JP2009226391A - プラズマスクラバー - Google Patents

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Abstract

【課題】本発明のプラズマスクラバーは、電力消耗を減らしながら、反応炉内に高い温度雰囲気を形成して、難分解性気体を効果的に分解除去する。
【解決手段】本発明のプラズマスクラバーは、難分解性気体が供給される第1反応炉10、前記第1反応炉10内に設置され、前記難分解性気体の流れ方向に突出形成され、前記第1反応炉10との放電によって前記第1反応炉10との間に供給される前記難分解性気体にプラズマを発生させる電極40、前記第1反応炉10に連結装着され、前記プラズマが前記電極40に付着して(anchoring)連続的なアークジェットを形成する第2反応炉20、及び前記第2反応炉20に連結装着され、前記第2反応炉20で電子及び反応性の高い化学種を含む高温の反応部を形成して、滞留時間増加及び反応性を高め、前記難分解性気体を分解する第3反応炉30とを含む。
【選択図】図3

Description

本発明は、プラズマスクラバーに関するもので、より詳細には、低費用で難分解性気体を分解するプラズマスクラバーに関するものである。
地球温暖化を誘発する気体には、CO、CH、NO、HFCおよびPFC(Perfluorocompounds:過フッ素化合物)がある。過フッ素化合物(PFC)は、主にディスプレイ装置工程及び半導体工程で使用される気体で、CF、C、SF及びNFを含む。
温暖化気体は、安定された分子構造を有しているため容易に分解されず、従って難分解性気体という。難分解性気体による環境汚染及び地球温暖化を防止するために、難分解性気体を分解する技術が必要である。
難分解性気体の除去方法には、燃焼のような酸化方法、化学的な吸着方法及びプラズマを利用した分解方法がある。プラズマを利用した分解方法は、過フッ素化合物の除去に多く利用される。
プラズマを利用した分解方法は、反応炉内で高温のプラズマを発生させるプラズマトーチを利用するので、数十ないし数百lpmの気体を処理するために、数十ないし数百kWの電力を消耗する。
反応炉内での難分解性気体の分解は、高い温度雰囲気による熱分解を介したり、高いエネルギーを有する電子と気体分子の衝突を介して生じる。しかし、反応炉内で高いエネルギーを有する電子及び反応性の高い化学種が、豊富に拡張された高温の反応部を形成するのが難しい。
本発明は、反応炉内で高いエネルギーを有する電子及び反応性の高い化学種が、豊富に拡張された高温の反応部を形成し、難分解性気体を効果的に分解除去するプラズマスクラバーを提供する。
本発明は、電力消耗を減らしながら、反応炉内に高い温度雰囲気を形成して、難分解性気体を効果的に分解除去するプラズマスクラバーを提供する。
本発明の一実施例によるプラズマスクラバーは、難分解性気体が供給される第1反応炉、前記第1反応炉内に設置され、前記難分解性気体の流れ方向に突出形成され、前記第1反応炉との放電によって前記第1反応炉との間に供給される前記難分解性気体にプラズマを発生させる電極、前記第1反応炉に連結装着され、前記プラズマが前記電極に付着して(anchoring)連続的なアークジェットを形成する第2反応炉、及び前記第2反応炉に連結装着され、前記第2反応炉で電子及び反応性の高い化学種を含む高温の反応部を形成して、滞留時間増加及び反応性を高め、前記難分解性気体を分解する第3反応炉とを含むことができる。
前記第2反応炉は、前記第1反応炉側から前記第3反応炉側に向かうにつれ内部通路がだんだん狭くなるように形成することができる。
前記第3反応炉は、前記第2反応炉の最大内径より更に大きな内径を有することができる。
前記電極は、前記第1反応炉側から前記第2反応炉側に向かうにつれ、前記第1反応炉の内面に向かって次第に拡張形成される拡張部と、前記拡張部の端に形成される最大直径部、及び前記最大直径部から次第に縮小形成される縮小部とを含むことができる。
前記第1反応炉は、外部に連結される第1気体供給口を具備し、前記第1気体供給口は、前記拡張部に向かって形成されることができる。
前記第1気体供給口は、前記第1反応炉の法線方向に対して傾いて形成されることができる。
前記電極は、外部に連結される第2気体供給口を具備し、前記第2気体供給口は、前記拡張部から前記第1反応炉に向かって形成されることができる。
