JPWO2009031576A1 - バラシクロビル塩酸塩結晶の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、3.6±0.2°、8.5±0.2°、9.4±0.2°、10.5±0.2°、10.8±0.2°、13.3±0.2°および27.3±0.2°に回折角2θの特徴的ピークを有するバラシクロビル塩酸塩水和物結晶を、N,N−ジメチルホルムアミド中または有機溶媒と水との混合溶媒中で結晶転移させることを特徴とする、Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、8.5±0.2°、16.3±0.2°、23.8±0.2°、26.1±0.2°および32.2±0.2°に回折角2θの特徴的ピークを有する、高純度のバラシクロビル塩酸塩無水結晶を簡便に得ることのできる製造方法を提供する。
Description
本発明は、ヘルペス、帯状疱疹等の治療薬(抗ウイルス剤)として知られているバラシクロビル塩酸塩結晶の製造方法に関する。
バラシクロビル(2−[(2−アミノ−1,6−ジヒドロ−6−オキソ−9H−プリン−9−イル)メトキシ]エチル L−バリネート)は、ヘルペス、帯状疱疹等の治療薬として世界的に広く使用されてきたアシクロビルのプロドラッグである。バラシクロビルは、アシクロビルの経口吸収性を改善したものであり、塩酸塩の形態(バラシクロビル塩酸塩)でアシクロビルと同様にヘルペス等の治療薬として広く用いられつつある。
バラシクロビル塩酸塩の結晶としては、安定な無水結晶について結晶形およびその製造方法が報告されている。例えば特許文献1には、塩酸バラシクロビル(バラシクロビル塩酸塩)をアセトン溶媒中で析出させて得られる水和塩酸バラシクロビル結晶(本発明において該結晶形をA型晶と称する)を変性アルコールにより湿潤させた後、加熱することで、塩酸バラシクロビルの無水結晶(本発明において該結晶形をC型結晶と称する)を得ている。
また、特許文献2には、同結晶の製造方法において、塩酸バラシクロビルを、溶媒雰囲気化で長期間インキュベートする方法(蒸気インキュベーション法)が開示されている。
また、特許文献3には、水和塩酸バラシクロビル(A型晶)を無水溶媒中で、共沸蒸留し、特許文献1に開示されている結晶(1型塩酸バラシクロビル)(C型晶)とは異なる無水結晶(2型塩酸バラシクロビル)(本発明において該結晶形をB型晶と称する)を得る方法が開示されている。
本発明は、高純度のバラシクロビル塩酸塩の無水結晶(C型晶)を簡便に得ることのできる製造方法を提供することを目的とする。
特許文献1に記載の方法は、アセトンで晶析することにより、バラシクロビル塩酸塩の水和物結晶(本発明において該結晶形をA型晶と称する)を得た後、該結晶を変性アルコールで湿潤化し、加熱することにより、結晶を転移させて、無水結晶(C型晶)を得る方法である。該方法は工程数が増える上に、パンドライヤー等の結晶の固相転移を行うための設備が必要になる。また、本発明者らの知見によれば、該結晶転移においては、水和物結晶を完全に除くのは比較的困難であり、特許文献1の無水結晶(C型晶)のX線回折パターンにおいても、水和物結晶に由来するピークが存在する。
特許文献2に記載の方法は、溶媒の蒸気で飽和した雰囲気化でバラシクロビル塩酸塩を長期間インキュベートする方法であるが、少なくとも1週間以上の長時間のインキュベートを必要とし、工業的生産に不向きである。なお特許文献2の実施例21および表1において、還流ブタノール(乾燥なし)中で1時間振とうされ、その後1時間にわたって室温まで冷却された湿結晶がIII型晶(C型晶)と記載されているが、一方同実施例で該湿結晶を乾燥させるとII型晶(B型晶)となっていることから、C型晶の製法としては実用性がない。
発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、バラシクロビル塩酸塩の水和物結晶(A型晶)を、特定の溶媒中で転移させることにより、高純度のバラシクロビル塩酸塩の無水結晶(C型晶)が簡便に得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下の内容を包含する。
[1]Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、3.6±0.2°、8.5±0.2°、9.4±0.2°、10.5±0.2°、10.8±0.2°、13.3±0.2°および27.3±0.2°に回折角2θの特徴的ピークを有するバラシクロビル塩酸塩水和物結晶を、N,N−ジメチルホルムアミド中または有機溶媒と水との混合溶媒中で結晶転移させることを特徴とする、Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、8.5±0.2°、16.3±0.2°、23.8±0.2°、26.1±0.2°および32.2±0.2°に回折角2θの特徴的ピークを有するバラシクロビル塩酸塩無水結晶の製造方法。
[2]有機溶媒が、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、メタノール、エタノール、2−プロパノール、n−ブタノール、テトラヒドロフランおよびアセトニトリルからなる群より選択される1種以上の有機溶媒である[1]記載の製造方法。
[3]有機溶媒と水との混合溶媒が、水を10〜90重量%含有する、[1]または[2]記載の製造方法。
[1]Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、3.6±0.2°、8.5±0.2°、9.4±0.2°、10.5±0.2°、10.8±0.2°、13.3±0.2°および27.3±0.2°に回折角2θの特徴的ピークを有するバラシクロビル塩酸塩水和物結晶を、N,N−ジメチルホルムアミド中または有機溶媒と水との混合溶媒中で結晶転移させることを特徴とする、Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、8.5±0.2°、16.3±0.2°、23.8±0.2°、26.1±0.2°および32.2±0.2°に回折角2θの特徴的ピークを有するバラシクロビル塩酸塩無水結晶の製造方法。
