JPWO2008068917A1 - 半導体製造排ガスの除害装置 - Google Patents
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Abstract
Description
(12)…除害ユニット
(14)…出口スクラバ
(16)…半導体製造装置
(18)…プラズマジェットトーチ
(20)…電源ユニット
(22)…作動ガス送給ユニット
(24)…反応筒
(28)…スイッチ
(32)…旋回シャワー
(34)…水槽
(35)…出口バルブ
(36)…主配管
(37)…個別出口配管
(38)…個別入口配管
(40)…入口バルブ
(44)…バルブ
(46)…排ガス導入口
(48)…スクラバ本体
(50)…スプレーノズル
(54)…排気ファン
F…半導体製造排ガス
H…保温材
P…プラズマジェット
Claims (5)
- プラズマジェットトーチと、前記プラズマジェットトーチのプラズマジェット噴出側に設けられ、プラズマジェットおよびこのプラズマジェットに向けて供給される排ガスを囲繞し、その内部にて前記排ガスの熱分解を行なう反応筒とで構成され、流路を開閉する入口バルブが設けられた個別入口配管を介して半導体製造装置に接続される複数の除害ユニット、および
流路を開閉する出口バルブが設けられ、前記各反応筒の排出側端部に連通する個別出口配管を具備することを特徴とする半導体製造排ガスの除害装置。 - 前記反応筒内の温度、圧力又はプラズマジェット点火状態の少なくとも1つをセンシングすると共に、センシングされた情報に基づいて前記入口バルブを自動制御するようにしたことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の半導体製造排ガスの除害装置。
- 前記除害ユニットが3基以上装備されており、隣接する2基の除害ユニットで挟まれた除害ユニットを常時停止してバックアップ用とすることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項に記載の半導体製造排ガスの除害装置。
- 前記除害ユニットn基(但し、nは3以上の整数)に対して最大でn−1基(但し、nは3以上の整数)の電源ユニットを備え、スイッチを介して前記除害ユニットに接続する電源ユニットを切替えるようにしたことを特徴とする請求の範囲第1項乃至第3項の何れかに記載の半導体製造排ガスの除害装置。
- 前記除害ユニットで分解処理された排ガスを集合させて洗浄及び冷却する出口スクラバを備えると共に、前記除害ユニットで分解処理前の排ガスを出口スクラバの入口側に供給する常閉のバイパス配管が設けられていることを特徴とする請求の範囲第1項乃至第4項の何れかに記載の半導体製造排ガスの除害装置。
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