前記第2気体供給口は、前記電極の法線方向に対して傾いて形成されることができる。
本発明の一実施例によるプラズマスクラバーは、前記第1反応炉に装着され、前記電極と前記第1反応炉とを電気的に絶縁し、前記第1反応炉と前記電極の間をシーリングする絶縁体を含むことができる。
前記第1反応炉は、前記電極が挿入される内側シリンダーと、前記第2反応炉の反対側で前記内側シリンダーの外側に結合される外側シリンダーとを含むことができる。
前記外側シリンダーは、前記難分解性気体を供給する供給ラインが外側に連結され、内側には気体チェンバーを形成し、前記内側シリンダーは、前記気体チェンバーに供給される前記難分解性気体を前記電極に向かって供給する第1気体供給口を形成することができる。
前記電極は、前記内側シリンダーの一側から反対側に向かうにつれ、前記内側シリンダーの内面に向かって次第に拡張形成される拡張部と、前記拡張部の端に形成される最大直径部、及び前記最大直径部から次第に縮小形成される縮小部とを含むことができる。
本発明の一実施例によるプラズマスクラバーは、前記外側シリンダーに装着され、前記電極と前記内側シリンダーとを電気的に絶縁し、前記外側シリンダーと前記電極の間をシーリングする絶縁体を含むことができる。
前記難分解性気体は、過フッ素化合物(PFC)を含むことができる。前記難分解性気体は、CF、C、SF及びNFのいずれか一つを含むことができる。
前記電極は、内部に冷却水を供給して循環後、排出する冷却水供給通路と冷却水排出通路とを形成することができる。
前記冷却水供給通路と前記冷却水排出通路とは2重に形成され、前記冷却水排出通路内に前記冷却水供給通路を形成することができる。
前記電極は、水、酸化剤、燃料及び不活性気体のいずれか一つを前記第1反応炉の内部に供給するように内部に形成される供給通路、及び前記供給通路に連結形成される多孔部を含むことができる。
前記第1反応炉は、水、酸化剤、燃料及び不活性気体のいずれか一つを前記第1反応炉の内部に供給するように前記第1反応炉に設置される第1ノズルを含むことができる。
前記第2反応炉は、水、酸化剤、燃料及び不活性気体のいずれか一つを前記第2反応炉の内部に供給するように前記第2反応炉に形成されるジェットホールに設置される第2ノズルを含むことができる。
前記第3反応炉は、水、酸化剤、燃料および不活性気体のいずれか一つを前記第3反応炉の内部に供給するように前記第3反応炉に設置される第3ノズルを含むことができる。
このように、本発明の一実施例によると、電極の設置された第1反応炉に難分解性気体を供給し、電極と第1反応炉の間の放電でプラズマを発生させる効果がある。
第1反応炉に連結される第2反応炉の狭くなる形状によって、反応物である難分解性気体とプラズマの接触性を高めることができるという効果がある。
第2反応炉に連結される第3反応炉の広くなる形状によって、電子及び反応性の高い高温の拡張された空間での滞留時間を増加させ、難分解性気体の分解を促進させる効果がある。
難分解性気体に可燃性気体及び酸化剤をいっしょに供給する場合、過フッ素化合物(PFC)の分解反応に必要なラジカルなどの化学種を供給して、反応炉内に高い温度雰囲気を形成し、電力消耗を減らす効果がある。
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施例について本発明が属する技術分野で通常の知識を有した者が容易に実施できるように詳細に説明する。しかし、本発明はいろいろな相異なる形態に具現されることができ、ここで説明する実施例に限定されるものではない。図面で、本発明を明確に説明するために、説明と関係のない部分は省略し、明細書全体を通じて同一または類似した構成要素については同一な参照符合をつけた。
図1は、本発明の第1実施例によるプラズマスクラバーを含む難分解性気体分解装置の概略的な構成図である。
図1を参照すると、難分解性気体分解装置は、箱体100に内蔵され、難分解性気体を分解するプラズマスクラバー200、プラズマスクラバー200で分解された気体の再結合を防止する湿式スクラバー300、及び湿式スクラバー300を経由した気体に含まれたパーティクルを捕集し、分解された気体を排出する集塵機400とを含む。
