JPWO2006070452A1 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
ウェハ上に形成されるニッケル膜の膜厚変動を防止しながら、めっき液中に存在するスラッジを効率的に除去することができる技術を提供することを目的とする。この目的を達するため、めっき処理槽20とは別に設けられためっき液貯蔵槽21内に磁石33a〜33dを配置する。具体的には、めっき液貯蔵槽21のうちめっき液27の流入口に設けられた堰に磁石33aを設置する。また、貯蔵されているめっき液27の表層部に磁石33bを設け、さらに、めっき液27の流出口近傍に磁石33cを設ける。そして、めっき液27の底部に磁石33dを設ける。
Description
本発明は、半導体装置の製造技術に関し、特に、ウェハプロセスを応用してパッケージ工程を完了するCSP(Chip Size Package)技術に適用して有効な技術に関するものである。
日本特開平09−137299号公報(特許文献1)には、めっき処理槽とめっき液貯蔵槽とを設けて、めっき液貯蔵槽に磁石を配置する技術が開示されている。具体的には、めっき液貯蔵槽を第1貯蔵槽と第2貯蔵槽に分け、めっき処理槽からのめっき液を第1貯蔵槽に設けた堰に流入させる。そして、第1貯蔵槽に磁性粒子を吸着する磁石を斜めに配置することにより、磁石の下部で100μmから数mmの大きな磁性粒子を吸着する一方、磁石の上部で1μmから数十μmの小さな磁性粒子を吸着する。続いて、磁性粒子を除去しためっき液を第1貯蔵槽から第2貯蔵槽に通した後、めっき液を第2貯蔵槽からめっき処理槽に循環させる技術が開示されている。また、めっき液貯蔵槽にあるめっき液内にポリテトラフルオロエチレンなどの耐蝕性樹脂で被覆した磁石を沈めておき、めっき液中の磁性粒子を除去する技術が開示されている。
日本特開平05−306500号公報(特許文献2)には、めっき処理槽内の磁性スラッジをめっき処理槽内に設置した磁石により除去する装置、またはめっき処理槽の循環用配管部分に磁石を設置した装置について開示されている。
日本特開平07−138799号公報(特許文献3)には、ニッケル膜を形成するめっき方法において、ニッケルペレットを充填した陽極棒のなかに磁石粒を入れておき、陽極棒から発生するスラッジを磁石粒に付着させて、スラッジが陽極棒の外部に出ないようにする技術が開示されている。
日本特開平06−220698号公報(特許文献4)には、めっき液を輸送する輸送管の内部または外部に磁性粒子を吸着する磁石を設ける装置について開示されている。
日本特開平09−003694号公報(特許文献5)には、金属物をめっき処理槽の下部に設けられた磁石によってめっき処理槽の底部に付着させる装置について開示されている。
特開平09−137229号公報
特開平05−306500号公報
特開平07−138799号公報
特開平06−220698号公報
特開平09−003694号公報
パッケージプロセス(後工程)とウェハプロセス(前工程)とを一体化し、ウェハ状態でパッケージングを完了する技術、いわゆるウェハレベル(Wafer Level)CSPと呼ばれる技術は、ウェハプロセスを応用してパッケージプロセスまで処理する技術である。このため、半導体ウェハ(以下、ウェハという)から切断した半導体チップ(以下、チップという)毎にパッケージプロセスを処理する従来の方法に比べて工程数を大幅に削減できるという利点がある。ウェハレベルCSPは、ウェハプロセス・パッケージ(Wafer Process Package;WPP)とも呼ばれる。
また、ウェハレベルCSPは、ボンディングパッドのピッチをバンプ電極のピッチに変換するインターポーザと呼ばれるCSP内部の配線層を、ウェハ上に形成した再配線層によって代用できるため、工程数削減を図ることができるとともにCSPの製造コストを低減することができる。
ウェハレベルCSPでは、ボンディングパッドとバンプ電極とを接続する再配線が形成されるが、この再配線は例えば銅膜とニッケル膜の積層膜で構成される。銅膜およびニッケル膜の形成には例えば電解めっき法が使用される。
ニッケル膜を電解めっき法で形成するには、アノード電極(陽極)にニッケルよりなる電極を使用し、カソード電極(陰極)にウェハを設置する。そして、アノード電極とカソード電極との間をめっき液で満たす。このような構成のもとアノード電極とカソード電極との間に電圧を印加すると、アノード電極からニッケル原子がイオンとなってめっき液中に溶け出す。そして、溶け出したニッケルイオンは、カソード電極に接続しているウェハ上に付着してニッケル膜が形成される。このようにして、ウェハ上にニッケル膜が形成される。
