JPWO2009054276A1 - Sealant for liquid crystal dropping method, vertical conduction material, and liquid crystal display element - Google Patents

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Abstract

本発明は、滴下工法による液晶表示素子の製造に用いたときに、シール剤成分が液晶中に溶出しても液晶汚染を引き起こすことを防止することができ、表示品位及び信頼性に優れる液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤を提供することを目的とする。本発明は、硬化性樹脂と光ラジカル開始剤とを含有する液晶滴下工法用シール剤であって、前記光ラジカル開始剤は、液晶に対して４重量％濃度で１２０℃にて完全に溶解させた後、−２０℃にて１４４時間放置後に上記液晶から析出しないものであり、前記光ラジカル開始剤は、溶媒中で測定した４０５ｎｍにおける吸光係数が５０ｍＬ／ｇ・ｃｍ以上である液晶滴下工法用シール剤である。The present invention can prevent liquid crystal contamination even when the sealing agent component is eluted in the liquid crystal when used in the manufacture of a liquid crystal display element by a dropping method, and has excellent display quality and reliability. It aims at providing the sealing compound for liquid crystal dropping methods which can manufacture an element. The present invention is a sealing agent for a liquid crystal dropping method containing a curable resin and a photo radical initiator, and the photo radical initiator is completely dissolved at 120 ° C. at a concentration of 4% by weight with respect to the liquid crystal. Then, after leaving at −20 ° C. for 144 hours, it does not precipitate from the liquid crystal, and the photoradical initiator is used for a liquid crystal dropping method having an extinction coefficient at 405 nm of 50 mL / g · cm or more measured in a solvent. It is a sealing agent.

Description

本発明は、滴下工法による液晶表示素子の製造に用いたときに、シール剤成分が液晶中に溶出しても液晶汚染を引き起こすことを防止することができ、表示品位及び信頼性に優れる液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤に関する。また、本発明は、上下導通材料、及び、液晶表示素子に関する。 The present invention can prevent liquid crystal contamination even when the sealing agent component is eluted in the liquid crystal when used in the manufacture of a liquid crystal display element by a dropping method, and has excellent display quality and reliability. The present invention relates to a sealing agent for liquid crystal dropping method capable of producing an element. The present invention also relates to a vertical conduction material and a liquid crystal display element.

従来の液晶表示素子の製造方法では、まず、２枚の電極付き透明基板のいずれか一方に、スクリーン印刷により熱硬化性シール剤を用いた液晶注入口を設けたシールパターンを形成し、６０〜１００℃でプリベイクを行いシール剤中の溶剤を乾燥させる。次いで、スペーサを挟んで２枚の基板を対向させてアライメントを行い貼り合わせ、１１０〜２２０℃で１０〜９０分間熱プレスを行いシール近傍のギャップを調整した後、オーブン中で１１０〜２２０℃で１０〜１２０分間加熱しシール剤を本硬化させる。最後に、液晶注入口から液晶を注入し、最後に封口剤を用いて液晶注入口を封止して、液晶表示素子を製造していた。 In the conventional method for producing a liquid crystal display element, first, a seal pattern in which a liquid crystal injection port using a thermosetting sealant is provided by screen printing on one of two transparent substrates with electrodes is formed. Pre-baking is performed at 100 ° C. to dry the solvent in the sealant. Next, alignment is performed with the two substrates facing each other with the spacers sandwiched therebetween, and hot pressing is performed at 110 to 220 ° C. for 10 to 90 minutes to adjust the gap near the seal, and then in an oven at 110 to 220 ° C. Heat for 10 to 120 minutes to fully cure the sealant. Finally, liquid crystal was injected from the liquid crystal injection port, and finally the liquid crystal injection port was sealed using a sealing agent to manufacture a liquid crystal display element.

しかし、この製造方法では、加熱により発生する歪みにより位置ズレ、ギャップのバラツキ、シール剤と基板との密着性の低下等が発生したり、残留溶剤が熱膨張して気泡が発生しギャップのバラツキやシールパスが発生したり、シール硬化に長時間を要したり、プリベイクプロセスが煩雑であったり、溶剤の揮発によりシール剤の使用可能時間が短かったり、液晶の注入に時間がかかる等の問題があった。とりわけ、近年の大型の液晶表示装置にあっては、液晶の注入に非常に時間がかかることが大きな問題となっていた。 However, in this manufacturing method, distortion caused by heating may cause positional misalignment, gap variation, decrease in adhesion between the sealing agent and the substrate, and residual solvent may thermally expand to generate bubbles, resulting in gap variation. Problems such as the occurrence of a seal pass, long seal curing time, complicated pre-baking process, short use time of sealant due to solvent volatilization, and time for liquid crystal injection was there. In particular, in a large liquid crystal display device in recent years, it takes a very long time to inject liquid crystal.

これに対して、硬化型の樹脂組成物からなるシール剤を用いた滴下工法と呼ばれる液晶表示素子の製造方法が検討されている。滴下工法では、まず、２枚の電極付き透明基板の一方に、スクリーン印刷等により長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール剤に紫外線を照射して仮硬化を行う。その後、必要に応じて液晶アニール時に加熱して更に硬化を行い、液晶表示素子を作製する。基板の貼り合わせを減圧下で行うようにすれば、極めて高い効率で液晶表示素子を製造することができる。今後はこの滴下工法が液晶表示装置の製造方法の主流となると期待されている。 On the other hand, a manufacturing method of a liquid crystal display element called a dripping method using a sealing agent made of a curable resin composition has been studied. In the dropping method, first, a rectangular seal pattern is formed on one of two transparent substrates with electrodes by screen printing or the like. Next, fine droplets of liquid crystal are dropped and applied to the entire surface of the transparent substrate frame in an uncured state of the sealant, and the other transparent substrate is immediately overlaid, and the sealant is irradiated with ultraviolet rays for temporary curing. Then, if necessary, it is heated at the time of liquid crystal annealing and further cured to produce a liquid crystal display element. If the substrates are bonded together under reduced pressure, a liquid crystal display element can be manufactured with extremely high efficiency. In the future, this dripping method is expected to become the mainstream of liquid crystal display manufacturing methods.

滴下工法に用いる液晶滴下工法用シール剤としては、高い接着性が得られることから、熱硬化性成分としてエポキシ樹脂を用いるのが一般的である。しかし、滴下工法により製造した液晶表示素子においては、液晶の配向乱れに起因する色むら等の表示不良が生じやすいという問題点があった。滴下工法の工程上、未硬化の状態の液晶滴下工法用シール剤が液晶に直接触れてしまい、シール剤が完全に硬化する前にシール剤成分が液晶中へ溶出してしまうことが原因であると考えられる。 As a sealing agent for a liquid crystal dropping method used for the dropping method, an epoxy resin is generally used as a thermosetting component because high adhesiveness is obtained. However, the liquid crystal display element manufactured by the dropping method has a problem that display defects such as color unevenness due to the alignment disorder of the liquid crystal easily occur. This is because the uncured liquid crystal dropping method sealant directly touches the liquid crystal during the dripping process, and the sealant component elutes into the liquid crystal before the sealant is completely cured. it is conceivable that.

このような問題を解決するため、例えば、特許文献１、特許文献２には、液晶に対する溶解性の低い成分を用いた液晶滴下工法用シール剤が開示されている。このようなシール剤は、成分が液晶に溶出しないため、液晶汚染を生じないとされている。
しかしながら、このようなシール剤を用いて滴下工法により液晶表示素子の製造を行った場合であっても、実際には、液晶汚染を引き起こし、色むらが少なく高品位な画像の液晶表示素子を製造することができないことがあった。
特許第３５８３３２６号 特開２００１−１３３７９４号公報 In order to solve such a problem, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose a liquid crystal dropping method sealing agent using a component having low solubility in liquid crystals. Such a sealing agent is said not to cause liquid crystal contamination because the components do not elute into the liquid crystal.
However, even when a liquid crystal display element is manufactured by a dripping method using such a sealant, in reality, liquid crystal contamination is caused, and a liquid crystal display element with high-quality images with little color unevenness is manufactured. There was something I couldn't do.
Japanese Patent No. 3583326 JP 2001-133794 A

本発明は、滴下工法による液晶表示素子の製造に用いたときに、シール剤成分が液晶中に溶出しても液晶汚染を引き起こすことを防止することができ、表示品位及び信頼性に優れる液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤を提供することを目的とする。 The present invention can prevent liquid crystal contamination even when the sealing agent component is eluted in the liquid crystal when used in the manufacture of a liquid crystal display element by a dropping method, and has excellent display quality and reliability. It aims at providing the sealing compound for liquid crystal dropping methods which can manufacture an element.

本発明は、硬化性樹脂と光ラジカル開始剤とを含有する液晶滴下工法用シール剤であって、前記光ラジカル開始剤は、液晶に対して４重量％濃度で１２０℃にて完全に溶解させた後、−２０℃にて１４４時間放置後に上記液晶から析出しないものであり、前記光ラジカル開始剤は、溶媒中で測定した４０５ｎｍにおける吸光係数が５０ｍＬ／ｇ・ｃｍ以上である液晶滴下工法用シール剤である。
以下に本発明を詳述する。The present invention is a sealing agent for a liquid crystal dropping method containing a curable resin and a photo radical initiator, and the photo radical initiator is completely dissolved at 120 ° C. at a concentration of 4% by weight in the liquid crystal. Then, after leaving at −20 ° C. for 144 hours, it does not precipitate from the liquid crystal, and the photoradical initiator is used for a liquid crystal dropping method having an extinction coefficient at 405 nm of 50 mL / g · cm or more measured in a solvent. It is a sealing agent.
The present invention is described in detail below.

本発明者らは、鋭意検討の結果、液晶滴下工法用シール剤に用いる光ラジカル開始剤として、液晶に対して溶解性の高いものを用いることにより、液晶汚染を引き起こすことを防止することができ、表示品位及び信頼性に優れる液晶表示素子を実現できる液晶滴下工法用シール剤を得ることができるということを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies, the present inventors can prevent liquid crystal contamination by using a photo radical initiator that is highly soluble in liquid crystals as a photo radical initiator used in a liquid crystal dropping method sealing agent. The inventors have found that a sealing agent for a liquid crystal dropping method capable of realizing a liquid crystal display element having excellent display quality and reliability can be obtained, and the present invention has been completed.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、液晶に対して４重量％濃度で１２０℃にて完全に溶解させた後、−２０℃にて１４４時間放置後に上記液晶から析出しない光ラジカル開始剤を含有する。
従来、液晶滴下工法用シール剤においては、液晶汚染を防ぐために液晶に対する溶解性の低い光ラジカル開始剤を用いてきた。しかし、このような光ラジカル開始剤を用いても充分に液晶汚染を防ぐことができないことがあるという問題があった。
本発明者らは、液晶に対する溶解性の高い光ラジカル開始剤を用いることにより、液晶汚染を防ぐことができるということを見出した。The sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention comprises a photo radical initiator that does not precipitate from the liquid crystal after being completely dissolved at 120 ° C. at a concentration of 4% by weight with respect to the liquid crystal and left at −20 ° C. for 144 hours. contains.
Conventionally, in a liquid crystal dropping method sealing agent, a photo-radical initiator having low solubility in liquid crystals has been used in order to prevent liquid crystal contamination. However, there has been a problem that liquid crystal contamination may not be sufficiently prevented even if such a photoradical initiator is used.
The present inventors have found that liquid crystal contamination can be prevented by using a photo-radical initiator that is highly soluble in liquid crystals.