難分解性気体は、地球温暖化を誘発する気体で、過フッ素化合物(PFC)を例に挙げることができる。たとえば、過フッ素化合物は、ディスプレイ装置工程や半導体工程で使用されるCF、C、SF及びNFを含む。
箱体100には、過フッ素化合物を供給する供給ライン101が連結され、過フッ素化合物を分解した気体を排出する排出ライン102が連結される。プラズマスクラバー200と湿式スクラバー300及び集塵機400は、箱体100に内蔵され、供給ライン101と排出ライン102の間に配置される。
プラズマスクラバー200は、供給ライン101に連結されて、供給ライン101に供給される難分解性気体を、プラズマ反応を利用して分解及び除去する。
湿式スクラバー300は、プラズマスクラバー200で分解された気体に、ノズル301を利用して水を噴射したり、水などで満たされた液状の空間を通過するようにして、分解された気体の再結合を抑制及び除去するのだが、たとえばHFを希釈及び回収する。
集塵機400は、例えばサイクロン集塵機で形成され、湿式スクラバー300から供給される気体からシリコンパーティクル、例えばSiHを除去する。また、集塵機400は、排出ライン102に連結され、分解された気体を箱体100の外に排出する。
湿式スクラバー300及び集塵機400は、公知の技術を適用することができるので、例示されたノズル301及びサイクロン集塵機に関する具体的な説明を省略する。
図2は、本発明の第1実施例によるプラズマスクラバーの分解斜視図で、図3は、図2のIII-III線に沿って切った断面図である。
図2及び図3を参照すると、プラズマスクラバー200は、箱体100内で順次的に連結されて配置される第1反応炉10、第2反応炉20、第3反応炉30及び第1反応炉10に内蔵される電極40とを含む。
第1反応炉10と電極40の間で放電を起こしてプラズマを発生させるように第1反応炉10に難分解性気体が供給される。第1反応炉10は、電極40との間で発生されたプラズマを、供給される難分解性気体の流れ方向に移動させるために、一側を開放し、他側を閉鎖して形成される。
電極40は、第1反応炉10内に設置され、難分解性気体の流れ方向に突出形成される。電極40と第1反応炉10は、両側に印加される交流または直流電圧で放電を起こし、第1反応炉10と電極40の間に供給される不活性気体及び難分解性気体にプラズマを発生させる。
難分解性気体の流れ及びプラズマの発生を基準に見ると、電極40は、第1反応炉10との間に形成される距離に変化を有する構造に形成される。例えば、電極40は、滑らかに連結される拡張部41、最大直径部42及び縮小部43とを含んで形成される。
拡張部41は、第1反応炉10側から第2反応炉20側に向かうにつれ、第1反応炉10の内面に向かって次第に拡張形成される。従って、拡張部41は、最大直径部42側に向かうにつれ、第1反応炉10との距離が次第に小さくなる。
縮小部43は、最大直径部42から第2反応炉20側に向かうにつれ次第に縮小形成される。従って、縮小部43は、最大直径部42から遠ざかるほど第1反応炉10との距離がだんだん大きくなる。
円筒形の第1反応炉10に内蔵される電極40の拡張に次いだ縮小構造は、交流または直流電圧印加時、第1反応炉10と電極40の間で放電の生成後消滅が繰り返されるのを可能にする。
第1反応炉10は、難分解性気体を流入するために、外部に連結される第1気体供給口11を具備する。第1気体供給口11は、難分解性気体を電極40の拡張部41に向かって噴射するように形成される。
一例を挙げると、第1反応炉10は、内側シリンダー12と外側シリンダー13とを含む。内側シリンダー12は、電極40を内蔵する。つまり、電極40と内側シリンダー12は、お互いの間に放電空間を形成する。外側シリンダー13は、第2反応炉20の反対側で内側シリンダー12の外側に結合される。
内側シリンダー12と結合される外側シリンダー13は、内側に気体チャンバー14を具備する。外側シリンダー13の外側には、難分解性気体を供給する供給ライン101が連結される。
内側シリンダー12は、気体チャンバー14に供給される難分解性気体を供給する第1気体供給口11を具備する。第1気体供給口11は、気体チャンバー14に供給される難分解性気体を電極40に向かって供給する。
この時、電極40で拡張部41は、内側シリンダー12の一側から反対側に向かうにつれ、最大直径部42に至るまで、内側シリンダー12の内面に向かって次第に拡張形成される。縮小部43は、最大直径部42から次第に縮小形成される。
