下式で表される３，３−エチレングリコシルドデカノイル酸エチルエステルを得た。

収量：6.99 g（24.5 mmol）
収率：98%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.91ppm(t, 3H), 1.29ppm(m, 15H), 1.33ppm(m, 2H), 1.81ppm(m, 2H), 2.67ppm(s, 2H), 4.01ppm(m, 4H), 4.19ppm(q, 2H)。

（３）３，３−エチレングリコシルドデカノイル酸の合成
上記（２）で得られた３，３−エチレングリコシルドデカノイル酸エチルエステル5.72g（20 mmol）及び水酸化リチウム一水和物4.20 g（100 mmol）をテトラヒドロフラン50 mlと蒸留水50 mlとの混合液に溶解させ、室温下約12時間撹拌した。反応液を希塩酸で中和し、減圧濃縮して得られた残渣を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／メタノール＝3／7）で精製して３，３−エチレングリコシルドデカノイル酸を得た。

収量：3.71 g（14.4 mmol）
収率：72%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.84ppm(t, 3H), 1.22ppm(m, 12H), 1.33ppm(m, 2H), 1.76ppm(m, 2H), 2.65ppm(s, 2H), 3.97ppm(m, 4H)。

製造例１Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）ブチラミド（１ａ−１）の製造
ブチル酸465 mg（5.28 mmol）と３−アミノ−２−シクロヘキセン−１−オン645 mg（5.81 mmol）をジクロロメタン50 mlに溶解させ、ジメチルアミノピリジン750 mg（5.81mmol）、ジイソプロピルエチルアミン774 mg（6.34 mmol）及び1−エチル−3−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド1.13g（5.81 mmol）を加え、室温で約14時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝６／４）で精製して、下式で表されるＮ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）ブチラミド（１ａ−１）を得た。

収量：97 mg（0.54 mmol）
収率：10%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz)：0.98ppm(t, 3H), 1.71ppm(m, 2H), 2.06ppm(m, 2H), 2.36ppm(m, 4H), 2.61ppm(m, 2H), 6.59ppm(s, 1H), 7.47ppm(br, 1H)。

製造例２Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）ヘキサナミド（１ａ−２）の製造
ブチル酸に代えてｎ−ヘキサン酸を使用した以外は製造例１と同様にして、Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）ヘキサナミド（１ａ−２）を得た。

収量：319 mg（1.53 mmol）
収率：38%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz)：0.93ppm(t, 3H), 1.34ppm(m, 4H), 1.70ppm(m, 2H), 2.06ppm(m, 2H), 2.37ppm(m, 4H), 2.60ppm(m, 2H), 6.55ppm(s, 1H), 7.06ppm(br, 1H)。

製造例３Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）オクタナミド（１ａ−３）の製造
ブチル酸に代えてオクタン酸を使用した以外は製造例１と同様にして、Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）オクタナミド（１ａ−３）を得た。

収量：15.53 g（65.5 mmol）
収率：39%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz)：0.90ppm(t, 3H), 1.31ppm(m, 8H), 1.68ppm(m, 2H), 2.06ppm(m, 2H), 2.38ppm(m, 4H), 2.62ppm(m, 2H), 6.57ppm(s, 1H), 7.33ppm(br, 1H)。

製造例４Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）デカナミド（１ａ−４）の製造
ブチル酸に代えてデカン酸を使用した以外は製造例１と同様にして、Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）デカナミド（１ａ−４）を得た。

収量：575 mg（2.17 mmol）
収率：41%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz)：0.90ppm(t, 3H), 1.28ppm(m, 12H), 1.68ppm(m, 2H), 2.06ppm(m, 2H), 2.38ppm(m, 4H), 2.61ppm(m, 2H), 6.57ppm(s, 1H), 7.38ppm(br, 1H)。

製造例５Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）ドデカナミド（１ａ−５）の製造
ブチル酸に代えてドデカン酸を使用した以外は製造例１と同様にして、Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）ドデカナミド（１ａ−５）を得た。

収量：281 mg（0.96 mmol）
収率：32%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz)：0.90ppm(t, 3H), 1.28ppm(m, 16H), 1.68ppm(m, 2H), 2.06ppm(m, 2H), 2.39ppm(m, 4H), 2.61ppm(m, 2H), 6.61ppm(s, 1H), 7.27ppm(br, 1H)。

製造例６３−オキソ−Ｎ−（３−シオキソクロヘキ−１−セニル）ヘキサナミド（１ｂ−１）の製造
（１）Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）−３，３−エチレングリコシルヘキサナミドの合成
ブチル酸に代えて参考例１で得た３，３−エチレングリコシルヘキサノイル酸を使用した以外は製造例１と同様にして、下式で表されるＮ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）−３，３−エチレングリコシルヘキサナミドを得た。