上記光ラジカル開始剤は、溶媒中で測定した４０５ｎｍにおける吸光係数の下限が５０ｍＬ／ｇ・ｃｍである。吸光係数が５０ｍＬ／ｇ・ｃｍ未満であると、可視光線によるシール剤の硬化が不充分になる。上記吸光係数の好ましい下限は７０ｍＬ／ｇ・ｃｍである。
上記吸光係数は、高ければ高いほど反応性が高くなる傾向があることから、特に上限はない。
なお、上記溶媒としては、上記光ラジカル開始剤を溶解することができ、かつ、測定する吸収波長での吸光がないものであれば特に限定されない。具体的には例えば、アセトニトリル、メタノール等が用いられる。The above photoradical initiator has a lower limit of the extinction coefficient at 405 nm measured in a solvent of 50 mL / g · cm. When the extinction coefficient is less than 50 mL / g · cm, curing of the sealing agent with visible light becomes insufficient. A preferable lower limit of the extinction coefficient is 70 mL / g · cm.
The higher the extinction coefficient is, the higher the reactivity tends to be, so there is no particular upper limit.
The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the photoradical initiator and does not absorb light at the absorption wavelength to be measured. Specifically, for example, acetonitrile, methanol or the like is used.

上記光ラジカル開始剤は、５００ｎｍ以上の波長の光は吸光しないことが好ましい。上記光ラジカル開始剤が５００ｎｍ以上の波長の光を吸光すると、イエローランプ下でも反応するようになり、シール剤の取扱い性が劣ることがある。 The photo radical initiator preferably does not absorb light having a wavelength of 500 nm or longer. When the photo radical initiator absorbs light having a wavelength of 500 nm or more, it reacts even under a yellow lamp, and the handling property of the sealing agent may be inferior.

上記光ラジカル開始剤は、融点の好ましい上限が８５℃である。上記光ラジカル開始剤の融点が８５℃を超えると、液晶に対して４重量％濃度で１２０℃にて完全に溶解させた後、−２０℃にて１４４時間放置後に、光ラジカル開始剤が液晶から析出し、液晶汚染を生じてしまうことがある。上記光ラジカル開始剤の融点のより好ましい上限は８０℃である。上記光ラジカル開始剤の融点の下限としては特に限定されないが、液晶滴下工法では常温で未硬化シール剤と液晶とが接する工程があり、液晶への溶出をできるだけ抑えるために、好ましい下限は３０℃である。 The above photo radical initiator has a preferred upper limit of the melting point of 85 ° C. When the melting point of the photo radical initiator exceeds 85 ° C., the photo radical initiator is completely dissolved at 120 ° C. at a concentration of 4% by weight with respect to the liquid crystal, and after standing at −20 ° C. for 144 hours, May precipitate and cause liquid crystal contamination. The upper limit with more preferable melting | fusing point of the said photoradical initiator is 80 degreeC. The lower limit of the melting point of the photo radical initiator is not particularly limited, but in the liquid crystal dropping method, there is a step in which the uncured sealant and the liquid crystal come into contact at room temperature, and the preferable lower limit is 30 ° C. in order to suppress elution into the liquid crystal as much as possible. It is.

上記光ラジカル開始剤としては、例えば、オキシムエステル化合物が挙げられる。具体的には、例えば、下記式（１）で表される１，２−オクタンジオン１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］等が挙げられる。下記式（１）で表されるオキシムエステル化合物の市販品としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（チバスペシャリティケミカルズ社製）等が挙げられる。 As said photoradical initiator, an oxime ester compound is mentioned, for example. Specific examples include 1,2-octanedione 1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)] represented by the following formula (1). As a commercial item of the oxime ester compound represented by following formula (1), IRGACURE OXE01 (made by Ciba Specialty Chemicals) etc. are mentioned, for example.

Figure 2009054276
Figure 2009054276

本発明の液晶滴下工法用シール剤における上記光ラジカル開始剤の含有量としては特に限定されないが、好ましい下限は０．２重量％、好ましい上限は１０重量％である。上記光ラジカル開始剤の含有量が０．２重量％未満であると、硬化不充分であることがあり、１０重量％を超えると、液晶汚染を生じたり、基板に対する接着力が低下したりすることがある。上記光ラジカル開始剤の含有量のより好ましい下限は１．０重量％、より好ましい上限は５．０重量％である。 Although it does not specifically limit as content of the said photoradical initiator in the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention, A preferable minimum is 0.2 weight% and a preferable upper limit is 10 weight%. If the content of the photo radical initiator is less than 0.2% by weight, curing may be insufficient. If the content exceeds 10% by weight, liquid crystal contamination may occur or the adhesion to the substrate may be reduced. Sometimes. The minimum with more preferable content of the said photoradical initiator is 1.0 weight%, and a more preferable upper limit is 5.0 weight%.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、硬化性樹脂を含有する。
上記硬化性樹脂としては特に限定されないが、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有することが好ましい。このような官能基を有することで、従来の液晶滴下工法用シール剤として光硬化、熱硬化の二段階硬化を経ることができる。The sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention contains a curable resin.
Although it does not specifically limit as said curable resin, It is preferable to have a (meth) acryl group and an epoxy group. By having such a functional group, it is possible to undergo two-stage curing of photocuring and thermal curing as a conventional sealing agent for liquid crystal dropping method.

また、上記硬化性樹脂において、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する場合、（メタ）アクリル基とエポキシ基との合計量に対するエポキシ基の比率の好ましい上限は４０モル％である。４０モル％を超えると、液晶に対する溶解性が高くなりパネルにムラを生じる汚染を引き起こす場合がある。より好ましい上限は３０モル％である。 Moreover, in the said curable resin, when it has a (meth) acryl group and an epoxy group, the preferable upper limit of the ratio of the epoxy group with respect to the total amount of a (meth) acryl group and an epoxy group is 40 mol%. When it exceeds 40 mol%, the solubility with respect to a liquid crystal becomes high, and it may cause the contamination which causes a nonuniformity in a panel. A more preferred upper limit is 30 mol%.

このような硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物、（メタ）アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ（メタ）アクリレート、イソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Such a curable resin is not particularly limited. For example, it is obtained by reacting (meth) acrylic acid with an ester compound obtained by reacting a compound having a hydroxyl group with (meth) acrylic acid and an epoxy compound. And epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate obtained by reacting isocyanate with a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group.

上記（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物としては特に限定されず、１官能のものとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、イミド（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ビシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチル２−ヒドロキシプロピルフタレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルホスフェート等が挙げられる。 The ester compound obtained by reacting the above (meth) acrylic acid with a compound having a hydroxyl group is not particularly limited, and examples of monofunctional compounds include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl ( (Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl ( (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate , Tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) ) Acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, imide (meth) ) Acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, Chlohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) ) Acrylate, bicyclopentenyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyl Examples include loxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate, glycidyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and the like. I can get lost.

また、上記（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物のうち、２官能のものとしては特に限定されず、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３―プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタジエンジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルジ（メタ）アクリレート、カーボネートジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエステルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリブタジエンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Moreover, it is not specifically limited as a bifunctional thing among the ester compounds obtained by making the said (meth) acrylic acid react the compound which has a hydroxyl group, For example, 1, 4- butanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, 2- n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di ( (Meth) acrylate, diethylene glycol di (me ) Acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol F di (meth) acrylate , Dimethylol dicyclopentadiene di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide modified isocyanuric acid di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-acryl Leuoxypropyl di (meth) acrylate, carbonate diol di (meth) acrylate, polyether diol di (meth) acrylate, polyester Terujioruji (meth) acrylate, polycaprolactone diol di (meth) acrylate, polybutadiene di (meth) acrylate.

また、上記（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物のうち、３官能以上のものとしては特に限定されず、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート等が挙げられる。 Further, among the ester compounds obtained by reacting the above (meth) acrylic acid with a compound having a hydroxyl group, those having three or more functional groups are not particularly limited. For example, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane Tri (meth) acrylate, propylene oxide-added trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-added trimethylolpropane tri (meth) acrylate, caprolactone-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-added isocyanuric acid tri (meth) acrylate, Dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, penta Risuri Tall tetra (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, propylene oxide addition glycerin tri (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and the like.

上記（メタ）アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、（メタ）アクリル酸とエポキシ樹脂とを常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得ることができる。 It does not specifically limit as an epoxy (meth) acrylate obtained by making the said (meth) acrylic acid and an epoxy compound react, For example, presence of a basic catalyst according to a conventional method with (meth) acrylic acid and an epoxy resin. Can be obtained by reaction.

上記エポキシ（メタ）アクリレートを合成するための原料となるエポキシ化合物のうち、市販されているものとしては、例えば、エピコート８２８ＥＬ、エピコート１００４（いずれもジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エピコート８０６、エピコート４００４（いずれもジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、Ｒ−７１０等のビスフェノールＥ型エポキシ樹脂、エピクロンＥＸＡ１５１４（大日本インキ社製）等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）等の２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エピクロンＥＸＡ７０１５（大日本インキ社製）等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、ＥＰ−４０００Ｓ（旭電化社製）等のプロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）等のレゾルシノール型エポキシ樹脂、エピコートＹＸ−４０００Ｈ（ジャパンエポキシレジン社製）等のビフェニル型エポキシ樹脂、ＹＳＬＶ−５０ＴＥ（東都化成社製）等のスルフィド型エポキシ樹脂、ＹＳＬＶ−８０ＤＥ（東都化成社製）等のビフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ＥＰ−４０８８Ｓ（旭電化社製）等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、エピクロンＨＰ４０３２、エピクロンＥＸＡ−４７００（いずれも大日本インキ社製）等のナフタレン型エポキシ樹脂、エピクロンＮ−７７０（大日本インキ社製）等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンＮ−６７０−ＥＸＰ−Ｓ（大日本インキ社製）等のオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンＨＰ７２００（大日本インキ社製）等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ＥＳＮ−１６５Ｓ（東都化成社製）等のナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、エピコート６３０（ジャパンエポキシレジン社製）、エピクロン４３０（大日本インキ社製）、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱ガス化学社製）等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ＺＸ−１５４２（東都化成社製）、エピクロン７２６（大日本インキ社製）、エポライト８０ＭＦＡ（共栄社化学社製）、デナコールＥＸ−６１１、（ナガセケムテックス社製）等のアルキルポリオール型エポキシ樹脂、ＹＲ−４５０、ＹＲ−２０７（いずれも東都化成社製）、エポリードＰＢ（ダイセル化学社製）等のゴム変性型エポキシ樹脂、デナコールＥＸ−１４７（ナガセケムテックス社製）等のグリシジルエステル化合物、エピコートＹＬ−７０００（ジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＡ型エピスルフィド樹脂、その他ＹＤＣ−１３１２、ＹＳＬＶ−８０ＸＹ、ＹＳＬＶ−９０ＣＲ（いずれも東都化成社製）、ＸＡＣ４１５１（旭化成社製）、エピコート１０３１、エピコート１０３２（いずれもジャパンエポキシレジン社製）、ＥＸＡ−７１２０（大日本インキ社製）、ＴＥＰＩＣ（日産化学社製）等が挙げられる。 Among the epoxy compounds that are raw materials for synthesizing the epoxy (meth) acrylate, those commercially available include, for example, bisphenol A type epoxy resins such as Epicoat 828EL and Epicoat 1004 (both manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.). Bisphenol F type epoxy resin such as Epicoat 806 and Epicoat 4004 (all manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), bisphenol E type epoxy resin such as R-710, and bisphenol S type epoxy resin such as Epicron EXA1514 (manufactured by Dainippon Ink and Co., Ltd.) 2,2′-diallyl bisphenol A type epoxy resin such as RE-810NM (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), hydrogenated bisphenol type epoxy resin such as Epicron EXA7015 (manufactured by Dainippon Ink and Co., Ltd.), EP-4000S (Asahi Denka Co., Ltd.) Made) etc. Propylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin, resorcinol type epoxy resin such as EX-201 (manufactured by Nagase ChemteX), biphenyl type epoxy resin such as Epicoat YX-4000H (manufactured by Japan Epoxy Resin), YSLV-50TE (Tohto Kasei) Sulfide type epoxy resin such as YSLV-80DE (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), dicyclopentadiene type epoxy resin such as EP-4088S (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.), Epicron HP4032, Epicron EXA Naphthalene type epoxy resin such as -4700 (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.), phenol novolac type epoxy resin such as Epicron N-770 (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.), Epicron N-670-EXP-S (Dainippon Ink Co., Ltd.) Etc.) Tocresol novolak type epoxy resin, dicyclopentadiene novolak type epoxy resin such as Epicron HP7200 (manufactured by Dainippon Ink & Co.), biphenyl novolac type epoxy resin such as NC-3000P (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), ESN-165S (Tohto Kasei) Glycidylamine type epoxy resins such as Naphthalenephenol novolak type epoxy resin such as Epicoat 630 (Japan Epoxy Resin), Epicron 430 (Dainippon Ink), TETRAD-X (Mitsubishi Gas Chemical), Alkyl polyol type epoxy resins such as ZX-1542 (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epiklon 726 (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.), Epolite 80MFA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol EX-611 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation), YR -450, YR-207 (Both manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), rubber-modified epoxy resins such as Epolide PB (manufactured by Daicel Chemical Industries), glycidyl ester compounds such as Denacol EX-147 (manufactured by Nagase ChemteX), Epicoat YL-7000 (Japan Epoxy Resin) Bisphenol A type episulfide resin such as YDC-1312, YSLV-80XY, YSLV-90CR (all manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), XAC4151 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), Epicoat 1031 and Epicoat 1032 (all Japan Epoxy Resin) Co., Ltd.), EXA-7120 (Dainippon Ink Co., Ltd.), TEPIC (Nissan Chemical Co., Ltd.) and the like.

