JPWO2003022801A1 - リバースヒドロキサム酸誘導体 - Google Patents

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Abstract

ＴＮＦ−α変換酵素（ＴＡＣＥ）阻害作用を有する一般式（Ｉａ）：（式中Ａは水素原子等を、Ａｒ１はアリーレン等を、Ａｒ２は置換されていてもよいアリール基、ヘテロアリール基等を、Ｒ１は水素原子、アルキル基等を、そしてＲ２ａは置換されたシクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基等を表す。）ならびに一般式（Ｉ）：（式中、Ａ、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１は上記と同じ基を表し、Ｒ２は水素原子、Ｒ２ａ等を表す）で表される、特定の構造を有するリバースヒドロキサム酸誘導体およびその塩。

Description

技術分野
本発明は、新規なリバースヒドロキサム酸誘導体並びにそれらを有効成分として含有する医薬および腫瘍壊死因子−α（Ｔｕｍｏｒ ｎｅｃｒｏｓｉｓ ｆａｃｔｏｒ ａｌｐｈａ：ＴＮＦ−α）変換酵素（ＴＡＣＥ）阻害剤に関する。
背景技術
ＴＮＦ−αは、１９７５年に腫瘍細胞壊死作用を持つ生体内タンパク質として発見された（Ｃａｒｓｗｅｌｌ，Ｅ．Ａ．ｅｔ ａｌ．，Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．Ｕ．Ｓ．Ａ．１９７５，７２，３６６６−３６７０）。現在では、ＴＮＦ−αは、外的要因および内的要因により活性化されたマクロファージや単球などから分泌されるサイトカインの一種で、種々のサイトカインの分泌促進および感染症防御に広く関わっていると認識されている。しかしながらＴＮＦ−αの持続的かつ過剰な産生および分泌は、炎症性サイトカインの過剰分泌、細胞アポトーシス、細胞内シグナル伝達の妨害などを引き起こし、一次的および二次的組織障害の結果、種々の病気の原因や増悪をもたらす要因となっている（Ａｇｇａｒｗａｌｌ Ｂ．Ｂ．，Ｐｕｒｉ Ｒ．Ｋ．，ｅｄｓ．１９９５．Ｈｕｍａｎ Ｃｙｔｏｋｉｎｅｓ：Ｔｈｅｉｒ Ｒｏｌｅ ｉｎ Ｄｉｓｅａｓｅ ａｎｄ Ｔｈｅｒａｐｙ．Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ，Ｍａｓｓ，ＵＳＡ：Ｂｌａｃｋｗｅｌｌ Ｓｃｉ．）。したがって、ＴＮＦ−αの過剰産生および分泌に起因すると考えられる病的状態の治療には、ＴＮＦ−αの産生および分泌の抑制、またはＴＮＦ−αの作用の抑制が重要と考えられる。これらのＴＮＦ−αが関与する病態例としては、関節リウマチを始め、全身性エリテマトーデス（ＳＬＥ）、クローン病、ベーチェット病、多発性硬化症、動脈硬化症、重症筋無力症、糖尿病、敗血症、急性感染症、喘息、アトピー性皮膚炎、発熱、貧血など、多くの病態があげられる。
この例としてすでに、生物学的薬剤である抗ＴＮＦ−αヒト型キメラ抗体やＴＮＦ−αレセプター（ｐ７５）−Ｆｃ融合タンパク質がリウマチ患者に有効であることが報告されている（Ｅｌｌｉｏｔｔ，Ｍ．ｅｔ ａｌ．，Ｌａｎｃｅｔ １９９４，３４４，１１０５−１１１０；Ｍｏｒｅｌａｎｄ Ｌ．Ｗ．ｅｔ ａｌ．，Ｎ．Ｅｎｇｌ．Ｊ．Ｍｅｄ．１９９７，３３７，１４１−１４７）。しかしながら、これらの生物学的薬剤は、（ａ）一般的に高額である、（ｂ）投与経路に選択の余地が少なく注射剤としての投与になるため患者の負担が大きい、（ｃ）投与により免疫ができる可能性があり、２回目以降薬剤の効果が低下する場合がある、などの問題点が指摘されている（Ｆｅｌｄｍａｎｎ，Ｍ．，ｅｔ ａｌ．，Ａｄｖ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．，１９９７，６４，２８３−３５０）。
したがって、ＴＮＦ−αの産生および分泌を阻害するまたはその作用を抑制する低分子化合物について、前記生物学的薬剤が孕んだ種々の問題点を克服すべく数多くの研究がなされている（Ｎｅｗｔｏｎ，Ｒ．Ｃ．ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９９９，４２，２２９５−２３１４）。
一方、ＴＡＣＥ（別名ＡＤＡＭ１７）は、ＡＤＡＭ（ａ ｄｉｓｉｎｔｅｇｒｉｎ ａｎｄ ｍｅｔａｌｌｏｐｒｏｔｅｉｎａｓｅ）ファミリーに分類される触媒部位に亜鉛を有する膜結合型タンパク質分解酵素である（Ｂｌａｃｋ，Ｒ．Ａ．ｅｔ ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ １９９７，３８５，７２９−７３３；Ｍｏｓｓ，Ｍ．Ｌ．ｅｔ ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ １９９７，３８５，７３３−７３６）。ＴＡＣＥは、膜結合型ＴＮＦ−α（プロＴＮＦ−α）を切断し遊離型ＴＮＦ−αを産生することが報告されており、ＴＡＣＥのノックアウトマウスを用いた実験から、遊離型ＴＮＦ−αの９０％がＴＡＣＥの酵素作用によって産生されていると報告されている（Ｂｌａｃｋ，Ｒ．Ａ．ｅｔ ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ １９９７，３８５，７２９−７３３）。また、ＴＡＣＥと同じファミリーに属するＡＤＡＭ−１０もＴＡＣＥと同様にＴＮＦ−αの遊離に関与することがインビトロ試験により推測されていたが、最近のアンチセンスやＡＤＡＭ−１０阻害剤を用いた試験によりＴＮＦ−αの遊離にはＡＤＡＭ−１０は関与していないことが示されている（Ｃｏｎｄｏｎ，Ｔ．Ｐ．，ｅｔ ａｌ．，Ａｎｔｉｓｅｎｓｅ ＆ Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄ Ｄｒｕｇ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ ２００１，１１，１０７−１１６；Ｍｏｓｓ，Ｍ．Ｌ．，ｅｔ ａｌ．，Ｄｒｕｇ Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ Ｔｏｄａｙ ２００１，６，４１７−４２６）。すなわち、プロＴＮＦ−αからのＴＮＦ−αの遊離に働く責任酵素はＴＡＣＥのみであることが示唆されている。したがって、ＴＡＣＥの酵素作用を阻害する化合物は、遊離型ＴＮＦ−αの産生を抑制し、強いては前述のＴＮＦ−αに起因する種々の病態の治療薬に成り得ると考えられる。このようなことから、ＴＡＣＥ阻害作用に基づくと考えられる化合物に関する研究が活発化している（Ｎｅｌｓｏｎ，Ｆ．Ｃ．ｅｔ ａｌ．，Ｅｘｐ．Ｏｐｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．Ｄｒｕｇｓ １９９９，８，３８３−３９２）。