アノード電極では、ニッケル原子がイオンとなって溶け出していくが、イオンの溶出はアノード電極の表面だけでなく内部からも生じる。このため、アノード電極を使用していくうちにアノード電極は軽石状になって崩れやすくなる。そして、めっき液の噴流の勢いや電流密度の変化などにより、微小なニッケル粒子(以下、スラッジという)がアノード電極から発生する。すなわち、アノード電極からはニッケル原子がイオンとして溶け出すだけでなく、スラッジも発生する。このスラッジがウェハに付着すると外観異常(外観不良)となるため、製品の歩留まり低下をもたらすという問題点がある。
ここで、日本特開平09−137299号公報(特許文献1)では、第1貯蔵槽に磁石を配置してスラッジの除去を行なっている。しかし、ウェハレベルCSPにおけるニッケル膜の形成では、めっき液の流量を大きくする必要がある。このため、第1貯蔵槽におけるめっき液の液面が高くなる現象が生ずる。この場合、磁石の上部においてスラッジの捕獲が充分に行なえなくなる問題点が生じる。
また、日本特開平05−306500号公報(特許文献2)では、めっき処理槽内に磁石を配置している。めっき処理槽ではウェハ上にニッケル膜の形成が行なわれるが、めっき処理槽内に磁石を配置すると、磁界の影響によりにウェハ上に形成されるニッケル膜の膜厚が変動する問題点がある。特に、めっき処理槽の大きさが小さい場合には磁界の影響を受け易い。
さらに、日本特開平07−138799号公報(特許文献3)では、ニッケルペレットを充填した陽極棒に磁石粒を入れている。しかし、カソード電極に配置されるウェハと陽極棒との距離が近いため、磁石による磁界の影響を受けてウェハ上に形成されるニッケル膜の膜厚が変動する問題点がある。
また、日本特開平06−220698号公報(特許文献4)では、めっき液を輸送する輸送管の内部または外部に磁性粒子を吸着する磁石を設けている。しかし、スラッジは微小なものがあるとともにウェハレベルCSPにおいてはめっき液の流量も大きいため、輸送管の側壁に磁石を設ける構成では、充分に微小スラッジを捕獲できない。また、輸送管の内壁にスラッジが堆積して輸送管が詰るおそれがある。
さらに、日本特開平09−003694号公報(特許文献5)にはめっき処理槽の下部に磁石を配置している。しかし、スラッジは微小なものもあり、めっき処理槽の下部に設けた磁石によっては微小なスラッジを捕獲できない問題点がある。また、磁石の磁力を大きくすると、磁界の影響を受けてウェハ上に形成するニッケル膜の膜厚が変動するおそれがある。
本発明の目的は、ウェハ上に形成されるニッケル膜の膜厚変動を防止しながら、めっき液中に存在するスラッジを効率的に除去することができる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
本発明による半導体装置の製造方法は、半導体ウェハの状態でパッケージングを完了する半導体装置の製造方法であって、(a)前記半導体ウェハに内部接続端子を形成する工程と、(b)前記内部接続端子に一端部を接続する再配線を形成する工程と、(c)前記再配線の他端部に接続する外部接続端子を形成する工程とを備え、前記(b)工程は、(b1)電解めっき法を使用してニッケル膜を形成する工程を含み、前記(b1)工程は、前記半導体ウェハ上に前記ニッケル膜を形成するめっき処理槽とは別の槽であって前記めっき処理槽との間でめっき液を循環させるめっき液貯蔵槽のめっき液流入部、めっき液流出部およびめっき液の表層部に磁石を配置しながら、前記ニッケル膜を前記めっき処理槽で形成することを特徴とするものである。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。
めっき処理槽とは別の槽であって前記めっき処理槽との間でめっき液を循環させるめっき液貯蔵槽のめっき液流入部、めっき液流出部およびめっき液の表層部に磁石を配置するように構成したので、ウェハ上に形成されるニッケル膜の膜厚変動を防止しながら、めっき液中に存在するスラッジを効率的に除去することができる。
以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。
また、以下の実施の形態において、要素の数等(個数、数値、量、範囲等を含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でもよい。
さらに、以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。
同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうではないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。
また、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
図1は、ウェハレベルCSP(WPP)の製造工程を示したフローチャートである。図1を参照しながらウェハレベルCSPの製造工程について簡単に説明する。まず、前工程での処理を実施する(S101)。前工程では、半導体基板上にMISFET(Metal Insulator Semiconductor Field Effect Transistor)などの半導体素子を形成した後、この半導体素子上に一層以上の配線を形成する。そして、最上層の配線を形成して、内部接続端子であるボンディングパッドを形成する。