[2]有機溶媒が、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、メタノール、エタノール、2−プロパノール、n−ブタノール、テトラヒドロフランおよびアセトニトリルからなる群より選択される1種以上の有機溶媒である[1]記載の製造方法。
[3]有機溶媒と水との混合溶媒が、水を10〜90重量%含有する、[1]または[2]記載の製造方法。
本発明の方法により得られたC型晶は、A型晶をスラリー化し、C型晶へ結晶転移させる工程において、結晶中に含まれる不純物が母液側に淘汰されるため、蒸気インキュベーション等の実質的に固相状態で結晶転移させる従来法に比べて、化学純度の高いC型晶を得ることができる。また、結晶の転移効率に優れるため、結晶形の純度が高いC型晶を得ることができる。さらに、固相転移に必要な特別の設備も不要である。従って、本発明によれば、高純度のバラシクロビル塩酸塩の無水結晶(C型晶)を簡便に得ることができる。
本発明は、Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、3.6±0.2°、8.5±0.2°、9.4±0.2°、10.5±0.2°、10.8±0.2°、13.3±0.2°および27.3±0.2°に回折角2θの特徴的ピークを有するバラシクロビル塩酸塩水和物結晶を、N,N−ジメチルホルムアミド中または有機溶媒と水との混合溶媒中で結晶転移させることを特徴とする、Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、8.5±0.2°、16.3±0.2°、23.8±0.2°、26.1±0.2°および32.2±0.2°に回折角2θの特徴的ピークを有するバラシクロビル塩酸塩無水結晶の製造方法(以下本発明の方法とも称する)に関する。以下、本発明について詳細に説明する。
バラシクロビル塩酸塩は、公知の方法に従って製造することができる。例えば、上記特許文献1、国際公開第2007/013645号パンフレット等に記載されるように、アシクロビルとN−[(ベンジルオキシ)カルボニル]−L−バリンとをジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下に縮合反応させ、Z−バラシクロビルを得た後、Z基(ベンジルオキシカルボニル基)を還元により脱保護し、塩酸により塩酸塩にする方法が挙げられる。
また例えば、後掲実施例9に記載しているように、アミノ基がアセチルアセトンで保護されたL−バリンとアシクロビルとをジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下に縮合反応させ、得られたN−保護バラシクロビルの保護基を塩酸で脱保護する方法により製造することもできる。
また例えば、後掲実施例9に記載しているように、アミノ基がアセチルアセトンで保護されたL−バリンとアシクロビルとをジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下に縮合反応させ、得られたN−保護バラシクロビルの保護基を塩酸で脱保護する方法により製造することもできる。
本発明においては、まずバラシクロビル塩酸塩の水和物結晶(A型晶)を得る。A型晶は公知の結晶形であり、特許文献1、特許文献2(I型晶として記載)、特許文献3(水和塩酸バラシクロビルとして記載)等に開示されている。Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、例えば3.6、8.5、9.4、10.5、10.8、13.3および27.3度(°)付近に回折角2θの特徴的ピークを有する。さらに詳細には、例えば3.6、8.5、9.4、10.5、10.8、13.3、16.4、21.4、23.9、26.9および27.3°付近に回折角2θの特徴的ピークを有する。A型晶のX線回折パターンは図1に示される。なお、粉末X線回折スペクトルにおける回折角(2θ)の値は、±0.2°程度の測定誤差を有し得るものであり、このような誤差が結晶形の同一性を否定するものでない。
A型晶を得る方法は特に限定されず、上記文献に開示されている公知の方法を用いることができる。例えば、特許文献1の例1および特許文献3に記載されているように、バラシクロビル塩酸塩をアセトン中でスラリー化し、結晶を濾過し、乾燥させて得ることができる。
次に、得られたA型晶を溶媒中で、スラリー化し、結晶形をA型晶から無水結晶であるC型晶に転移させる。溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)または有機溶媒と水との混合溶媒(これらを総称して特定の溶媒ともいう)が挙げられる。無水結晶であるC型晶を得るための溶媒として、水と有機溶媒の混合溶媒が好ましい溶媒となるという事実は驚きである。
有機溶媒としては、上記結晶転移を可能にする溶媒であれば特に限定されないが、例えば高極性有機溶媒が挙げられる。高極性有機溶媒としては、通常その誘電率が5以上、好ましくは10以上、より好ましくは15以上のものが挙げられる。誘電率の上限は特に限定されないが、通常その誘電率が60以下、好ましくは50以下、より好ましくは40以下のものが挙げられる。
有機溶媒と水との混合溶媒の具体例としては、DMFと水との混合溶媒、アセトンと水との混合溶媒、メタノールと水との混合溶媒、アセトニトリルと水との混合溶媒、エタノールと水との混合溶媒、2−プロパノールと水との混合溶媒、テトラヒドロフランと水との混合溶媒およびn−ブタノールと水との混合溶媒が挙げられる。とくに好ましい溶媒としては、DMF、DMFと水との混合溶媒、アセトンと水との混合溶媒、メタノールと水との混合溶媒、およびアセトニトリルと水との混合溶媒が挙げられる。水と混合する有機溶媒としては、上記の有機溶媒を2種以上混合して用いてもよい。またC型晶を得るのに支障のない範囲で他の任意の溶媒を混合してもよい。有機溶媒と水との混合溶媒において、水の含有量は使用する有機溶媒によっても異なるが、一般には10〜90重量%であり、10〜80重量%が好ましく、10〜70重量%がより好ましい。
