JP4157896B2 - Sealant for liquid crystal dropping method, vertical conduction material, and liquid crystal display element - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示素子の製造において、基板に対する接着性に優れるため、基板との間に剥がれ現象が起こりにくく、また、液晶汚染を引き起こすことがないため、液晶表示において色むらが少ない液晶表示素子の製造に最適である液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子に関する。 Since the present invention has excellent adhesion to a substrate in the production of a liquid crystal display element, the phenomenon of peeling between the substrate and the liquid crystal display is less likely to occur, and liquid crystal contamination is not caused. The present invention relates to a sealing agent for liquid crystal dropping method, a vertical conduction material, and a liquid crystal display element, which are optimal for the manufacture of the element.
従来、液晶表示セル等の液晶表示素子は、2枚の電極付き透明基板を、所定の間隔をおいて対向させ、その周囲を硬化性樹脂組成物からなるシール剤で封着してセルを形成し、その一部に設けられた液晶注入口からセル内に液晶を注入し、その液晶注入口をシール剤又は封口剤を用いて封止することにより作製されていた。 Conventionally, a liquid crystal display element such as a liquid crystal display cell forms a cell by facing two transparent substrates with electrodes facing each other at a predetermined interval and sealing the periphery with a sealing agent made of a curable resin composition. However, it was produced by injecting liquid crystal into the cell from a liquid crystal injection port provided in a part thereof, and sealing the liquid crystal injection port with a sealing agent or a sealing agent.
この方法では、まず、2枚の電極付き透明基板のいずれか一方に、スクリーン印刷により熱硬化性シール剤を用いた液晶注入口を設けたシールパターンを形成し、60〜100℃でプリベイクを行いシール剤中の溶剤を乾燥させる。次いで、スペーサーを挟んで2枚の基板を対向させてアライメントを行い貼り合わせ、110〜220℃で10〜90分間熱プレスを行いシール近傍のギャップを調整した後、オーブン中で110〜220℃で10〜120分間加熱しシール剤を本硬化させる。次いで、液晶注入口から液晶を注入し、最後に封口剤を用いて液晶注入口を封止して、液晶表示素子を作製していた。 In this method, first, a seal pattern provided with a liquid crystal injection port using a thermosetting sealant is formed by screen printing on one of two transparent substrates with electrodes, and prebaked at 60 to 100 ° C. Dry the solvent in the sealant. Next, alignment is performed with the two substrates facing each other with a spacer interposed therebetween, and the gap in the vicinity of the seal is adjusted by performing hot pressing at 110 to 220 ° C. for 10 to 90 minutes, and then at 110 to 220 ° C. in an oven. Heat for 10 to 120 minutes to fully cure the sealant. Next, liquid crystal was injected from the liquid crystal injection port, and finally, the liquid crystal injection port was sealed using a sealing agent to produce a liquid crystal display element.
しかし、この作製方法によると、熱歪により位置ズレ、ギャップのバラツキ、シール剤と基板との密着性の低下等が発生する;残留溶剤が熱膨張して気泡が発生しキャップのバラツキやシールパスが発生する;シール硬化時間が長い;プリベイクプロセスが煩雑;溶剤の揮発によりシール剤の使用可能時間が短い;液晶の注入に時間がかかる等の問題があった。とりわけ、近年の大型の液晶表示装置にあっては、液晶の注入に非常に時間がかかることが大きな問題となっていた。 However, according to this manufacturing method, the positional displacement, gap variation, decrease in adhesion between the sealing agent and the substrate, etc. occur due to thermal strain; residual solvent thermally expands to generate bubbles, resulting in cap variation and seal path. The seal curing time is long; the prebaking process is complicated; the usable time of the sealant is short due to the volatilization of the solvent; and it takes time to inject liquid crystal. In particular, in a large liquid crystal display device in recent years, it takes a very long time to inject liquid crystal.
これに対して、光硬化熱硬化併用型の樹脂組成物からなるシール剤を用いた滴下工法と呼ばれる液晶表示素子の製造方法が検討されている(例えば、特許文献1参照)。滴下工法では、まず、2枚の電極付き透明基板の一方に、スクリーン印刷により長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール部に紫外線を照射して仮硬化を行う。その後、液晶アニール時に加熱して本硬化を行い、液晶表示素子を作製する。基板の貼り合わせを減圧下で行うようにすれば、極めて高い効率で液晶表示素子を製造することができ、現在この滴下工法が液晶表示素子の製造方法の主流となっている。 On the other hand, the manufacturing method of the liquid crystal display element called the dripping method using the sealing agent which consists of a photocurable thermosetting combined type resin composition is examined (for example, refer patent document 1). In the dropping method, first, a rectangular seal pattern is formed on one of the two transparent substrates with electrodes by screen printing. Next, fine droplets of liquid crystal are dropped and applied to the entire surface of the transparent substrate frame in an uncured state of the sealant, and the other transparent substrate is immediately overlaid, and the seal portion is irradiated with ultraviolet rays for temporary curing. Thereafter, heating is performed at the time of liquid crystal annealing to perform main curing, and a liquid crystal display element is manufactured. If the substrates are bonded together under reduced pressure, a liquid crystal display element can be manufactured with extremely high efficiency, and this dripping method is currently the mainstream method for manufacturing liquid crystal display elements.
しかし、このような液晶滴下工法は、真空注入法と比べて液晶導入工程時間の大幅な短縮が可能となる一方で、シール剤が未硬化の状態で液晶と接するために、シール剤の成分が液晶に溶出しやすく、液晶汚染の原因となるという問題があった。
このような問題に対して、例えば、光硬化熱硬化併用型シール剤を用いて、紫外線と加熱とによる二段階硬化を行う方法が知られている。このような二段階硬化において、シール剤が光硬化した割合が大きければ大きいほど、シール剤成分の液晶への溶出を抑えることができる。
However, such a liquid crystal dropping method can significantly reduce the liquid crystal introduction process time as compared with the vacuum injection method. On the other hand, since the sealing agent is in contact with the liquid crystal in an uncured state, the component of the sealing agent is There was a problem that it was easy to elute into the liquid crystal and caused liquid crystal contamination.
In order to solve such a problem, for example, a method of performing two-stage curing by ultraviolet rays and heating using a photocuring / thermosetting sealant is known. In such two-stage curing, the greater the proportion of the photocured sealant, the more the elution of the sealant component into the liquid crystal can be suppressed.
ところが、シール剤は、通常、硬化すると硬化物の内部に応力が生じるため基板との密着性が悪くなり接着性が弱くなるが、とりわけ、図2に示すような、配向膜やブラックマトリックス等の単層又は多層の膜22が形成された基板21と他の基板23とがシール剤20を介して貼り合わされ液晶24が封入された構造の液晶表示素子を滴下工法により製造すると、硬化させたシール剤と基板(膜)との間の接着力が低下し、これらの間に剥がれ現象が顕著になるという問題があった。なお、図2は、液晶表示素子の一例を模式的に示す断面図である。
本発明は、上記現状に鑑み、液晶表示素子の製造において、基板に対する接着性に優れるため、基板との間に剥がれ現象が起こりにくく、また、液晶汚染を引き起こすことがないため、液晶表示において色むらが少ない液晶表示素子の製造に最適である液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子を提供することを目的とする。 In view of the above situation, the present invention has excellent adhesion to a substrate in the manufacture of a liquid crystal display element, and therefore does not easily peel off between the substrate and does not cause liquid crystal contamination. An object of the present invention is to provide a sealing agent for a liquid crystal dropping method, a vertical conduction material, and a liquid crystal display element, which are optimal for manufacturing a liquid crystal display element with little unevenness.
本発明は、下記一般式(1)で表される構造を有する(メタ)アクリレート化合物を含有する液晶滴下工法用シール剤であって、含有する硬化性樹脂成分の10〜70重量%が前記(メタ)アクリレート化合物である液晶滴下工法用シール剤である。 This invention is a sealing compound for liquid crystal dropping methods containing the (meth) acrylate compound which has a structure represented by following General formula (1), Comprising: 10-70 weight% of the curable resin component to contain is said ( It is a sealing agent for liquid crystal dropping method which is a meth) acrylate compound.
本発明者らは、これまでに、特に滴下工法において好適なシール剤として、アクリル化エポキシ樹脂を含有する硬化性樹脂組成物を用いた液晶表示素子用シール剤を提案している。
このような硬化性樹脂組成物を用いた場合、液晶表示素子用シール剤を光硬化と熱硬化との併用タイプとすることができるとともに、含有される樹脂の極性が高く、液晶との相溶性が低いことから、液晶の汚染を効果的に防止することができる。しかし、シール剤を形成した基板表面に配向膜やブラックマトリックス等の膜が形成されている場合、光硬化後にシール剤との間の接着力が低下するという問題があった。
本発明者らは、鋭意検討の結果、液晶滴下工法用シール剤として、特定の構造を有する(メタ)アクリレート化合物を用いることにより、硬化後の配向膜やブラックマトリックス等の膜が形成された基板表面に対する接着性にも優れたものとすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
The present inventors have proposed the sealing agent for liquid crystal display elements using the curable resin composition containing an acrylated epoxy resin as a suitable sealing agent especially in the dropping method.
When such a curable resin composition is used, the sealing agent for liquid crystal display elements can be a combined type of photocuring and thermosetting, and the polarity of the contained resin is high, which is compatible with liquid crystals. Therefore, contamination of the liquid crystal can be effectively prevented. However, when a film such as an alignment film or a black matrix is formed on the surface of the substrate on which the sealing agent is formed, there is a problem that the adhesive force with the sealing agent is reduced after photocuring.
As a result of intensive studies, the present inventors have used a (meth) acrylate compound having a specific structure as a sealing agent for a liquid crystal dropping method, thereby forming a substrate such as a cured alignment film or a black matrix. It has been found that the adhesiveness to the surface can be excellent, and the present invention has been completed.
本発明の液晶滴下工法用シール剤(以下、単に本発明のシール剤ともいう)は、上記一般式(1)で表される構造を有する(メタ)アクリレート化合物を含有する。
上記一般式(1)において、Xは、上記化学式(2)で表される群より選択される1種を表し、Yは、上記化学式(3)で表される群より選択される1種を表し、Aは、環状ラクトンの開環構造を表し、nは0又は1である。このような構造の(メタ)アクリレート化合物を含有する本発明のシール剤は、基板に対する接着性に優れるため、基板との間に剥がれ現象が起こりにくく、また、液晶汚染を引き起こすことがないため、液晶表示において色むらが少ない液晶表示素子の製造に最適である。
なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
The sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention (hereinafter also simply referred to as the sealing agent of the present invention) contains a (meth) acrylate compound having a structure represented by the general formula (1).
In the general formula (1), X represents one selected from the group represented by the chemical formula (2), and Y represents one selected from the group represented by the chemical formula (3). And A represents a ring-opening structure of a cyclic lactone, and n is 0 or 1. Since the sealing agent of the present invention containing the (meth) acrylate compound having such a structure is excellent in adhesiveness to the substrate, the peeling phenomenon is unlikely to occur between the substrate and the liquid crystal is not contaminated. It is most suitable for manufacturing a liquid crystal display element with little color unevenness in liquid crystal display.
In the present specification, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate.
上記(メタ)アクリレート化合物は、上記一般式(1)で表される構造を有するものであれば、その他の部分の構造としては特に限定されない。
また、上記(メタ)アクリレート化合物は、ラクトン由来の構造を有することが好ましい。本発明のシール剤が柔軟性に優れたものとなるため、硬化させた際に生じる内部応力により基板表面に対する接着力が低下しにくく、基板との間に剥がれ現象が起こることがない。この場合、上記一般式(1)中、Aのnが1となる。
If the said (meth) acrylate compound has a structure represented by the said General formula (1), it will not specifically limit as a structure of another part.
The (meth) acrylate compound preferably has a lactone-derived structure. Since the sealing agent of the present invention is excellent in flexibility, the adhesive force to the substrate surface is unlikely to decrease due to internal stress generated when it is cured, and the peeling phenomenon does not occur between the substrate and the substrate. In this case, n in A is 1 in the general formula (1).
上記環状ラクトンとしては特に限定されず、例えば、γ−ウンデカラクトン、ε−カプロラクトン、γ−デカラクトン、σ−ドデカラクトン、γ−ノナラクトン、γ−ノナノラクトン、γ−バレロラクトン、σ−バレロラクトン、β−ブチロラクトン、γ−ブチロラクトン、β−プロピオラクトン、σ−ヘキサノラクトン、7−ブチル−2−オキセパノン等が挙げられる。これらの環状ラクトンは、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
なかでも、開環したときに主骨格の直鎖部分の炭素数が5〜7となるものが好ましい。
The cyclic lactone is not particularly limited. For example, γ-undecalactone, ε-caprolactone, γ-decalactone, σ-dodecalactone, γ-nonalactone, γ-nonanolactone, γ-valerolactone, σ-valerolactone, β -Butyrolactone, γ-butyrolactone, β-propiolactone, σ-hexanolactone, 7-butyl-2-oxepanone and the like. These cyclic lactones may be used alone or in combination of two or more.
Among them, those in which the straight chain portion of the main skeleton has 5 to 7 carbon atoms when ring-opening are preferable.