続いて、ウェハテストを行なう(S102)。ウェハテストでは、例えば半導体基板に形成したMISFETのしきい値電圧の検査が実施される。
次に、ウェハレベルCSPにおける再配線を形成する。再配線は、ボンディングパッドと後述するバンプ電極とを接続するための配線であり、例えば銅膜とニッケル膜の積層膜で形成される。本実施の形態の特徴はニッケル膜を電解めっき法で形成する工程にあるが、詳細は後述する。
続いて、プローブテストを実施する(S103)。プローブテストは再配線で形成されたバンプランドに探針を押し当てて半導体素子の電気的特性を検査するものである。
そして、外観検査が実施された後(S105)、半導体基板の裏面を研削する(S106)。次に、再配線で形成されたバンプランド上にバンプ電極を形成する(S107)。その後、再び外観検査が実施され(S108)、後工程の処理が実施される(S109)。後工程では、バンプ電極が形成された半導体基板の個々のチップ領域をダイシングにより個々のチップに切断する。そして、切断したチップの選別を行い、良品をトレーに収納して出荷する。
次に、本実施の形態における半導体装置の製造工程を詳細に説明する。まず、半導体基板(半導体ウェハ)1上にMISFETを形成し、このMISFET上に一層以上の配線を形成する。そして、図2に示すように層間絶縁膜2を形成する。層間絶縁膜2は、例えば酸化シリコン膜から形成されており、例えばCVD(Chemical Vapor Deposition)法を使用して形成することができる。なお、図2では、半導体基板1上に形成されるMISFETおよび一層以上の配線の図示を省略している。
続いて、層間絶縁膜2上に窒化チタン膜およびアルミニウム膜よりなる積層膜を例えばスパッタリング法を使用して形成する。そして、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を使用して積層膜をパターニングし、最上層配線を形成する。この最上層配線を形成する工程で内部接続端子であるボンディングパッド3も形成する。
次に、図3に示すように、ボンディングパッド3上を含む層間絶縁膜2上に窒化シリコン膜4を形成する。窒化シリコン膜4は、例えばCVD法を使用して形成することができる。そして、窒化シリコン膜4上に感光性ポリイミド樹脂膜5を塗布する。この窒化シリコン膜4および感光性ポリイミド樹脂膜5によりパッシベーション膜(第1絶縁膜)が形成される。パッシベーション膜は、内部に形成された半導体素子や配線を機械的応力や不純物の侵入から保護するために設けられる膜である。
続いて、感光性ポリイミド樹脂膜5に対して露光・現像処理を施すことにより、感光性ポリイミド樹脂膜5をパターニングする。パターニングは、ボンディングパッド3上を開口するように行なわれる。そして、パターニングした感光性ポリイミド樹脂膜5をマスクにして、下層にある窒化シリコン膜4をエッチングする。これにより、ボンディングパッド3上に開口部6が形成される。
次に、ウェハテストが実施された後、図4に示すように、シード層7を形成する。このシード層7は、ボンディングパッド3上を含む感光性ポリイミド樹脂膜5上に形成される。シード層7は、例えばクロム(Cr)膜と銅(Cu)膜との積層膜から形成され、例えばスパッタリング法を使用して形成することができる。シード層7は後述するめっき膜を成長させるための電極層としての機能を有するものである。
続いて、図5に示すように、シード層7上にレジスト膜8を形成した後、このレジスト膜8に対して露光・現像処理を施すことによりパターニングする。パターニングは、再配線を形成する領域にレジスト膜8が残らないように行なわれる。そして、図6に示すように、露出したシード層7上に電解めっき法を使用して銅膜9を形成する。
次に、電解めっき法を使用して銅膜9上にニッケル膜を形成するため、図7に示すめっき装置に半導体基板1が搬入される。図7は、半導体基板1にニッケル膜を形成するためのめっき装置の概略構成を示した部分断面図である。図7において、本実施の形態におけるめっき装置は、めっき処理槽20とめっき液貯蔵槽21とを有している。めっき処理槽20とめっき液貯蔵槽21とは別々に設けられた槽であり、互いにポンプ22を設けた配管23と配管24によって接続されている。
めっき処理槽20は、半導体基板1上にニッケル膜を形成するための槽であり、外枠体26の内部にはめっき液27が充填されている。外枠体26の底部には、配管23が設けられており、めっき液が配管23からめっき処理槽20内に流入するようになっている。また、外枠体26の底部にはアノード電極(陽極)28が設けられている。このアノード電極28はニッケルを主成分として構成されている。一方、外枠体26の上面にはカソード電極(陰極)29が形成されており、このカソード電極29に接続するように半導体基板1が設置される。半導体基板1は、アノード電極28に対向するように配置されている。また、アノード電極28の周囲にはアノードバック30が設けられている。アノードバック30は、アノード電極から出てくるニッケルの微細粒(スラッジ)がめっき液中に拡散するのを防止するために設けられている。めっき処理槽20に流入しためっき液27は配管24によってめっき処理槽20から流出するようになっている。