マトリックスメタロプロテイナーゼ（別名マトリキシン）（ＭＭＰ）は、触媒部位に亜鉛を有するタンパク質分解酵素であり、細胞外マトリックスを分解する。ＭＭＰは、約２０種類が知られており、それらの生体内作用はまだ完全に解明されていないが、種々の病態に関与していると考えられ、それらの阻害剤の研究が極めて活発に展開されている（Ｗｈｉｔｔａｋｅｒ，Ｍ．ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．１９９９，９９，２７３５−２７７６；中島元夫 蛋白質 核酸 酵素２０００，４５，１０８３−１０８９；Ｃｏｎｎｅｌｌ，Ｒ．Ｄ．ｅｔ ａｌ．，Ｅｘｐ．Ｏｐｉｎ．Ｔｈｅｒ．Ｐａｔｅｎｔｓ ２００１，１１，７７−１１４）。
ＭＭＰを阻害する化合物は、ＴＮＦ−αの産生も阻害することが報告され（Ｍｏｈｌｅｒ，Ｋ．Ｍ．ｅｔ ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ １９９４，３７０，２１８−２２０；Ｇｅａｒｉｎｇ，Ａ．Ｊ．Ｈ．ｅｔ ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ，１９９４，３７０，５５５−５５７；ＭｃＧｅｅｈａｎ，Ｇ．Ｍ．ｅｔ ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ １９９４，３７０，５５８−５６１）、そののちＴＡＣＥの３次元構造（Ｍａｓｋｏｓ，Ｋ．ｅｔ ａｌ．，Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ １９９８，９５，３４０８−３４１２）とＭＭＰの３次元構造との類似性も報告されたこともあって、ＭＭＰおよび／またはＴＡＣＥの阻害特性を有する化合物に関する特許が数多く出願されている（国際公開第９７／１８１８８号パンフレット、国際公開第９７／２０８２４号パンフレット、国際公開第９７／２２５８７号パンフレット、国際公開第９８／１６５０３号パンフレット、国際公開第９８／１６５０６号パンフレット、国際公開第９８／１６５１４号パンフレット、国際公開第９８／１６５２０号パンフレット、国際公開第９８／２４７５９号パンフレット、国際公開第９８／３２７４８号パンフレット、国際公開第９８／３７８７７号パンフレット国際公開第９８／３８１６３号パンフレット、国際公開第９８／３８１７９号パンフレット、国際公開第９８／４３９６３、国際公開第９８／５０３４８号パンフレット、国際公開第９８／５１６６５号パンフレット、国際公開第９９／３７６２５号パンフレット、国際公開第９９／３８８４３号パンフレット、国際公開第９９／４１２４６号パンフレット、国際公開第９９／４２４３６号パンフレット、国際公開第９９／５２８８９号パンフレット、国際公開第９９／５２９１０号パンフレット、国際公開第９９／５８５２８号パンフレット、国際公開第９９／５８５３１号パンフレット、国際公開第９９／６１４１３号パンフレット、国際公開第９９／６５８６７号パンフレット、国際公開第００／０９４８５号パンフレット、国際公開第００／１２４６６号パンフレット、国際公開第００／１２４６７号パンフレット、国際公開第００／１２４７７号パンフレット、国際公開第００／１２４７８号パンフレット、国際公開第００／５００１７号パンフレット、国際公開第００／５１９７５号パンフレット、国際公開第００／５９２８５号パンフレット、国際公開第００／６９８１２号パンフレット、国際公開第００／７１５１４号パンフレット、国際公開第００／７５１０８号パンフレット、米国特許第５９８５９００号明細書、米国特許第６０５７２９７号明細書、米国特許第６１６２８２１号明細書、特表平１１−５０４０１５号公報、欧州特許出願公開第１０４１０７２号明細書）。しかしながら、多種類のＭＭＰを同時に阻害する薬剤を連続投与したラットでは軟骨である成長板の肥層化が起こること（Ｎａｋａｊｉｍａ，Ｍ．，Ｔｈｅ Ｂｏｎｅ ２００１，１５，１６１−１６６）、ＭＴ１−ＭＭＰ（ＭＭＰ１４）ノックアウトマウスでは関節炎症状が観察されること（Ｈｏｌｍｂｅｃｋ，Ｋ．，ｅｔ ａｌ．，Ｃｅｌｌ １９９９，９９，８１−９２）が報告されている。これらの報告およびＭＭＰの多くが生体構造の基本となる細胞外マトリックスの維持、恒常性に関与していることから、非選択的に多種のＭＭＰ酵素活性を阻害することは、生体にとって重大な悪影響を与える危険性があると考えられる。したがって、ＴＡＣＥ阻害を基礎としたＴＮＦ−α産生抑制を目的とした化合物は、ＭＭＰに対する阻害作用を極力持たないことが好ましい。
しかしながら、これまではＴＡＣＥを選択的に阻害する化合物に関する特許は少なく（国際公開第９８／３８１７９号パンフレット、国際公開第００／００４６５号パンフレット、国際公開第００／０９４９２号パンフレット、国際公開第００／２３４４３号パンフレット、国際公開第００／３５８８５号パンフレット、国際公開第００／４４７１０号パンフレット、国際公開第００／４４７１３号パンフレット、国際公開第００／４４７１６号パンフレット、国際公開第００／４４７２３号パンフレット、国際公開第００／４４７３０号パンフレット、国際公開第００／４４７４０号パンフレット、特開平１１−３４３２７９号公報、英国特許出願第２３２６８８１号公報、国際公開第０２／１８３２６号パンフレット）、選択性が乏しいかまたは評価結果が記載されていない場合が多く、高選択性が得られた例はほとんど報告されていない。
