JPWO2008099501A1 - 電子顕微鏡及び観察方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 108
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 14
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims abstract description 7
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 49
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 238000000851 scanning transmission electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004624 confocal microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000003325 tomography Methods 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/05—Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/04—Means for controlling the discharge
- H01J2237/047—Changing particle velocity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/05—Arrangements for energy or mass analysis
- H01J2237/057—Energy or mass filtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2802—Transmission microscopes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2809—Scanning microscopes characterised by the imaging problems involved
- H01J2237/2811—Large objects
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Abstract
Description
12…電子銃
14…加速電圧制御装置
16…収束レンズ系制御装置
18…走査レンズ系制御装置
20…結像レンズ系制御装置
22…試料台制御装置
24…電子プリズム
26…レンズ系制御用入力装置
28…試料台制御用入力装置
30…エネルギー選択絞り
32…検出器
34…処理装置
36…入力装置
38…外部記憶装置
40…表示装置
42…試料
50…電子線
52,54…構造体
本発明は上記実施形態に限らず種々の変形が可能である。
Claims (9)
- 電子線を生成する電子銃と、
前記電子銃により生成された前記電子線を加速して試料に入射する加速器と、
前記試料との相互作用によりエネルギーを損失して前記試料を透過した前記電子線のうち、特定のエネルギーの電子線を選別する分光器と、
前記分光器により選別された前記特定のエネルギーの前記電子線を検出し、前記電子線の損失エネルギー量に対応する前記試料の深さにおける前記電子線の透過信号又は回折信号を取得する検出器と
を有することを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求の範囲第1項に記載の電子顕微鏡において、
前記特定のエネルギーが定格加速エネルギーに一致するように、前記試料に入射する前記電子線の加速エネルギーを制御する制御装置と
を更に有することを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求の範囲第1項又は第2項に記載の電子顕微鏡において、
前記加速器により加速した前記電子線を前記試料上で走査する走査レンズを更に有する
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 請求の範囲第1項又は第2項に記載の電子顕微鏡において、
前記試料を透過した前記電子線を多段レンズで拡大又は縮小する結像レンズを更に有する
ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 電子線を生成する電子銃と、
前記電子線を所定の加速電圧に加速して試料に入射する加速器と、
前記試料を透過した前記電子線を検出する検出器と、
前記電子線の前記加速電圧により、前記試料内における前記電子線の焦点位置を制御する制御装置と
を有することを特徴とする電子顕微鏡。 - 電子線を試料に入射し、前記試料を透過した電子線の透過像又は回折像を取得する電子顕微鏡を用いた観察方法であって、
前記試料との相互作用によりエネルギーを損失して前記試料を透過した前記電子線のうち、特定のエネルギーの電子線を選択的に検出することにより、前記電子線の損失エネルギー量に対応する前記試料の深さにおける前記電子線の透過像又は回折像を取得する
ことを特徴とする観察方法。 - 請求の範囲第6項に記載の観察方法において、
前記特定のエネルギーが、前記電子顕微鏡の定格加速エネルギーに一致するように、前記試料に入射する前記電子線の加速エネルギーを設定する
ことを特徴とする観察方法。 - 請求の範囲第6項に記載の観察方法において、
前記試料の厚さ方向の焦点位置を変えることにより、厚さの異なるスライス像を取得し、相互演算することで、3次元画像を取得する
ことを特徴とする観察方法。 - 請求の範囲第6項に記載の観察方法において、
前記電子線のエネルギー選択幅を大きくすることにより、前記試料の厚さ方向のすべての領域に焦点を合わせる
ことを特徴とする観察方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2007/052850 WO2008099501A1 (ja) | 2007-02-16 | 2007-02-16 | 電子顕微鏡及び観察方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008099501A1 true JPWO2008099501A1 (ja) | 2010-05-27 |
JP5254046B2 JP5254046B2 (ja) | 2013-08-07 |
Family
ID=39689760
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008557958A Expired - Fee Related JP5254046B2 (ja) | 2007-02-16 | 2007-02-16 | 電子顕微鏡及び観察方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8299430B2 (ja) |
JP (1) | JP5254046B2 (ja) |
WO (1) | WO2008099501A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8704176B2 (en) * | 2011-08-10 | 2014-04-22 | Fei Company | Charged particle microscope providing depth-resolved imagery |
JP7228869B2 (ja) * | 2018-02-23 | 2023-02-27 | 国立大学法人 東京大学 | 電子顕微鏡及び測定試料の観察方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2001266783A (ja) * | 2000-03-22 | 2001-09-28 | Hitachi Ltd | 元素マッピング装置、走査透過型電子顕微鏡及び元素マッピング方法 |
JP2004227942A (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-12 | Jeol Ltd | 電子分光系を有した電子線装置 |
JP2005121552A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Fujitsu Ltd | 格子歪み測定装置及び測定方法 |
JP2006059687A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Jeol Ltd | 3次元像構築方法および透過電子顕微鏡 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3478594B2 (ja) * | 1994-04-25 | 2003-12-15 | キヤノン株式会社 | 透過型電子顕微鏡装置およびその観察方法 |
JP3439614B2 (ja) | 1997-03-03 | 2003-08-25 | 株式会社日立製作所 | 透過型電子顕微鏡及び元素分布観察方法 |
JP3687541B2 (ja) * | 1999-01-04 | 2005-08-24 | 株式会社日立製作所 | 元素マッピング装置、走査透過型電子顕微鏡および元素マッピング方法 |
JP2003249186A (ja) | 2002-02-22 | 2003-09-05 | Fujitsu Ltd | 走査透過型電子顕微鏡に依る観察方法及び観察装置 |
JP3789104B2 (ja) * | 2002-05-13 | 2006-06-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 元素分布観察方法及び装置 |
JP2006012863A (ja) * | 2005-08-22 | 2006-01-12 | National Institute For Materials Science | 透過電子顕微鏡の軸調整方法およびその装置 |
-
2007
- 2007-02-16 WO PCT/JP2007/052850 patent/WO2008099501A1/ja active Application Filing
- 2007-02-16 JP JP2008557958A patent/JP5254046B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-07-13 US US12/501,672 patent/US8299430B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2004227942A (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-12 | Jeol Ltd | 電子分光系を有した電子線装置 |
JP2005121552A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Fujitsu Ltd | 格子歪み測定装置及び測定方法 |
JP2006059687A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Jeol Ltd | 3次元像構築方法および透過電子顕微鏡 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8299430B2 (en) | 2012-10-30 |
US20090272902A1 (en) | 2009-11-05 |
WO2008099501A1 (ja) | 2008-08-21 |
JP5254046B2 (ja) | 2013-08-07 |
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