また、上記エポキシ（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、エベクリル３７００、エベクリル３６００、エベクリル３７０１、エベクリル３７０３、エベクリル３２００、エベクリル３２０１、エベクリル３７０２、エベクリル３４１２、エベクリル８６０、エベクリルＲＤＸ６３１８２、エベクリル６０４０、エベクリル３８００（いずれもダイセルユーシービー社製）、ＥＡ−１０２０、ＥＡ−１０１０、ＥＡ−５５２０、ＥＡ−５３２３、ＥＡ−ＣＨＤ、ＥＭＡ−１０２０（いずれも新中村化学工業社製）、エポキシエステルＭ−６００Ａ、エポキシエステル４０ＥＭ、エポキシエステル７０ＰＡ、エポキシエステル２００ＰＡ、エポキシエステル８０ＭＦＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、エポキシエステル３００２Ａ、エポキシエステル１６００Ａ、エポキシエステル３０００Ｍ、エポキシエステル３０００Ａ、エポキシエステル２００ＥＡ、エポキシエステル４００ＥＡ（いずれも共栄社化学社製）、デナコールアクリレートＤＡ−１４１、デナコールアクリレートＤＡ−３１４、デナコールアクリレートＤＡ−９１１（いずれもナガセケムテックス社製）等が挙げられる。 Moreover, as a commercial item of the said epoxy (meth) acrylate, for example, Evecryl 3700, Evekrill 3600, Evekril 3701, Evekrill 3703, Evekrill 3200, Evekrill 3201, Evekrill 3412, Evekrill 860, Evekril RDX63182, Evekryl 6040, 3800 (all manufactured by Daicel UCB), EA-1020, EA-1010, EA-5520, EA-5323, EA-CHD, EMA-1020 (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), epoxy ester M-600A Epoxy ester 40EM, Epoxy ester 70PA, Epoxy ester 200PA, Epoxy ester 80MFA, Epoxy ester 3002M, Epoxy ester 3002A, Poxyester 1600A, Epoxy ester 3000M, Epoxy ester 3000A, Epoxy ester 200EA, Epoxy ester 400EA (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol acrylate DA-141, Denacol acrylate DA-314, Denacol acrylate DA-911 (any Also manufactured by Nagase ChemteX Corporation).

上記イソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、２つのイソシアネート基を有する化合物１当量に対して水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体２当量を触媒としてスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。 The urethane (meth) acrylate obtained by reacting the isocyanate with a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid derivative is not particularly limited. For example, the compound has a hydroxyl group with respect to 1 equivalent of a compound having two isocyanate groups (meta ) It can be obtained by reacting 2 equivalents of an acrylic acid derivative in the presence of a tin compound as a catalyst.

上記ウレタン（メタ）アクリレートの原料となるイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添ＭＤＩ、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、１，６，１０−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。 The isocyanate used as a raw material for the urethane (meth) acrylate is not particularly limited. For example, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenylmethane- 4,4'-diisocyanate (MDI), hydrogenated MDI, polymeric MDI, 1,5-naphthalene diisocyanate, norbornane diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane Triisocyanate, tris (isocyanatephenyl) thiophosphate, tetramethylxylene diisocyanate, 1,6,10-undecant Isocyanate, and the like.

また、上記イソシアネートとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、（ポリ）プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も用いることができる。 Examples of the isocyanate include, for example, a reaction between a polyol such as ethylene glycol, glycerin, sorbitol, trimethylolpropane, (poly) propylene glycol, carbonate diol, polyether diol, polyester diol, polycaprolactone diol and excess isocyanate. The resulting chain-extended isocyanate compound can also be used.

上記水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体としては特に限定されず、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の市販品やエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ変性エポキシ（メタ）アクリレート等のエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 The (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group is not particularly limited, and examples thereof include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl. Commercial products such as (meth) acrylate, and mono (meth) acrylates of divalent alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and polyethylene glycol , Epoxy (meth) acrylates such as mono (meth) acrylates or di (meth) acrylates of trivalent alcohols such as trimethylolethane, trimethylolpropane and glycerin, and bisphenol A-modified epoxy (meth) acrylates.

また、上記ウレタン（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、Ｍ−１１００、Ｍ−１２００、Ｍ−１２１０、Ｍ−１６００（いずれも東亞合成社製）、エベクリル２３０、エベクリル２７０、エベクリル４８５８、エベクリル８４０２、エベクリル８８０４、エベクリル８８０３、エベクリル８８０７、エベクリル９２６０、エベクリル１２９０、エベクリル５１２９、エベクリル４８４２、エベクリル２１０、エベクリル４８２７、エベクリル６７００、エベクリル２２０、エベクリル２２２０（いずれもダイセルユーシービー社製）、アートレジンＵＮ−９０００Ｈ、アートレジンＵＮ−９０００Ａ、アートレジンＵＮ−７１００、アートレジンＵＮ−１２５５、アートレジンＵＮ−３３０、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ−１２００ＴＰＫ、アートレジンＳＨ−５００Ｂ（いずれも根上工業社製）、Ｕ−１２２Ｐ、Ｕ−１０８Ａ、Ｕ−３４０Ｐ、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−３２４Ａ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−５２０１Ｐ、ＵＡ−Ｗ２Ａ、Ｕ−１０８４Ａ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−２ＨＡ、Ｕ−２ＰＨＡ、ＵＡ−４１００、ＵＡ−７１００、ＵＡ−４２００、ＵＡ−４４００、ＵＡ−３４０Ｐ、Ｕ−３ＨＡ、ＵＡ−７２００、Ｕ−２０６１ＢＡ、Ｕ−１０Ｈ、Ｕ−１２２Ａ、Ｕ−３４０Ａ、Ｕ−１０８、Ｕ−６Ｈ、ＵＡ−４０００（いずれも新中村化学工業社製）、ＡＨ−６００、ＡＴ−６００、ＵＡ−３０６Ｈ、ＡＩ−６００、ＵＡ−１０１Ｔ、ＵＡ−１０１Ｉ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ等が挙げられる。 Moreover, as a commercial item of the said urethane (meth) acrylate, for example, M-1100, M-1200, M-1210, M-1600 (all are Toagosei Co., Ltd. product), Evecril 230, Evecril 270, Evecril 4858, Evecril 8402, Evecryl 8804, Evekril 8803, Evekril 8807, Evekril 9260, Evekril 1290, Evekril 5129, Evekril 4842, Evekrill 210, Evekril 4827, Evekrill 6700, Evekrill 220, Evekrill 2220 (all manufactured by Daicel Ucley U) -9000H, Art Resin UN-9000A, Art Resin UN-7100, Art Resin UN-1255, Art Resin UN-330, Art Resin UN-3320HB, -Resin UN-1200TPK, Art Resin SH-500B (all manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), U-122P, U-108A, U-340P, U-4HA, U-6HA, U-324A, U-15HA, UA-5201P , UA-W2A, U-1084A, U-6LPA, U-2HA, U-2PHA, UA-4100, UA-7100, UA-4200, UA-4400, UA-340P, U-3HA, UA-7200, U -2061BA, U-10H, U-122A, U-340A, U-108, U-6H, UA-4000 (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), AH-600, AT-600, UA-306H, AI -600, UA-101T, UA-101I, UA-306T, UA-306I and the like.

また、上記硬化性樹脂は、本発明の液晶滴下工法用シール剤の硬化前の液晶への成分溶出をより抑制するために、１分子中に少なくとも１つの水素結合性官能基を有することが好ましい。 The curable resin preferably has at least one hydrogen-bonding functional group in one molecule in order to further suppress component elution into the liquid crystal before curing of the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention. .

上記水素結合性官能基としては特に限定されず、例えば、−ＯＨ基、−ＳＨ基、−ＮＨＲ基（Ｒは、芳香族又は脂肪族炭化水素、及び、これらの誘導体を表す）、−ＣＯＯＨ基、−ＮＨＯＨ基等の官能基、また、分子内に存在する−ＮＨＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨＣＯ−、−ＮＨ−ＮＨ−等の残基が挙げられ、なかでも、導入の容易さから−ＯＨ基であることが好ましい。 The hydrogen-bonding functional group is not particularly limited, and examples thereof include an —OH group, —SH group, —NHR group (R represents an aromatic or aliphatic hydrocarbon, and derivatives thereof), —COOH group. , Functional groups such as —NHOH group, and residues such as —NHCO—, —NH—, —CONHCO—, —NH—NH—, etc. present in the molecule. An OH group is preferred.

上記１分子中に少なくとも１つの水素結合性官能基を有し、かつ、（メタ）アクリル基を有する硬化性樹脂としては、例えば、上記ウレタン（メタ）アクリレートやエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of the curable resin having at least one hydrogen bonding functional group in one molecule and having a (meth) acryl group include the urethane (meth) acrylate and epoxy (meth) acrylate. .