収量：283 mg（1.06 mmol）
収率：24%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz)：0.91ppm(t, 3H), 1.70ppm(m, 2H), 2.08ppm(m, 2H), 2.41ppm(m, 2H), 2.59ppm(m, 4H), 2.76ppm(s, 2H), 4.15ppm(m, 4H), 6.74ppm(s, 1H), 9.03ppm(br, 1H)。

（２）３−オキソ−Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）ヘキサナミド（１ｂ−１）の合成
上記で得られたＮ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）−３,３−エチレングリコシルヘキサナミド283 mg（1.06 mmol）にトリフルオロ酢酸2 mlを加え、室温下約18時間撹拌した。反応液を5%水酸化ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和重曹水で十分洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／７）で精製して３−オキソ−Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）ヘキサナミド（１ｂ−１）を得た。

収量：127.8 mg（0.57 mmol）
収率：54%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.91ppm(t, 3H), 1.70ppm(m, 2H), 2.08ppm(m, 2H), 2.41ppm(m, 2H), 2.59ppm(m, 4H), 3.55ppm(s, 2H) , 6.74ppm(s, 1H), 9.11ppm(br, 1H)。

製造例７３−オキソ−Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）オクタナミド（１ｂ−２）の製造
（１）Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）−３，３−エチレングリコシルオクタナミドの合成
ブチル酸に代えて参考例１で得た３，３−エチレングリコシルオクタノイル酸を使用した以外は製造例１と同様にして、下式で表されるＮ−（３−シクロヘキ−１−セニル）−３，３−エチレングリコシルオクタナミドを得た。

収量：310 mg（1.05 mmol）
収率：26%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz)：0.93ppm(t, 3H), 1.32ppm(m, 4H), 1.64ppm(m, 2H), 2.08ppm(m, 2H), 2.34ppm(m, 2H), 2.59ppm(m, 4H), 2.75ppm(s, 2H), 4.13ppm(m, 4H), 6.74ppm(s, 1H), 9.08ppm(br, 1H)。

（２）３−オキソ−Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）オクタナミド（１ｂ−２）の合成
上記で得られたＮ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）−３，３−エチレングリコシルオクタナミド310 mg（1.05 mmol）にトリフルオロ酢酸2 mlを加え、室温下約１８時間撹拌した。反応液を5%水酸化ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和重曹水で十分洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／７）で精製して３−オキソ−Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）オクタナミド（１ｂ−２）を得た。

収量：98 mg（0.39 mmol）
収率：37%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.93ppm(t, 3H), 1.32ppm(m, 4H), 1.64ppm(m, 2H), 2.08ppm(m, 2H), 2.34ppm(m, 2H), 2.59ppm(m, 4H), 3.55ppm(s, 2H) , 6.74ppm(s, 1H), 9.12ppm(br, 1H)。

製造例８３−オキソ−Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）デカナミド（１ｂ−３）の製造
（１）Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）−３,３−エチレングリコシルデカナミドの合成
ブチル酸に代えて参考例１で得た３，３−エチレングリコシルデカノイル酸を使用した以外は製造例１と同様にして、下式で表されるＮ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）−３，３−エチレングリコシルデカナミドを得た。

収量：384 mg（1.19 mmol）
収率：30%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz)：0.88ppm(t, 3H), 1.27ppm(m, 8H), 1.61ppm(m, 2H), 2.05ppm(m, 2H), 2.38ppm(m, 2H), 2.55ppm(m, 4H), 2.71ppm(s, 2H), 4.06ppm(m, 4H), 6.71ppm(s, 1H), 9.01ppm(br, 1H)。

（２）３−オキソ−Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）デカナミド（１ｂ−３）の合成
上記で得られたＮ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）−３，３−エチレングリコシルデカナミド384 mg（1.19 mmol）にトリフルオロ酢酸2 mlを加え、室温下約18時間撹拌した。反応液を5%水酸化ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和重曹水で十分洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／７）で精製して３−オキソ−Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）デカナミド（１ｂ−３）を得た。

収量：190 mg（0.68 mmol）
収率：57%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.88ppm(t, 3H), 1.27ppm(m, 8H), 1.61ppm(m, 2H), 2.05ppm(m, 2H), 2.38ppm(m, 2H), 2.55ppm(m, 4H), 3.52ppm(s, 2H) , 6.71ppm(s, 1H), 9.10ppm(br, 1H)。

製造例９３−オキソ−Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）ドデカナミド（１ｂ−４）の製造
（１）Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）−３，３−エチレングリコシルドデカナミドの合成
ブチル酸の代わりに参考例１で得た３，３−エチレングリコシルドデカノイル酸を使用した以外は製造例１と同様にして、下式で表されるＮ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）−３，３−エチレングリコシルドデカナミドを得た。