図4は、図3のIV-IV線に沿って切った断面図である。
図4を参照すると、第1気体供給口11は、第1反応炉10、つまり内側シリンダー12の法線方向に対して傾いて形成される。従って、第1気体供給口11に供給される難分解性気体は、電極40と第1反応炉10の間、または電極40と内側シリンダー12の間で回転流(swirl)を形成して、発生されるプラズマの回転流を形成する。
難分解性気体の回転流は、電極40と内側シリンダー12の間で均一な放電を誘導し、内側シリンダー12の内部空間を効率的に活用することができるようにする。プラズマの回転流は、第2反応炉20でより強いアーク回転流を形成する。
一方、第1反応炉10または外側シリンダー13で第2反応炉20の反対側には絶縁体50が具備される。絶縁体50は、第1反応炉10または外側シリンダー13の構造によって多様に形成されることができる。
つまり、絶縁体50は、第2反応炉20の反対側で第1反応炉10に装着され、電極40と第1反応炉10を電気的に絶縁させながら、第1反応炉10と電極40の間をシーリングする。絶縁体50は、耐熱性の高いセラミックで形成されることができる。
これを具体的に説明すると、絶縁体50は、第2反応炉20の反対側で外側シリンダー13に装着され、電極40と内側シリンダー12を電気的に絶縁させながら、外側シリンダー13と電極40の間をシーリングする。
締結ボルト51は、絶縁体50に形成された貫通口52を介して挿入され、貫通口52に対応して第1反応炉10の外側シリンダー13のフランジ13aに形成された締結口13bにネジ結合されるので、絶縁体50と第1反応炉10の外側シリンダー13はお互い連結される。一方、絶縁体50と第1反応炉10は、絶縁体ケース(未図示)と第1反応炉10の溶接連結などによって簡潔な構造に形成されることができる(未図示)。
絶縁体50の絶縁作用によって、交流または直流電圧が印加される電極40と第1反応炉10の間、または電極40と内側シリンダー12の間で放電が可能であり、またプラズマ反応空間を形成して、難分解性気体を分解させることができる。
第2反応炉20は、第1反応炉10に連結装着され、プラズマの密度を高めアークジェット形成する。第2反応炉20は、第1反応炉10側から第3反応炉30側に向かうにつれ、内部通路がだんだん狭くなるように形成し、端にジェットホール21を形成する。
締結ボルト15は、第1反応炉10の内側シリンダー12のフランジ12aに形成された貫通口12bと、第2反応炉20の一側フランジ22に形成された貫通口23とを貫通し、ナット16にネジ結合されるので、第1反応炉10の内側シリンダー12と第2反応炉20はお互い連結される。
実際に、本発明の分解装置を製作する段階で、第1反応炉10、第2反応炉20及び第3反応炉30は、溶接などの方法で簡潔に製作されることができる。
第2反応炉20の内径D20が狭くなる形状は、連続的に発生するアークが第2反応炉20と第3反応炉30の連結支点に形成されたジェットホール21を通過することができるようにする。従って、難分解性気体がジェットホール21を通過しながらプラズマ領域との接触性が高くなって、反応効率が高くなる。
第3反応炉30は、第2反応炉20に連結装着され、反応性の高い高温雰囲気の拡張された反応空間を提供する。第3反応炉30は、第2反応炉20のジェットホール21側に連結され、第2反応炉20の最大内径D20よりもっと大きな内径D30を有する。
締結ボルト31は、第2反応炉20の他の一側フランジ24に形成された貫通口25と第3反応炉30の一側フランジ32に形成された貫通口33とを貫通して、ナット34にネジ結合されるので、第2反応炉20と第3反応炉30はお互い連結される。
第3反応炉30は、ジェットホール21に連結されて急激に広くなる形状によって、反応性の高い高温の拡張部を形成するので、反応物である難分解性気体が拡張部で滞留する時間を増加させて、難分解性気体の分解を促進する。
第1反応炉10で放電が開始されると、反応器特性と流動特性によって、プラズマアークはジェットホール21を通過しながら連続的に発生する。このように形成されたアークは、第3反応炉30で拡張されて、プラズマ反応に有利な条件を形成する。この条件でアークは、電極40から脱落されることなく、付着(anchoring)された状態で安定的な放電を持続する。