次に、めっき液貯蔵槽21の外枠体31内には、配管24からめっき液27が流入するようになっている。そして、めっき液貯蔵槽21に貯蔵されているめっき液27は、ポンプ22が接続された配管23を介してめっき液貯蔵槽21から流出するようになっている。また、めっき液貯蔵槽21のめっき液27の流入口には堰32が設けられている。この堰32はめっき液貯蔵槽21に貯蔵されているめっき液27の内部に気泡が残らないようにするために設けられている。すなわち、めっき液貯蔵槽21には、勢い良くめっき液27が流入する。このとき、めっき液貯蔵槽21に貯蔵されているめっき液27の内部に気泡が取り込まれる。この内部に取り込まれた気泡がめっき液貯蔵槽21から配管23を介してめっき処理槽20に移動すると、半導体基板1の表面に気泡が付着することになる。すると、気泡が付着した領域において、半導体基板1はめっき液27と接しなくなるため、ニッケル膜が成長しなくなる。このような不都合を回避するため、めっき液貯蔵槽21の流入口に堰32を設けてめっき液27の内部に気泡が残らないようにしている。
次に、めっき液貯蔵槽21には複数の磁石33a〜33dが設置されている。このようにめっき液貯蔵槽21内に磁石33a〜33dを設けたことが本実施の形態における特徴の一つである。めっき処理中においてめっき処理槽20のアノード電極28からはニッケルがイオンとして溶出するだけでなく、イオン化していないニッケルの微細粒(スラッジ)も放出される。このスラッジはアノードバック30によってめっき液27中に飛散することが防止されているが、アノードバック30では微細なスラッジの飛散を防止することができない。このため、めっき液27中にスラッジが放出される。このスラッジはめっき液27とともにめっき処理槽20およびめっき液貯蔵槽21を循環する。そして、スラッジのうち一部はめっき処理槽20に配置した半導体基板1に付着する。すると、付着したスラッジにより半導体基板1上に形成するニッケル膜に外観不良が発生する。また、再配線を構成するニッケル膜にスラッジが付着すると以下に示す不具合が発生する。すなわち、その後の工程で再配線上に保護膜を形成するが、再配線上にスラッジが付着していると保護膜が充分に形成されないおそれがある。保護膜が充分に形成されないと、水分などの異物が半導体基板1の内部に侵入する不具合が発生する。したがって、めっき液27中に飛散したスラッジを除去する必要がある。
そこで、本実施の形態では、ニッケルよりなるスラッジが磁石に吸着する性質を利用してめっき液27中に磁石33a〜33dを設置している。これにより、めっき液27に放出されたスラッジを磁石33a〜33dで捕獲することができるので、めっき液27中からスラッジを除去することができる。特に、本実施の形態では、磁石33a〜33dをめっき処理槽20ではなくめっき処理槽20から離れためっき液貯蔵槽21に設けている。これにより、半導体基板1に形成するニッケル膜の磁界による膜厚の変動を防止できる。例えば、磁石33a〜33dをめっき処理槽20内に設置するようにした場合、磁石33a〜33dとニッケル膜を形成する半導体基板1とが近接することになる。すると、磁石33a〜33dによる磁界の影響を受け易くなるので、半導体基板1に形成されるニッケル膜の膜厚が変動しやすくなる。これに対し、本実施の形態では、半導体基板1を設置するめっき処理槽20から充分に離れためっき液貯蔵槽21内に磁石33a〜33dを設けたので、半導体基板1に形成するニッケル膜の膜厚に変動を与えることなく、スラッジを除去することができる。
また、ウェハレベルCSPにおいて、再配線のニッケル膜を形成するには、めっき液27の流量を例えば毎分30リットルから毎分50リットルという大流量で流す必要がある。したがって、このような大流量でめっき液27を循環させる場合、磁石の設置場所を充分に考慮しなければ、効率的にめっき液27中のスラッジを除去することができない。このため、本実施の形態では、磁石33a〜33dを以下に示す場所に設置している。すなわち、まず、磁石33aはめっき液貯蔵槽21の流入口(流入部)である堰32に設けられている。これにより、めっき処理槽20から流入するスラッジを充分に除去することができる。また、磁石33bは、めっき液27の表層部に設けられているので、めっき液27の表層部を流れる微細なスラッジを捕獲することができる。さらに、めっき液貯蔵槽21の流出口(流出部)付近に磁石33cを設けることにより、磁石33aや磁石33bで除去できなかったスラッジをめっき処理槽20に戻る前に捕獲することができる。このように、磁石33a〜33cを上述した位置に設置することにより、効果的にスラッジを除去することができる。また、めっき液27の底部のよどんだ領域に磁石33dを設けることにより、比較的大きく沈み易いスラッジを捕獲することができる。本実施の形態によれば、磁石33a〜33dを設置することにより、めっき液27が毎分30リットルから毎分50リットルの流量で流れている場合であっても充分にスラッジを除去することができる。