本発明は、このようなＴＮＦ−αを介する疾患の治療および予防を鑑みて成されたものであり、本発明の目的は、ほかのＭＭＰを阻害しない選択的なＴＡＣＥ阻害作用を示す新規化合物またはその塩を提供すること、また、これらを有効成分とする医薬を提供することにある。
発明の開示
前記課題を解決するため鋭意研究を行なった結果、特定の構造を有するリバースヒドロキサム酸誘導体が優れた選択的ＴＡＣＥ阻害作用を有することを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。
すなわち本発明は、
一般式（Ｉａ）：
Figure 2003022801
［式中、Ａは、水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基または−ＮＲ３Ｒ４（式中、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ３およびＲ４が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）；Ａｒ１は、アリーレンまたはヘテロアリーレン；Ａｒ２は、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいヘテロアリール基または置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基；Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルケニル基、置換されていてもよいシクロアルキル基；Ｒ２ａは、一般式（ａ）：
Figure 2003022801
（式中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基、Ｒ６８およびＲ６９はそれぞれ独立して水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基；Ｘ１およびＹ１は、それぞれ独立して単結合、酸素、硫黄、−ＣＲ７Ｒ８−（式中、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立してＲ５と同じ）または−ＮＲ９−（式中、Ｒ９は、水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基）；Ｚ１は、酸素、硫黄、＝ＣＲ１０Ｒ１１（式中、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ１２Ｒ１３（式中、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基またはＲ１２およびＲ１３が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、−ＣＯＲ１ ４（式中、Ｒ１４は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいヘテロアリール基または置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基））、＝ＮＲ１５（式中、Ｒ１５は、水素原子、水酸基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基または置換されていてもよいアシル基）、−Ｏ（ＣＨ２）ｐ１Ｏ−（式中、ｐ１は、２〜４の整数）、−Ｓ（ＣＨ２）ｒ１Ｓ−（式中、ｒ１は、２〜４の整数）または−Ｏ（ＣＨ２）ｔ１Ｓ−（式中、ｔ１は、２〜４の整数）；ｍ１は、０〜６の整数；ｎ１およびｑ１は、それぞれ独立して０〜３の整数；ｖ１は０または１）、一般式（ｂ）：
Figure 2003022801
（式中、Ｒ１６は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基；Ｒ１７は、水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい低級アルキル基、Ｒ７０およびＲ７１はそれぞれ独立して水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基；Ｘ２およびＹ２は、それぞれ独立して単結合、酸素、硫黄、−ＣＲ１８Ｒ１９−（式中、Ｒ１８は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基、Ｒ１９は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、置換されていてもよいアシル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ２０Ｒ２１（式中、Ｒ２０およびＲ２１は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ２０およびＲ２１が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、−ＳＯ２Ｒ２２（式中、Ｒ２２は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基）、−ＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、ホルミル基、置換されていてもよいアシル基、低級アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル基、−ＣＯＮＲ２５Ｒ２６（式中、Ｒ２５およびＲ２６は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ２５およびＲ２６が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、シクロアルキル基またはＲ２３およびＲ２４が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、または−ＯＣＯＲ２７（式中、Ｒ２７は、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基または−ＮＲ２８Ｒ２９（式中、Ｒ２８およびＲ２９は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ２８およびＲ２９が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）））または−ＮＲ３０−（式中、Ｒ３０は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基、−ＣＯＲ３１（式中、Ｒ３１は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基）または−ＣＯＮＲ３２Ｒ３３（式中、Ｒ３２およびＲ３３は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ３２およびＲ３３が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成））；Ｚ２は、２個の水素原子、酸素、硫黄、＝ＣＲ３４Ｒ３５（式中、Ｒ３４およびＲ３５は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、または置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアシル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ３６Ｒ３７（式中、Ｒ３６およびＲ３７は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ３６およびＲ３７が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成））、＝ＮＲ３８（式中、Ｒ３８は、水素原子、水酸基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基または置換されていてもよいアシル基）、−Ｏ（ＣＨ２）ｐ２Ｏ−（式中、ｐ２は、２〜４の整数）、−Ｓ（ＣＨ２）ｒ２Ｓ−（式中、ｒ２は、２〜４の整数）または−Ｏ（ＣＨ２）ｔ２Ｓ−（式中、ｔ２は、２〜４の整数）；ｍ２は、０〜６の整数；ｎ２およびｑ２は、それぞれ独立して０〜３の整数；ｖ２は０または１）、一般式（ｃ）：
Figure 2003022801
（式中、Ｇ１は、任意の位置で１〜４個のそれぞれ独立したＲ３９で置換されていてもよい不飽和の４〜７員環；Ｒ３９は、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、置換されていてもよいアシル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ４０Ｒ４１（式中、Ｒ４０およびＲ４１は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ４０およびＲ４１が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、−ＳＯ２Ｒ４２（式中、Ｒ４２は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基）、−ＮＲ４３Ｒ４４（式中、Ｒ４３およびＲ４４は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、ホルミル基、置換されていてもよいアシル基、低級アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル基、−ＣＯＮＲ４５Ｒ４６（式中、Ｒ４５およびＲ４６は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ４５およびＲ４６が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、シクロアルキル基、またはＲ４３およびＲ４４が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、または−ＯＣＯＲ４７（式中、Ｒ４７は、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基または−ＮＲ４８Ｒ４９（式中、Ｒ４８およびＲ４９は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ４８およびＲ４９が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成））；ｍ３は、０〜６の整数）、一般式（ｄａ）：
Figure 2003022801
（式中、Ｇ２ａは、任意の位置で１個のＲ５０が置換した、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいシクロアルキル基または置換されていてもよいヘテロシクロアルキル基（Ｒ５０は、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルケニル基）；ｍ４は、０〜６の整数）、または一般式（ｅ）：
Figure 2003022801
（式中、Ｒ５１は、−ＣＲ７２＝ＣＲ７３−、−Ｃ≡Ｃ−または−ＣＲ７４Ｒ７５−ＣＲ７６Ｒ７７−（式中、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６およびＲ７７は、それぞれ独立して水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基）；Ｒ５２は、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキルアルキル基、置換されていてもよいヘテロシクロアルキル基、置換されていてもよいヘテロシクロアルケニル基、置換されていてもよいヘテロシクロアルキルアルキル基または置換されていてもよいヘテロシクロアルケニルアルキル基；ｍ５は、０〜６の整数）、または一般式（ｆ）：
Figure 2003022801
（式中、Ｒ６、Ｒ６８、Ｒ６９、Ｘ１、Ｚ１、ｎ１、ｑ１およびｖ１は前記と同じ；ｍ６は、１〜６の整数）］