また、上記(メタ)アクリレート化合物は、メチレン基が3つ以上連結したセグメントを有することが好ましい。これにより本発明のシール剤が柔軟性に優れたものとなるため、硬化させた際に生じる内部応力により基板表面に対する接着力が低下しにくく、基板との間に剥がれ現象が起こることがない。 The (meth) acrylate compound preferably has a segment in which three or more methylene groups are connected. As a result, the sealing agent of the present invention is excellent in flexibility, so that the adhesive force to the substrate surface is not easily lowered by the internal stress generated when it is cured, and the peeling phenomenon does not occur between the substrate and the substrate.
また、上記(メタ)アクリレート化合物は、2以上の(メタ)アクリル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物であることが好ましい。上記(メタ)アクリレート化合物が2以上の(メタ)アクリル基を有する多官能であると、本発明のシール剤の硬化物は、架橋密度が高くなることにより、耐熱性に優れ、信頼性の高いものとなる。 The (meth) acrylate compound is preferably a polyfunctional (meth) acrylate compound having two or more (meth) acryl groups. When the (meth) acrylate compound is polyfunctional having two or more (meth) acryl groups, the cured product of the sealing agent of the present invention has excellent heat resistance and high reliability due to a high crosslinking density. It will be a thing.
本発明のシール剤において、上記一般式(1)で表される構造を有する(メタ)アクリレート化合物は、例えば、下記式(4)に示す反応により得ることができる。 In the sealing agent of the present invention, the (meth) acrylate compound having the structure represented by the general formula (1) can be obtained by, for example, a reaction represented by the following formula (4).
すなわち、(メタ)アクリレート(A)と、環状の無水物(B)とを反応させてカルボン酸(C)を得る。そして、カルボン酸(C)とエポキシ化合物(D)とを反応させることで、上記一般式(1)で表される構造を有する(メタ)アクリレート化合物(E)が得られる。 That is, carboxylic acid (C) is obtained by reacting (meth) acrylate (A) with cyclic anhydride (B). And the (meth) acrylate compound (E) which has a structure represented by the said General formula (1) is obtained by making carboxylic acid (C) and an epoxy compound (D) react.
上記(メタ)アクリレート(A)において、X及びAとしては、上記(メタ)アクリレート化合物の一般式(1)で表される構造におけるX及びAと同様のものが挙げられる。
また、上記(メタ)アクリレート(A)は、ラクトン由来の構造を有することが好ましい。上記(メタ)アクリレート(A)がラクトン由来の構造を有する場合、合成する(メタ)アクリレート化合物(E)がラクトン由来の構造を有することとなる。上記(メタ)アクリレート(A)がラクトン由来の構造を有する場合、上記Aのnが1となる。
In the (meth) acrylate (A), examples of X and A include the same as X and A in the structure represented by the general formula (1) of the (meth) acrylate compound.
The (meth) acrylate (A) preferably has a lactone-derived structure. When the (meth) acrylate (A) has a lactone-derived structure, the (meth) acrylate compound (E) to be synthesized has a lactone-derived structure. When the (meth) acrylate (A) has a lactone-derived structure, n in the A is 1.
上記ラクトン由来の構造を有する(メタ)アクリレート(A)の具体例としては、例えば、カプロラクトン−2−(メタ)アクロイロキシエチル、ジカプロラクトン−2−(メタ)アクロイロキシエチル、脂肪族エポキシアクリレート(Ebecryl 111、Ebecryl 112、いずれもダイセルセイテック社製)、メチレン基が6つ連結した直鎖構造を含むエポライト1600(共栄社化学社製)等が挙げられる。 Specific examples of the (meth) acrylate (A) having a structure derived from the lactone include, for example, caprolactone-2- (meth) acryloxyethyl, dicaprolactone-2- (meth) acryloxyethyl, aliphatic epoxy Examples thereof include acrylate (Ebecryl 111, Ebecryl 112, both manufactured by Daicel Setec Co., Ltd.), Epolite 1600 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) including a linear structure in which six methylene groups are connected.
上記ラクトン由来の構造を有する(メタ)アクリレート(A)の合成方法としては特に限定されず、従来公知の方法が挙げられ、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレ−トのような水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルと上記環状ラクトンとを混合し加熱して反応させる方法が挙げられる。 The method for synthesizing the (meth) acrylate (A) having a structure derived from the lactone is not particularly limited, and may be a conventionally known method, for example, having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate (meta ) A method in which an acrylic ester and the above cyclic lactone are mixed and heated to react.
上記環状の無水物(B)において、Yとしては、上記(メタ)アクリレート化合物の一般式(1)で表される構造におけるYと同様のものが挙げられる。
このような環状の無水物(B)としては例えば無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸、無水シトラコン酸、リカシッドTH、リカシッドHT−1、リカシッドHH、リカシッドHT−700、リカシッドMH、リカシッドMT−500、リカシッドHNA、リカシッドHNA−100、リカシッドOSA、リカシッドDDSA(以上、いずれも新日本理化社製)等が挙げられる。
In the cyclic anhydride (B), examples of Y include the same as Y in the structure represented by the general formula (1) of the (meth) acrylate compound.
Examples of such cyclic anhydride (B) include maleic anhydride, succinic anhydride, phthalic anhydride, citraconic anhydride, ricacid TH, ricacid HT-1, ricacid HH, ricacid HT-700, ricacid MH, ricacid MT. -500, Ricacid HNA, Ricacid HNA-100, Ricacid OSA, Ricacid DDSA (all of which are manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.) and the like.
上記式(4)のエポキシ化合物(D)において、mは、1以上の整数を表す。このようなエポキシ化合物(D)としては、単官能エポキシであってもよく、多官能エポキシであってもよく、また、少なくとも1のエポキシ基を有する化合物であれば、その構造は特に限定されない。すなわち、上記式(4)において、エポキシ化合物(D)を構成するZ’としては特に限定されず、任意の構造が挙げられる。 In the epoxy compound (D) of the above formula (4), m represents an integer of 1 or more. Such an epoxy compound (D) may be a monofunctional epoxy or a polyfunctional epoxy, and the structure thereof is not particularly limited as long as it is a compound having at least one epoxy group. That is, in the above formula (4), Z ′ constituting the epoxy compound (D) is not particularly limited, and includes any structure.
上記エポキシ化合物(D)としては、具体的には、例えば、単官能エポキシとしては、リカレジンL−100(新日本理化社製)、EPICLON520、 EPICLON703(以上、いずれも大日本インキ化学社製)のn−ブチルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジル等が挙げられ、好ましくは主鎖を構成する炭素原子の数が10以下のものである。また、多官能エポキシのうち2官能エポキシとしては、例えば、EPICLON EXA−850CRP(大日本インキ化学社製)等のビスフェノール型、EPICLON EXA−7015(大日本インキ化学社製)等の水添ビスフェノール型、エチレングリコールジグリシジルエーテル等が挙げられ、3官能以上のエポキシとしては、例えば、EPICLON 725(大日本インキ化学社製)等が挙げられる。また、上記ビスフェノール型、水添ビスフェノール型としては、例えば、A型、E型、F型等が挙げられる。 Specific examples of the epoxy compound (D) include, for example, Rika Resin L-100 (manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.), EPICLON 520, and EPICLON 703 (all of which are manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.). Examples thereof include n-butyl glycidyl ether, glycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl and the like, and the number of carbon atoms constituting the main chain is preferably 10 or less. Among the polyfunctional epoxies, examples of the bifunctional epoxy include bisphenol types such as EPICLON EXA-850CRP (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) and hydrogenated bisphenol types such as EPICLON EXA-7015 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.). Ethylene glycol diglycidyl ether and the like, and examples of the tri- or higher functional epoxy include EPICLON 725 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.). Examples of the bisphenol type and hydrogenated bisphenol type include A type, E type, and F type.
また、上記エポキシ化合物(D)は、2以上のエポキシ基を有する2官能以上のエポキシ化合物であることが好ましい。このようなエポキシ化合物(D)用いることで、合成する(メタ)アクリレート化合物(E)は、上述した2以上の(メタ)アクリル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物とすることができる。具体的には、上記エポキシ化合物(D)1モルに対して、上記エポキシ化合物(D)のエポキシ基数に対応するモル数のカルボン酸(C)を反応させることで、2以上の(メタ)アクリル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物が得られる。このとき、上記(メタ)アクリレート化合物(E)中のmは、上記(メタ)アクリレート化合物(E)の(メタ)アクリル基の数と同数となる。上記(メタ)アクリレート化合物(E)は、なかでも、4官能以上であることが好ましい。 The epoxy compound (D) is preferably a bifunctional or higher functional epoxy compound having two or more epoxy groups. By using such an epoxy compound (D), the (meth) acrylate compound (E) to be synthesized can be a polyfunctional (meth) acrylate compound having two or more (meth) acryl groups described above. Specifically, by reacting 1 mol of the epoxy compound (D) with a carboxylic acid (C) having a number of moles corresponding to the number of epoxy groups of the epoxy compound (D), two or more (meth) acrylic compounds are reacted. A polyfunctional (meth) acrylate compound having a group is obtained. At this time, m in the said (meth) acrylate compound (E) becomes the same number as the number of the (meth) acryl groups of the said (meth) acrylate compound (E). The (meth) acrylate compound (E) is preferably tetrafunctional or higher.
このような方法により製造する(メタ)アクリレート化合物(E)中のZとしては特に限定されず、例えば、上記エポキシ化合物(D)を構成するZ’と同一の構造であってもよいが、上記エポキシ化合物(D)のZ’が1以上のエポキシ基を含有する場合、該Z’中のエポキシ基の一部又は全部が上記カルボン酸(C)や任意のアクリル酸等と反応した構造であってもよい。 Z in the (meth) acrylate compound (E) produced by such a method is not particularly limited. For example, the same structure as Z ′ constituting the epoxy compound (D) may be used. When Z ′ of the epoxy compound (D) contains one or more epoxy groups, a part or all of the epoxy groups in the Z ′ has a structure reacted with the carboxylic acid (C) or any acrylic acid. May be.
上記(メタ)アクリレート化合物(E)としては、具体的には、例えば、KRM7856、Ebecryl3708(以上、いずれもダイセルサイテック社製)等が挙げられる。 Specific examples of the (meth) acrylate compound (E) include KRM7856, Ebecryl 3708 (all of which are manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.).
上記(メタ)アクリレート化合物(E)を得る際には、充分な反応速度を得ることを目的として、触媒を用いることが好ましい。
上記触媒としては特に限定されず、例えば、トリフェニルホスフィンなどの有機ホスフィン化合物、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン等の第3級アミン類、トリメチルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、トリメチルアンモニウムブロマイド等の第4級アンモニウム塩類、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、オクテン酸クロム、オクテン酸コバルト、ナフテン酸クロム等の有機金属塩類等が挙げられる。
上記触媒の添加量の好ましい下限は0.01重量%であり、上限は5.0重量%である。0.01重量%未満であると、充分な反応速度が得られないことがあり、5.0重量%を超えると、本発明のシール剤の諸物性に悪影響を及ぼす恐れがある。より好ましい下限は0.05重量%であり、上限は2.0重量%である。
When obtaining the said (meth) acrylate compound (E), it is preferable to use a catalyst for the purpose of obtaining sufficient reaction rate.
The catalyst is not particularly limited, and examples thereof include organic phosphine compounds such as triphenylphosphine, tertiary amines such as triethylamine and benzyldimethylamine, quaternary compounds such as trimethylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride, and trimethylammonium bromide. Examples include ammonium salts, imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and 1-benzyl-2-methylimidazole, and organic metal salts such as chromium octenoate, cobalt octenoate, and chromium naphthenate. .
The minimum with the preferable addition amount of the said catalyst is 0.01 weight%, and an upper limit is 5.0 weight%. If it is less than 0.01% by weight, a sufficient reaction rate may not be obtained, and if it exceeds 5.0% by weight, various physical properties of the sealant of the present invention may be adversely affected. A more preferred lower limit is 0.05% by weight and an upper limit is 2.0% by weight.
また、上記(メタ)アクリレート化合物(E)を得る際には、(メタ)アクリル基の重合を防止することを目的として、重合禁止剤を添加することが好ましい。
上記重合禁止剤としては特に限定されず、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジンp−t−ブチルカテコール、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、モノ−t−ブチルハイドロキノン、p−ベンゾキノン、ナフトキノン、2,5−ジフェニル−p−ベンゾキノン、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、2,5−ジ−t−プチル−4−メチルフェノール、p−メトキシフェノール等が挙げられる。
Moreover, when obtaining the said (meth) acrylate compound (E), it is preferable to add a polymerization inhibitor in order to prevent superposition | polymerization of a (meth) acryl group.
The polymerization inhibitor is not particularly limited. For example, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine p-t-butylcatechol, 2,5-di-t-butylhydroquinone, mono-t-butylhydroquinone, p-benzoquinone, naphthoquinone. 2,5-diphenyl-p-benzoquinone, di-t-butyl-p-cresol, 2,5-di-t-butyl-4-methylphenol, p-methoxyphenol and the like.
また、上記カルボン酸(C)とエポキシ化合物(D)とを反応は、酸価が2mgKOH以下となるまで行うことが好ましい。2mgKOHを超えている場合は、カルボン酸(C)が依然として多く存在し、(メタ)アクリレート化合物(E)の量が不充分だからである。
また、上記反応は、オキシラン酸素濃度が1%以下となるまで行うことが好ましい。1%を超えている場合は、エポキシ化合物(D)が依然として多く存在し、(メタ)アクリレート化合物(E)の量が不充分だからである。
なお、上記反応は、滴定法等の方法により酸価及びオキシラン酸素濃度を測定しながら行うことが好ましい。
Moreover, it is preferable to perform reaction with the said carboxylic acid (C) and an epoxy compound (D) until an acid value becomes 2 mgKOH or less. When it exceeds 2 mgKOH, a large amount of carboxylic acid (C) is still present, and the amount of (meth) acrylate compound (E) is insufficient.