収量：249 mg（0.71 mmol）
収率：36%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz)：0.89ppm(t, 3H), 1.27ppm(m, 12H), 1.61ppm(m, 2H), 2.06ppm(m, 2H), 2.38ppm(m, 2H), 2.55ppm(m, 4H), 2.71ppm(s, 2H), 4.08ppm(m, 4H), 6.72ppm(s, 1H), 9.00ppm(br, 1H)。

（２）３−オキソ−Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）ドデカナミド（１ｂ−４）の合成
上記で得られたＮ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）−３，３−エチレングリコシルドデカナミド249 mg（0.71 mmol）にトリフルオロ酢酸2 mlを加え、室温下約18時間撹拌した。反応液を5%水酸化ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和重曹水で十分洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／７）で精製して３−オキソ−Ｎ−（３−オキソシクロヘキ−１−セニル）ドデカナミド（１ｂ−４）を得た。

収量：33.8 mg（0.12 mmol）
収率：17%
¹H-NMR(CDCl₃, 500MHz); 0.89ppm(t, 3H), 1.27ppm(m, 12H), 1.61ppm(m, 2H), 2.06ppm(m, 2H), 2.38ppm(m, 2H), 2.55ppm(m, 4H), 3.52ppm(s, 2H), 6.72ppm(s, 1H), 9.10ppm(br, 1H)。

製剤例１（乳剤）
製造例１〜９で得られた発明のアミド化合物の各々１０部を、ソルベッソ１５０の４５部及びＮ−メチルピロリドン３５部に溶解し、これに乳化剤（商品名：ソルポール３００５X、東邦化学株式会社製）１０部を加え、撹拌混合して各々の１０％乳剤を得た。

製剤例２（水和剤）
製造例１〜９で得られた本発明のアミド化合物の各々２０部を、ラウリル硫酸ナトリウム２部、リグニンスルホン酸ナトリウム４部、合成含水酸化珪素微粉末２０部及びクレー５４部を混合した中に加え、ジュースミキサーで撹拌混合して２０％水和剤を得た。

製剤例３（粒剤）
製造例１〜９で得られた本発明のアミド化合物の各々５部に、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム２部、ベントナイト１０部及びクレー８３部を加え十分撹拌混合した。適当量の水を加え、更に撹拌し、造粒機で造粒し、通風乾燥して５％粒剤を得た。

製剤例４（粉剤）
製造例１〜９で得られた本発明のアミド化合物の各々１部を適当量のアセトンに溶解し、これに合成含水酸化珪素微粉末５部、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）０．３部及びクレー９３．７部を加え、ジュースミキサーで撹拌混合し、アセトンを蒸発除去して１％粉剤を得た。

製剤例５（フロアブル剤）
製造例１〜９で得られた本発明のアミド化合物の各々２０部と、ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテルリン酸エステルトリエタノールアミン３部及びシリコーン系消泡剤（商品名：ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ（ローダジル）４２６Ｒ、ＲＨＯＤＩＡＣＨＩＭＩＥ社製）０．２部を含む水２０部とを混合し、ミル（ダイノミル、ＷｉｌｌｙＡ．Ｂａｃｈｏｆｅｎ社製）を用いて湿式粉砕後、プロピレングリコール８部及びキサンタンガム０．３２部を含む水６０部と混合し２０％水中懸濁液を得た。

試験例１
もみ枯細菌（Pseudomonas（＝Burkholderia） glumae）をＬＢ培地（ＢＤ社製 Difco LB Broth：tryptone 10.0 g, Yeast Extract 5.0 g, Sodium Chloride 10.0 g）に接種し37℃で一晩培養した。培養液を遠心機にかけて集菌した後、菌体を新しいＬＢ培地で２回洗浄した。その菌体に新しいＬＢ培地を加え、次いで製造例３で製造した化合物（１ａ−３）を最終濃度が所定濃度（０、２０、４０、６０、８０及び１００μＭ）となるように加えて20時間振とう培養した。その培養液中に菌体が産生する毒素（toxoflavin）量を以下の手順で求めた。

各培養液を0.22μmのメンブレンフィルターで濾過し、濾液を1ml採り、クロロホルム1 mlを加えて、抽出した。得られたクロロホルム層を減圧濃縮し、残渣に80%（V/V）メタノール水溶液を加えて溶解させた。その溶解液の吸光度（260 nm）を測定し、化学合成された毒素標品から得られた検量線から毒素量を算出した。