有機溶媒としては、上記結晶転移を可能にする溶媒であれば特に限定されないが、例えば高極性有機溶媒が挙げられる。高極性有機溶媒としては、通常その誘電率が5以上、好ましくは10以上、より好ましくは15以上のものが挙げられる。誘電率の上限は特に限定されないが、通常その誘電率が60以下、好ましくは50以下、より好ましくは40以下のものが挙げられる。
有機溶媒と水との混合溶媒の具体例としては、DMFと水との混合溶媒、アセトンと水との混合溶媒、メタノールと水との混合溶媒、アセトニトリルと水との混合溶媒、エタノールと水との混合溶媒、2−プロパノールと水との混合溶媒、テトラヒドロフランと水との混合溶媒およびn−ブタノールと水との混合溶媒が挙げられる。とくに好ましい溶媒としては、DMF、DMFと水との混合溶媒、アセトンと水との混合溶媒、メタノールと水との混合溶媒、およびアセトニトリルと水との混合溶媒が挙げられる。水と混合する有機溶媒としては、上記の有機溶媒を2種以上混合して用いてもよい。またC型晶を得るのに支障のない範囲で他の任意の溶媒を混合してもよい。有機溶媒と水との混合溶媒において、水の含有量は使用する有機溶媒によっても異なるが、一般には10〜90重量%であり、10〜80重量%が好ましく、10〜70重量%がより好ましい。
有機溶媒と水との混合溶媒を使用する場合のその比率、および各溶媒における結晶転移させる際の温度は、当業者がそれぞれ好ましい条件を適宜設定することができる。
例えば、アセトン−水混合溶媒を使用する場合、アセトンと水の比率は重量比で90:10〜50:50の範囲が好ましく、80:20〜60:40の範囲がより好ましい。結晶転移させる際の温度は40℃〜混合溶媒の沸点の範囲が好ましく、45℃〜同沸点の範囲がより好ましい。また温度の上限は55℃以下が好ましく、50℃以下がより好ましい。
例えば、メタノール−水混合溶媒を使用する場合、メタノールと水の比率は重量比で75:25〜45:55の範囲が好ましく、70:30〜50:50の範囲がより好ましく、特に65:35〜55:45の範囲が好ましい。結晶転移させる際の温度は40℃〜混合溶媒の沸点の範囲が好ましく、45℃〜同沸点の範囲がより好ましい。また温度の上限は60℃以下が好ましく、55℃以下がより好ましい。
例えば、アセトニトリル−水混合溶媒を使用する場合、アセトニトリルと水の比率は重量比で90:10〜45:55の範囲が好ましく、85:15〜50:50の範囲がより好ましい。結晶転移させる際の温度は40℃〜混合溶媒の沸点の範囲が好ましく、45℃〜同沸点の範囲がより好ましい。さらに、温度の上限は70℃以下が好ましく、65℃以下がより好ましい。
例えば、DMF単独溶媒またはDMF−水混合溶媒を使用する場合、DMFと水の比率は重量比で100:0〜10:90の範囲が好ましく、90:10〜25:75の範囲がより好ましく、85:15〜30:70の範囲が特に好ましい。結晶転移させる際の温度は0℃〜混合溶媒の沸点の範囲が好ましく、10℃〜同沸点の範囲がより好ましく、さらには15℃〜同沸点の範囲が好ましい。また温度の上限は100℃以下が好ましく、90℃以下がより好ましく、さらには80℃以下が好ましく、特に70℃以下が好ましく、さらには60℃以下が好ましい。
例えば、エタノール−水混合溶媒を使用する場合、エタノールと水の比率は重量比で90:10〜10:90の範囲が好ましく、さらには85:15〜10:90の範囲が好ましく、85:15〜15:85の範囲がより好ましい。結晶転移させる際の温度は55℃〜混合溶媒の沸点の範囲が好ましく、60℃〜同沸点の範囲がより好ましく、さらには65℃〜同沸点の範囲が好ましい。また温度の上限は75℃以下が好ましく、70℃以下がより好ましい。
例えば、2−プロパノール−水混合溶媒を使用する場合、2−プロパノールと水の比率は重量比で90:10〜45:55の範囲が好ましく、85:15〜50:50の範囲がより好ましく、さらには85:15〜55:45の範囲が好ましい。結晶転移させる際の温度は55℃〜混合溶媒の沸点の範囲が好ましく、60℃〜同沸点の範囲がより好ましく、さらには65℃〜同沸点の範囲が好ましい。また温度の上限は80℃以下が好ましく、75℃以下がより好ましい。
例えば、テトラヒドロフラン−水混合溶媒を使用する場合、テトラヒドロフランと水の比率は重量比で90:10〜25:75の範囲が好ましく、90:10〜30:70の範囲がより好ましく、さらには85:15〜35:65の範囲が好ましい。結晶転移させる際の温度は55℃〜混合溶媒の沸点の範囲が好ましい。また温度の上限は65℃以下が好ましく、60℃以下がより好ましい。
例えば、n−ブタノール−水混合溶媒を使用する場合、n−ブタノールと水の比率は重量比で90:10〜70:30の範囲が好ましく、85:15〜65:35の範囲がより好ましい。結晶転移させる際の温度は75℃〜混合溶媒の沸点の範囲が好ましく、85℃〜同沸点の範囲がより好ましい。また温度の上限は92℃以下が好ましく、90℃以下がより好ましい。
本発明の方法においては、C型晶に結晶転移させる工程を含む。結晶転移させる工程とは、A型晶を本発明における特定の溶媒中で、スラリー化する工程、好ましくは攪拌する工程を含む。A型晶をスラリー化する際には、A型晶1グラムに対して特定の溶媒の量は、その溶媒によって変化するが、通常1g〜100g、好ましくは3g〜30gである。
また結晶転移させる時間は特に限定されないが、好ましくは0.5〜100時間、さらに好ましくは1〜50時間である。結晶転移の後、スラリーから濾過、遠心分離等により結晶を分離し、減圧乾燥、加熱乾燥等により結晶を乾燥させて、バラシクロビル塩酸塩のC型晶を得ることができる。