この状態になると、気体状態の反応物の熱伝達が容易になりながら、第1、第2、第3反応炉10、20、30内の反応空間の温度が難分解性気体の分解に適切な温度に高まる。
一方、難分解性気体の分解のために可燃性気体及び酸化剤が使用されることもできる。この場合、可燃性気体及び酸化剤は、難分解性気体が供給される第1気体供給口11を介して供給される。
難分解性気体に可燃性気体及び酸化剤が含まれると、酸化反応によって形成される高温状態はプラズマ特性を最適化して、第1、第2、第3反応炉10、20、30内部空間への熱伝達を更に増進させる。
反応領域を高温によって低い密度で維持することになると、低い密度によって電子の平均衝突行路が増加される。増加された電子の平均衝突行路は、電子の加速を誘導して高いエネルギーを有する電子を多量発生させ、難分解性気体の分解を更に促進させる。
また、可燃性気体と酸化剤の酸化反応過程または可燃性気体と酸化剤の熱分解過程で、難分解性気体の除去に必要な反応性の高いラジカルたちが生成され、難分解性気体の分解が促進される。
一例を挙げると、過フッ素化合物(PFC)であるCFの分解時、窒素気体にCFを含めて回転アークに注入する場合、5-10Nm3/hr程度の流量に対して数KWの電力値で、CFの分解率は数%から数十%と大変低い。
しかし、可燃性気体と酸化剤であるCHとOを部分酸化条件で供給すると、同一な電力値で80-90%以上のCF分解率を示す。
分解された気体は、湿式スクラバー300を介して再結合が抑制され、分解過程で形成されたHFを溶解させて除去し、集塵機400を介してパーティクル除去され、排出ライン102から排出される。
以下で、本発明の多様な実施例を例示する。以下の実施例は、第1実施例と類似ないし同一である。従って、ここでは類似ないし同一な部分に対する説明を省略し、お互い異なる部分に対して詳細に説明する。
図5は、本発明の第2実施例によるプラズマスクラバーの断面図である。
第1実施例と比較して説明すると、第1実施例で難分解性気体は、電極40の外側から供給されるが、第2実施例では電極240の内部に供給される。
図5では、難分解性気体が電極240の外側から供給され、また電極240の内部を介して供給されるものが例示されている。便宜上、第2実施例では追加構成について説明する。
電極240は、外部に連結される第2気体供給口241を具備する。第2気体供給口241は、電極240の内側に形成される電極240の拡張部41から第1反応炉10の内側シリンダー12に向かって形成される。
図6は、図5のVI-VI線に沿って切った断面図である。
図6を参照すると、第2気体供給口241は、電極240拡張部41の法線方向に対して傾いて形成される。従って、第2気体供給口241から供給される難分解性気体は、電極240と第1反応炉10の間、または電極240と内側シリンダー12の間で回転流(swirl)を形成し、発生されるプラズマの回転流を形成する。
第2気体供給口241の端と第1気体供給口11の端は、第1反応炉10と電極40、240の間でお互い食い違いに配置される。従って、第2気体供給口241から供給される難分解性気体の回転流は、第1気体供給口11から供給される難分解性気体の回転流を更に強くする。
図7は、本発明の第3実施例によるプラズマスクラバーの断面図で、図8及び図9は、図7に適用される電極の詳細断面図である。
図7ないし図8を参照すると、電極340は、内部に冷却水を供給して循環後、排出する冷却水供給通路341と冷却水排出通路342とを形成する。
冷却水供給通路341と冷却水排出通路342とは、2重に形成され、例えば冷却水排出通路342内に冷却水供給通路341が形成される。
従って、冷却水供給通路341に低温の冷却水が供給され、プラズマ放電で加熱された電極340を冷却させた後、冷却水排出通路342から排出される。従って、電極340の加熱が防止されることができる。
図9を参照すると、電極440は、水、酸化剤、燃料及び不活性気体のいずれか一つである添加剤を、第1反応炉10の内部に直接供給できるように内部に形成される供給通路441、及び供給通路441に連結される多孔部442とを形成する。
供給通路441に供給される添加剤は、電極440と第1反応炉10の間に供給され、プラズマ放電によって連続的なアークジェットを更に強くする。