The reaction is preferably performed until the oxirane oxygen concentration becomes 1% or less. If it exceeds 1%, a large amount of the epoxy compound (D) still exists and the amount of the (meth) acrylate compound (E) is insufficient.
In addition, it is preferable to perform the said reaction, measuring an acid value and an oxirane oxygen concentration by methods, such as a titration method.
本発明のシール剤において、含有する硬化性樹脂成分に占める上記(メタ)アクリレート化合物の配合量の下限は10重量%であり、上限は70重量%である。10重量%未満であると、本発明のシール剤の硬化物の残留応力を充分に緩和しきれず、製造した液晶表示素子の基板間の接着性が不充分となる。70重量%を超えると、本発明のシール剤の硬化物は、残留応力を分散させるため製造する液晶表示素子の基板間の接着性を高まるが、本発明のシール剤のディスペンス性等の作業性が非常に悪くなってしまう。 In the sealing agent of the present invention, the lower limit of the amount of the (meth) acrylate compound in the curable resin component contained is 10% by weight, and the upper limit is 70% by weight. If it is less than 10% by weight, the residual stress of the cured product of the sealing agent of the present invention cannot be sufficiently relaxed, and the adhesion between the substrates of the produced liquid crystal display element becomes insufficient. If it exceeds 70% by weight, the cured product of the sealing agent of the present invention increases the adhesion between the substrates of the liquid crystal display device to be produced in order to disperse the residual stress, but the workability such as the dispensing property of the sealing agent of the present invention. Will be very bad.
本発明のシール剤は、上記一般式(1)で表される構造を有する(メタ)アクリレート化合物のほかに、更に、その他の硬化性樹脂を含有してもよい。上記硬化性樹脂としては特に限定されず、反応性官能基として、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基やオキセタニル基等の環状エーテル、スチリル基等を有するものが挙げられる。具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸エステル、部分エポキシ(メタ)アクリレート樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。 The sealing agent of the present invention may further contain other curable resin in addition to the (meth) acrylate compound having the structure represented by the general formula (1). The curable resin is not particularly limited, and examples of the reactive functional group include those having a (meth) acryloyl group, a cyclic ether such as an epoxy group or an oxetanyl group, and a styryl group. Specific examples include (meth) acrylic acid esters, partial epoxy (meth) acrylate resins, and epoxy resins.
上記(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物、(メタ)アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ(メタ)アクリレート、イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the (meth) acrylic acid ester include an ester compound obtained by reacting a compound having a hydroxyl group with (meth) acrylic acid, and an epoxy obtained by reacting (meth) acrylic acid with an epoxy compound ( Examples thereof include urethane (meth) acrylates obtained by reacting (meth) acrylates and isocyanates with (meth) acrylic acid derivatives having a hydroxyl group.
上記(メタ)アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物としては特に限定されず、1官能のものとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2,2,2,−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H,−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、2−ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ビシクロペンテニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチル2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルホスフェート等が挙げられる。 The ester compound obtained by reacting the above (meth) acrylic acid with a compound having a hydroxyl group is not particularly limited. Examples of monofunctional compounds include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate. 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate , Isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, tet Hydrofurfuryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) Acrylate, 2,2,2, -trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3, -tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H, -octafluoropentyl (meth) acrylate, imide (Meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, Rohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) ) Acrylate, bicyclopentenyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyl Roxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate, glycidyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, etc. It is done.
また、2官能のものとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタジエンルジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、カーボネートジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエーテルジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエステルジオールジ(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリブタジエンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the bifunctional compound include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and 1,9. -Nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate , Tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, Pyrene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol F di (meth) acrylate, dimethylol dicyclopentadiene didi (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di ( (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide modified isocyanuric acid di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, carbonate diol di (meth) acrylate, poly Ether diol di (meth) acrylate, polyester diol di (meth) acrylate, polycaprolactone diol di (meth) acrylate, polybutadiene geo Distearate (meth) acrylate.
また、3官能以上のものとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルフォスフェート等が挙げられる。 Examples of the tri- or higher functional group include pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide-added trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and ethylene oxide-added trimethylolpropane tri (meth). Acrylate, caprolactone-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-added isocyanuric acid tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, propylene oxide-added glycerin Li (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and the like.
上記(メタ)アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ(メタ)アクリレートとしては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られるものが挙げられる。 The epoxy (meth) acrylate obtained by reacting the (meth) acrylic acid with an epoxy compound is not particularly limited. For example, an epoxy resin and (meth) acrylic acid are present in the presence of a basic catalyst according to a conventional method. What is obtained by reacting under is mentioned.
上記エポキシ(メタ)アクリレートを合成するための原料となるエポキシ化合物としては特に限定されず、市販されているものとしては、例えば、エピコート828EL、エピコート1004(いずれもジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールA型エポキシ樹脂;エピコート806、エピコート4004(いずれもジャパンエポキシレジン社製)、エピクロン830CRP(大日本インキ化学社製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂;エピクロンEXA1514(大日本インキ社製)等のビスフェノールS型エポキシ樹脂;RE−810NM(日本化薬社製)等の2,2’−ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂;エピクロンEXA7015(大日本インキ社製)等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂;EP−4000S(旭電化社製)等のプロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂;EX−201(ナガセケムテックス社製)等のレゾルシノール型エポキシ樹脂;エピコートYX−4000H(ジャパンエポキシレジン社製)等のビフェニル型エポキシ樹脂;YSLV−50TE(東都化成社製)等のスルフィド型エポキシ樹脂;YSLV−80DE(東都化成社製)等のエーテル型エポキシ樹脂;EP−4088S(旭電化社製)等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;エピクロンHP4032、エピクロンEXA−4700(いずれも大日本インキ社製)等のナフタレン型エポキシ樹脂;エピクロンN−770(大日本インキ社製)等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂;エピクロンN−670−EXP−S(大日本インキ社製)等のオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂;エピクロンHP7200(大日本インキ社製)等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂;NC−3000P(日本化薬社製)等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂;ESN−165S(東都化成社製)等のナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂;エピコート630(ジャパンエポキシレジン社製)、エピクロン430(大日本インキ社製)、TETRAD−X(三菱ガス化学社製)等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ZX−1542(東都化成社製)、エピクロン726(大日本インキ社製)、エポライト80MFA(共栄社化学社製)、デナコールEX−611、(ナガセケムテックス社製)等のアルキルポリオール型エポキシ樹脂;YR−450、YR−207(いずれも東都化成社製)、エポリードPB(ダイセル化学社製)等のゴム変性型エポキシ樹脂;デナコールEX−147(ナガセケムテックス社製)等のグリシジルエステル化合物;エピコートYL−7000(ジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールA型エピスルフィド樹脂;その他YDC−1312、YSLV−80XY、YSLV−90CR(いずれも東都化成社製)、XAC4151(旭化成社製)、エピコート1031、エピコート1032(いずれもジャパンエポキシレジン社製)、EXA−7120(大日本インキ社製)、TEPIC(日産化学社製)等が挙げられる。 The epoxy compound as a raw material for synthesizing the epoxy (meth) acrylate is not particularly limited, and examples of commercially available products include bisphenols such as Epicoat 828EL and Epicoat 1004 (both manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.). Type A epoxy resin; Bisphenol F type epoxy resin such as Epicoat 806, Epicoat 4004 (all manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Epicron 830CRP (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals); Bisphenol such as Epicron EXA1514 (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) S-type epoxy resin; 2,2′-diallylbisphenol A-type epoxy resin such as RE-810NM (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); Hydrogenated bisphenol-type epoxy resin such as Epicron EXA7015 (manufactured by Dainippon Ink and Co., Ltd.); EP-4000 Propylene oxide-added bisphenol A type epoxy resin such as Asahi Denka Co .; Resorcinol type epoxy resin such as EX-201 (manufactured by Nagase ChemteX); Biphenyl type epoxy such as Epicoat YX-4000H (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) Resin; Sulfide type epoxy resin such as YSLV-50TE (manufactured by Tohto Kasei); Ether type epoxy resin such as YSLV-80DE (manufactured by Tohto Kasei); Dicyclopentadiene type epoxy such as EP-4088S (manufactured by Asahi Denka) Resin; Naphthalene type epoxy resin such as Epicron HP4032 and Epicron EXA-4700 (both manufactured by Dainippon Ink and Co.); Phenol novolac type epoxy resin such as Epicron N-770 (manufactured by Dainippon Ink and Company); Epicron N-670-EXP -S (Dainippon Ink Co., Ltd. Orthocresol novolac type epoxy resins such as: Epicyclone HP7200 (manufactured by Dainippon Ink and Co., Ltd.); Dicyclopentadiene novolac type epoxy resins such as NC-3000P (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); Naphthalene phenol novolak type epoxy resin such as Toto Kasei Co., Ltd .; Glycidylamine type epoxy such as Epicoat 630 (Japan Epoxy Resin), Epicron 430 (Dainippon Ink Co.), TETRAD-X (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) Resins: Alkyl polyol type epoxy resins such as ZX-1542 (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epiklon 726 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), Epolite 80MFA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol EX-611, (manufactured by Nagase ChemteX) YR-450, YR -207 (both manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epolide PB (manufactured by Daicel Chemical Industries), etc .; rubber-modified epoxy resins; glycidyl ester compounds such as Denacol EX-147 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation); Epicoat YL-7000 (Japan) Bisphenol A type episulfide resin such as Epoxy Resin Co .; other YDC-1312, YSLV-80XY, YSLV-90CR (all manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), XAC4151 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), Epicoat 1031 and Epicoat 1032 (all Japan) Epoxy resin), EXA-7120 (Dainippon Ink), TEPIC (Nissan Chemical) and the like.
上記(メタ)アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ(メタ)アクリレートとしては、具体的には、例えば、レゾルシノール型エポキシ樹脂(EX−201、ナガセケムテックス社製)360重量部、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール2重量部、反応触媒としてトリエチルアミン2重量部、アクリル酸210重量部を空気を送り込みながら、90℃で還流攪拌しながら5時間反応させることによって得ることができる。 Specific examples of the epoxy (meth) acrylate obtained by reacting the (meth) acrylic acid with the epoxy compound include, for example, resorcinol type epoxy resin (EX-201, manufactured by Nagase ChemteX Corporation) 360 parts by weight. In addition, 2 parts by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, 2 parts by weight of triethylamine as a reaction catalyst, and 210 parts by weight of acrylic acid can be obtained by reacting at 90 ° C. for 5 hours while stirring under reflux.
また、上記エポキシ(メタ)アクリレートの市販品としては、例えば、エベクリル3700、エベクリル3600、エベクリル3701、エベクリル3703、エベクリル3200、エベクリル3201、エベクリル3600、エベクリル3702、エベクリル3412、エベクリル860、エベクリルRDX63182、エベクリル6040、エベクリル3800(いずれもダイセルサイテック社製)、EA−1020、EA−1010、EA−5520、EA−5323、EA−CHD、EMA−1020(いずれも新中村化学工業社製)、エポキシエステルM−600A、エポキシエステル40EM、エポキシエステル70PA、エポキシエステル200PA、エポキシエステル80MFA、エポキシエステル3002M、エポキシエステル3002A、エポキシエステル1600A、エポキシエステル3000M、エポキシエステル3000A、エポキシエステル200EA、エポキシエステル400EA(いずれも共栄社化学社製)、デナコールアクリレートDA−141、デナコールアクリレートDA−314、デナコールアクリレートDA−911(いずれもナガセケムテックス社製)等が挙げられる。 Moreover, as a commercial item of the said epoxy (meth) acrylate, for example, Evecryl 3700, Evekril 3600, Evekril 3701, Evekril 3703, Evekrill 3200, Evekrill 3201, Evekrill 3600, Evekrill 3702, Evekrill 3412, Evekril 860, Evekril RDX63182, 6040, Evecryl 3800 (all manufactured by Daicel Cytec), EA-1020, EA-1010, EA-5520, EA-5323, EA-CHD, EMA-1020 (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Epoxy ester M -600A, epoxy ester 40EM, epoxy ester 70PA, epoxy ester 200PA, epoxy ester 80MFA, epoxy ester 3002M, epoxy ester Tell 3002A, Epoxy ester 1600A, Epoxy ester 3000M, Epoxy ester 3000A, Epoxy ester 200EA, Epoxy ester 400EA (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol acrylate DA-141, Denacol acrylate DA-314, Denacol acrylate DA- 911 (all manufactured by Nagase ChemteX Corporation).
上記イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートとしては、例えば、2つのイソシアネート基を有する化合物1当量に対して水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体2当量を、触媒量のスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。 Examples of the urethane (meth) acrylate obtained by reacting the above isocyanate with a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group include, for example, a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group with respect to 1 equivalent of a compound having two isocyanate groups. Two equivalents can be obtained by reacting in the presence of a catalytic amount of a tin-based compound.