本発明の液晶滴下工法用シール剤において、上記硬化性樹脂は、硬化時の未硬化残分を少しでも低減させるため、１分子中に２つ以上の反応性基を有する化合物であることが好ましい。 In the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention, the curable resin is preferably a compound having two or more reactive groups in one molecule in order to reduce the uncured residue at the time of curing. .

また、上記硬化性樹脂としては、異なる反応性官能基を１分子中に有する化合物を用いてもよい。このような化合物としては、例えば、１分子中にエポキシ基と（メタ）アクリル基とをそれぞれ少なくとも１つ有する化合物が挙げられる。 Moreover, as said curable resin, you may use the compound which has a different reactive functional group in 1 molecule. Examples of such a compound include a compound having at least one epoxy group and (meth) acryl group in one molecule.

上記１分子中にエポキシ基と（メタ）アクリル基とをそれぞれ少なくとも１つ有する化合物としては、例えば、２つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を、（メタ）アクリル酸と反応させることによって得られる化合物や、２官能以上のイソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体及びグリシドールを反応させることにより得られる化合物等が挙げられる。 As a compound having at least one epoxy group and (meth) acryl group in one molecule, for example, a part of the epoxy group of a compound having two or more epoxy groups is reacted with (meth) acrylic acid. And compounds obtained by reacting a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group and glycidol with a bifunctional or higher functional isocyanate.

上記２つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得られる化合物は、例えば、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得ることができる。 The compound obtained by reacting a part of the epoxy groups of the compound having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid is, for example, a basic catalyst obtained by reacting an epoxy resin and (meth) acrylic acid according to a conventional method. It can obtain by reacting in presence of.

上記２つ以上のエポキシ基を有する化合物としては、例えば、エピコート８２８ＥＬ、エピコート１００４（いずれもジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エピコート８０６、エピコート４００４（いずれもジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、Ｒ−７１０等のビスフェノールＥ型エポキシ樹脂、エピクロンＥＸＡ１５１４（大日本インキ社製）等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）等の２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エピクロンＥＸＡ７０１５（大日本インキ社製）等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、ＥＰ−４０００Ｓ（旭電化社製）等のプロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）等のレゾルシノール型エポキシ樹脂、エピコートＹＸ−４０００Ｈ（ジャパンエポキシレジン社製）等のビフェニル型エポキシ樹脂、ＹＳＬＶ−５０ＴＥ（東都化成社製）等のスルフィド型エポキシ樹脂、ＹＳＬＶ−８０ＤＥ（東都化成社製）等のビフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ＥＰ−４０８８Ｓ（旭電化社製）等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、エピクロンＨＰ４０３２、エピクロンＥＸＡ−４７００（いずれも大日本インキ社製）等のナフタレン型エポキシ樹脂、エピクロンＮ−７７０（大日本インキ社製）等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンＮ−６７０−ＥＸＰ−Ｓ（大日本インキ社製）等のオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンＨＰ７２００（大日本インキ社製）等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ＥＳＮ−１６５Ｓ（東都化成社製）等のナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、エピコート６３０（ジャパンエポキシレジン社製）、エピクロン４３０（大日本インキ社製）、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱ガス化学社製）等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ＺＸ−１５４２（東都化成社製）、エピクロン７２６（大日本インキ社製）、エポライト８０ＭＦＡ（共栄社化学社製）、デナコールＥＸ−６１１、（ナガセケムテックス社製）等のアルキルポリオール型エポキシ樹脂、ＹＲ−４５０、ＹＲ−２０７（いずれも東都化成社製）、エポリードＰＢ（ダイセル化学社製）等のゴム変性型エポキシ樹脂、デナコールＥＸ−１４７（ナガセケムテックス社製）等のグリシジルエステル化合物、エピコートＹＬ−７０００（ジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＡ型エピスルフィド樹脂、その他ＹＤＣ−１３１２、ＹＳＬＶ−８０ＸＹ、ＹＳＬＶ−９０ＣＲ（いずれも東都化成社製）、ＸＡＣ４１５１（旭化成社製）、エピコート１０３１、エピコート１０３２（いずれもジャパンエポキシレジン社製）、ＥＸＡ−７１２０（大日本インキ社製）、ＴＥＰＩＣ（日産化学社製）等が挙げられる。 Examples of the compound having two or more epoxy groups include bisphenol A type epoxy resins such as Epicoat 828EL and Epicoat 1004 (all manufactured by Japan Epoxy Resin), Epicoat 806 and Epicoat 4004 (all manufactured by Japan Epoxy Resin). 2) such as bisphenol F type epoxy resin such as R-710, bisphenol E type epoxy resin such as R-710, bisphenol S type epoxy resin such as Epicron EXA1514 (manufactured by Dainippon Ink), RE-810NM (manufactured by Nippon Kayaku) , 2'-diallylbisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol type epoxy resin such as Epicron EXA7015 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals), propylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin such as EP-4000S (manufactured by Asahi Denka), EX Resorcinol type epoxy resin such as 201 (manufactured by Nagase ChemteX), biphenyl type epoxy resin such as Epicoat YX-4000H (manufactured by Japan Epoxy Resin), sulfide type epoxy resin such as YSLV-50TE (manufactured by Tohto Kasei), YSLV Biphenyl ether type epoxy resin such as -80DE (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), dicyclopentadiene type epoxy resin such as EP-4088S (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.), Epicron HP4032, and Epicron EXA-4700 (all manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) Naphthalene type epoxy resins such as, Epoxylon N-770 (manufactured by Dainippon Ink), etc., phenol novolac type epoxy resins, Epicron N-670-EXP-S (manufactured by Dainippon Ink), etc. Epicron HP720 Dicyclopentadiene novolac type epoxy resin such as Dainippon Ink, Inc., biphenyl novolac type epoxy resin such as NC-3000P (Nippon Kayaku Co., Ltd.), naphthalene phenol novolac type such as ESN-165S (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) Epoxy resin, Epicote 630 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Epicron 430 (manufactured by Dainippon Ink and Co., Ltd.), TETRAD-X (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) and other glycidylamine type epoxy resins, ZX-1542 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) , Epiklon 726 (Dainippon Ink Co., Ltd.), Epolite 80MFA (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol EX-611 (Nagase ChemteX Co., Ltd.) and other alkyl polyol type epoxy resins, YR-450, YR-207 (all Manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), Epolide PB (manufactured by Daicel Chemical) Rubber-modified epoxy resins such as glycidyl ester compounds such as Denacol EX-147 (manufactured by Nagase ChemteX), bisphenol A type episulfide resins such as Epicoat YL-7000 (manufactured by Japan Epoxy Resin), other YDC-1312, YSLV -80XY, YSLV-90CR (all manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), XAC4151 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), Epicoat 1031, Epicoat 1032 (all manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EXA-7120 (manufactured by Dainippon Ink & Co.), TEPIC ( Nissan Chemical Co., Ltd.).

このような２つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得られる化合物の市販品としては、例えば、エベクリル１５６１（ダイセルユーシービー社製）等が挙げられる。 Examples of commercially available compounds obtained by reacting a part of the epoxy groups of a compound having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid include Evecryl 1561 (manufactured by Daicel UC Corporation). Can be mentioned.

上記２官能以上のイソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体及びグリシドールを反応させることにより得られる化合物としては、例えば、２つのイソシアネート基を有する化合物１当量に対して水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体及びグリシドールそれぞれ１当量を触媒としてスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。 Examples of the compound obtained by reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid derivative and glycidol with a bifunctional or higher functional isocyanate include (meth) acrylic having a hydroxyl group with respect to 1 equivalent of a compound having two isocyanate groups. It can be obtained by reacting 1 equivalent each of the acid derivative and glycidol in the presence of a tin compound as a catalyst.

上記２官能以上のイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添ＭＤＩ、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、１，６，１０−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。 The bifunctional or higher isocyanate is not particularly limited. For example, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′- Diisocyanate (MDI), hydrogenated MDI, polymeric MDI, 1,5-naphthalene diisocyanate, norbornane diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris ( Isocyanate phenyl) thiophosphate, tetramethylxylene diisocyanate, 1,6,10-undecane triisocyanate, etc. .

また、上記２官能以上のイソシアネートとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、（ポリ）プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も使用することができる。 Examples of the bifunctional or higher isocyanate include polyols such as ethylene glycol, glycerin, sorbitol, trimethylolpropane, (poly) propylene glycol, carbonate diol, polyether diol, polyester diol, polycaprolactone diol, and excess isocyanate. It is also possible to use chain-extended isocyanate compounds obtained by reaction with.

上記水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体としては特に限定されず、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の市販品やエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ変性エポキシ（メタ）アクリレート等のエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、本発明のシール剤は、上記（メタ）アクリル基を有する硬化性樹脂以外に、エポキシ基を有する化合物が含有されていてもよい。The (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group is not particularly limited, and examples thereof include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl. Commercial products such as (meth) acrylate, and mono (meth) acrylates of divalent alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and polyethylene glycol , Epoxy (meth) acrylates such as mono (meth) acrylates or di (meth) acrylates of trivalent alcohols such as trimethylolethane, trimethylolpropane and glycerin, and bisphenol A-modified epoxy (meth) acrylates.
Moreover, the sealing compound of this invention may contain the compound which has an epoxy group other than the said curable resin which has a (meth) acryl group.

上記エポキシ基を有する化合物としては特に限定されず、例えば、エピクロロヒドリン誘導体、環式脂肪族エポキシ樹脂、イソシアネートとグリシドールとの反応から得られる化合物等が挙げられる。 The compound having an epoxy group is not particularly limited, and examples thereof include epichlorohydrin derivatives, cycloaliphatic epoxy resins, and compounds obtained from the reaction of isocyanate and glycidol.