またA型晶を結晶転移させるに当たり、必ずしもA型晶を系中から単離する必要はなく、A型晶が得られる条件で晶析し、A型晶を得た後、本発明の特定の溶媒も用いて溶媒組成を変化させてC型晶に転移させることを特徴とする方法も本発明に含まれる。また、A型晶を晶析させる溶媒組成が本発明の特定の溶媒の組成であれば、A型晶が得られる晶析条件にてA型晶を得た後、溶媒組成を変化させることなく、C型晶への結晶転移に適した温度条件下で、連続してC型晶に結晶転移させることを特徴とする方法も本発明に含まれる。このような溶媒としては、例えばアセトンと水との混合溶媒などが挙げられる。
また結晶転移させる時間は特に限定されないが、好ましくは0.5〜100時間、さらに好ましくは1〜50時間である。結晶転移の後、スラリーから濾過、遠心分離等により結晶を分離し、減圧乾燥、加熱乾燥等により結晶を乾燥させて、バラシクロビル塩酸塩のC型晶を得ることができる。
またA型晶を結晶転移させるに当たり、必ずしもA型晶を系中から単離する必要はなく、A型晶が得られる条件で晶析し、A型晶を得た後、本発明の特定の溶媒も用いて溶媒組成を変化させてC型晶に転移させることを特徴とする方法も本発明に含まれる。また、A型晶を晶析させる溶媒組成が本発明の特定の溶媒の組成であれば、A型晶が得られる晶析条件にてA型晶を得た後、溶媒組成を変化させることなく、C型晶への結晶転移に適した温度条件下で、連続してC型晶に結晶転移させることを特徴とする方法も本発明に含まれる。このような溶媒としては、例えばアセトンと水との混合溶媒などが挙げられる。
バラシクロビル塩酸塩のC型晶の乾燥結晶の水分含量は、好ましくは1.0%以下、さらに好ましくは0.7%以下、さらに好ましくは0.5%以下とすることができる。水分含量は、カールフィッシャー法あるいは熱重量分析により測定することができ、いずれかの測定方法により測定される水分含量が、上記値を満たすのが好ましい。
本発明の方法によって得られるバラシクロビル塩酸塩のC型晶の化学的純度は、
通常98%以上、好ましくは99%以上である。また本発明の方法によって、結晶形の純度の高いC型晶が得られる。
本発明の方法によって得られるバラシクロビル塩酸塩のC型晶の化学的純度は、
通常98%以上、好ましくは99%以上である。また本発明の方法によって、結晶形の純度の高いC型晶が得られる。
このようにして得られるC型晶は、Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、例えば8.5、16.3、23.8、26.1および32.2°付近に回折角2θの特徴的ピークを有する。さらに詳細には、例えば8.5、10.7、14.4、16.3、19.9、21.1、23.8、26.1、26.7、32.2および33.9°付近に回折角2θの特徴的ピークを有する。C型晶のX線回折パターンは図3に示される。なお、粉末X線回折スペクトルにおける回折角(2θ)の値は、±0.2°程度の測定誤差を有し得るものであり、このような誤差が結晶形の同一性を否定するものでない。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。これら実施例は本発明を限定するものではない。
<粉末X線回折測定>
Cu−Kα線による粉末X線回折の測定は、PANalytical製X線回折装置X’pert Proを用い、管球:Cu、管電流:40mA、管電圧:45kV、サンプリング幅:0.040°、走査速度:0.5°/秒、波長:(Kα1)1.540598Å,(Kα2)1.544426、測定回折角範囲(2θ):2〜45°の条件で測定した。
Cu−Kα線による粉末X線回折の測定は、PANalytical製X線回折装置X’pert Proを用い、管球:Cu、管電流:40mA、管電圧:45kV、サンプリング幅:0.040°、走査速度:0.5°/秒、波長:(Kα1)1.540598Å,(Kα2)1.544426、測定回折角範囲(2θ):2〜45°の条件で測定した。
<水分含量測定>
バラシクロビル塩酸塩の水分含量はカールフィッシャー水分計(京都電子工業(株)製、MKS−500)または熱重量測定装置((株)リガク製、TG8110C)により測定した。カールフィッシャーの場合はサンプル量を約100mg、2〜3回の平均値を分析値とし、熱重量分析の場合はサンプル量を約10mgとした。
バラシクロビル塩酸塩の水分含量はカールフィッシャー水分計(京都電子工業(株)製、MKS−500)または熱重量測定装置((株)リガク製、TG8110C)により測定した。カールフィッシャーの場合はサンプル量を約100mg、2〜3回の平均値を分析値とし、熱重量分析の場合はサンプル量を約10mgとした。
<参考例1>
2−[(2−アミノ−1,6−ジヒドロ−6−オキソ−9H−プリン−9−イル)メトキシ]エチル L−バリネート塩酸塩(バラシクロビル塩酸塩)のA型晶の調製
A型晶を特許文献1の実施例1に準じて調製した。2−[(2−アミノ−1,6−ジヒドロ−6−オキソ−9H−プリン−9−イル)メトキシ]エチル N−[(ベンジルオキシ)カルボニル]−L−バリネート(Z−バラシクロビル)63gに変性アルコール291mlと水121mlを加え、加熱し還流することでZ−バラシクロビルを溶解した。溶液を40℃まで冷却し、5%パラジウム炭素(50%wet)7.7gおよびギ酸15gを加え撹拌した。さらにギ酸7.8gを加えた後、ろ過によりパラジウム炭素を除去した。ろ過液に35%塩酸14gを加え、減圧下で濃縮を行った。濃縮液にアセトン369gを加え、1時間撹拌後ろ過により湿結晶を得た。得られた湿結晶にアセトン252mlを加え懸濁液とし、再びろ過することでバラシクロビル塩酸塩の湿結晶56.6gを取り上げた。結晶を減圧下、60℃にて乾燥することで、バラシクロビル塩酸塩のA型晶を得た。
2−[(2−アミノ−1,6−ジヒドロ−6−オキソ−9H−プリン−9−イル)メトキシ]エチル L−バリネート塩酸塩(バラシクロビル塩酸塩)のA型晶の調製