上記イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートの原料となるイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI)、水添MDI、ポリメリックMDI、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート(XDI)、水添XDI、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、1,6,10−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。 It does not specifically limit as isocyanate used as the raw material of the urethane (meth) acrylate obtained by making the said isocyanate react with the (meth) acrylic acid derivative which has a hydroxyl group, For example, isophorone diisocyanate, 2, 4-tolylene diisocyanate, 2 , 6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate (MDI), hydrogenated MDI, polymeric MDI, 1,5-naphthalene diisocyanate, norbornane diisocyanate, tolidine diisocyanate, Xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanate phenyl) Ofosufeto, tetramethyl xylene diisocyanate, 1,6,10- undecene country isocyanate.
また、上記イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートの原料となるイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、(ポリ)プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も使用することができる。 Moreover, it does not specifically limit as isocyanate used as the raw material of the urethane (meth) acrylate obtained by making the said isocyanate react with the (meth) acrylic acid derivative which has a hydroxyl group, For example, ethylene glycol, glycerol, sorbitol, a trimethylol propane It is also possible to use chain-extended isocyanate compounds obtained by reaction of polyols such as (poly) propylene glycol, carbonate diol, polyether diol, polyester diol, polycaprolactone diol and excess isocyanate.
上記イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートの原料となる、水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体としては特に限定されず、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の市販品やエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート又はジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA変性エポキシアクリレート等のエポキシアクリレート等が挙げられる。 The (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group, which is a raw material for the urethane (meth) acrylate obtained by reacting the isocyanate with a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid derivative, is not particularly limited. For example, 2-hydroxy Commercial products such as ethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, Mono (meth) acrylates of trivalent alcohols such as mono (meth) acrylates of divalent alcohols such as 1,3-butanediol, 1,4-butanediol and polyethylene glycol, trimethylolethane, trimethylolpropane and glycerin Or di (meth) acrylate, epoxy acrylates such as bisphenol A-modified epoxy acrylate.
上記イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートとしては、具体的には、例えば、トリメチロールプロパン134重量部、重合禁止剤としてBHT0.2重量部、反応触媒としてジブチル錫ジラウリレート0.01重量部、イソホロンジイソシアネート666重量部を加え、60℃で還流攪拌しながら2時間反応させ、次に、2−ヒドロキシエチルアクリレート51重量部を加え、空気を送り込みながら90℃で還流攪拌しながら2時間反応させることにより得ることができる。 Specific examples of urethane (meth) acrylate obtained by reacting the isocyanate with a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid derivative include, for example, 134 parts by weight of trimethylolpropane, and 0.2 part by weight of BHT as a polymerization inhibitor. Then, 0.01 parts by weight of dibutyltin dilaurate and 666 parts by weight of isophorone diisocyanate were added as reaction catalysts, and the mixture was reacted at 60 ° C. with stirring under reflux for 2 hours. Then, 51 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate was added, and air was fed. The mixture can be obtained by reacting at 90 ° C. with stirring under reflux for 2 hours.
上記ウレタン(メタ)アクリレートで市販されているものとしては、例えば、M−1100、M−1200、M−1210、M−1600(いずれも東亞合成社製)、エベクリル230、エベクリル270、エベクリル4858、エベクリル8402、エベクリル8804、エベクリル8803、エベクリル8807、エベクリル9260、エベクリル1290、エベクリル5129、エベクリル4842、エベクリル210、エベクリル4827、エベクリル6700、エベクリル220、エベクリル2220(いずれもダイセルサイテック社製)、アートレジンUN−9000H、アートレジンUN−9000A、アートレジンUN−7100、アートレジンUN−1255、アートレジンUN−330、アートレジンUN−3320HB、アートレジンUN−1200TPK、アートレジンSH−500B(いずれも根上工業社製)、U−122P、U−108A、U−340P、U−4HA、U−6HA、U−324A、U−15HA、UA−5201P、UA−W2A、U−1084A、U−6LPA、U−2HA、U−2PHA、UA−4100、UA−7100、UA−4200、UA−4400、UA−340P、U−3HA、UA−7200、U−2061BA、U−10H、U−122A、U−340A、U−108、U−6H、UA−4000(いずれも新中村化学工業社製)、AH−600、AT−600、UA−306H、AI−600、UA−101T、UA−101I、UA−306T、UA−306I等が挙げられる。 Examples of commercially available urethane (meth) acrylates include M-1100, M-1200, M-1210, and M-1600 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Evecryl 230, Evekril 270, Evekril 4858, Evecryl 8402, Evecryl 8804, Evecril 8803, Evecril 8807, Evecril 9260, Evecril 1290, Evecril 5842, Evecril 210, Evecril 4827, Evecril 6700, Evecril 220, Evecril 2220 -9000H, Art Resin UN-9000A, Art Resin UN-7100, Art Resin UN-1255, Art Resin UN-330, Art Resin UN-3320H , Art Resin UN-1200TPK, Art Resin SH-500B (all manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), U-122P, U-108A, U-340P, U-4HA, U-6HA, U-324A, U-15HA, UA -5201P, UA-W2A, U-1084A, U-6LPA, U-2HA, U-2PHA, UA-4100, UA-7100, UA-4200, UA-4400, UA-340P, U-3HA, UA-7200 , U-2061BA, U-10H, U-122A, U-340A, U-108, U-6H, UA-4000 (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), AH-600, AT-600, UA-306H AI-600, UA-101T, UA-101I, UA-306T, UA-306I, and the like.
上記部分エポキシ(メタ)アクリレート樹脂としては、例えば、2つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得られる化合物や、2官能以上のイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体、及び、グリシドールを反応させることにより得られる化合物等が挙げられる。 Examples of the partial epoxy (meth) acrylate resin include a compound obtained by reacting a partial epoxy group of a compound having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid, or a hydroxyl group in a bifunctional or higher isocyanate. And (meth) acrylic acid derivatives having a compound and a compound obtained by reacting glycidol.
上記2つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得られる化合物としては、例えば、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られるものが挙げられる。
このとき、上記エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との配合量としては、好ましくは、エポキシ基1当量に対してカルボン酸の下限が0.1当量、上限が0.5当量であり、より好ましくは、エポキシ基1当量に対してカルボン酸の下限が0.2当量、上限が0.4当量である。
Examples of the compound obtained by reacting a part of the epoxy group having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid include, for example, an epoxy resin and (meth) acrylic acid in a basic manner according to a conventional method. What is obtained by reacting in presence of a catalyst is mentioned.
At this time, as a compounding quantity of the said epoxy resin and (meth) acrylic acid, Preferably, the minimum of carboxylic acid is 0.1 equivalent with respect to 1 equivalent of epoxy groups, and an upper limit is 0.5 equivalent, More preferably The lower limit of carboxylic acid is 0.2 equivalent and the upper limit is 0.4 equivalent with respect to 1 equivalent of epoxy group.
上記2つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得られる化合物の原料となるエポキシ化合物としては、例えば、上述した上記エポキシ(メタ)アクリレートを合成するための原料となるエポキシ化合物と同様のものが挙げられる。 As an epoxy compound that is a raw material of a compound obtained by reacting a part of the epoxy group of the compound having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid, for example, the above-described epoxy (meth) acrylate is synthesized. The thing similar to the epoxy compound used as the raw material for doing is mentioned.
上記2つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得られる化合物としては、具体的には、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(ダウケミカル社製:D.E.N.431)1000重量部、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール2重量部、反応触媒としてトリエチルアミン2重量部、アクリル酸200重量部を空気を送り込みながら、90℃で還流攪拌しながら5時間反応させることによって得ることができる(この場合50%部分アクリル化されている)。 Specific examples of the compound obtained by reacting a part of the epoxy group having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid include, for example, a phenol novolac type epoxy resin (manufactured by Dow Chemical Company): DEN 431) 1000 parts by weight, 2 parts by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, 2 parts by weight of triethylamine as a reaction catalyst, and 200 parts by weight of acrylic acid while stirring at 90 ° C. while refluxing. It can be obtained by reacting for 5 hours (in this case 50% partially acrylated).
上記2つ以上のエポキシ基を有する化合物の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得られる化合物のうち、市販品としては、例えば、エベクリル1561(ダイセルサイテック)が挙げられる。 Among the compounds obtained by reacting a part of the epoxy groups having two or more epoxy groups with (meth) acrylic acid, a commercially available product is, for example, Evecryl 1561 (Daicel Cytec).
上記2官能以上のイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体及びグリシドールを反応させることにより得られる化合物は、例えば、2つのイソシアネート基を有する化合物1当量に対して水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体及びグリシドールそれぞれ1当量を、触媒量のスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。 The compound obtained by reacting the (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group with the bifunctional or higher isocyanate and glycidol is, for example, (meth) acrylic acid having a hydroxyl group with respect to 1 equivalent of the compound having two isocyanate groups. One equivalent each of the derivative and glycidol can be obtained by reacting in the presence of a catalytic amount of a tin-based compound.
上記2官能以上のイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体及びグリシドールを反応させることにより得られる化合物の原料となる2官能以上のイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、上述したイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートの原料となるイソシアネートと同様のものが挙げられる。 The bifunctional or higher isocyanate used as a raw material of the compound obtained by reacting the (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group with the bifunctional or higher isocyanate and glycidol is not particularly limited. The thing similar to the isocyanate used as the raw material of the urethane (meth) acrylate obtained by making the (meth) acrylic acid derivative which has it react is mentioned.
上記2官能以上のイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体及びグリシドールを反応させることにより得られる化合物の原料となる、水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体としては特に限定されず、例えば、上述した上記イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレートの原料となる、水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体と同様のものが挙げられる。 The (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group, which is a raw material of a compound obtained by reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid derivative and a glycidol with a bifunctional or higher isocyanate, is not particularly limited. The same thing as the (meth) acrylic acid derivative which has a hydroxyl group used as the raw material of the urethane (meth) acrylate obtained by making the said isocyanate react with the (meth) acrylic acid derivative which has a hydroxyl group is mentioned.
上記2官能以上のイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体及びグリシドールを反応させることにより得られる化合物としては、具体的には、例えば、トリメチロールプロパン134重量部、重合開始剤としてBHT0.2重量部、反応触媒としてジブチル錫ジラウリレート0.01重量部、イソホロンジイソシアネート666重量部を加え、60℃で還流攪拌しながら2時間反応させ、次に、2−ヒドロキシエチルアクリレート25.5重量部及びグリシドール111重量部を加え、空気を送り込みながら90℃で還流攪拌しながら2時間反応させることにより得ることができる。 Specific examples of the compound obtained by reacting a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group with a bifunctional or higher isocyanate and glycidol include, for example, 134 parts by weight of trimethylolpropane, and BHT0.2 as a polymerization initiator. Parts by weight, 0.01 parts by weight of dibutyltin dilaurate and 666 parts by weight of isophorone diisocyanate as reaction catalysts were added and reacted at 60 ° C. with stirring under reflux for 2 hours, followed by 25.5 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate and glycidol It can be obtained by adding 111 parts by weight and reacting at 90 ° C. while refluxing for 2 hours while feeding air.
上記エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、エピクロロヒドリン誘導体、環式脂肪族エポキシ樹脂、イソシアネートとグリシドールとの反応から得られる化合物等が挙げられる。 The epoxy resin is not particularly limited, and examples thereof include epichlorohydrin derivatives, cycloaliphatic epoxy resins, compounds obtained from the reaction of isocyanate and glycidol, and the like.