上記エピクロロヒドリン誘導体としては、例えば、エピコート８２８ＥＬ、エピコート１００４（いずれもジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エピコート８０６、エピコート４００４（いずれもジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、エピクロンＥＸＡ１５１４（大日本インキ社製）等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）等の２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エピクロンＥＸＡ７０１５（大日本インキ社製）等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、ＥＰ−４０００Ｓ（旭電化社製）等のプロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）等のレゾルシノール型エポキシ樹脂、エピコートＹＸ−４０００Ｈ（ジャパンエポキシレジン社製）等のビフェニル型エポキシ樹脂、ＹＳＬＶ−５０ＴＥ（東都化成社製）等のスルフィド型エポキシ樹脂、ＹＳＬＶ−８０ＤＥ（東都化成社製）等のビフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ＥＰ−４０８８Ｓ（旭電化社製）等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、エピクロンＨＰ４０３２、エピクロンＥＸＡ−４７００（いずれも大日本インキ社製）等のナフタレン型エポキシ樹脂、エピクロンＮ−７７０（大日本インキ社製）等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンＮ−６７０−ＥＸＰ−Ｓ（大日本インキ社製）等のオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンＨＰ７２００（大日本インキ社製）等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ＥＳＮ−１６５Ｓ（東都化成社製）等のナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、エピコート６３０（ジャパンエポキシレジン社製）、エピクロン４３０（大日本インキ社製）、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱ガス化学社製）等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ＺＸ−１５４２（東都化成社製）、エピクロン７２６（大日本インキ社製）、エポライト８０ＭＦＡ（共栄社化学社製）、デナコールＥＸ−６１１（ナガセケムテックス社製）等のアルキルポリオール型エポキシ樹脂、ＹＲ−４５０、ＹＲ−２０７（いずれも東都化成社製）、エポリードＰＢ（ダイセル化学社製）等のゴム変性型エポキシ樹脂、デナコールＥＸ−１４７（ナガセケムテックス社製）等のグリシジルエステル化合物、エピコートＹＬ−７０００（ジャパンエポキシレジン社製）等のビスフェノールＡ型エピスルフィド樹脂、その他ＹＤＣ−１３１２、ＹＳＬＶ−８０ＸＹ、ＹＳＬＶ−９０ＣＲ（いずれも東都化成社製）、ＸＡＣ４１５１（旭化成社製）、エピコート１０３１、エピコート１０３２（いずれもジャパンエポキシレジン社製）、ＥＸＡ−７１２０（大日本インキ社製）、ＴＥＰＩＣ（日産化学社製）等が挙げられる。 Examples of the epichlorohydrin derivative include bisphenol A type epoxy resins such as Epicoat 828EL and Epicoat 1004 (all manufactured by Japan Epoxy Resin Co.), and bisphenols such as Epicoat 806 and Epicoat 4004 (all manufactured by Japan Epoxy Resin). F-type epoxy resin, bisphenol S-type epoxy resin such as Epicron EXA1514 (manufactured by Dainippon Ink), 2,2′-diallylbisphenol A-type epoxy resin such as RE-810NM (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Epicron EXA7015 (large Resincinol-type epoxy resins such as hydrogenated bisphenol-type epoxy resins such as Nippon Ink Co., Ltd., propylene oxide-added bisphenol A-type epoxy resins such as EP-4000S (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.), and EX-201 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation). Biphenyl ethers such as xy-resins, biphenyl type epoxy resins such as Epicoat YX-4000H (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), sulfide type epoxy resins such as YSLV-50TE (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), and biphenyl ethers such as YSLV-80DE (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) Type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin such as EP-4088S (manufactured by Asahi Denka), naphthalene type epoxy resin such as epicron HP4032, epicron EXA-4700 (both manufactured by Dainippon Ink and Co., Ltd.), epicron N-770 ( Phenol novolac type epoxy resins such as Dainippon Ink Co., Ltd., orthocresol novolac type epoxy resins such as Epicron N-670-EXP-S (Dainippon Ink Co., Ltd.), diesters such as Epicron HP7200 (Dainippon Ink Co., Ltd.), etc. Cyclopentadiene novolak Epoxy resin, biphenyl novolac type epoxy resin such as NC-3000P (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), naphthalene phenol novolac type epoxy resin such as ESN-165S (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epicoat 630 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Epicron Glycidylamine type epoxy resins such as 430 (Dainippon Ink Co., Ltd.), TETRAD-X (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), ZX-1542 (Toto Kasei Co., Ltd.), Epicron 726 (Dainippon Ink Co., Ltd.), Epolite 80MFA ( Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol EX-611 (manufactured by Nagase ChemteX), etc., alkyl polyol type epoxy resins, YR-450, YR-207 (both manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epolide PB (manufactured by Daicel Chemical Industries), etc. Rubber modified epoxy resin, Denacol EX-147 (Nagase Glycidyl ester compounds such as Chemtex), bisphenol A type episulfide resins such as Epicoat YL-7000 (Japan Epoxy Resin), other YDC-1312, YSLV-80XY, YSLV-90CR (all manufactured by Toto Kasei), XAC4151 (made by Asahi Kasei Co., Ltd.), Epicoat 1031, Epicoat 1032 (all made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EXA-7120 (Dainippon Ink Co., Ltd.), TEPIC (Nissan Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned.

また、上記環式脂肪族エポキシ樹脂として特に限定されないが、市販品としては、例えば、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０８０、セロキサイド３０００、エポリードＧＴ３００、ＥＨＰＥ（いずれもダイセル化学社製）等が挙げられる。 Moreover, although it does not specifically limit as said cycloaliphatic epoxy resin, As a commercial item, Celoxide 2021, Celoxide 2080, Celoxide 3000, Epolide GT300, EHPE (all are Daicel Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

上記イソシアネートとグリシドールとの反応から得られる化合物としては特に限定されず、例えば、２つのイソシアネート基を有する化合物に対して２当量のグリシドールを触媒としてスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。 The compound obtained from the reaction between the isocyanate and glycidol is not particularly limited. For example, it can be obtained by reacting a compound having two isocyanate groups in the presence of a tin compound using 2 equivalents of glycidol as a catalyst. it can.

上記イソシアネートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添ＭＤＩ、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、１，６，１０−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。 The isocyanate is not particularly limited. For example, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate (MDI) , Hydrogenated MDI, polymeric MDI, 1,5-naphthalene diisocyanate, norbornane diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanatophenyl) thiophosphate And tetramethylxylene diisocyanate, 1,6,10-undecane triisocyanate and the like.

また、上記イソシアネートとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、（ポリ）プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も使用することができる。 Examples of the isocyanate include, for example, a reaction between a polyol such as ethylene glycol, glycerin, sorbitol, trimethylolpropane, (poly) propylene glycol, carbonate diol, polyether diol, polyester diol, polycaprolactone diol and excess isocyanate. The resulting chain-extended isocyanate compound can also be used.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、更に熱硬化剤を含有することが好ましい。 It is preferable that the sealing compound for liquid crystal dropping method of the present invention further contains a thermosetting agent.

上記熱硬化剤としては特に限定されず、例えば、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が挙げられる。 It does not specifically limit as said thermosetting agent, For example, an amine compound, a polyhydric phenol type compound, an acid anhydride, etc. are mentioned.

上記アミン化合物としては、１分子中に１個以上の１〜３級のアミノ基を有する化合物が挙げられる。具体的には、例えば、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン等の芳香族アミン、２−メチルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、２−メチルイミダゾリン等のイミダゾリン化合物、セバチン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド等のジヒドラジド化合物、アミキュアＰＮ−２３、アミキュアＭＹ−２４、アミキュアＶＤＨ（いずれも味の素ファインテクノ社製）等のアミンアダクト類、ジシアンジアミド等が挙げられる。 Examples of the amine compound include compounds having one or more primary to tertiary amino groups in one molecule. Specifically, for example, aromatic amines such as metaphenylenediamine and diaminodiphenylmethane, imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole and 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 2-methylimidazoline and the like Examples include imidazoline compounds, dihydrazide compounds such as sebacic acid dihydrazide and isophthalic acid dihydrazide, amine adducts such as Amicure PN-23, Amicure MY-24, and Amicure VDH (all manufactured by Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd.), and dicyandiamide.

上記多価フェノール系化合物としては特に限定されず、例えば、エピキュア１７０、エピキュアＹＬ６０６５（いずれもジャパンエポキシレジン社製）等のポリフェノール化合物、エピキュアＭＰ４０２ＦＰＩ（ジャパンエポキシレジン社製）等のノボラック型フェノール樹脂が挙げられる。 The polyhydric phenol compound is not particularly limited, and examples thereof include polyphenol compounds such as EpiCure 170 and EpiCure YL6065 (both manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), and novolac type phenol resins such as EpiCure MP402FPI (produced by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.). Can be mentioned.

上記酸無水物としては特に限定されず、例えば、エピキュアＹＨ−３０６、ＹＨ−３０７（いずれもジャパンエポキシレジン社製）等が挙げられる。 It does not specifically limit as said acid anhydride, For example, epicure YH-306, YH-307 (all are Japan epoxy resin company make) etc. are mentioned.

これらの熱硬化剤は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。なかでも、低温硬化性及び保存安定性に優れているという点でジヒドラジド化合物が好適である。 These thermosetting agents may be used independently and 2 or more types may be used together. Among these, a dihydrazide compound is preferable because it is excellent in low-temperature curability and storage stability.

上記熱硬化剤の配合量としては特に限定されないが、上記硬化性樹脂１００重量部に対して好ましい下限が１重量部、好ましい上限が１００重量部である。上記熱硬化剤の配合量が１重量部未満であると、上記硬化性樹脂の硬化が不充分になることがあり、１００重量部を超えると、本発明の液晶滴下工法用シール剤の保存安定性が悪化する恐れがあり、また、硬化物となったときに、耐湿性が低下する恐れがある。上記熱硬化剤の配合量のより好ましい上限は２０重量部である。 The blending amount of the thermosetting agent is not particularly limited, but a preferable lower limit is 1 part by weight and a preferable upper limit is 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin. When the blending amount of the thermosetting agent is less than 1 part by weight, the curing of the curable resin may be insufficient, and when it exceeds 100 parts by weight, the storage stability of the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention is stable. May deteriorate, and when it becomes a cured product, the moisture resistance may decrease. The upper limit with the more preferable compounding quantity of the said thermosetting agent is 20 weight part.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、更に、シランカップリング剤を含有することが好ましい。上記シランカップリング剤は、主に本発明の液晶滴下工法用シール剤と液晶表示素子基板とを良好に接着するための接着助剤としての役割を有する。 The sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention preferably further contains a silane coupling agent. The silane coupling agent mainly serves as an adhesion aid for favorably bonding the liquid crystal dropping method sealing agent of the present invention and the liquid crystal display element substrate.

上記シランカップリング剤としては特に限定されず、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらのシランカップリング剤は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。なお、上記γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランは、エポキシ基を有する化合物ではあるが、滴下工法により製造する液晶表示素子の表示品位を低下させない程度の範囲で用いることは可能である。 The silane coupling agent is not particularly limited, and examples thereof include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane. It is done. These silane coupling agents may be used independently and 2 or more types may be used together. The γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane is a compound having an epoxy group, but can be used within a range that does not deteriorate the display quality of a liquid crystal display device manufactured by a dropping method.

上記シランカップリング剤の配合量としては特に限定されないが、上記硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい下限は０．１重量部、好ましい上限は１０重量部である。上記シランカップリング剤の配合量が０．１重量部未満であると、性能が充分に発揮されない可能性があり、１０重量部を超えると、余剰のシランカップリング剤が液晶に溶出し、表示品位を低下させる恐れがある。上記シランカップリング剤の配合量のより好ましい下限は０．５重量部、より好ましい上限は３重量部である。 The blending amount of the silane coupling agent is not particularly limited, but a preferred lower limit is 0.1 parts by weight and a preferred upper limit is 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin. If the blending amount of the silane coupling agent is less than 0.1 parts by weight, the performance may not be sufficiently exhibited. If the amount exceeds 10 parts by weight, the surplus silane coupling agent is eluted into the liquid crystal and displayed. There is a risk of degrading the quality. A more preferable lower limit of the amount of the silane coupling agent is 0.5 parts by weight, and a more preferable upper limit is 3 parts by weight.

また、本発明の液晶滴下工法用シール剤は、応力分散効果による接着性の改善、線膨張率の改善等の目的に充填剤を含有してもよい。 Moreover, the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention may contain a filler for the purpose of improving the adhesiveness by the stress dispersion effect and improving the linear expansion coefficient.