また、比較試験として、上記特許文献１に記載の下記化合物（比較化合物）を用い、同様に試験した。結果を図１に示す。

図１から分かるように、製造例３で製造した本発明のアミド化合物（１ａ−３）をもみ枯細菌に加えた場合、細菌が産生する毒素量は、アミド化合物（１ａ−３）の濃度を高くするに従い顕著に減少した。一方、比較化合物をもみ枯細菌に加えた場合には、比較化合物の濃度を高めても、細菌が産生する毒素量はほとんど変化しなかった。

試験例２
化合物（１ａ−３）のジメチルホルムアミド1000 ppm溶液を所定濃度（５０、１００及び１５０μＭ）となるように水で希釈して試験液を調製した。一方、もみ枯細菌（Pseudomonas glumae）をＬＢ培地（ＢＤ社製：Difco LB Broth）に接種し37℃で一晩培養して、感染用培養液を調製した。

温室で開花時期まで栽培したイネ（韓国品種、Milyang 23）に、各試験液を10 ml噴霧した。１時間後、そのイネに感染用培養液を噴霧し、７日間栽培後のもみ枯細菌病の発症状態を評価した。

評価は、１株から任意に穂１本、計３本を採り、個々の花房（子実）において、もみ枯細菌の産生する毒素（toxoflavin）によって病害の発症した（茶色く変色した）部分の占める割合を目視で以下の基準によって評点し、全花房中の各評点の割合を示すことで発症状態を示した。

（評点の基準）
発症した部分の占める割合が
０．１％未満のとき：０
０．１％以上２０％未満のとき：１
２０％以上４０％未満のとき：２
４０％以上６０％未満のとき：３
６０％以上８０％未満のとき：４
８０％以上１００％のとき：５
この評価では、同じ条件を３個用意して行い、３回繰り返して再現性を確認した。また、比較試験として、試験液を水に代えて同様に処理した。更に、ブランクとして、試験液及び感染用培養液を水に代えて同様に処理した。

結果を表１に示す。また、評点：０及び１に着目した結果を図２に示す。

上記表１及び図２から分かるように、本発明のアミド化合物（１ａ−３）を含む試験液をイネに噴霧した場合、そのイネにもみ枯細菌を含む感染用培養液を噴霧しても、もみ枯細菌病の発生を抑えることができた。一方、イネに水を噴霧した後に、もみ枯細菌を含む感染用培養液を噴霧した比較試験の場合、多くのイネでもみ枯菌病が発生した。
試験例３
温室で開花時期まで栽培したイネ（韓国品種、Milyang 23）に、感染用培養液を噴霧し、1時間後、各試験液を10 ml噴霧した。そのイネに7日間栽培後のもみ枯細菌病の発症状態を試験例２と同様に評価した。また、比較試験として、試験液を水に代えて同様に処理した。更に、ブランクとして、試験液及び感染用培養液を水に代えて同様に処理した。結果を表２に示す。また、評点：０及び１に着目した結果を図３に示す。

上記表２及び図３から分かるように、イネにもみ枯細菌を含む感染用培養液を噴霧した後に、本発明のアミド化合物（１ａ−３）を含む試験液をイネに噴霧した場合も、上記試験例２と同様に、もみ枯細菌病の発生を抑えることができた。一方、イネにもみ枯細菌を含む感染用培養液を噴霧した後に、イネに水を噴霧した比較試験の場合、多くのイネでもみ枯菌病が発生した。

Claims

一般式（１）

[式中、Ｒは基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）又は基−ＣＯ（Ｒ^２）を示す。Ｒ^１は水素原子又は水酸基を示し、Ｒ^２はＣ_１−１２アルキル基を示す。]
で表されるアミド化合物。
一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）、Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がＣ_２−１０アルキル基である請求項１に記載のアミド化合物。
一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）、Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がＣ_４−８アルキル基である請求項１に記載のアミド化合物。
一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）、Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がｎ−ヘキシル基である請求項１に記載のアミド化合物。
一般式（１）

[式中、Ｒは基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）又は基−ＣＯ（Ｒ^２）を示す。Ｒ^１は水素原子又は水酸基を示し、Ｒ^２はＣ_１−１２アルキル基を示す。]
で表されるアミド化合物を有効成分として含有する農園芸用細菌性病害防除剤。
一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）、Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がＣ_２−１０アルキル基であるアミド化合物を含有する請求項５に記載の防除剤。
一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がＣ_４−８アルキル基であるアミド化合物を含有する請求項５に記載の防除剤。
一般式（１）において、Ｒが基−ＣＨ（Ｒ^１）（Ｒ^２）、Ｒ^１が水素原子、Ｒ^２がｎ−ヘキシル基であるアミド化合物を含有する請求項５に記載の防除剤。
農園芸用細菌性病害がもみ枯れ細菌病である請求項５に記載の防除剤。