上記エピクロロヒドリン誘導体としては、例えば、エピコート828EL、エピコート1004(いずれもジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールA型エポキシ樹脂、エピコート806、エピコート4004(いずれもジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂、エピクロンEXA1514(大日本インキ社製)等のビスフェノールS型エポキシ樹脂、RE−810NM(日本化薬社製)等の2,2’−ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂、エピクロンEXA7015(大日本インキ社製)等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、EP−4000S(旭電化社製)等のプロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂、EX−201(ナガセケムテックス社製)等のレゾルシノール型エポキシ樹脂、エピコートYX−4000H(ジャパンエポキシレジン社製)等のビフェニル型エポキシ樹脂、YSLV−50TE(東都化成社製)等のスルフィド型エポキシ樹脂、YSLV−80DE(東都化成社製)等のエーテル型エポキシ樹脂、EP−4088S(旭電化社製)等のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、エピクロンHP4032、エピクロンEXA−4700(いずれも大日本インキ社製)等のナフタレン型エポキシ樹脂、エピクロンN−770(大日本インキ社製)等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンN−670−EXP−S(大日本インキ社製)等のオルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エピクロンHP7200(大日本インキ社製)等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、NC−3000P(日本化薬社製)等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ESN−165S(東都化成社製)等のナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、エピコート630(ジャパンエポキシレジン社製)、エピクロン430(大日本インキ社製)、TETRAD−X(三菱ガス化学社製)等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ZX−1542(東都化成社製)、エピクロン726(大日本インキ社製)、エポライト80MFA(共栄社化学社製)、デナコールEX−611(ナガセケムテックス社製)等のアルキルポリオール型エポキシ樹脂、YR−450、YR−207(いずれも東都化成社製)、エポリードPB(ダイセル化学社製)等のゴム変性型エポキシ樹脂、デナコールEX−147(ナガセケムテックス社製)等のグリシジルエステル化合物、エピコートYL−7000(ジャパンエポキシレジン社製)等のビスフェノールA型エピスルフィド樹脂、その他YDC−1312、YSLV−80XY、YSLV−90CR(いずれも東都化成社製)、XAC4151(旭化成社製)、エピコート1031、エピコート1032(いずれもジャパンエポキシレジン社製)、EXA−7120(大日本インキ社製)、TEPIC(日産化学社製)等が挙げられる。 Examples of the epichlorohydrin derivative include bisphenol A type epoxy resins such as Epicoat 828EL and Epicoat 1004 (all manufactured by Japan Epoxy Resin Co.), and bisphenols such as Epicoat 806 and Epicoat 4004 (all manufactured by Japan Epoxy Resin). F-type epoxy resin, bisphenol S-type epoxy resin such as Epicron EXA1514 (manufactured by Dainippon Ink), 2,2′-diallylbisphenol A-type epoxy resin such as RE-810NM (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Epicron EXA7015 (large Resincinol-type epoxy resins such as hydrogenated bisphenol-type epoxy resins such as Nippon Ink Co., Ltd., propylene oxide-added bisphenol A-type epoxy resins such as EP-4000S (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.), and EX-201 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation). Xylene resin, biphenyl type epoxy resin such as Epicoat YX-4000H (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), sulfide type epoxy resin such as YSLV-50TE (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), ether type such as YSLV-80DE (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) Epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins such as EP-4088S (Asahi Denka Co.), naphthalene type epoxy resins such as Epicron HP4032, Epicron EXA-4700 (all manufactured by Dainippon Ink and Co.), Epicron N-770 (Large) Nihon Ink Co., Ltd.) phenol novolac type epoxy resin, Epicron N-670-EXP-S (Dainippon Ink Co., Ltd.) orthocresol novolak type epoxy resin, Epicron HP7200 (Dainippon Ink Co., Ltd.), etc. Pentadiene novolac epoxy Oil, biphenyl novolac type epoxy resin such as NC-3000P (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), naphthalene phenol novolac type epoxy resin such as ESN-165S (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epicoat 630 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Epicron 430 (Manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.), glycidylamine type epoxy resins such as TETRAD-X (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.), ZX-1542 (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epiklon 726 (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.), Epolite 80MFA (Kyoeisha Chemical), Denacol EX-611 (manufactured by Nagase ChemteX), etc., alkyl polyol type epoxy resins, YR-450, YR-207 (all manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epolide PB (manufactured by Daicel Chemical) Rubber-modified epoxy resin, Denacol EX-147 (Nagase Chemtech) Glycidyl ester compounds such as Epicote YL-7000 (manufactured by Japan Epoxy Resin), other YDC-1312, YSLV-80XY, YSLV-90CR (all manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), XAC4151 (made by Asahi Kasei Co., Ltd.), Epicoat 1031, Epicoat 1032 (all made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EXA-7120 (Dainippon Ink Co., Ltd.), TEPIC (Nissan Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned.
また、上記環式脂肪族エポキシ樹脂として特に限定されないが、市販品としては、例えば、セロキサイド2021、セロキサイド2080、セロキサイド3000、エポリードGT300、EHPE(いずれもダイセル化学社製)等が挙げられる。 Moreover, although it does not specifically limit as said cycloaliphatic epoxy resin, As a commercial item, Celoxide 2021, Celoxide 2080, Celoxide 3000, Epolide GT300, EHPE (all are Daicel Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.
上記イソシアネートとグリシドールとの反応から得られる化合物としては特に限定されず、例えば、2つのイソシアネート基を有する化合物に対して2当量のグリシドールを触媒としてスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。 The compound obtained from the reaction between the isocyanate and glycidol is not particularly limited. For example, it can be obtained by reacting a compound having two isocyanate groups in the presence of a tin compound using 2 equivalents of glycidol as a catalyst. it can.
上記イソシアネートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI)、水添MDI、ポリメリックMDI、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート(XDI)、水添XDI、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、1,6,10−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。 The isocyanate is not particularly limited. For example, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate (MDI) , Hydrogenated MDI, polymeric MDI, 1,5-naphthalene diisocyanate, norbornane diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanatophenyl) thiophosphate And tetramethylxylene diisocyanate, 1,6,10-undecane triisocyanate and the like.
また、上記イソシアネートとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、(ポリ)プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も使用することができる。 Examples of the isocyanate include, for example, a reaction between a polyol such as ethylene glycol, glycerin, sorbitol, trimethylolpropane, (poly) propylene glycol, carbonate diol, polyether diol, polyester diol, polycaprolactone diol and excess isocyanate. The resulting chain-extended isocyanate compound can also be used.
上記イソシアネートとグリシドールとの反応から得られる化合物の合成法としては、具体的には、例えば、トリメチロールプロパン134重量部、反応触媒としてジブチル錫ジラウリレート0.01重量部、及び、イソホロンジイソシアネート666重量部を加え、60℃で還流攪拌しながら2時間反応させ、次に、グリシドール222重量部を加え、空気を送り込みながら90℃で還流攪拌しながら2時間反応させる方法等が挙げられる。 Specific examples of the method for synthesizing the compound obtained from the reaction between the isocyanate and glycidol include, for example, 134 parts by weight of trimethylolpropane, 0.01 part by weight of dibutyltin dilaurate as a reaction catalyst, and 666 parts by weight of isophorone diisocyanate. And then reacting at 60 ° C. with reflux stirring for 2 hours, and then adding 222 parts by weight of glycidol and reacting at 90 ° C. with reflux stirring for 2 hours while feeding air.
本発明のシール剤において、上記硬化性樹脂は、硬化時の未硬化残分を少しでも低減させるため、1分子中に2つ以上の反応性基を有する化合物であることが好ましい。 In the sealing agent of the present invention, the curable resin is preferably a compound having two or more reactive groups in one molecule in order to reduce the uncured residue at the time of curing.
また、本発明のシール剤の硬化前の液晶への成分溶出をより抑制するために、上記硬化性樹脂は、1分子中に少なくとも1つ以上の水素結合性官能基を有することが好ましい。 Moreover, in order to further suppress the elution of components into the liquid crystal before curing of the sealing agent of the present invention, the curable resin preferably has at least one hydrogen bonding functional group in one molecule.
上記水素結合性官能基としては特に限定されず、例えば、−OH基、−SH基、−NHR基(Rは、芳香族又は脂肪族炭化水素、及び、これらの誘導体を表す)、−COOH基、−NHOH基等の官能基、また、分子内に存在する−NHCO−、−NH−、−CONHCO−、−NH−NH−等の残基が挙げられ、なかでも、導入の容易さから−OH基であることが好ましい。 The hydrogen-bonding functional group is not particularly limited, and examples thereof include an —OH group, —SH group, —NHR group (R represents an aromatic or aliphatic hydrocarbon, and derivatives thereof), —COOH group. , Functional groups such as —NHOH group, and residues such as —NHCO—, —NH—, —CONHCO—, —NH—NH—, etc. present in the molecule. An OH group is preferred.
本発明のシール剤は、光重合開始剤を含有することが好ましい。上記光重合開始剤としては特に限定されないが、例えば、ベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、ベンゾイルイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チオキサントン、KR−02(ライトケミカル社製)等を好適に用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The sealing agent of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator is not particularly limited. For example, benzophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, benzyl, benzoyl isopropyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, thioxanthone, KR-02 (Light Chemical Company) Etc.) can be suitably used. These photoinitiators may be used independently and may use 2 or more types together.
また、上記光重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、イルガキュア907、イルガキュア819、イルガキュア651、イルガキュア369(以上、いずれもチバ・スペシャリティーケミカルズ社製)、ベンソインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ルシリンTPO(BASF Japan社製)等が挙げられる。なかでも、イルガキュア907、イルガキュア651、BIPE及びルシリンTPOは、アセトニトリル中で測定した350nmにおけるモル吸光係数が100M−1・cm−1以上のものが好適である。 Examples of commercially available photopolymerization initiators include Irgacure 907, Irgacure 819, Irgacure 651, Irgacure 369 (all of which are manufactured by Ciba Specialty Chemicals), benzoin methyl ether, and benzoin. Examples include ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and lucillin TPO (manufactured by BASF Japan). Among these, Irgacure 907, Irgacure 651, BIPE, and Lucillin TPO preferably have a molar extinction coefficient at 350 nm measured in acetonitrile of 100 M −1 · cm −1 or more.
上記光重合開始剤の含有量としては、上述した一般式(1)で表される構造を有する(メタ)アクリレート化合物及び硬化性樹脂の合計100重量部に対して、下限が0.1重量部、上限が10重量部である。0.1重量部未満であると、光重合を開始する能力が不足して上述した本発明の効果が得られず、10重量部を超えると、未反応のラジカル重合開始剤が多く残り、本発明のシール剤の耐候性が悪くなる。より好ましい下限は1重量部、より好ましい上限は5重量部である。 As content of the said photoinitiator, a minimum is 0.1 weight part with respect to a total of 100 weight part of the (meth) acrylate compound and curable resin which have a structure represented by General formula (1) mentioned above. The upper limit is 10 parts by weight. If the amount is less than 0.1 parts by weight, the ability of initiating photopolymerization is insufficient, and the above-described effects of the present invention cannot be obtained. If the amount exceeds 10 parts by weight, a large amount of unreacted radical polymerization initiator remains. The weather resistance of the sealing agent of the invention is deteriorated. A more preferred lower limit is 1 part by weight, and a more preferred upper limit is 5 parts by weight.
本発明のシール剤は、上記光重合開始剤のほかに、更に、光を照射することによって活性ラジカルを発生するラジカル重合開始剤を含有していてもよい。 In addition to the above photopolymerization initiator, the sealant of the present invention may further contain a radical polymerization initiator that generates active radicals when irradiated with light.
上記ラジカル重合開始剤は、アセトニトリル中で測定した350nmにおけるモル吸光係数の下限が100M−1・cm−1、上限が10万M−1・cm−1であることが好ましい。100M−1・cm−1未満であると、ブラックマトリックス(BM)等で紫外線の照射が遮蔽されている部分がある場合における当該遮蔽部分を迅速かつ充分に硬化させることができなくなることがある。10万M−1・cm−1を超えると、紫外線を照射したときに直接照射される部分の表面が先に硬化してしまい、内部を充分に硬化させることができず、また、BM等で紫外線が遮蔽されている部分も硬化させることができないことがある。より好ましい下限は200M−1・cm−1、より好ましい上限は1万M−1・cm−1であり、更に好ましい下限は300M−1・cm−1、更に好ましい上限は3000M−1・cm−1である。 The radical polymerization initiator preferably has a lower limit of the molar extinction coefficient at 350 nm measured in acetonitrile of 100 M −1 · cm −1 and an upper limit of 100,000 M −1 · cm −1 . When it is less than 100 M −1 · cm −1 , there is a case where the shielding portion in a portion where the irradiation of ultraviolet rays is shielded by a black matrix (BM) or the like cannot be cured quickly and sufficiently. If it exceeds 100,000 M −1 · cm −1 , the surface of the portion that is directly irradiated when irradiated with ultraviolet rays is cured first, and the interior cannot be sufficiently cured. The part that is shielded from ultraviolet rays may not be cured. A more preferred lower limit is 200M -1 · cm -1, more preferred upper limit is 10,000 M -1 · cm -1, still more preferred lower limit 300M -1 · cm -1, still more preferred upper limit 3000M -1 · cm - 1 .
上記ラジカル重合開始剤は、アセトニトリル中で測定した450nmにおけるモル吸光係数が100M−1・cm−1以下であることが好ましい。100M−1・cm−1を超えると、可視光域の波長の光により活性ラジカルが発生することとなり、取扱い性が非常に悪くなる。 The radical polymerization initiator preferably has a molar extinction coefficient at 450 nm measured in acetonitrile of 100 M −1 · cm −1 or less. If it exceeds 100 M −1 · cm −1 , active radicals are generated by light having a wavelength in the visible light range, and handling becomes very poor.
なお、本明細書において、上記モル吸光係数とは、下記式(1)に示す上記ラジカル重合開始剤を含むアセトニトリル溶液についてのランバート・ベールの式によって定められるε(M−1・cm−1)の値を意味する。 In the present specification, the molar extinction coefficient is ε (M −1 · cm −1 ) defined by the Lambert-Beer formula for the acetonitrile solution containing the radical polymerization initiator shown in the following formula (1). Means the value of
上記式(1)中、Iは透過光の強度、Ioはアセトニトリル純溶媒の透過光の強度、cはモル濃度(M)、dは溶液層の厚み(cm)を表し、log(Io/I)は吸光度を表す。 In the above formula (1), I is the intensity of transmitted light, I o is the intensity of transmitted light of the acetonitrile pure solvent, c is the molar concentration (M), d is the thickness (cm) of the solution layer, and log (I o / I) represents absorbance.
上記ラジカル重合開始剤としては、上記モル吸光係数を満足するものであれば特に限定されず、例えば、カルボニル基、イオウ含有基、アゾ基、有機過酸化物含有基等のラジカル重合開始基を有するものが挙げられるが、なかでも、下記一般式(5)〜(8)で表わされる構造を有する基等が好適である。 The radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it satisfies the molar extinction coefficient. For example, the radical polymerization initiator has a radical polymerization initiation group such as a carbonyl group, a sulfur-containing group, an azo group, or an organic peroxide-containing group. Among them, a group having a structure represented by the following general formulas (5) to (8) is preferable.
上記一般式(5)〜(8)中、R2、R3及びR4は各々独立的に、炭素原子数1〜6のアルキル基、水素原子、水酸基、炭素原子数1〜6のアルコキシル基、(メタ)アクリル基、フェニル基を表し、 In the general formulas (5) to (8), R 2 , R 3 and R 4 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom, a hydroxyl group, or an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms. , (Meth) acrylic group, phenyl group,
は、炭素原子数1〜6のアルキル基又はハロゲン基を有してもよい芳香環を表わす。 Represents an aromatic ring which may have an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a halogen group.