上記充填剤としては特に限定されず、例えば、タルク、石綿、シリカ、珪藻土、スメクタイト、ベントナイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ、モンモリロナイト、珪藻土、酸化マグネシウム、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ガラスビーズ、硫酸バリウム、石膏、珪酸カルシウム、タルク、ガラスビーズ、セリサイト活性白土、ベントナイト等の無機フィラーやポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ビニル重合体微粒子、アクリル重合体微粒子等の有機フィラーが挙げられる。 The filler is not particularly limited, for example, talc, asbestos, silica, diatomaceous earth, smectite, bentonite, calcium carbonate, magnesium carbonate, alumina, montmorillonite, diatomaceous earth, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, Examples include inorganic fillers such as glass beads, barium sulfate, gypsum, calcium silicate, talc, glass beads, sericite activated clay, bentonite, and organic fillers such as polyester fine particles, polyurethane fine particles, vinyl polymer fine particles, and acrylic polymer fine particles.

上記充填剤の配合量としては特に限定されないが、上記硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい下限が１重量部、好ましい上限が１００重量部である。上記充填剤の配合量が１重量部未満であると、性能が充分に発揮されない可能性があり、１００重量部を超えると、本発明の液晶滴下工法用シール剤の描画性等ハンドリング性を低下させる恐れがある。上記充填剤の配合量のより好ましい下限は１０重量部、より好ましい上限は５０重量部である。 The blending amount of the filler is not particularly limited, but a preferred lower limit is 1 part by weight and a preferred upper limit is 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin. When the blending amount of the filler is less than 1 part by weight, the performance may not be sufficiently exhibited, and when it exceeds 100 parts by weight, the handling property such as the drawing property of the liquid crystal dropping method sealing agent of the present invention is deteriorated. There is a fear. The more preferable lower limit of the blending amount of the filler is 10 parts by weight, and the more preferable upper limit is 50 parts by weight.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、Ｅ型粘度計を用いて２５℃で測定した粘度の上限が６０万ｍＰａ・ｓである。上記粘度が６０万ｍＰａ・ｓを超えると、描画性が充分でなく、滴下工法による液晶表示素子の製造ができなくなる。上記粘度の好ましい下限は１０万ｍＰａ・ｓであり、好ましい上限は４５万ｍＰａ・ｓである。 In the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention, the upper limit of the viscosity measured at 25 ° C. using an E-type viscometer is 600,000 mPa · s. When the viscosity exceeds 600,000 mPa · s, the drawability is not sufficient, and it becomes impossible to produce a liquid crystal display element by a dropping method. The minimum with said preferable viscosity is 100,000 mPa * s, and a preferable upper limit is 450,000 mPa * s.

本発明の液晶滴下工法用シール剤の粘度を測定するＥ型粘度計としては特に限定されず、例えば、ブルックフィールド社製「ＤＶ−ＩＩＩ」等が挙げられる。 The E-type viscometer for measuring the viscosity of the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include “DV-III” manufactured by Brookfield.

本発明の液晶滴下工法用シール剤を製造する方法としては特に限定されず、上記硬化性樹脂、光ラジカル開始剤、及び、必要に応じて配合される上記熱硬化剤、シランカップリング剤等の所定量を、従来公知の方法により混合する方法等が挙げられる。この際、含有するイオン性不純物を除去するために、イオン吸着性固体と接触させてもよい。 It does not specifically limit as a method of manufacturing the sealing agent for liquid crystal dropping methods of the present invention, such as the curable resin, the photo radical initiator, and the thermosetting agent and the silane coupling agent blended as necessary. The method etc. which mix a predetermined amount by a conventionally well-known method are mentioned. At this time, in order to remove the ionic impurities contained, it may be brought into contact with an ion-adsorbing solid.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、粘度が６０万ｍＰａ・ｓ以下であるため、描画性にも優れたものである。また、上記硬化性樹脂は上記液晶に対する溶解性の高い光ラジカル開始剤を含有するため、滴下工法による液晶表示素子の製造において、液晶汚染を引き起こすことがなく、高品位な画像の液晶表示素子を製造することができる。 Since the viscosity of the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention is 600,000 mPa · s or less, the drawing property is also excellent. In addition, since the curable resin contains a radical photoinitiator that is highly soluble in the liquid crystal, a liquid crystal display element with a high quality image can be obtained without causing liquid crystal contamination in the production of a liquid crystal display element by a dropping method. Can be manufactured.

本発明の液晶滴下工法用シール剤に、導電性微粒子を配合することにより、上下導通材料を製造することができる。このような、本発明の液晶滴下工法用シール剤と、導電性微粒子とを含有する上下導通材料もまた、本発明の１つである。 A vertical conduction material can be produced by blending conductive fine particles with the sealant for the liquid crystal dropping method of the present invention. Such a vertical conduction material containing the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention and conductive fine particles is also one aspect of the present invention.

上記導電性微粒子としては特に限定されず、金属ボール、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したもの等を用いることができる。なかでも、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したものは、樹脂微粒子の優れた弾性により、透明基板等を損傷することなく導電接続が可能であることから好適である。 The conductive fine particles are not particularly limited, and metal balls, those obtained by forming a conductive metal layer on the surface of resin fine particles, and the like can be used. Among them, the one in which the conductive metal layer is formed on the surface of the resin fine particles is preferable because the conductive connection is possible without damaging the transparent substrate due to the excellent elasticity of the resin fine particles.

本発明の液晶滴下工法用シール剤及び／又は本発明の上下導通材料を用いてなる液晶表示素子もまた、本発明の１つである。 The liquid crystal display element using the sealing compound for liquid crystal dropping method of the present invention and / or the vertical conduction material of the present invention is also one aspect of the present invention.

本発明の液晶表示素子を製造する方法としては、例えば、ＩＴＯ薄膜等の２枚の電極付き透明基板の一方に、本発明の液晶滴下工法用シール剤等をスクリーン印刷、ディスペンサー塗布等により長方形状のシールパターンを形成する工程、本発明の液晶滴下工法用シール剤等が未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせる工程、及び、本発明の液晶滴下工法用シール剤等のシールパターン部分に紫外線等の光を照射して仮硬化させる工程、及び、仮硬化させたシールパターンを加熱して本発明の液晶滴下工法用シール剤等からなるシールパターンを本硬化させる工程を有する方法等が挙げられる。
このような本発明の液晶滴下工法用シール剤及び／又は本発明の上下導通材料を用いてなる液晶表示素子もまた、本発明の１つである。As a method for producing the liquid crystal display element of the present invention, for example, one of two transparent substrates with electrodes, such as an ITO thin film, is formed into a rectangular shape by screen printing, dispenser application, etc. of the liquid crystal dropping method sealing agent of the present invention. A step of forming a seal pattern of the present invention, a step of applying a liquid crystal micro-droplet on the entire surface of a transparent substrate in an uncured state with the liquid crystal dropping method sealing agent of the present invention uncured, and immediately overlaying the other transparent substrate And a step of irradiating the seal pattern portion of the sealant for the liquid crystal dropping method of the present invention with light such as ultraviolet rays to temporarily cure, and heating the temporarily cured seal pattern for the liquid crystal dropping method of the present invention. The method etc. which have the process of carrying out the main hardening of the seal pattern which consists of sealing agents etc. are mentioned.
The liquid crystal display element using the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention and / or the vertical conduction material of the present invention is also one aspect of the present invention.

本発明によれば、滴下工法による液晶表示素子の製造に用いたときに、シール剤成分が液晶中に溶出しても液晶汚染を引き起こすことを防止することができ、表示品位及び信頼性に優れる液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤を提供することができる。 According to the present invention, when used for manufacturing a liquid crystal display element by a dropping method, it is possible to prevent liquid crystal contamination even if the sealant component is eluted in the liquid crystal, and the display quality and reliability are excellent. The sealing agent for liquid crystal dropping methods which can manufacture a liquid crystal display element can be provided.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

＜硬化性樹脂の合成＞
（エポキシアクリレート（１）の合成）
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂８５０ＣＲＰ（大日本インキ社製）１７０ｇをトルエン５００ｍＬに溶解させ、この溶液にトリフェニルホスフィン０．１ｇを加え、均一な溶液とした。この溶液にアクリル酸７２ｇを還流撹拌下２時間かけて滴下後、更に還流撹拌を８時間行った。
次に、トルエンを除去することによって、全てのエポキシ基をアクリロイル基に変成したエポキシアクリレート（１）（８５０ＣＲＰ完全変性品）を得た。<Synthesis of curable resin>
(Synthesis of epoxy acrylate (1))
170 g of bisphenol A type epoxy resin 850CRP (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) was dissolved in 500 mL of toluene, and 0.1 g of triphenylphosphine was added to this solution to obtain a uniform solution. To this solution, 72 g of acrylic acid was added dropwise over 2 hours with stirring under reflux, followed by further stirring under reflux for 8 hours.
Next, by removing toluene, an epoxy acrylate (1) (850 CRP fully modified product) in which all epoxy groups were converted to acryloyl groups was obtained.

（エポキシ基の一部分をアクリル酸と反応させたビスフェノールＥ型エポキシアクリレート樹脂（部分変性樹脂（２）の合成））
ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂Ｒ−７１０（三井化学社製）１６３ｇをトルエン５００ｍＬに溶解させ、この溶液にトリフェニルホスフィン０．１ｇを加え、均一な溶液とした。この溶液にアクリル酸５４ｇを還流撹拌下２時間かけて滴下後、更に還流撹拌を６時間行った。トルエンを除去することによって７５モル％のエポキシ基がアクリル酸と反応したビスフェノールＥ型エポキシアクリレート樹脂（部分変性樹脂（２））を得た。
なお、変性率は、樹脂を塩酸−ジオキサン溶液に溶解させた後、エポキシ基によって消費された塩酸量をＫＯＨを用いて滴定する方法によって測定した。(Bisphenol E type epoxy acrylate resin in which a part of epoxy group is reacted with acrylic acid (synthesis of partially modified resin (2)))
163 g of bisphenol E type epoxy resin R-710 (manufactured by Mitsui Chemicals) was dissolved in 500 mL of toluene, and 0.1 g of triphenylphosphine was added to this solution to obtain a uniform solution. To this solution, 54 g of acrylic acid was added dropwise with stirring under reflux over 2 hours, followed by further stirring under reflux for 6 hours. By removing toluene, a bisphenol E type epoxy acrylate resin (partially modified resin (2)) in which 75 mol% of epoxy groups reacted with acrylic acid was obtained.
The modification rate was measured by a method in which the resin was dissolved in a hydrochloric acid-dioxane solution, and then the amount of hydrochloric acid consumed by the epoxy group was titrated with KOH.

（エポキシ基の一部分をアクリル酸と反応させたビスフェノールＦ型エポキシアクリレート樹脂（部分変性樹脂（３）の合成））
ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂８３０ＣＲＰ（大日本インキ社製）１５６ｇをトルエン５００ｍＬに溶解させ、この溶液にトリフェニルホスフィン０．１ｇを加え、均一な溶液とした。この溶液にアクリル酸５４ｇを還流撹拌下２時間かけて滴下後、更に還流撹拌を６時間行った。トルエンを除去することによって、７５モル％のエポキシ基がアクリル酸と反応したビスフェノールＦ型エポキシアクリレート樹脂（部分変性樹脂（３））を得た。
なお、変性率は、樹脂を塩酸−ジオキサン溶液に溶解させた後、エポキシ基によって消費された塩酸量をＫＯＨを用いて滴定する方法によって測定した。(Bisphenol F-type epoxy acrylate resin obtained by reacting a part of epoxy group with acrylic acid (synthesis of partially modified resin (3)))
156 g of bisphenol F type epoxy resin 830CRP (Dainippon Ink Co., Ltd.) was dissolved in 500 mL of toluene, and 0.1 g of triphenylphosphine was added to the solution to obtain a uniform solution. To this solution, 54 g of acrylic acid was added dropwise with stirring under reflux over 2 hours, followed by further stirring under reflux for 6 hours. By removing the toluene, a bisphenol F type epoxy acrylate resin (partially modified resin (3)) in which 75 mol% of the epoxy groups reacted with acrylic acid was obtained.
The modification rate was measured by a method in which the resin was dissolved in a hydrochloric acid-dioxane solution, and then the amount of hydrochloric acid consumed by the epoxy group was titrated with KOH.