A型晶を特許文献1の実施例1に準じて調製した。2−[(2−アミノ−1,6−ジヒドロ−6−オキソ−9H−プリン−9−イル)メトキシ]エチル N−[(ベンジルオキシ)カルボニル]−L−バリネート(Z−バラシクロビル)63gに変性アルコール291mlと水121mlを加え、加熱し還流することでZ−バラシクロビルを溶解した。溶液を40℃まで冷却し、5%パラジウム炭素(50%wet)7.7gおよびギ酸15gを加え撹拌した。さらにギ酸7.8gを加えた後、ろ過によりパラジウム炭素を除去した。ろ過液に35%塩酸14gを加え、減圧下で濃縮を行った。濃縮液にアセトン369gを加え、1時間撹拌後ろ過により湿結晶を得た。得られた湿結晶にアセトン252mlを加え懸濁液とし、再びろ過することでバラシクロビル塩酸塩の湿結晶56.6gを取り上げた。結晶を減圧下、60℃にて乾燥することで、バラシクロビル塩酸塩のA型晶を得た。
<実施例1>アセトン−水混合溶媒におけるA型晶からの結晶転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをアセトン(誘電率:21.5)またはアセトンと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜50℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を50℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表1に示す。
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをアセトン(誘電率:21.5)またはアセトンと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜50℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を50℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表1に示す。
表中、AはA型晶を、CはC型晶を表す(以下同様)。A+BはX線回折測定において、A型晶とB型晶の双方のピークが観察されたことを意味する(以下同様)。
なお、B型晶は上述した公知結晶でありC型晶とは異なる無水結晶である。Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、例えば6.7、9.2、11.4、21.4および22.9°付近に回折角2θの特徴的ピークを有する。さらに詳細には、例えば6.7、8.1、9.2、11.4、13.3、15.4、15.7、16.2、17.0、21.4および22.9°付近に回折角2θの特徴的ピークを有する。
B型晶のX線回折パターンは図2に示される。なお、粉末X線回折スペクトルにおける回折角(2θ)の値は、±0.2°程度の測定誤差を有し得るものであり、このような誤差が結晶形の同一性を否定するものでない。
B型晶のX線回折パターンは図2に示される。なお、粉末X線回折スペクトルにおける回折角(2θ)の値は、±0.2°程度の測定誤差を有し得るものであり、このような誤差が結晶形の同一性を否定するものでない。
<実施例2>メタノール−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをメタノール(誘電率:32.4)またはメタノールと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜50℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表2に示す。
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをメタノール(誘電率:32.4)またはメタノールと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜50℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表2に示す。
表中、DはD型晶を表す(以下同様)。D型晶は新規の結晶であり、そのX線回折パターンは図4に示される。A+DはX線回折測定において、A型晶とD型晶の双方のピークが観察されたことを意味する(以下同様)。A+CはX線回折測定において、A型晶とC型晶の双方のピークが観察されたことを意味する(以下同様)。C+DはX線回折測定において、C型晶とD型晶の双方のピークが観察されたことを意味する(以下同様)。
<実施例3>エタノール−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをエタノール(誘電率:25.0)またはエタノールと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜70℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表3に示す。
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをエタノール(誘電率:25.0)またはエタノールと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜70℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表3に示す。
表中、BはB型晶を表す(以下同様)。EはE型晶を表す(以下同様)。E型晶は新規の結晶であり、そのX線回折パターンは図5に示される。FはF型晶を表す(以下同様)。F型晶は新規の結晶であり、そのX線回折パターンは図6に示される。A+EはX線回折測定において、A型晶とE型晶の双方のピークが観察されたことを意味する(以下同様)。
<実施例4>