なかでも、活性ラジカルの発生効率の面から上記一般式(5)で表される構造を有する基がより好ましい。 Among these, a group having a structure represented by the general formula (5) is more preferable from the viewpoint of the generation efficiency of active radicals.
上記ラジカル重合開始剤は、水素結合性官能基を含有することが好ましい。
上記水素結合性官能基としては、水素結合性を有する官能基又は残基等であれば特に限定されず、例えば、OH基、NH2基、NHR基(Rは、芳香族又は脂肪族炭化水素、及びこれらの誘導体を表す)、COOH基、CONH2基、NHOH基等や、分子内にNHCO結合、NH結合、CONHCO結合、NH−NH結合等の残基を有する基等が挙げられる。
このような水素結合性官能基を有することにより、未硬化の本発明のシール剤が液晶に接した場合であっても上記ラジカル重合開始剤が溶出しにくくなり、液晶汚染がより生じにくくなる。
The radical polymerization initiator preferably contains a hydrogen bonding functional group.
The hydrogen bonding functional group is not particularly limited as long as it is a functional group or a residue having hydrogen bonding properties, for example, OH group, NH 2 group, NHR group (R is an aromatic or aliphatic hydrocarbon) And COOH groups, CONH 2 groups, NHOH groups, and the like, and groups having residues such as NHCO bonds, NH bonds, CONHCO bonds, and NH—NH bonds in the molecule.
By having such a hydrogen bonding functional group, even when the uncured sealing agent of the present invention is in contact with the liquid crystal, the radical polymerization initiator is less likely to elute and liquid crystal contamination is less likely to occur.
上記ラジカル重合開始剤は、更に、上記硬化性樹脂と反応して結合し得る反応性官能基を有することが好ましい。
上記反応性官能基としては、重合反応により硬化性樹脂と結合できる官能基であれば特に限定されず、例えば、エポキシ基やオキセタニル基等の環状エーテル基、(メタ)アクリル基、スチリル基等が挙げられる。なかでも、(メタ)アクリル基又はエポキシ基が好適である。
このような反応性官能基を分子中に有することにより、上記ラジカル重合開始剤自体が、硬化性樹脂と共重合体を形成して固定されることから、重合終了後にも重合開始剤の残渣体が液晶中に溶出することがなく、また、液晶再配向時の加熱によってアウトガスになることもない。
The radical polymerization initiator preferably further has a reactive functional group capable of reacting with and binding to the curable resin.
The reactive functional group is not particularly limited as long as it is a functional group that can be bonded to the curable resin by a polymerization reaction, and examples thereof include cyclic ether groups such as epoxy groups and oxetanyl groups, (meth) acrylic groups, styryl groups, and the like. Can be mentioned. Of these, a (meth) acryl group or an epoxy group is preferred.
By having such a reactive functional group in the molecule, the radical polymerization initiator itself is fixed by forming a copolymer with the curable resin. Is not eluted into the liquid crystal, and is not outgassed by heating during liquid crystal realignment.
本発明のシール剤は、熱硬化剤を含有してもよい。
上記熱硬化剤は、加熱により上記一般式(1)で表される構造を有する(メタ)アクリレート化合物の(メタ)アクリル基等を反応させ、架橋させるためのものであり、硬化後の接着性、耐湿性を向上させる役割を有する。
The sealing agent of the present invention may contain a thermosetting agent.
The thermosetting agent reacts and crosslinks the (meth) acrylic group of the (meth) acrylate compound having the structure represented by the general formula (1) by heating, and has an adhesive property after curing. , Has the role of improving moisture resistance.
このような熱硬化剤としては、例えば、1,3−ビス[ヒドラジノカルボノエチル−5−イソプロピルヒダントイン]等のヒドラジド化合物、ジシアンジアミド、グアニジン誘導体、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、N−[2−(2−メチル−1−イミダゾリル)エチル]尿素、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、N,N’−ビス(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)尿素、N,N’−(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)−アジポアミド、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、変性脂肪族ポリアミン、テトラヒドロ無水フタル酸、エチレングリコールービス(アンヒドロトリメリテート)等の酸無水物、各種アミンとエポキシ樹脂との付加生成物等が挙げられる。これらは、単独で用いても、2種類以上が用いられてもよい。なかでも、ヒドラジド系化合物を用いることが好ましい。 Examples of such a thermosetting agent include hydrazide compounds such as 1,3-bis [hydrazinocarbonoethyl-5-isopropylhydantoin], dicyandiamide, guanidine derivatives, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, N- [ 2- (2-Methyl-1-imidazolyl) ethyl] urea, 2,4-diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, N, N′-bis (2 -Methyl-1-imidazolylethyl) urea, N, N '-(2-methyl-1-imidazolylethyl) -adipamide, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5- Imidazole derivatives such as dihydroxymethylimidazole, modified aliphatic polyamines, tetrahydrophthalic anhydride, ethylene glycol Acid anhydrides such as Korubisu (anhydrotrimellitate), addition products such as the various amines and epoxy resins. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, hydrazide compounds are preferably used.
上記熱硬化剤としては、融点が100℃以上の潜在性硬化剤が好適に用いられる。融点が100℃以下の硬化剤を使用すると保存安定性が著しく悪くなることがある。 As the thermosetting agent, a latent curing agent having a melting point of 100 ° C. or higher is preferably used. When a curing agent having a melting point of 100 ° C. or lower is used, the storage stability may be remarkably deteriorated.
上記熱硬化剤としては、固体硬化剤粒子の表面が微粒子により被覆されている被覆硬化剤も好適である。このような被覆硬化剤を用いれば、予め熱硬化剤を配合していても高い保存安定性を有するシール剤が得られる。 As the thermosetting agent, a coating curing agent in which the surface of solid curing agent particles is coated with fine particles is also suitable. If such a coating curing agent is used, a sealing agent having high storage stability can be obtained even if a thermosetting agent is blended in advance.
上記熱硬化剤の配合量の好ましい下限は、上記一般式(1)で表される構造を有する(メタ)アクリレート化合物及び硬化性樹脂の合計100重量部に対して1重量部、好ましい上限は60重量部である。この範囲外であると、硬化物の接着性が低下し、高温高湿動作試験での液晶の特性劣化が早まることがある。より好ましい下限は5重量部、より好ましい上限は50重量部である。 The minimum with the preferable compounding quantity of the said thermosetting agent is 1 weight part with respect to a total of 100 weight part of the (meth) acrylate compound and curable resin which have a structure represented by the said General formula (1), and a preferable upper limit is 60. Parts by weight. If it is out of this range, the adhesiveness of the cured product is lowered, and the liquid crystal characteristic deterioration in the high temperature and high humidity operation test may be accelerated. A more preferred lower limit is 5 parts by weight, and a more preferred upper limit is 50 parts by weight.
本発明のシール剤は、シランカップリング剤を含有していてもよい。シランカップリング剤は、主に本発明のシール剤と透明基板との接着性を向上させる接着助剤としての役割を有する。
上記シランカップリング剤としては特に限定されないが、透明基板等との接着性向上効果に優れ、硬化性樹脂と化学結合することにより液晶材料中への流出を防止するとができることから、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等や、スペーサー基を介してイミダゾール骨格とアルコキシシリル基とが結合した構造を有するイミダゾールシラン化合物からなるもの等が好適に用いられる。これらのシランカップリング剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The sealing agent of the present invention may contain a silane coupling agent. The silane coupling agent mainly serves as an adhesion assistant that improves the adhesion between the sealing agent of the present invention and the transparent substrate.
The silane coupling agent is not particularly limited, but is excellent in adhesion improvement effect with a transparent substrate and the like, and can be prevented from flowing into the liquid crystal material by chemically bonding with a curable resin. Aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, etc., or a structure in which the imidazole skeleton and alkoxysilyl group are bonded via a spacer group What consists of an imidazole silane compound which has this, etc. are used suitably. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.
本発明のシール剤は、応力分散効果による接着性の改善、線膨張率の改善等の目的にフィラーを含有してもよい。上記フィラーとしては特に限定されず、例えば、タルク、石綿、シリカ、珪藻土、スメクタイト、ベントナイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ、モンモリロナイト、珪藻土、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ガラスビーズ、窒化珪素、硫酸バリウム、石膏、珪酸カルシウム、タルク、ガラスビーズ、セリサイト活性白土、ベントナイト、窒化アルミニウム等の無機フィラーや、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ビニル重合体微粒子、アクリル重合体微粒子等の有機フィラーが挙げられる。 The sealing agent of the present invention may contain a filler for the purpose of improving the adhesiveness due to the stress dispersion effect and improving the linear expansion coefficient. The filler is not particularly limited, for example, talc, asbestos, silica, diatomaceous earth, smectite, bentonite, calcium carbonate, magnesium carbonate, alumina, montmorillonite, diatomaceous earth, zinc oxide, iron oxide, magnesium oxide, tin oxide, titanium oxide, Magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, glass beads, silicon nitride, barium sulfate, gypsum, calcium silicate, talc, glass beads, sericite activated clay, bentonite, aluminum nitride and other inorganic fillers, polyester fine particles, polyurethane fine particles, vinyl heavy Organic fillers such as coalesced fine particles and acrylic polymer fine particles can be mentioned.
本発明のシール剤は、更に、必要に応じて、粘度調整の為の反応性希釈剤、チクソ性を調整する揺変剤、パネルギャップ調整の為のポリマービーズ等のスペーサー、3−P−クロロフェニル−1,1−ジメチル尿素等の硬化促進剤、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤、その他添加剤等を含有してもよい。 The sealing agent of the present invention further includes a reactive diluent for adjusting the viscosity, a thixotropic agent for adjusting thixotropy, a spacer such as polymer beads for adjusting the panel gap, and 3-P-chlorophenyl, if necessary. A curing accelerator such as -1,1-dimethylurea, an antifoaming agent, a leveling agent, a polymerization inhibitor, and other additives may be contained.
本発明のシール剤は、例えば、上記硬化性樹脂、ラジカル重合開始剤及び必要に応じて配合される添加剤等を、3本ロール等を用いた従来公知の方法により混合し、均一に分散させる方法等が挙げられる。このとき、イオン性の不純物を除去するために層状珪酸塩鉱物等のイオン吸着性固体と接触させてもよい。 The sealing agent of the present invention is, for example, mixed with the above-described curable resin, radical polymerization initiator and additives blended as necessary by a conventionally known method using three rolls, and uniformly dispersed. Methods and the like. At this time, in order to remove ionic impurities, it may be brought into contact with an ion-adsorbing solid such as a layered silicate mineral.
本発明のシール剤は、液晶表示素子の製造において、基板に対する接着性に優れるため、基板との間に剥がれ現象が起こりにくく、また、液晶汚染を引き起こすことがないため、液晶表示において色むらが少ない液晶表示素子の製造に好適に用いることができる。 Since the sealing agent of the present invention is excellent in adhesion to a substrate in the production of a liquid crystal display element, the phenomenon of peeling between the substrate and the liquid crystal is unlikely to occur, and liquid crystal contamination is not caused. It can be suitably used for the production of a few liquid crystal display elements.
本発明の液晶滴下工法用シール剤に、導電性微粒子を配合することにより、上下導通材料を製造することができる。このような上下導通材料を用いれば、透明基板の電極を確実に導電接続することができる。
本発明の液晶滴下工法用シール剤と導電性微粒子とを含有する上下導通材料もまた、本発明の1つである。
A vertical conduction material can be produced by blending conductive fine particles with the sealant for the liquid crystal dropping method of the present invention. By using such a vertical conduction material, the electrodes of the transparent substrate can be reliably conductively connected.
The vertical conduction material containing the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention and conductive fine particles is also one aspect of the present invention.
上記導電性微粒子としては特に限定されず、金属ボール、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したもの等を用いることができる。なかでも、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したものは、樹脂微粒子の優れた弾性により、透明基板等を損傷することなく導電接続が可能であることから好適である。 The conductive fine particles are not particularly limited, and metal balls, those obtained by forming a conductive metal layer on the surface of resin fine particles, and the like can be used. Among them, the one in which the conductive metal layer is formed on the surface of the resin fine particles is preferable because the conductive connection is possible without damaging the transparent substrate due to the excellent elasticity of the resin fine particles.
本発明のシール剤及び/又は本発明の上下導通材料を用いて液晶表示素子を製造する方法としては特に限定されず、例えば、以下の方法により製造することができる。
まず、ITO薄膜等の2枚の電極付き透明基板の一方に、本発明のシール剤及び/又は本発明の上下導通材料をスクリーン印刷、ディスペンサー塗布等により長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール部に紫外線を照射して硬化させる。本発明のシール剤等が熱硬化性を有する場合には、更に100〜200℃のオーブン中で1時間加熱硬化させて硬化を完了させ、液晶表示素子を作製する。
本発明のシール剤及び/又は本発明の上下導通材料を用いてなる液晶表示素子もまた、本発明の1つである。
更に、本発明の液晶表示素子の製造方法、すなわち、少なくとも、2枚の電極付き透明基板の一方に、本発明のシール剤及び/又は本発明の上下導通材料を塗布してシールパターンを形成する工程、本発明のシール剤及び/又は本発明の上下導通材料が未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール部に紫外線を照射して硬化させる工程を有する液晶表示素子の製造方法もまた、本発明の1つである。
The method for producing a liquid crystal display element using the sealing agent of the present invention and / or the vertical conducting material of the present invention is not particularly limited, and for example, it can be produced by the following method.