再び、図7を参照すると、第1反応炉10は、第1ノズルN10を更に具備する。第1ノズルN10は、水、酸化剤、燃料及び不活性気体のいずれか一つである添加剤を第1反応炉10の内部に直接供給する。
第2反応炉20は、ジェットホール21に設置される第2ノズルN20を更に具備する。第2ノズルN20は、水、酸化剤、燃料及び不活性気体のいずれか一つである添加剤を第2反応炉20の内部に直接供給する。
第3反応炉30は、第3ノズルN30を更に具備する。第3ノズルN30は、水、酸化剤、燃料及び不活性気体のいずれか一つである添加剤を第3反応炉30の内部に直接供給する。
第1、第2及び第3ノズルN10、N20、N30は、一つのプラズマスクラバー300に共に使用されることもでき、少なくとも一つが選択的に使用されることもできる。
第1、第2及び第3ノズルN10、N20、N30に供給される添加剤は、第1、第2、第3反応炉10、20、30でプラズマ放電による連続的なアークジェットをより強く維持させる。
以上を介して本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、特許請求の範囲と発明の詳細な説明及び添付の図面の範囲内でいろいろと変形して実施することが可能であり、これらも本発明の範囲に属するのは当然である。
本発明の第1実施例によるプラズマスクラバーを含む難分解性気体分解装置の概略的な構成図である。 本発明の第1実施例によるプラズマスクラバーの分解斜視図である。 図2のIII-III線に沿って切った断面図である。 図3のIV-IV線に沿って切った断面図である。 本発明の第2実施例によるプラズマスクラバーの断面図である。 図5のVI-VI線に沿って切った断面図である。 本発明の第3実施例によるプラズマスクラバーの断面図である。 図7に適用される電極の詳細断面図である。 図7に適用される電極の詳細断面図である。
符号の説明
10,20,30:第1、第2、第3反応炉
11,241:第1気体供給口
12:内側シリンダー
13:外側シリンダー
14:気体チャンバー
21:ジェットホール
40,240,340,440:電極
41:拡張部
42:最大直径部
43:縮小部
50:絶縁体
100:箱体
101:供給ライン
102:排出ライン
200:プラズマスクラバー
300:湿式スクラバー
301:ノズル
400:集塵機
D20、D30:内径
341:冷却水供給通路
342:冷却水排出通路
441:供給通路
442:多孔部
N10、N20、N30:第1、第2、第3ノズル

Claims (21)

  1. 難分解性気体が供給される第1反応炉;
    前記第1反応炉内に設置され、前記難分解性気体の流れ方向に突出形成され、前記第1反応炉との放電によって前記第1反応炉との間に供給される前記難分解性気体にプラズマを発生させる電極;
    前記第1反応炉に連結装着され、前記プラズマが前記電極に付着して連続的なアークジェットを形成する第2反応炉;及び
    前記第2反応炉に連結装着され、前記第2反応炉で電子及び反応性の高い化学種を含む高温の反応部を形成して、滞留時間増加及び反応性を高め、前記難分解性気体を分解する第3反応炉とを含むことを特徴とするプラズマスクラバー。
  2. 前記第2反応炉は、
    前記第1反応炉側から前記第3反応炉側に向かうにつれ内部通路がだんだん狭くなるように形成されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマスクラバー。
  3. 前記第3反応炉は、
    前記第2反応炉の最大内径より更に大きな内径を有していることを特徴とする請求項2に記載のプラズマスクラバー。
  4. 前記電極は、
    前記第1反応炉側から前記第2反応炉側に向かうにつれ、前記第1反応炉の内面に向かって次第に拡張形成される拡張部と、
    前記拡張部の端に形成される最大直径部、及び
    前記最大直径部から次第に縮小形成される縮小部とを含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマスクラバー。
  5. 前記第1反応炉は、
    外部に連結される第1気体供給口を具備し、
    前記第1気体供給口は、
    前記拡張部に向かって形成されていることを特徴とする請求項4に記載のプラズマスクラバー。