2-プロパノール−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gを2-プロパノール(誘電率:18.6)または2-プロパノールと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜70℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表4に示す。
2-プロパノール−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gを2-プロパノール(誘電率:18.6)または2-プロパノールと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜70℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表4に示す。
表中、B+FはX線回折測定において、B型晶とF型晶の双方のピークが観察されたことを意味する(以下同様)。
<実施例5>
アセトニトリル−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをアセトニトリル(誘電率:37.5)またはアセトニトリルと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜50℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表5に示す。
アセトニトリル−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをアセトニトリル(誘電率:37.5)またはアセトニトリルと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜50℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表5に示す。
<実施例6>
テトラヒドロフラン−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをテトラヒドロフラン(誘電率:8.2)またはテトラヒドロフランと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜60℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表6に示す。
テトラヒドロフラン−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをテトラヒドロフラン(誘電率:8.2)またはテトラヒドロフランと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜60℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表6に示す。
<実施例7>
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをDMF(誘電率:36.7)またはDMFと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜50℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表7に示す。
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをDMF(誘電率:36.7)またはDMFと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30℃〜50℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を60℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表7に示す。
表中、B+Cは、X線回折測定において、B型晶とC型晶の双方のピークが観察されたことを意味する(以下同様)。
<実施例8>
n−ブタノール−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをn−ブタノール(誘電率:17.1)またはn−ブタノールと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30〜90℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を80℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表8に示す。
n−ブタノール−水混合溶媒におけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶0.5〜1.5gをn−ブタノール(誘電率:17.1)またはn−ブタノールと水の混合溶媒5〜15gに懸濁させスラリー状とし(結晶が溶解する場合は結晶を追加しスラリー状とした)、30〜90℃にて10〜30時間撹拌した。スラリーをろ過し、得られた結晶を80℃で2〜10時間減圧乾燥を行った。得られたバラシクロビル塩酸塩の結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認した。結果を表8に示す。
表中、A+Fは、X線回折測定において、A型晶とF型晶の双方のピークが観察されたことを意味する(以下同様)。D+Fは、X線回折測定において、D型晶とF型晶の双方のピークが観察されたことを意味する(以下同様)。溶媒組成60/40においては、n−ブタノール層と水層が分離し、混合溶媒とならなかったため未実施。
<比較例1>