First, a rectangular seal pattern is formed on one of two transparent substrates with electrodes such as an ITO thin film by screen printing, dispenser application or the like using the sealing agent of the present invention and / or the vertical conduction material of the present invention. Next, fine droplets of liquid crystal are dropped and applied to the entire surface of the transparent substrate frame in an uncured state of the sealant, and the other transparent substrate is immediately overlaid and cured by irradiating the seal portion with ultraviolet rays. When the sealant or the like of the present invention has thermosetting properties, it is further cured by heating in an oven at 100 to 200 ° C. for 1 hour to complete the curing, thereby producing a liquid crystal display element.
A liquid crystal display element using the sealing agent of the present invention and / or the vertical conduction material of the present invention is also one aspect of the present invention.
Furthermore, the manufacturing method of the liquid crystal display element of the present invention, that is, at least one of the two transparent substrates with electrodes is coated with the sealing agent of the present invention and / or the vertical conduction material of the present invention to form a seal pattern. In the process, the liquid crystal micro-droplet is dropped on the entire surface of the transparent substrate with the sealant and / or the vertical conducting material of the present invention in an uncured state, and the other transparent substrate is immediately overlapped to form a seal portion. A method for producing a liquid crystal display element having a step of curing by irradiating with ultraviolet rays is also one aspect of the present invention.
本発明によれば、液晶表示素子の製造において、基板に対する接着性に優れるため、基板との間に剥がれ現象が起こりにくく、また、液晶汚染を引き起こすことがないため、液晶表示において色むらが少ない液晶表示素子の製造に最適である液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料、及び、液晶表示素子を提供できる。 According to the present invention, in the manufacture of a liquid crystal display element, the adhesiveness to the substrate is excellent, so that the peeling phenomenon between the substrate and the liquid crystal display device hardly occurs, and liquid crystal contamination is not caused. It is possible to provide a sealing agent for liquid crystal dropping method, a vertical conduction material, and a liquid crystal display element that are optimal for manufacturing a liquid crystal display element.
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
(硬化性樹脂(A)の合成)
反応フラスコに2−ヒドロキシエチルアクリレート116重量部と重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.3重量部、無水フタル酸148重量部を加えてマントルヒーターで90℃に加熱して5時間撹拌した。
続いてビスフェノールAジグリシジルエーテル170重量部を加え、90℃で5時間撹拌することで硬化性樹脂(A)を得た。
(Synthesis of curable resin (A))
To the reaction flask, 116 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 0.3 part by weight of p-methoxyphenol and 148 parts by weight of phthalic anhydride were added as a polymerization inhibitor, heated to 90 ° C. with a mantle heater, and stirred for 5 hours.
Subsequently, 170 parts by weight of bisphenol A diglycidyl ether was added, and the resulting mixture was stirred at 90 ° C. for 5 hours to obtain a curable resin (A).
(硬化性樹脂(B)の合成)
反応フラスコに2−ヒドロキシエチルアクリレート116重量部とβ−プロピオラクトン217重量部とを入れ、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.3重量部加え、マントルヒーターで90℃に加熱して5時間撹拌した。撹拌生成物に無水フタル酸148重量部を加えてさらに5時間撹拌した。
続いてビスフェノールAジグリシジルエーテル170重量部を加え、90℃で5時間撹拌することで硬化性樹脂(B)を得た。
(Synthesis of curable resin (B))
Place 116 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate and 217 parts by weight of β-propiolactone in a reaction flask, add 0.3 part by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, and heat to 90 ° C. with a mantle heater for 5 hours. Stir. To the stirred product, 148 parts by weight of phthalic anhydride was added and further stirred for 5 hours.
Subsequently, 170 parts by weight of bisphenol A diglycidyl ether was added, and the resulting mixture was stirred at 90 ° C. for 5 hours to obtain a curable resin (B).
(硬化性樹脂(C)の合成)
反応フラスコに2−ヒドロキシエチルアクリレート116重量部と7−ブチル−2−オキセパノン340重量部とを入れ、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.3重量部加え、マントルヒーターで90℃に加熱して5時間撹拌した。撹拌生成物に無水フタル酸148重量部を加えてさらに5時間撹拌した。
続いてビスフェノールAジグリシジルエーテル170重量部を加え、90℃で5時間撹拌することで硬化性樹脂(C)を得た。
(Synthesis of curable resin (C))
Place 116 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate and 340 parts by weight of 7-butyl-2-oxepanone in a reaction flask, add 0.3 part by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, and heat to 90 ° C. with a mantle heater. Stir for 5 hours. To the stirred product, 148 parts by weight of phthalic anhydride was added and further stirred for 5 hours.
Subsequently, 170 parts by weight of bisphenol A diglycidyl ether was added, and the resulting mixture was stirred at 90 ° C. for 5 hours to obtain a curable resin (C).
(硬化性樹脂(D)の合成)
反応フラスコに4−ヒドロキシブチルアクリレート144重量部と重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.3重量部、無水フタル酸148重量部を加えてマントルヒーターで90℃に加熱して5時間撹拌した。
続いてビスフェノールAジグリシジルエーテル170重量部を加え、90℃で5時間撹拌することで硬化性樹脂(D)を得た。
(Synthesis of curable resin (D))
To the reaction flask, 144 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate, 0.3 part by weight of p-methoxyphenol and 148 parts by weight of phthalic anhydride were added as a polymerization inhibitor, heated to 90 ° C. with a mantle heater, and stirred for 5 hours.
Subsequently, 170 parts by weight of bisphenol A diglycidyl ether was added and stirred at 90 ° C. for 5 hours to obtain a curable resin (D).
(硬化性樹脂(E)の合成)
反応フラスコに4−ヒドロキシブチルアクリレート144重量部とβプロピオラクトン217重量部とを入れ、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.3重量部加え、マントルヒーターで90℃に加熱して5時間撹拌した。撹拌生成物に無水フタル酸148重量部を加えてさらに5時間撹拌した。
続いてビスフェノールAジグリシジルエーテル170重量部を加え、90℃で5時間撹拌することで硬化性樹脂(E)を得た。
(Synthesis of curable resin (E))
In a reaction flask, 144 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate and 217 parts by weight of β-propiolactone are added, 0.3 parts by weight of p-methoxyphenol is added as a polymerization inhibitor, heated to 90 ° C. with a mantle heater, and stirred for 5 hours. did. To the stirred product, 148 parts by weight of phthalic anhydride was added and further stirred for 5 hours.
Subsequently, 170 parts by weight of bisphenol A diglycidyl ether was added and stirred at 90 ° C. for 5 hours to obtain a curable resin (E).
(硬化性樹脂(F)の合成)
反応フラスコに4−ヒドロキシブチルアクリレート144重量部と7−ブチル−2−オキセパノン340重量部とを入れ、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.3重量部加え、マントルヒーターで90℃に加熱して5時間撹拌した。撹拌生成物に無水フタル酸148重量部を加えてさらに5時間撹拌した。
続いてビスフェノールAジグリシジルエーテル170重量部を加え、90℃で5時間撹拌することで硬化性樹脂(F)を得た。
(Synthesis of curable resin (F))
In a reaction flask, 144 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate and 340 parts by weight of 7-butyl-2-oxepanone are added, 0.3 part by weight of p-methoxyphenol is added as a polymerization inhibitor, and heated to 90 ° C. with a mantle heater. Stir for 5 hours. To the stirred product, 148 parts by weight of phthalic anhydride was added and further stirred for 5 hours.
Subsequently, 170 parts by weight of bisphenol A diglycidyl ether was added, and the resulting mixture was stirred at 90 ° C. for 5 hours to obtain a curable resin (F).
(硬化性樹脂(G)の合成)
反応フラスコに4−ヒドロキシブチルアクリレート144重量部と7−ブチル−2−オキセパノン680重量部とを入れ、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.3重量部加え、マントルヒーターで90℃に加熱して5時間撹拌した。撹拌生成物に無水フタル酸148重量部を加えてさらに5時間撹拌した。
続いてビスフェノールAジグリシジルエーテル170重量部を加え、90℃で5時間撹拌することで硬化性樹脂(G)を得た。
(Synthesis of curable resin (G))
In a reaction flask, 144 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate and 680 parts by weight of 7-butyl-2-oxepanone are added, 0.3 parts by weight of p-methoxyphenol is added as a polymerization inhibitor, and heated to 90 ° C. with a mantle heater. Stir for 5 hours. To the stirred product, 148 parts by weight of phthalic anhydride was added and further stirred for 5 hours.
Subsequently, 170 parts by weight of bisphenol A diglycidyl ether was added and stirred at 90 ° C. for 5 hours to obtain a curable resin (G).
(硬化性樹脂(H)の合成)
反応フラスコに4−ヒドロキシブチルアクリレート144重量部と7−ブチル−2−オキセパノン340重量部とを入れ、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.3重量部加え、マントルヒーターで90℃に加熱して5時間撹拌した。撹拌生成物に無水フタル酸148重量部を加えてさらに5時間撹拌した。
続いてグリシジルフェニルエーテル150重量部を加え、90℃で5時間撹拌することで硬化性樹脂(H)を得た。
(Synthesis of curable resin (H))
In a reaction flask, 144 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate and 340 parts by weight of 7-butyl-2-oxepanone are added, 0.3 part by weight of p-methoxyphenol is added as a polymerization inhibitor, and heated to 90 ° C. with a mantle heater. Stir for 5 hours. To the stirred product, 148 parts by weight of phthalic anhydride was added and further stirred for 5 hours.
Subsequently, 150 parts by weight of glycidyl phenyl ether was added, and the resulting mixture was stirred at 90 ° C. for 5 hours to obtain a curable resin (H).
(硬化性樹脂(I)の合成)
反応フラスコにアクリル酸72重量部とビスフェノールFジグリシジルエーテル312重量部とを入れ、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.3重量部、反応触媒としてトリエチルアミン0.3重量部を加え、マントルヒーターで90℃に加熱して5時間撹拌し、エポキシ基が1つ残っている硬化性樹脂(I)を得た。
(Synthesis of curable resin (I))
A reaction flask was charged with 72 parts by weight of acrylic acid and 312 parts by weight of bisphenol F diglycidyl ether, 0.3 parts by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, 0.3 parts by weight of triethylamine as a reaction catalyst, and a mantle heater. The mixture was heated to 90 ° C. and stirred for 5 hours to obtain a curable resin (I) in which one epoxy group remained.
(実施例1)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、合成した硬化性樹脂(A)20重量部、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂(ダイセルサイテック社製、EB3700)10重量部、合成した硬化性樹脂(B)30重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(味の素ファインテクノ社製、VDH)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Aを得た。
(Example 1)
3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 20 parts by weight of the curable resin (A) synthesized, 10 parts by weight of a bisphenol A type epoxy acrylate resin (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., EB3700), were synthesized. 30 parts by weight of curable resin (B), 1 part by weight of silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403), 15 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, SO-C1), and thermosetting agent (Ajinomoto Fine Techno) VDH), 3.5 parts by weight, was blended and stirred with a planetary stirrer, and then uniformly dispersed with a three-roll ceramic roll to obtain sealant A.
(実施例2)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、合成した硬化性樹脂(B)20重量部、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂(ダイセルサイテック社製、EB3700)10重量部、合成した硬化性樹脂(I)30重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(味の素ファインテクノ社製、VDH)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Bを得た。
(Example 2)
3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 20 parts by weight of the curable resin (B) synthesized, 10 parts by weight of a bisphenol A type epoxy acrylate resin (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., EB3700), were synthesized. 30 parts by weight of curable resin (I), 1 part by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403), 15 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, SO-C1), and a thermosetting agent (Ajinomoto Fine Techno) VDH), 3.5 parts by weight, was blended and stirred with a planetary stirrer, and then uniformly dispersed with a ceramic three roll to obtain sealant B.
(実施例3)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、合成した硬化性樹脂(C)20重量部、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂(ダイセルサイテック社製、EB3700)10重量部、合成した硬化性樹脂(I)30重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(味の素ファインテクノ社製、VDH)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Bを得た。
(Example 3)
3 parts by weight of a photoinitiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 20 parts by weight of the curable resin (C) synthesized, 10 parts by weight of a bisphenol A type epoxy acrylate resin (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., EB3700), were synthesized. 30 parts by weight of curable resin (I), 1 part by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403), 15 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, SO-C1), and a thermosetting agent (Ajinomoto Fine Techno) VDH), 3.5 parts by weight, was blended and stirred with a planetary stirrer, and then uniformly dispersed with a ceramic three roll to obtain sealant B.
(実施例4)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、合成した硬化性樹脂(D)20重量部、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂(ダイセルサイテック社製、EB3700)10重量部、合成した硬化性樹脂(I)30重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(味の素ファインテクノ社製、VDH)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Dを得た。
Example 4
3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 20 parts by weight of the curable resin (D) synthesized, 10 parts by weight of a bisphenol A type epoxy acrylate resin (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., EB3700), were synthesized. 30 parts by weight of curable resin (I), 1 part by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403), 15 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, SO-C1), and a thermosetting agent (Ajinomoto Fine Techno) VDH), 3.5 parts by weight, was blended and stirred with a planetary stirrer, and then uniformly dispersed with a ceramic three roll to obtain sealant D.