めっき液貯蔵槽21に設置される磁石33a〜33dは、めっき液27に接触することによる腐食などを防止するため、例えばフッ素樹脂で表面を覆っている。なお、図7では、めっき液貯蔵槽21に接続されているめっき処理槽20が一つであるが、一つである必要はなく複数のめっき処理槽20に接続されていてもよい。めっき液貯蔵槽21に複数のめっき処理槽20を接続することにより、複数のめっき処理槽20で発生するスラッジを一つのめっき液貯蔵槽21に設けた磁石33a〜33dにより除去することができるので、複数のめっき処理槽20にそれぞれ磁石33a〜33dを設置する場合に比べてコストを低減することができる。
本実施の形態におけるめっき装置は上記のように構成されており、以下に動作について説明する。図7に示すように、半導体基板1の再配線形成面をめっき液27に接触させるようにして半導体基板1をカソード電極29に設置する。続いて、アノード電極28とカソード電極29の間に所定の電圧を印加する。すると、アノード電極29を構成するニッケルがイオン化して溶出する。溶出したニッケルイオンはめっき液27を移動する。そして、カソード電極29に接続された半導体基板1上に析出して図8に示すように、銅膜9上にニッケル膜10が形成される。このとき、アノード電極28は、ニッケルイオンの溶出により軽石状になっているため、ニッケルの微細粒であるスラッジも放出される。このスラッジの一部はアノードバック30により飛散が防止されるが、一部はアノードバック30を通り抜けてめっき液27中に飛散する。飛散したスラッジはめっき処理槽20からめっき液貯蔵槽21へ運ばれるが、めっき液貯蔵槽21の流入口に設けられている磁石33aに吸着して除去される。除去されなかったスラッジも磁石33b、33cおよび33dにより効果的に除去される。このようにして半導体基板1上にスラッジが付着することを防止できるので、再配線の外観不良を低減することができる。
続いて、図9に示すように、パターニングしたレジスト膜8を除去した後、レジスト膜8で覆われていたシード層7をウェットエッチングで除去する。ここで、レジスト膜8で覆われていたシード層7をエッチングする際、再配線の表面も同時にエッチングされるが、再配線の膜厚はシード層7の膜厚に比べて遥かに厚いので支障はない。
次に、図10に示すように、銅膜9およびニッケル膜10よりなる再配線の上部に感光性ポリイミド樹脂膜(第2絶縁膜)11を形成する。そして、感光性ポリイミド樹脂膜11に対して露光・現像処理を行なうことにより、バンプ電極形成領域に開口部(第2開口部)12を形成する。
続いて、図11に示すように、開口部12から露出した再配線(バンプランド)上に無電解めっき法を使用して金(Au)膜13を形成する。そして、開口部12から露出した再配線上に探針(プローブ)を押し当ててプローブ検査を実施する。次に、外観検査が実施された後、図12に示すように、半導体基板1の裏面を研削する。
そして、図13に示すように、金膜13上に半田印刷技術を使用して半田ペースト14を印刷する。印刷直後の半田ペースト14は、バンプランドよりも広い領域にほぼ平坦に印刷される。続いて、半導体基板1を加熱して半田ペースト14をリフローさせることにより、金膜19上に図14に示すような半球状のバンプ電極15を形成する。バンプ電極15は、例えば錫(Sn)、銀(Ag)および銅(Cu)からなる鉛(Pb)フリー半田から構成される。なお、バンプ電極15は、上記した印刷法に代えてめっき法を使用して形成することもできる。また、あらかじめ球状に成形した半田ボールをバンプランド上に供給し、その後、半導体基板1を加熱して半田ボールをリフローすることによってもバンプ電極15を形成することができる。このようにして、ボンディングパッド3に一端部が接続する一方、バンプ電極15に他端部が接続する再配線を形成することができる。
続いて、半導体基板1をバーンイン検査に付して最終検査を行なった後、ダイシングブレードを使用して半導体基板1を個々のチップに切断する。このようにして、ウェハレベルCSPが完成する。さらに必要に応じて性能、外観などの各種最終検査に付された後、トレー治具に収納されて出荷される。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
本発明は、半導体装置を製造する製造業に幅広く利用することができる。
Claims (14)
- 半導体ウェハの状態でパッケージングを完了する半導体装置の製造方法であって、