還流n−ブタノールにおけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶2gにn−ブタノール200mlを加え、加熱還流を1時間行った。25℃まで冷却後、ろ過することで結晶を取り上げた。取り上げた結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認するとB型晶であった。また、取り上げた結晶を80℃で4時間乾燥した後、粉末X線回折を測定し、結晶形を確認するとB型晶であった。
還流n−ブタノールにおけるA型晶からの転移
バラシクロビル塩酸塩のA型晶2gにn−ブタノール200mlを加え、加熱還流を1時間行った。25℃まで冷却後、ろ過することで結晶を取り上げた。取り上げた結晶の粉末X線回折を測定し、結晶形を確認するとB型晶であった。また、取り上げた結晶を80℃で4時間乾燥した後、粉末X線回折を測定し、結晶形を確認するとB型晶であった。
<実施例9>
L−バリン53.3g(455mmol)にアセチルアセトン49.2g(492mmol)およびトリエチルアミン55.3g(546mmol)を加え、50℃で24時間攪拌した。
その後、減圧下でアセチルアセトンおよびトリエチルアミンを留去し、さらにDMFを加えて減圧することで脱水を行った。得られたDMF溶液に、4−ジメチルアミノピリジン3.1g(25.3mmol)を加えた。
この溶液を5℃に冷却し、60%N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)のDMF溶液69.6g(202mmol)、続いて9−[(2−ヒドロキシエトキシ)メチル]グアニン(アシクロビル)の2/3水和物60g(253mmol)を加えた。さらに、60%DCCのDMF溶液104.4g(304mmol)を20時間かけて滴下し、2時間攪拌を継続した(アシクロビルの消費率は98%)。
この溶液に水4.6gを加え40℃で3時間攪拌し、25℃に冷却した後、析出しているジシクロヘキシルウレアを分離により除去した。
ジシクロヘキシルウレアを除去した濾過液を濃縮し、得られた残渣に60℃でアセトン189gを加え、1時間撹拌後、さらにアセトン279gを滴下した。10℃まで冷却後、結晶を分離し、2−[(2−アミノ−1,6−ジヒドロ−6−オキソ−9H−プリン−9−イル)メトキシ]エチル N−(1−アセチルプロペン−2−イル)−L−バリネートを粗結晶として63.7g得た。得られた粗結晶20gに水32.4g、アセトン68.8gを加え懸濁液とし、さらに35%塩酸4.9gを加え、50℃にて1時間撹拌した。ろ過により不溶物を除去した後、アセトン141gを加えバラシクロビル塩酸塩(A型晶)を析出させ、50℃にて10時間撹拌した(結晶転移時の溶媒組成;アセトン/水=84/16(wt/wt))。40℃に冷却後、結晶を分離、乾燥することでバラシクロビル塩酸塩のC型晶を14.5g得た。得られたバラシクロビル塩酸塩の水分は0.5%であった。
L−バリン53.3g(455mmol)にアセチルアセトン49.2g(492mmol)およびトリエチルアミン55.3g(546mmol)を加え、50℃で24時間攪拌した。
その後、減圧下でアセチルアセトンおよびトリエチルアミンを留去し、さらにDMFを加えて減圧することで脱水を行った。得られたDMF溶液に、4−ジメチルアミノピリジン3.1g(25.3mmol)を加えた。
この溶液を5℃に冷却し、60%N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)のDMF溶液69.6g(202mmol)、続いて9−[(2−ヒドロキシエトキシ)メチル]グアニン(アシクロビル)の2/3水和物60g(253mmol)を加えた。さらに、60%DCCのDMF溶液104.4g(304mmol)を20時間かけて滴下し、2時間攪拌を継続した(アシクロビルの消費率は98%)。
この溶液に水4.6gを加え40℃で3時間攪拌し、25℃に冷却した後、析出しているジシクロヘキシルウレアを分離により除去した。
ジシクロヘキシルウレアを除去した濾過液を濃縮し、得られた残渣に60℃でアセトン189gを加え、1時間撹拌後、さらにアセトン279gを滴下した。10℃まで冷却後、結晶を分離し、2−[(2−アミノ−1,6−ジヒドロ−6−オキソ−9H−プリン−9−イル)メトキシ]エチル N−(1−アセチルプロペン−2−イル)−L−バリネートを粗結晶として63.7g得た。得られた粗結晶20gに水32.4g、アセトン68.8gを加え懸濁液とし、さらに35%塩酸4.9gを加え、50℃にて1時間撹拌した。ろ過により不溶物を除去した後、アセトン141gを加えバラシクロビル塩酸塩(A型晶)を析出させ、50℃にて10時間撹拌した(結晶転移時の溶媒組成;アセトン/水=84/16(wt/wt))。40℃に冷却後、結晶を分離、乾燥することでバラシクロビル塩酸塩のC型晶を14.5g得た。得られたバラシクロビル塩酸塩の水分は0.5%であった。
<実施例10>
85wt%アセトン水にバラシクロビル塩酸塩の溶液を加え、析出する結晶の結晶形を確認した。同時にアセトンも滴下し、アセトン水の組成を85wt%に保持した。
2−[(2−アミノ−1,6−ジヒドロ−6−オキソ−9H−プリン−9−イル)メトキシ]エチル N−(1−アセチルプロペン−2−イル)−L−バリネート20.0gに水32g、アセトン43gを加えた。引き続き、50℃で35%塩酸を5.2g加え1時間撹拌し、ろ過により不溶物を除去した。50℃にてアセトン173gと水30.5gの混合溶液(アセトン濃度85wt%)に、不溶物を除去した濾液とアセトン158gを同時に(アセトン濃度は85wt%に保持しながら)滴下することで、バラシクロビル塩酸塩を析出させた。滴下終了後、0時間、1時間、2.5時間の結晶をサンプリングし、乾燥させた後、結晶形を粉末X線により確認した。0時間目ではA型晶、1時間目ではA型晶とC型晶の混晶、2.5時間では大部分がC型晶であった。48時間後の結晶もC型晶であった。
0時間目(A型晶)と48時間目(C型晶)の結晶中および原料である2−[(2−アミノ−1,6−ジヒドロ−6−オキソ−9H−プリン−9−イル)メトキシ]エチル N−(1−アセチルプロペン−2−イル)−L−バリネートに含まれる不純物をHPLCにて分析した。原料、A型晶またはC型晶に含まれる不純物の割合(面積百分率)を表9に示す(波長254nmにおけるピーク面積により算出した)。