(実施例5)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、合成した硬化性樹脂(E)20重量部、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂(ダイセルサイテック社製、EB3700)10重量部、合成した硬化性樹脂(I)30重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(味の素ファインテクノ社製、VDH)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Eを得た。
(Example 5)
3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 20 parts by weight of the synthesized curable resin (E), 10 parts by weight of a bisphenol A type epoxy acrylate resin (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., EB3700) were synthesized. 30 parts by weight of curable resin (I), 1 part by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403), 15 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, SO-C1), and a thermosetting agent (Ajinomoto Fine Techno) VDH), 3.5 parts by weight, was blended and stirred with a planetary stirrer, and then uniformly dispersed with a ceramic three roll to obtain sealant E.
(実施例6)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、合成した硬化性樹脂(F)20重量部、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂(ダイセルサイテック社製、EB3700)10重量部、合成した硬化性樹脂(I)30重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(味の素ファインテクノ社製、VDH)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Fを得た。
(Example 6)
3 parts by weight of a photoinitiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 20 parts by weight of the synthesized curable resin (F), 10 parts by weight of a bisphenol A type epoxy acrylate resin (manufactured by Daicel Cytec, EB3700), were synthesized. 30 parts by weight of curable resin (I), 1 part by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403), 15 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, SO-C1), and a thermosetting agent (Ajinomoto Fine Techno) VDH), 3.5 parts by weight, was blended and stirred with a planetary stirrer, and then uniformly dispersed with a ceramic three roll to obtain sealant F.
(実施例7)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、合成した硬化性樹脂(G)20重量部、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂(ダイセルサイテック社製、EB3700)10重量部、合成した硬化性樹脂(I)30重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(味の素ファインテクノ社製、VDH)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Gを得た。
(Example 7)
3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 20 parts by weight of the synthesized curable resin (G), 10 parts by weight of a bisphenol A type epoxy acrylate resin (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., EB3700), were synthesized. 30 parts by weight of curable resin (I), 1 part by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403), 15 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, SO-C1), and a thermosetting agent (Ajinomoto Fine Techno) VDH), 3.5 parts by weight, was blended and stirred with a planetary stirrer, and then uniformly dispersed with a three ceramic roll to obtain sealant G.
(実施例8)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、合成した硬化性樹脂(H)20重量部、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂(ダイセルサイテック社製、EB3700)10重量部、合成した硬化性樹脂(I)30重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(味の素ファインテクノ社製、VDH)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Hを得た。
(Example 8)
3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 20 parts by weight of the synthesized curable resin (H), 10 parts by weight of a bisphenol A type epoxy acrylate resin (manufactured by Daicel Cytec, EB3700) were synthesized. 30 parts by weight of curable resin (I), 1 part by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403), 15 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, SO-C1), and a thermosetting agent (Ajinomoto Fine Techno) VDH), 3.5 parts by weight, was blended and stirred with a planetary stirrer, and then uniformly dispersed with a ceramic three roll to obtain sealant H.
(実施例9)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、長鎖メチレン基を有するエポキシアクリレート(ダイセルサイテック社製、KRM7856)20重量部、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂(ダイセル・ユーシービー社製、EB3700)10重量部、合成した硬化性樹脂(I)30重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(大塚化学社製、アジピン酸ジヒドラジド)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Iを得た。
Example 9
3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Light Chemical Co., Ltd., KR-02), 20 parts by weight of an epoxy acrylate having a long chain methylene group (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., KRM7856), a bisphenol A type epoxy acrylate resin (Daicel UCB) Manufactured, EB3700) 10 parts by weight, synthesized curable resin (I) 30 parts by weight, silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403) 1 part by weight, silica (manufactured by Admatechs, SO-C1) 15 parts by weight And 3.5 parts by weight of a thermosetting agent (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., adipic acid dihydrazide), and after stirring with a planetary stirrer, uniformly disperse with a ceramic three roll to obtain a sealing agent I. Obtained.
(実施例10)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、長鎖メチレン基を有するエポキシアクリレート(ダイセルサイテック社製、KRM7856)30重量部、合成した硬化性樹脂(I)30重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(大塚化学社製、アジピン酸ジヒドラジド)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Jを得た。
(Example 10)
3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 30 parts by weight of an epoxy acrylate having a long chain methylene group (manufactured by Daicel Cytec, KRM7856), 30 parts by weight of the curable resin (I) synthesized, Silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403) 1 part by weight, silica (manufactured by Admatechs Corporation, SO-C1) 15 parts by weight, and thermosetting agent (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., adipic acid dihydrazide) 3.5 parts by weight The components were blended and stirred with a planetary stirrer, and then uniformly dispersed with a three ceramic roll to obtain a sealing agent J.
(実施例11)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、長鎖メチレン基を有するエポキシアクリレート(ダイセルサイテック社製、KRM7856)40重量部、合成した硬化性樹脂(I)20重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(大塚化学社製、アジピン酸ジヒドラジド)2.3重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Kを得た。
(Example 11)
3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 40 parts by weight of an epoxy acrylate having a long chain methylene group (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., KRM7856), 20 parts by weight of the curable resin (I) synthesized, Silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403) 1 part by weight, silica (manufactured by Admatechs Corporation, SO-C1) 15 parts by weight, and thermosetting agent (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., adipic acid dihydrazide) 2.3 weights After mixing the parts, the mixture was stirred with a planetary stirrer, and then uniformly dispersed with a three ceramic roll to obtain a sealant K.
(比較例1)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂(ダイセルサイテック社製、EB3700)30重量部、合成した硬化性樹脂(I)30重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(大塚化学社製、アジピン酸ジヒドラジド)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Lを得た。
(Comparative Example 1)
3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 30 parts by weight of bisphenol A type epoxy acrylate resin (manufactured by Daicel Cytec, EB3700), 30 parts by weight of the curable resin (I) synthesized,
(比較例2)
光重合開始剤(ライトケミカル社製、KR−02)3重量部、合成したエポキシアクリレート(A)60重量部、シランカップリング剤(信越化学社製、KBM403)1重量部、シリカ(アドマテックス社製、SO−C1)15重量部、及び、熱硬化剤(大塚化学社製、アジピン酸ジヒドラジド)3.5重量部を配合し、遊星式撹拌装置にて撹拌した後、セラミック3本ロールにて均一に分散させてシール剤Mを得た。
(Comparative Example 2)
3 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Light Chemical Co., KR-02), 60 parts by weight of the synthesized epoxy acrylate (A), 1 part by weight of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403), silica (Admatex Corporation) 15 parts by weight manufactured by SO-C1) and 3.5 parts by weight of a thermosetting agent (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., adipic acid dihydrazide) were mixed and stirred with a planetary stirrer, and then with a ceramic three roll The sealing agent M was obtained by uniformly dispersing.
(評価)
実施例1〜11及び比較例1、2で得られた各シール剤を用いて以下の評価を行った。
(Evaluation)
The following evaluation was performed using each sealing agent obtained in Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2.
(液晶パネルの作製)
得られたそれぞれのシール剤100重量部にスペーサー微粒子(積水化学工業社製、ミクロパールSI−H050、5μm)1重量部を分散させ遠心脱泡機(アワトロンAW−1)にて脱泡し、液晶滴下工法用シール剤として、2枚の配向膜及び透明電極付き基板の一方にシール剤の線幅が1mmになるようにディスペンサーで塗布した。
続いて液晶(チッソ社製、JC−5004LA)の微小滴を透明電極付き基板のシール剤の枠内全面に滴下塗布し、すぐにもう一方の透明電極付きカラーフィルター基板を貼り合わせ、シール剤部分にメタルハライドランプを用いて100mW/cm2で30秒照射して仮硬化した。120℃で1時間加熱して本硬化を行い、液晶表示パネルを作製した。
(Production of liquid crystal panel)
1 part by weight of spacer fine particles (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Micropearl SI-H050, 5 μm) is dispersed in 100 parts by weight of each obtained sealant, and defoamed with a centrifugal defoamer (Awatron AW-1). As a sealing agent for a liquid crystal dropping method, it was applied to one of two alignment films and a substrate with a transparent electrode by a dispenser so that the line width of the sealing agent was 1 mm.
Subsequently, liquid droplets (manufactured by Chisso Co., Ltd., JC-5004LA) are dropped onto the entire surface of the sealing agent frame of the substrate with the transparent electrode, and the other color filter substrate with the transparent electrode is immediately pasted together. The film was temporarily cured by irradiation at 100 mW / cm 2 for 30 seconds using a metal halide lamp. A main curing was performed by heating at 120 ° C. for 1 hour to prepare a liquid crystal display panel.
(シール剤ディスペンス性評価(作業性評価))
実施例1〜11及び比較例1、2で得られたそれぞれのシール剤について、シリンジの吐出圧300kPa、ノズルギャップ42μm、塗布速度80mm/sec、ノズル径が0.4mmφで液晶パネルを20枚ずつ作製し、断線による不良パネルの数を数えた。その結果を表1に示した。なお、不良パネル数に応じて以下の4段階で評価を行った。
◎:不良パネル数0枚
○:不良パネル数1〜2枚
△:不良パネル数3〜5枚
×:不良パネル数5枚以上
(Sealant dispensing evaluation (workability evaluation))
For each of the sealing agents obtained in Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2, 20 liquid crystal panels each having a syringe discharge pressure of 300 kPa, a nozzle gap of 42 μm, a coating speed of 80 mm / sec, and a nozzle diameter of 0.4 mmφ were used. The number of defective panels due to disconnection was counted. The results are shown in Table 1. The evaluation was performed in the following four stages according to the number of defective panels.
◎: Number of defective panels 0: Number of defective panels 1-2: Δ: Number of defective panels 3-5 x: Number of defective panels 5 or more
(液晶パネル評価(色むら評価))
得られたそれぞれの液晶表示パネルについて、表示パネル作製直後におけるシール剤付近の液晶配向乱れを目視によって確認した。配向乱れは表示部の色ムラより判断しており、色ムラの程度に応じて、以下の4段階で評価を行った。結果を表1に示した。なお、評価が◎、○の液晶パネルは、実用に全く問題のないレベルである。
◎:色むらが全くない
○:色むらが微かにある
△:色むらが少しある
×:色むらがかなりある
(Liquid crystal panel evaluation (color unevenness evaluation))
About each obtained liquid crystal display panel, the liquid crystal orientation disorder in the sealant vicinity immediately after display panel preparation was confirmed visually. The alignment disorder was judged from the color unevenness of the display portion, and the evaluation was performed in the following four stages according to the degree of the color unevenness. The results are shown in Table 1. Note that liquid crystal panels with evaluations of ◎ and ○ are at a level where there is no problem in practical use.
◎: No color unevenness ○: Color unevenness is slightly △: Color unevenness is slightly ×: Color unevenness is considerable
(多層膜基板接着性評価)
図1に示すように、ガラス基板13(90mm×90mm)に端から30mm内側四方に実施例1〜11及び比較例1、2で得られたシール剤10をディスペンスし、膜12としてポリイミド、ITO、クロム、樹脂ブラックマトリックス、及び、カーボンがそれぞれ形成されたガラス基板11(70mm×70mm)を真空下で重ねて貼り合わせた。紫外線(100mW/cm2、3000mJ)を照射し、続いて120℃で1時間加熱してシール剤を硬化し、接着試験片を得た。
作製した接着試験片パネルの基板の端部を半径5mmの金属円柱を使って5mm/minの速度で押し込んだときに、パネル剥がれが起こる際の強度を測定し、剥がれ状態を観察した。その評価結果を表1に示した。
なお、シール剤の接着性が強くパネル剥がれが起こる前にガラス基板が割れた場合は、基板割れとした。また、剥がれ状態は、図1に示すように、ガラス基板−膜の剥がれを「剥がれA」とし、ガラス基板−ガラス基板の剥がれを「剥がれB」として示した。
(Multilayer substrate adhesion evaluation)
As shown in FIG. 1, the sealant 10 obtained in Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2 is dispensed on a glass substrate 13 (90 mm × 90 mm) 30 mm inside from the end, and polyimide, ITO is used as the
When the edge part of the board | substrate of the produced adhesion test piece panel was pushed in at a speed | rate of 5 mm / min using the metal cylinder with a radius of 5 mm, the intensity | strength in case panel peeling occurred was measured and the peeling state was observed. The evaluation results are shown in Table 1.
In addition, when the glass substrate was cracked before the panel peeling occurred due to the strong adhesion of the sealing agent, the substrate was cracked. Further, as shown in FIG. 1, the peeling state is shown as “peeling A” when the glass substrate-film is peeled, and “peeling B” when the glass substrate-glass substrate is peeled off.
本発明によれば、液晶表示素子の製造において、基板に対する接着性に優れるため、基板との間に剥がれ現象が起こりにくく、また、液晶汚染を引き起こすことがないため、液晶表示において色むらが少ない液晶表示素子の製造に最適である液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子を提供できる。 According to the present invention, in the manufacture of a liquid crystal display element, the adhesiveness to the substrate is excellent, so that the peeling phenomenon between the substrate and the liquid crystal display device hardly occurs, and liquid crystal contamination is not caused. It is possible to provide a sealing agent for a liquid crystal dropping method, a vertical conduction material, and a liquid crystal display element that are optimal for manufacturing a liquid crystal display element.
10、20 シール剤
11、13 ガラス基板
12、22 膜
21、23 基板
24 液晶
10, 20 Sealing agent 11, 13
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