で表されるリバースヒドロキサム酸誘導体またはその塩（以下、リバースヒドロキサム酸誘導体Ｉａと称す）に関する。
また本発明は、前記リバースヒドロキサム酸誘導体Ｉａを有効成分として含有する医薬に関する。
さらに本発明は、一般式（Ｉ）：
Figure 2003022801
（Ａ、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１は前記と同じ、Ｒ２は前記Ｒ２ａと同じかまたは、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、またはＧ２が前記一般式（ｄａ）におけるＲ５０で置換されていない一般式（ｄ）：
Figure 2003022801
（式中、Ｇ２は、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいシクロアルキル基または置換されていてもよいヘテロシクロアルキル基；ｍ４は前記と同じ））
で表わされるリバースヒドロキサム酸誘導体またはその塩（以下、リバースヒドロキサム酸誘導体Ｉと称す）を有効成分として含有するＴＮＦ−α変換酵素（ＴＡＣＥ）阻害剤に関する。
さらに本発明は、治療が必要な患者に有効量のリバースヒドロキサム酸誘導体Ｉまたはその塩を投与することからなる、ＴＮＦ−αに起因する病態の治療方法に関する。
発明を実施するための最良の形態
本発明の一般式（Ｉａ）で表わされるリバースヒドロキサム酸誘導体は、本発明の一般式（Ｉ）で表わされるリバースヒドロキサム酸誘導体のＲ２がＲ２ａであるリバースヒドロキサム酸誘導体であり、本発明の一般式（Ｉ）で表わされるリバースヒドロキサム酸誘導体に包含されるものである。したがって、本明細書において、前記一般式（Ｉ）の説明は、一般式（Ｉａ）についても適用される。
つぎに、前記一般式（Ｉ）における各置換基について説明する。
「低級アルキル基」とは、直鎖または分岐状のＣ１〜Ｃ６アルキル基を意味し、具体例としては、メチル基、エチル基，ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、３−メチルブチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基などがあげられる。
「シクロアルキル基」とは、たとえば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基などがあげられる。
「ハロゲン原子」の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。
「含窒素複素環」とは、少なくとも１個のＮを含む、飽和または不飽和の複素環を表わす。具体例としては、アゼチジン環、ピロリジン環、ピペリジン環、チアゾリジン環、モルフォリン環、チオモルフォリン環、ジヒドロピロール環などがあげられるがこれらに限定されるものではない。置換基の例としては、低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシメチル基などがあげられる。
「複素環」とは、炭素原子およびＮ、ＯまたはＳより選択される独立した１〜３個のヘテロ原子からなる、３〜１０員の単環式または二環式の環を表し、ＮおよびＳは酸化されていてもよく、Ｎは四級化されていてもよく、置換されていてもよく、炭素環またはほかの複素環と縮合していてもよく、置換可能なすべての位置で結合し得る。具体例としては、ジオキソロール環、オキサチオール環、ジヒドロオキサチイン環、ジヒドロジオキシン環、ジヒドロフラン環、ジヒドロチオフェン環、ジヒドロピロール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環などがあげられるがこれらに限定されない。
なお、本明細書において複素環とは前記「複素環」を意味するものである。
「炭素環」とは、３〜１０員の単環式または二環式の環を表し、具体例としては、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、ベンゼン環などがあげられるがこれらに限定されない。
なお、本明細書において炭素環とは前記「炭素環」を意味するものである。
「アリーレン」とは、たとえば、フェニレン、ナフチレンなどを意味し、さらに詳しくは、１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、１，４−ナフチレンなどがあげられる。
「ヘテロアリーレン」とは、たとえば、ピリジンジイル、チオフェンジイル、フランジイルなどを意味し、さらに詳しくは、２，５−ピリジンジイル、２，５−チオフェンジイル、２，５−フランジイルなどがあげられる。
「アリール基」とは、芳香族炭素環を表わし、たとえば、フェニル基、ナフチル基などがあげられる。
「アラルキル基」とは、前記低級アルキル基に前記アリール基が置換したもので、これらは置換可能なすべての位置で結合しうる。たとえば、ベンジル基、フェネチル基、１−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、３−フェニルプロピル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、１−（α−ナフチル）エチル基、２−（α−ナフチル）エチル基などがあげられる。これらのアリール部分には任意の置換基を有していてもよい。