85wt%アセトン水にバラシクロビル塩酸塩の溶液を加え、析出する結晶の結晶形を確認した。同時にアセトンも滴下し、アセトン水の組成を85wt%に保持した。
2−[(2−アミノ−1,6−ジヒドロ−6−オキソ−9H−プリン−9−イル)メトキシ]エチル N−(1−アセチルプロペン−2−イル)−L−バリネート20.0gに水32g、アセトン43gを加えた。引き続き、50℃で35%塩酸を5.2g加え1時間撹拌し、ろ過により不溶物を除去した。50℃にてアセトン173gと水30.5gの混合溶液(アセトン濃度85wt%)に、不溶物を除去した濾液とアセトン158gを同時に(アセトン濃度は85wt%に保持しながら)滴下することで、バラシクロビル塩酸塩を析出させた。滴下終了後、0時間、1時間、2.5時間の結晶をサンプリングし、乾燥させた後、結晶形を粉末X線により確認した。0時間目ではA型晶、1時間目ではA型晶とC型晶の混晶、2.5時間では大部分がC型晶であった。48時間後の結晶もC型晶であった。
0時間目(A型晶)と48時間目(C型晶)の結晶中および原料である2−[(2−アミノ−1,6−ジヒドロ−6−オキソ−9H−プリン−9−イル)メトキシ]エチル N−(1−アセチルプロペン−2−イル)−L−バリネートに含まれる不純物をHPLCにて分析した。原料、A型晶またはC型晶に含まれる不純物の割合(面積百分率)を表9に示す(波長254nmにおけるピーク面積により算出した)。
表10にA型晶の粉末X線回折スペクトルのピークデータを示す。
表11にC型晶の粉末X線回折スペクトルのピークデータを示す。
以上、本発明の具体的な態様のいくつかを詳細に説明したが、当業者であれば、示された特定の態様に、本発明の教示と利点から実質的に逸脱しない範囲で様々な修正と変更をなすことが可能である。従って、そのような修正及び変更も、すべて請求の範囲で請求される本発明の精神と範囲内に含まれるものである。
本出願は、日本で出願された特願2007−228275および米国仮出願60/973575を基礎としており、その内容は本出願にすべて包含されるものである。
本出願は、日本で出願された特願2007−228275および米国仮出願60/973575を基礎としており、その内容は本出願にすべて包含されるものである。
Claims (3)
- Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、3.6±0.2°、8.5±0.2°、9.4±0.2°、10.5±0.2°、10.8±0.2°、13.3±0.2°および27.3±0.2°に回折角2θの特徴的ピークを有するバラシクロビル塩酸塩水和物結晶を、N,N−ジメチルホルムアミド中または有機溶媒と水との混合溶媒中で結晶転移させることを特徴とする、Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、8.5±0.2°、16.3±0.2°、23.8±0.2°、26.1±0.2°および32.2±0.2°に回折角2θの特徴的ピークを有するバラシクロビル塩酸塩無水結晶の製造方法。
- 有機溶媒が、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、メタノール、エタノール、2−プロパノール、n−ブタノール、テトラヒドロフランおよびアセトニトリルからなる群より選択される1種以上の有機溶媒である請求項1記載の製造方法。
- 有機溶媒と水との混合溶媒が、水を10〜90重量%含有する、請求項1または2記載の製造方法。
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Citations (3)
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JP2005511612A (ja) * | 2001-11-05 | 2005-04-28 | グラクソ グループ リミテッド | 塩酸バラシクロビルの無水結晶形 |
JP2005526694A (ja) * | 2001-09-07 | 2005-09-08 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | バラシクロビル塩酸塩の結晶型 |
Family Cites Families (2)
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JP4097698B2 (ja) * | 1996-01-19 | 2008-06-11 | グラクソ、グループ、リミテッド | 一日一回の投与による陰部ヘルペス治療用医薬の製造のためのバラシクロビールの使用 |
CA2278474A1 (en) * | 1997-01-17 | 1998-07-23 | Ajinomoto Co., Inc. | Novel z-valacyclovir crystals |
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JPH11503718A (ja) * | 1995-01-20 | 1999-03-30 | ザ、ウェルカム、ファンデーション、リミテッド | グアニン誘導体 |
JP2005526694A (ja) * | 2001-09-07 | 2005-09-08 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | バラシクロビル塩酸塩の結晶型 |
JP2005511612A (ja) * | 2001-11-05 | 2005-04-28 | グラクソ グループ リミテッド | 塩酸バラシクロビルの無水結晶形 |
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