（エポキシ基の一部分をアクリル酸と反応させたビスフェノールＥ型エポキシアクリレート樹脂（部分変性樹脂（４）の合成））
ビスフェノールＥ型エポキシ樹脂Ｒ−７１０（三井化学社製）１６３ｇをトルエン５００ｍＬに溶解させ、この溶液にトリフェニルホスフィン０．１ｇを加え、均一な溶液とした。この溶液にアクリル酸３６ｇを還流撹拌下２時間かけて滴下後、更に還流撹拌を６時間行った。トルエンを除去することによって５０モル％のエポキシ基がアクリル酸と反応したビスフェノールＥ型エポキシアクリレート樹脂（部分変性樹脂（４））を得た。
なお、変性率は、樹脂を塩酸−ジオキサン溶液に溶解させた後、エポキシ基によって消費された塩酸量をＫＯＨを用いて滴定する方法によって測定した。(Bisphenol E type epoxy acrylate resin in which a part of epoxy group is reacted with acrylic acid (synthesis of partially modified resin (4)))
163 g of bisphenol E type epoxy resin R-710 (manufactured by Mitsui Chemicals) was dissolved in 500 mL of toluene, and 0.1 g of triphenylphosphine was added to this solution to obtain a uniform solution. To this solution, 36 g of acrylic acid was added dropwise with stirring under reflux over 2 hours, followed by further stirring under reflux for 6 hours. By removing toluene, a bisphenol E type epoxy acrylate resin (partially modified resin (4)) in which 50 mol% of the epoxy groups reacted with acrylic acid was obtained.
The modification rate was measured by a method in which the resin was dissolved in a hydrochloric acid-dioxane solution, and then the amount of hydrochloric acid consumed by the epoxy group was titrated with KOH.

（エポキシ基の一部分をアクリル酸と反応させたビフェニルエーテル型エポキシアクリレート樹脂（部分変性樹脂（５）の合成））
ビフェニルエーテル型エポキシ樹脂（ＹＳＬＶ−８０ＤＥ（新日鉄化学社製）１５７ｇをトルエン５００ｍＬに溶解させ、この溶液にトリフェニルホスフィン０．１ｇを加え、均一な溶液とした。この溶液にアクリル酸３６ｇを還流撹拌下２時間かけて滴下後、更に還流撹拌を６時間行った。トルエンを除去することによって５０モル％のエポキシ基がアクリル酸と反応したビスフェノールＥ型エポキシアクリレート樹脂（部分変性樹脂（５））を得た。
なお、変性率は、樹脂を塩酸−ジオキサン溶液に溶解させた後、エポキシ基によって消費された塩酸量をＫＯＨを用いて滴定する方法によって測定した。(Biphenyl ether type epoxy acrylate resin in which a part of epoxy group is reacted with acrylic acid (synthesis of partially modified resin (5)))
157 g of a biphenyl ether type epoxy resin (YSLV-80DE (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)) was dissolved in 500 mL of toluene, and 0.1 g of triphenylphosphine was added to the solution to obtain a uniform solution. After dropwise addition over 2 hours, the mixture was further stirred under reflux for 6 hours, and by removing toluene, a bisphenol E type epoxy acrylate resin (partially modified resin (5)) in which 50 mol% of the epoxy groups had reacted with acrylic acid was obtained. Obtained.
The modification rate was measured by a method in which the resin was dissolved in a hydrochloric acid-dioxane solution, and then the amount of hydrochloric acid consumed by the epoxy group was titrated with KOH.

（実施例１）
合成した部分変性樹脂（２）１００重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１）２重量部、熱硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１６重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。Example 1
100 parts by weight of the partially modified resin (2) synthesized, 2 parts by weight of a photo radical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE OXE01), 16 parts by weight of a thermosetting agent (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., Amicure VDH), as a filler 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs Corporation, SO-C1) and 2 parts by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403) are blended, and a planetary stirrer (manufactured by Shinky Corporation, Kentaro Awatori) ) And then uniformly mixed with a ceramic three roll to obtain a liquid crystal dropping method sealant.

（実施例２）
合成したエポキシアクリレート（１）５０重量部、合成した部分変性樹脂（４）５０重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１）２重量部、熱硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１６重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。(Example 2)
50 parts by weight of the synthesized epoxy acrylate (1), 50 parts by weight of the partially modified resin (4), 2 parts by weight of a photo radical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE OXE01), a thermosetting agent (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) 16 parts by weight of Amicure VDH), 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs, SO-C1) as a filler, and 2 parts by weight of a silane coupling agent (KBM403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) After stirring with a stirrer (Shinky Co., Ltd., Awatori Nertaro), the mixture was uniformly mixed with three ceramic rolls to obtain a sealing agent for liquid crystal dropping method.

（実施例３）
合成した部分変性樹脂（２）１００重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１）５重量部、熱硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１６重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。(Example 3)
100 parts by weight of the partially modified resin (2) synthesized, 5 parts by weight of a photo radical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE OXE01), 16 parts by weight of a thermosetting agent (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Amicure VDH), as a filler 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs Corporation, SO-C1) and 2 parts by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403) are blended, and a planetary stirrer (manufactured by Shinky Corporation, Kentaro Awatori) ) And then uniformly mixed with a ceramic three roll to obtain a liquid crystal dropping method sealant.

（実施例４）
合成したエポキシアクリレート（１）５０重量部、合成した部分変性樹脂（４）５０重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１）０．５重量部、熱硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１６重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。Example 4
50 parts by weight of the synthesized epoxy acrylate (1), 50 parts by weight of the partially modified resin (4), 0.5 parts by weight of a photo radical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE OXE01), a thermosetting agent (Ajinomoto Fine Techno) 16 parts by weight, manufactured by Amicure VDH, 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs, SO-C1) and 2 parts by weight of a silane coupling agent (KBE403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) After stirring with a planetary stirrer (manufactured by Shinky Co., Ltd., Nawataro Awatori), the mixture was uniformly mixed with three ceramic rolls to obtain a sealant for a liquid crystal dropping method.

（実施例５）
合成したエポキシアクリレート（１）５０重量部、合成した部分変性樹脂（４）５０重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１）５重量部、熱硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１６重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）２２重量部とタルク８重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。(Example 5)
50 parts by weight of the synthesized epoxy acrylate (1), 50 parts by weight of the partially modified resin (4), 5 parts by weight of a photo radical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE OXE01), a thermosetting agent (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) 16 parts by weight of Amicure VDH), 22 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs, SO-C1) and 8 parts by weight of talc, and 2 parts by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403) After mixing and stirring with a planetary stirrer (manufactured by Shinky Co., Ltd., Niwataro Awatori), the mixture was uniformly mixed with three ceramic rolls to obtain a sealing agent for liquid crystal dropping method.

（実施例６）
合成したエポキシアクリレート（１）５０重量部、合成した部分変性樹脂（４）５０重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１）２重量部、熱硬化剤としてアジピン酸ジヒドラジド５重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。(Example 6)
50 parts by weight of the synthesized epoxy acrylate (1), 50 parts by weight of the partially modified resin (4), 2 parts by weight of a radical radical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE OXE01), 5 parts by weight of adipic acid dihydrazide as a thermosetting agent Part, 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs, SO-C1) and 2 parts by weight of silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403) are blended as planetary stirrer (manufactured by Sinky). , Awatori Netaro) and then mixed uniformly with a ceramic three roll to obtain a sealing agent for liquid crystal dropping method.

（実施例７）
合成したエポキシアクリレート（１）５０重量部、合成した部分変性樹脂（４）２５重量部、合成した部分変性樹脂（５）２５重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１）２重量部、熱硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１６重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。(Example 7)
Synthesized epoxy acrylate (1) 50 parts by weight, synthesized partially modified resin (4) 25 parts by weight, synthesized partially modified resin (5) 25 parts by weight, photoradical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE OXE01) 2 Parts by weight, thermosetting agent (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Amicure VDH), 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs, SO-C1) as a filler, and silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) , KBM403) 2 parts by weight were mixed and stirred with a planetary stirrer (manufactured by Shinky Co., Ltd., Nawataro Awatori), and then mixed uniformly with three ceramic rolls to obtain a sealing agent for liquid crystal dropping method. .

（実施例８）
合成したエポキシアクリレート（１）５０重量部、合成した部分変性樹脂（４）２５重量部、合成した部分変性樹脂（５）２５重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１）２重量部、熱硬化剤としてセバシン酸ジヒドラジド１０重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。(Example 8)
Synthesized epoxy acrylate (1) 50 parts by weight, synthesized partially modified resin (4) 25 parts by weight, synthesized partially modified resin (5) 25 parts by weight, photoradical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE OXE01) 2 Parts by weight, 10 parts by weight of sebacic acid dihydrazide as thermosetting agent, 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs, SO-C1) as filler, and 2 parts by weight of silane coupling agent (KBE403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Was mixed with a planetary stirrer (manufactured by Shinky Co., Ltd., Awatori Nertaro), and then mixed uniformly with a three-roll ceramic roll to obtain a sealing agent for a liquid crystal dropping method.

（比較例１）
合成した部分変性樹脂（２）１００重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ）２重量部、熱硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１６重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。(Comparative Example 1)
100 parts by weight of the partially modified resin (2) synthesized, 2 parts by weight of a photo radical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, DAROCURE TPO), 16 parts by weight of a thermosetting agent (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Amicure VDH), as a filler 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs Corporation, SO-C1) and 2 parts by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403) are blended, and a planetary stirrer (manufactured by Shinky Corporation, Kentaro Awatori) ) And then uniformly mixed with a ceramic three roll to obtain a liquid crystal dropping method sealant.

（比較例２）
合成したエポキシアクリレート（１）５０重量部、合成した部分変性樹脂（３）５０重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ）２重量部、熱硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１６重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。(Comparative Example 2)
50 parts by weight of the synthesized epoxy acrylate (1), 50 parts by weight of the partially modified resin (3), 2 parts by weight of a photo radical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, DAROCURE TPO), a thermosetting agent (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) 16 parts by weight of Amicure VDH), 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs, SO-C1) as a filler, and 2 parts by weight of a silane coupling agent (KBM403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) After stirring with a stirrer (Shinky Co., Ltd., Awatori Nertaro), the mixture was uniformly mixed with three ceramic rolls to obtain a sealing agent for liquid crystal dropping method.

（比較例３）
合成したエポキシアクリレート（１）５０重量部、合成した部分変性樹脂（４）５０重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＤＡＲＯＣＵＲＥ １１７３）５重量部、熱硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１６重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。(Comparative Example 3)
50 parts by weight of the synthesized epoxy acrylate (1), 50 parts by weight of the partially modified resin (4), 5 parts by weight of a photo radical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, DAROCURE 1173), a thermosetting agent (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) 16 parts by weight of Amicure VDH), 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs, SO-C1) as a filler, and 2 parts by weight of a silane coupling agent (KBM403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) After stirring with a stirrer (Shinky Co., Ltd., Awatori Nertaro), the mixture was uniformly mixed with three ceramic rolls to obtain a sealing agent for liquid crystal dropping method.