  6. 前記第1気体供給口は、前記第1反応炉の法線方向に対して傾いて形成されていることを特徴とする請求項第5に記載のプラズマスクラバー。
  7. 前記電極は、
    外部に連結される第2気体供給口を具備し、
    前記第2気体供給口は、
    前記拡張部から前記第1反応炉に向かって形成されていることを特徴とする請求項4に記載のプラズマスクラバー。
  8. 前記第2気体供給口は、前記電極の法線方向に対して傾いて形成されていることを特徴とする請求項7に記載のプラズマスクラバー。
  9. 前記第1反応炉に装着され、前記電極と前記第1反応炉とを電気的に絶縁し、前記第1反応炉と前記電極の間をシーリングする絶縁体を含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマスクラバー。
  10. 前記第1反応炉は、
    前記電極が挿入される内側シリンダーと、
    前記第2反応炉の反対側で前記内側シリンダーの外側に結合される外側シリンダーとを含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマスクラバー。
  11. 前記外側シリンダーは、
    前記難分解性気体を供給する供給ラインが外側に連結され、内側には気体チェンバーを形成し、
    前記内側シリンダーは、
    前記気体チェンバーに供給される前記難分解性気体を前記電極に向かって供給する第1気体供給口を形成することを特徴とする請求項10に記載のプラズマスクラバー。
  12. 前記電極は、
    前記内側シリンダーの一側から反対側に向かうにつれ、前記内側シリンダーの内面に向かって次第に拡張形成される拡張部と、
    前記拡張部の端に形成される最大直径部、及び
    前記最大直径部から次第に縮小形成される縮小部とを含むことを特徴とする請求項11に記載のプラズマスクラバー。
  13. 前記外側シリンダーに装着され、前記電極と前記内側シリンダーとを電気的に絶縁し、前記外側シリンダーと前記電極の間をシーリングする絶縁体を含むことを特徴とする請求項10に記載のプラズマスクラバー。
  14. 前記難分解性気体は、過フッ素化合物(PFC)を含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマスクラバー。
  15. 前記難分解性気体は、CF、C、SF及びNFのいずれか一つを含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマスクラバー。
  16. 前記電極は、内部に冷却水を供給して循環後、排出する冷却水供給通路と冷却水排出通路とを形成することを特徴とする請求項1に記載のプラズマスクラバー。
  17. 前記冷却水供給通路と前記冷却水排出通路とは2重に形成され、前記冷却水排出通路内に前記冷却水供給通路を形成することを特徴とする請求項16に記載のプラズマスクラバー。
  18. 前記電極は、
    水、酸化剤、燃料及び不活性気体のいずれか一つを前記第1反応炉の内部に供給するように内部に形成される供給通路、及び
    前記供給通路に連結形成される多孔部を含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマスクラバー。
  19. 前記第1反応炉は、水、酸化剤、燃料及び不活性気体のいずれか一つを前記第1反応炉の内部に供給するように前記第1反応炉に設置される第1ノズルを含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマスクラバー。
  20. 前記第2反応炉は、水、酸化剤、燃料及び不活性気体のいずれか一つを前記第2反応炉の内部に供給するように前記第2反応炉に形成されるジェットホールに設置される第2ノズルを含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマスクラバー。
  21. 前記第3反応炉は、水、酸化剤、燃料および不活性気体のいずれか一つを前記第3反応炉の内部に供給するように前記第3反応炉に設置される第3ノズルを含むことを特徴とする請求項1に記載のプラズマスクラバー。
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