「ヘテロアリール基」とは、５〜６員の芳香族複素環を表わす。たとえば、ピロリル基（たとえば、２−ピロリル基）、フリル基（たとえば、３−フリル基）、チエニル基（たとえば、２−チエニル基）、イミダゾリル基（たとえば、４−イミダゾリル基）、ピラゾリル基（たとえば、３−ピラゾリル基）、オキサゾリル基（たとえば、２−オキサゾリル基）、イソオキサゾリル基（たとえば、３−イソオキサゾリル基）、チアゾリル基（たとえば、２−チアゾリル基）、イソチアゾリル基（たとえば、３−イソチアゾリル基）、ピリジル基（たとえば、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基）、ピリダジニル基（たとえば、３−ピリダジニル基）、ピリミジル基（たとえば、４−ピリミジル基）、ピラジニル基（たとえば、２−ピラジニル基）、インドリル基（たとえば、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基）、ベンゾフリル基（たとえば、３−ベンゾフリル基、４−ベンゾフリル基）、ベンゾチエニル基（たとえば、３−ベンゾチエニル基、４−ベンゾチエニル基）、ベンゾイミダゾリル基（たとえば、２−ベンゾイミダゾリル基）、インダゾリル基（たとえば、４−インダゾリル基）、ベンゾオキサゾリル基（たとえば、４−ベンゾオキサゾリル基）、ベンゾチアゾリル基（たとえば、４−ベンゾチアゾリル基）、ベンゾイソオキサゾリル基（たとえば、４−ベンゾイソオキサゾリル基）、ベンゾイソチアゾリル基（たとえば、４−ベンゾイソチアゾリル基）、キノリル基（たとえば、２−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、８−キノリル基）、イソキノリル基（たとえば、１−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、８−イソキノリル基）、シンノリニル基（たとえば、４−シンノリニル基、５−シンノリニル基、８−シンノリニル基）、キナゾリニル基（たとえば、４−キナゾリニル基、５−キナゾリニル基、８−キナゾリニル基）、テトラゾリル基などがあげられる。これらのヘテロアリール基には任意の置換基を有していてもよい。
「ヘテロアリールアルキル基」とは、前記低級アルキル基に前記ヘテロアリール基が置換したもので、これらは置換可能なすべての位置で結合しうる。たとえば、ピリジルメチル基（たとえば、２−ピリジルメチル基）、オキサゾリルエチル基（たとえば、２−オキサゾリル−２−エチル基）、チアゾリルメチル基（たとえば、４−チアゾリルメチル基）、インドリルメチル基（たとえば、２−インドリルメチル基、３−インドリルメチル基、４−インドリルメチル基）、ベンゾフリルメチル基（たとえば、３−ベンゾフリルメチル基、４−ベンゾフリルメチル基）、ベンゾチエニルメチル基（たとえば、３−ベンゾチエニルメチル基、４−ベンゾチエニルメチル基）、ベンゾチアゾリルメチル基（たとえば、２−ベンゾチアゾリルメチル基）、キノリルメチル基（たとえば、２−キノリルメチル基、４−キノリルメチル基、５−キノリルメチル基、８−キノリルメチル基）、イソキノリルメチル基（たとえば、１−イソキノリルメチル基、４−イソキノリルメチル基、５−イソキノリルメチル基、８−イソキノリルメチル基）、シンノリニルメチル基（たとえば、４−シンノリニルメチル基、５−シンノリニルメチル基、８−シンノリニルメチル基）、キナゾリニルメチル基（たとえば、４−キナゾリニルメチル基、５−キナゾリニルメチル基、８−キナゾリニルメチル基）などがあげられる。これらのヘテロアリール基には任意の置換基を有していてもよい。
「低級アルケニル基」とは、１個またはそれ以上の二重結合をもつ直鎖または分岐状のＣ１〜Ｃ６のアルケニル基を意味し、具体例としては、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、２−メチル−１−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、４−ペンテニル基、プレニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基などがあげられる。
「低級アルコキシ基」とは、アルキル部分が、前記低級アルキル基と同義であるアルコキシ基を意味し、たとえば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−アミルオキシ基、３−メチルブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基などの直鎖または分岐状のアルコキシ基があげられる。
「アシル基」とは、アルキル部分が、前記低級アルキル基と同義であるアルキルカルボニル基を意味し、たとえば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基などの直鎖または分岐状のアルキルカルボニル基があげられる。
「不飽和の４〜７員環」とは、環内の任意の位置に二重結合を１つ有する４〜７員の炭素環または複素環を表わす。たとえば、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、ジヒドロフラン環（たとえば、２，５−ジヒドロフラン）、ジヒドロピラン環（たとえば、５，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン）、ジヒドロピロール環（たとえば、３−ピロリン）、テトラヒドロピリジン環（たとえば、１，２，３，６−テトラヒドロピリジン）、ジヒドロチオフェン環（たとえば、２，５−ジヒドロチオフェン）、ジヒドロチオピラン環（たとえば、５，６−ジヒドロ−２Ｈ−チオピラン）、デヒドロホモピペリジン環（たとえば、４，５−デヒドロホモピペリジン）などがあげられるがこれらに限定されない。
「シクロアルキルアルキル基」とは、前記低級アルキル基に前記シクロアルキル基が置換したもので、これらは置換可能なすべての位置で結合しうる。たとえば、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロペンチルエチル基（たとえば、２−シクロペンチルエチル基）、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルプロピル基（たとえば、３−シクロヘキシルプロピル基）などがあげられる。これらのシクロアルキル部分には、任意の置換基を有していてもよい。
「ヘテロシクロアルキル基」とは、飽和の単環の複素環を表わす。たとえば、ピロリジニル基（たとえば、１−ピロリジニル基、２−ピロリジニル基、３−ピロリジニル基）、ピペリジニル基（たとえば、１−ピペリジニル基、４−ピペリジニル基）、ホモピペリジニル基（たとえば、１−ホモピペリジニル基、４−ホモピペリジニル基）、テトラヒドロフラニル基（たとえば、２−テトラヒドロフラニル基、３−テトラヒドロフラニル基）、テトラヒドロピラニル基（たとえば、４−テトラヒドロピラニル基）、ピペラジニル基（たとえば、１−ピペラジニル基）、ホモピペラジニル基（１−ピペラジニル基）などがあげられる。