（比較例４）
合成した部分変性樹脂（２）１００重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９）２重量部、熱硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１６重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。(Comparative Example 4)
100 parts by weight of the partially modified resin (2) synthesized, 2 parts by weight of a photo radical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE 819), 16 parts by weight of a thermosetting agent (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Amicure VDH), as a filler 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs Corporation, SO-C1) and 2 parts by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403) are blended, and a planetary stirrer (manufactured by Shinky Corporation, Kentaro Awatori) ) And then uniformly mixed with a ceramic three roll to obtain a liquid crystal dropping method sealant.

（比較例５）
合成した部分変性樹脂（２）１００重量部、光ラジカル開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９）２重量部、熱硬化剤（味の素ファインテクノ社製、アミキュアＶＤＨ）１６重量部、充填剤として球状シリカ（アドマテックス社製、ＳＯ−Ｃ１）３０重量部、及び、シランカップリング剤（信越化学社製、ＫＢＭ４０３）２重量部を配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、あわとり練太郎）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。(Comparative Example 5)
100 parts by weight of the partially modified resin (2) synthesized, 2 parts by weight of a photo radical initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE 379), 16 parts by weight of a thermosetting agent (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Amicure VDH), as a filler 30 parts by weight of spherical silica (manufactured by Admatechs Corporation, SO-C1) and 2 parts by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403) are blended, and a planetary stirrer (manufactured by Shinky Corporation, Kentaro Awatori) ) And then uniformly mixed with a ceramic three roll to obtain a liquid crystal dropping method sealant.

＜光ラジカル開始剤の評価＞
実施例及び比較例において用いた光ラジカル開始剤について、以下の評価を行った。
結果を表１及び表２に示した。<Evaluation of photo radical initiator>
The following evaluation was performed about the photoradical initiator used in the Example and the comparative example.
The results are shown in Tables 1 and 2.

（１）光ラジカル開始剤の液晶溶解性の評価
ガラス製サンプル瓶に、液晶０．５ｇと、該液晶に対して４重量％となるように所定量の光ラジカル開始剤を入れた。サンプル瓶の蓋を閉めて１２０℃オーブンに入れ１時間放置した。１時間後オーブンから取り出し、−２０℃で１４４時間放置し、光ラジカル開始剤の析出状態を目視にて観察した。
なお、液晶としては、ＭＬＣ−６６０９（ＶＡ、メルク社製）及びＺＮ−５００１ＬＡ（ＴＮ、チッソ社製）をそれぞれ用いた。(1) Evaluation of liquid crystal solubility of photoradical initiator A glass sample bottle was charged with 0.5 g of liquid crystal and a predetermined amount of photoradical initiator so as to be 4 wt% with respect to the liquid crystal. The lid of the sample bottle was closed and placed in a 120 ° C. oven for 1 hour. After 1 hour, it was taken out from the oven and allowed to stand at −20 ° C. for 144 hours, and the precipitation state of the photoradical initiator was visually observed.
As the liquid crystal, MLC-6609 (VA, manufactured by Merck) and ZN-5001LA (TN, manufactured by Chisso) were used.

（２）光ラジカル開始剤の吸光係数の測定
ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１については、アセトニトリル１Ｌに１モル溶解させた溶液を１ｃｍ石英セルに入れ、分光光度計を用いて４０５ｎｍにおける吸光係数を測定した。
ＤＡＲＯＣＵＲＥ １１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９及びＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９については、メタノール１Ｌに１モル溶解させた溶液を１ｃｍ石英セルに入れ、分光光度計を用いて４０５ｎｍにおける吸光係数を測定した。
なお、セル長をｌ［ｃｍ］、モル濃度をｃ［ｍｏｌ／Ｌ］、モル吸光係数をε［Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ］とするとｌａｍｂｅｒｔ−ｂｅｅｒの法則よりモル吸光度＝εｃｌとなる。(2) Measurement of extinction coefficient of photoradical initiator For DAROCURE TPO and IRGACURE OXE01, a solution of 1 mol dissolved in 1 L of acetonitrile was placed in a 1 cm quartz cell, and the extinction coefficient at 405 nm was measured using a spectrophotometer.
For DAROCURE 1173, IRGACURE 819 and IRGACURE 379, a solution of 1 mol dissolved in 1 L of methanol was placed in a 1 cm quartz cell, and the extinction coefficient at 405 nm was measured using a spectrophotometer.
If the cell length is l [cm], the molar concentration is c [mol / L], and the molar extinction coefficient is ε [L / mol · cm], the molar absorbance is εcl according to Lambert-Beer's law.

Figure 2009054276
Figure 2009054276

Figure 2009054276
Figure 2009054276

＜液晶滴下工法用シール剤の評価＞
実施例１〜８及び比較例１〜５で作製した液晶滴下工法用シール剤について、以下の評価を行った。
結果を表３に示した。<Evaluation of sealing agent for liquid crystal dropping method>
The following evaluation was performed about the sealing compound for liquid crystal dropping methods produced in Examples 1-8 and Comparative Examples 1-5.
The results are shown in Table 3.

（１）硬化性の評価
液晶表示素子用シール剤をガラスに挟み込んだ。その状態で、波長４０５ｎｍの光の照射量が３０００ｍＪ／ｃｍ２となるように光を照射した。なお、照射時には、４００ｎｍカットフィルターを用いた。その後、ＦＴ−ＩＲを用いた分析方法により、アクリルの反応率を測定した。アクリルの反応率が５０％未満のものを「×」と、５０〜７０％のものを「△」と、７０％を超えるものを「○」と評価した。(1) Evaluation of curability A sealant for a liquid crystal display element was sandwiched between glasses. In this state, light was irradiated so that the irradiation amount of light having a wavelength of 405 nm was 3000 mJ / cm 2 . At the time of irradiation, a 400 nm cut filter was used. Thereafter, the reaction rate of acrylic was measured by an analysis method using FT-IR. Those having an acrylic reaction rate of less than 50% were evaluated as “x”, those having 50 to 70% as “Δ”, and those exceeding 70% as “◯”.

（２）液晶表示パネル評価（色むら評価）
配向膜及び透明電極付き基板の一方に、液晶表示素子用シール剤を長方形の枠を描く様にディスペンサーで塗布した。次に、液晶（メルク社製、「ＺＮ−５００１ＬＡ」）を滴下し、他方の基板を貼り合わせた後、高圧水銀ランプを１００ｍＷ／ｃｍ２で３０秒間照射し硬化させた。このとき、４００ｎｍカットフィルターを用いた。次いで、１２０℃で１時間熱硬化させて、液晶表示パネルを作製した。 (2) Liquid crystal display panel evaluation (color unevenness evaluation)
A sealing agent for a liquid crystal display element was applied to one of the alignment film and the substrate with transparent electrodes with a dispenser so as to draw a rectangular frame. Next, liquid crystal (“ZN-5001LA” manufactured by Merck & Co., Inc.) was dropped, and the other substrate was bonded, and then cured by irradiation with a high-pressure mercury lamp at 100 mW / cm 2 for 30 seconds. At this time, a 400 nm cut filter was used. Subsequently, it was thermoset at 120 ° C. for 1 hour to produce a liquid crystal display panel.

得られた液晶表示パネル（サンプル数５個）について、液晶表示パネル作製直後におけるシール剤付近の液晶配向乱れを目視によって確認した。配向乱れは表示部の色ムラより判断しており、色ムラの程度に応じて、◎（色むらが全くない）、○（色むらが微かにある）、△（色むらが少しある）、×（色むらがかなりある）の４段階で評価を行った。なお、評価が◎、○の液晶表示パネルは実用に全く問題のないレベルである。 About the obtained liquid crystal display panel (the number of samples is 5), the liquid crystal alignment disorder in the vicinity of the sealant immediately after the liquid crystal display panel was produced was confirmed by visual observation. The alignment disorder is determined from the color unevenness of the display unit. Depending on the degree of the color unevenness, ◎ (no color unevenness), ○ (color unevenness is slight), △ (color unevenness is a little), Evaluation was performed in four stages of x (there was considerable color unevenness). Note that the liquid crystal display panels having evaluations of “○” and “○” are at a level where there is no problem in practical use.

Figure 2009054276
Figure 2009054276

本発明によれば、滴下工法による液晶表示素子の製造に用いたときに、シール剤成分が液晶中に溶出しても液晶汚染を引き起こすことを防止することができ、表示品位及び信頼性に優れる液晶表示素子を製造することができる液晶滴下工法用シール剤を提供することができる。 According to the present invention, when used for manufacturing a liquid crystal display element by a dropping method, it is possible to prevent liquid crystal contamination even if the sealant component is eluted in the liquid crystal, and the display quality and reliability are excellent. The sealing agent for liquid crystal dropping methods which can manufacture a liquid crystal display element can be provided.

Claims (5)

硬化性樹脂と光ラジカル開始剤とを含有する液晶滴下工法用シール剤であって、
前記光ラジカル開始剤は、液晶に対して４重量％濃度で１２０℃にて完全に溶解させた後、−２０℃にて１４４時間放置後に上記液晶から析出しないものであり、
前記光ラジカル開始剤は、溶媒中で測定した４０５ｎｍにおける吸光係数が５０ｍＬ／ｇ・ｃｍ以上である
ことを特徴とする液晶滴下工法用シール剤。A liquid crystal dropping method sealing agent containing a curable resin and a photo radical initiator,
The radical photoinitiator is one that does not precipitate from the liquid crystal after being completely dissolved at 120 ° C. at a concentration of 4% by weight with respect to the liquid crystal and then left at −20 ° C. for 144 hours,
The optical radical initiator has a light absorption coefficient at 405 nm measured in a solvent of 50 mL / g · cm or more, and is a sealing agent for liquid crystal dropping method. 光ラジカル開始剤は、１，２−オクタンジオン１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］であることを特徴とする請求項１記載の液晶滴下工法用シール剤。 2. The sealing agent for liquid crystal dropping method according to claim 1, wherein the photo radical initiator is 1,2-octanedione 1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)]. 硬化性樹脂は、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有し、（メタ）アクリル基とエポキシ基との合計量に対するエポキシ基の比率が４０モル％以下であることを特徴とする請求項１又は２記載の液晶滴下工法用シール剤。 The curable resin has a (meth) acryl group and an epoxy group, and the ratio of the epoxy group to the total amount of the (meth) acryl group and the epoxy group is 40 mol% or less. Or the sealing agent for liquid crystal dropping methods of 2 description. 請求項１、２又は３記載の液晶滴下工法用シール剤と、導電性微粒子とを含有することを特徴とする上下導通材料。 A vertical conduction material comprising the sealing agent for liquid crystal dropping method according to claim 1, 2 or 3, and conductive fine particles. 請求項１、２又は３記載の液晶滴下工法用シール剤及び／又は請求項４記載の上下導通材料を用いてなることを特徴とする液晶表示素子。 A liquid crystal display element comprising the sealing agent for a liquid crystal dropping method according to claim 1, 2 or 3, and / or the vertical conduction material according to claim 4.
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