(a)前記半導体ウェハに内部接続端子を形成する工程と、
(b)前記内部接続端子に一端部を接続する再配線を形成する工程と、
(c)前記再配線の他端部に接続する外部接続端子を形成する工程とを備え、
前記(b)工程は、
(b1)電解めっき法を使用してニッケル膜を形成する工程を含み、
前記(b1)工程は、
前記半導体ウェハ上に前記ニッケル膜を形成するめっき処理槽とは別の槽であって前記めっき処理槽との間でめっき液を循環させるめっき液貯蔵槽のめっき液流入部、めっき液流出部およびめっき液の表層部に磁石を配置しながら、前記ニッケル膜を前記めっき処理槽で形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記めっき液流入部には堰が設けられ、前記堰内に前記磁石が配置されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- さらに前記めっき液貯蔵槽にあるめっき液の底部にも磁石が配置されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記めっき液は毎分30リットル以上毎分50リットル以下の流量で前記めっき処理槽と前記めっき液貯蔵槽とを循環していることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記(b)工程は、電解めっき法を使用して銅膜を形成した後、さらに電解めっき法を使用して前記銅膜上にニッケル膜を形成することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記磁石は、フッ素樹脂で覆われていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記めっき液貯蔵槽は、複数の前記めっき液処理槽と接続されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- (a)半導体基板上に内部接続端子を形成する工程と、
(b)前記内部接続端子上に第1絶縁膜を形成した後、前記内部接続端子上の前記第1絶縁膜に第1開口部を形成する工程と、
(c)前記内部接続端子上を含む前記第1絶縁膜上に再配線を形成する工程と、
(d)前記再配線上に第2絶縁膜を形成する工程と、
(e)前記第2絶縁膜に第2開口部を形成して前記再配線の一部を露出する工程と、
(f)前記第2開口部上に外部接続端子を形成する工程とを備え、
前記(c)工程は、
(c1)電解めっき法を使用してニッケル膜を形成する工程を含み、
前記(c1)工程は、
前記半導体基板上にニッケル膜を形成するめっき処理槽とは別の槽であって前記めっき処理槽との間でめっき液を循環させるめっき液貯蔵槽のめっき液流入部、めっき液流出部およびめっき液の表層部に磁石を配置しながら、前記ニッケル膜を前記めっき処理槽で形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記めっき液流入部には堰が設けられ、前記堰内に前記磁石が配置されていることを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- さらに前記めっき液貯蔵槽にあるめっき液の底部にも磁石が配置されていることを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記めっき液は毎分30リットル以上毎分50リットル以下の流量で前記めっき処理槽と前記めっき液貯蔵槽とを循環していることを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記(c)工程は、電解めっき法を使用して銅膜を形成した後、さらに電解めっき法を使用して前記銅膜上にニッケル膜を形成することを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記磁石は、フッ素樹脂で覆われていることを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記めっき液貯蔵槽は、複数の前記めっき液処理槽と接続されていることを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
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- 2004-12-28 JP JP2006550520A patent/JPWO2006070452A1/ja active Pending
- 2004-12-28 WO PCT/JP2004/019602 patent/WO2006070452A1/ja not_active Application Discontinuation
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