「ヘテロシクロアルケニル基」とは、環内の任意の位置に二重結合を１つ有する単環の複素環を表わす。たとえば、ジヒドロフリル基（たとえば、２，５−ジヒドロフラン−３−イル基）、ジヒドロピラニル基（たとえば、５，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イル基）、ジヒドロピロリル基（たとえば、３−ピロリン−３−イル基）、テトラヒドロピリジル基（たとえば、１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−４−イル基）、ジヒドロチエニル基（たとえば、２，５−ジヒドロチオフェン−３−イル基）、ジヒドロチオピラニル基（たとえば、５，６−ジヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル基）、デヒドロホモピペリジニル基（たとえば、４，５−デヒドロホモピペリジン−４−イル基）などがあげられる。
「ヘテロシクロアルキルアルキル基」とは、前記低級アルキル基に前記ヘテロシクロアルキル基が置換したもので、これらは置換可能なすべての位置で結合しうる。たとえば、ピロリジニルメチル基（たとえば、１−ピロリジニルメチル基、２−ピロリジニルメチル基、３−ピロリジニルメチル基）、ピペリジニルメチル基（たとえば、１−ピペリジニルメチル基、４−ピペリジニルメチル基）、ピペリジニルエチル基（たとえば、１−ピペリジニル−２−エチル基、４−ピペリジニル−２−エチル基）、ホモピペリジニルメチル基（たとえば、１−ホモピペリジニルメチル基、４−ホモピペリジニルメチル基）、テトラヒドロフラニルメチル基（たとえば、２−テトラヒドロフラニルメチル基、３−テトラヒドロフラニルメチル基）、テトラヒドロピラニルメチル基（たとえば、４−テトラヒドロピラニルメチル基）、ピペラジニルメチル基（たとえば、１−ピペラジニルメチル基）、ホモピペラジニルメチル基（１−ホモピペラジニルメチル基）などがあげられる。
「ヘテロシクロアルケニルアルキル基」とは、前記低級アルキル基に前記ヘテロシクロアルケニル基が置換したもので、これらは置換可能なすべての位置で結合しうる。たとえば、ジヒドロフリルメチル基（たとえば、２，５−ジヒドロフラン−３−イルメチル基）、ジヒドロピラニルメチル基（たとえば、５，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−４−イルメチル基）、ジヒドロピロリルメチル基（たとえば、３−ピロリン−３−イルメチル基）、テトラヒドロピリジルメチル基（たとえば、１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−４−イルメチル基）、テトラヒドロピリジルエチル基（たとえば、１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−４−イル−２−エチル基）、ジヒドロチエニルメチル基（たとえば、２，５−ジヒドロチオフェン−３−イルメチル基）、ジヒドロチオピラニルメチル基（たとえば、５，６−ジヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イルメチル基）、デヒドロホモピペリジニルメチル基（たとえば、４，５−デヒドロホモピペリジン−４−イルメチル基）などがあげられる。
「アリールスルホニル基」とは、前記アリール基が１つのスルホニルを介して結合する官能基を表し、たとえば、フェニルスルホニル基、１−ナフチルスルホニル基、２−ナフチルスルホニル基などがあげられる。
「ヘテロアリールスルホニル基」とは、前記ヘテロアリール基が１つのスルホニルを介して結合する官能基を表し、たとえば、２−ピリジルスルホニル基、４−ピリジルスルホニル基、２−チエニルスルホニル基などがあげられるがこれらに限定されない。
「低級アルキルスルホニル基」の具体例としては、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基などの直鎖または分岐状のＣ１〜Ｃ６のアルキルスルホニル基があげられる。
「置換されていてもよいアリール基」、「置換されていてもよいアラルキル基」、「置換されていてもよいヘテロアリール基」および「置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基」における芳香環上の置換基とは、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、メルカプト基、置換されていてもよい低級アルキルチオ基、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル基、シクロアルキル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、−ＮＲ５３Ｒ５４（式中、Ｒ５３およびＲ５４は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、ホルミル基、置換されていてもよいアシル基、低級アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル基、−ＣＯＮＲ５５Ｒ５６（式中、Ｒ５５およびＲ５６は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、Ｒ５７で置換されていてもよいアリール基（Ｒ５７は、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子）、Ｒ５７で置換されていてもよいヘテロアリール基（Ｒ５７は前記と同じ）またはＲ５５およびＲ５６が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、シクロアルキル基またはＲ５３およびＲ５４が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、または−ＯＣＯＲ５８（式中、Ｒ５８は、置換されていてもよい低級アルキル基、Ｒ５７で置換されていてもよいアリール基（Ｒ５７は前記と同じ）、Ｒ５７で置換されていてもよいヘテロアリール基（Ｒ５７は前記と同じ）または−ＮＲ５９Ｒ６０（式中、Ｒ５９およびＲ６０は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、Ｒ５７で置換されていてもよいアリール基（Ｒ５７は前記と同じ）、Ｒ５７で置換されていてもよいヘテロアリール基（Ｒ５７は前記と同じ）またはＲ５９およびＲ６０が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成））などがあげられる。これらは、全ての可能な位置で一個以上置換しうる。
「低級アルコキシカルボニル基」とは、アルキル部分が、前記低級アルキル基であるアルコキシカルボニル基、たとえば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボニル基、３−メチルブトキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基などの直鎖または分岐状のＣ１〜Ｃ６のアルコキシカルボニル基があげられる。
「低級アルキルチオ基」の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基などの直鎖または分岐状のＣ１〜Ｃ６のアルキルチオ基があげられる。
「置換されていてもよいシクロアルキル基」、「置換されていてもよいシクロアルキルアルキル基」、「置換されていてもよいヘテロシクロアルキル基」、「置換されていてもよいヘテロシクロアルキルアルキル基」、「置換されていてもよいヘテロシクロアルケニル基」および「置換されていてもよいヘテロシクロアルケニルアルキル基」における置換基とは、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、メルカプト基、置換されていてもよい低級アルキルチオ基、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル基、シクロアルキル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、−ＮＲ５３Ｒ５４（式中、Ｒ５３およびＲ５４は前記と同じ）、または−ＯＣＯＲ５８（式中、Ｒ５８は前記と同じ）などがあげられる。これらは、全ての可能な位置で一個以上置換しうる。
「置換されていてもよいアリールスルホニル基」、および「置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル基」における芳香環上の置換基とは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基などがあげられる。これらは、全ての可能な位置で一個以上置換しうる。
「置換されていてもよい低級アルキル基」および「置換されていてもよい低級アルケニル基」における置換基とは、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、メルカプト基、置換されていてもよい低級アルキルチオ基、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル基、シクロアルキル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、−ＮＲ６１Ｒ６２（式中、Ｒ６１およびＲ６２は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、ホルミル基、置換されていてもよいアシル基、低級アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル基、−ＣＯＮＲ６３Ｒ６４（式中、Ｒ６３およびＲ６４は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、Ｒ５７で置換されていてもよいアリール基（Ｒ５７は前記と同じ）、Ｒ５７で置換されていてもよいヘテロアリール基（Ｒ５７は前記と同じ）またはＲ６３およびＲ６４が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、シクロアルキル基またはＲ６１およびＲ６２が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、または−ＯＣＯＲ６５（式中、Ｒ６５は、低級アルキル基、Ｒ５７で置換されていてもよいアリール基（Ｒ５７は前記と同じ）、Ｒ５７で置換されていてもよいヘテロアリール基（Ｒ５７は前記と同じ）または−ＮＲ６６Ｒ６７（式中、Ｒ６６およびＲ６７は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、Ｒ５７で置換されていてもよいアリール基（Ｒ５７は前記と同じ）、Ｒ５７で置換されていてもよいヘテロアリール基（Ｒ５７は前記と同じ）またはＲ６６およびＲ６７が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成））などがあげられる。これらは、全ての可能な位置で一個以上置換しうる。
「置換されていてもよい低級アルコキシ基」、「置換されていてもよいアシル基」、「置換されていてもよい低級アルキルチオ基」、「置換されていてもよい低級アルキルスルホニル基」および「置換されていてもよい低級アルコキシカルボニル基」における置換基とは、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基または低級アルコキシ基などがあげられる。これらは、全ての可能な位置で一個以上置換しうる。
一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物または一般式（Ｉａ）で表わされる本発明の化合物において、不斉炭素が存在する場合には、そのラセミ体、ジアステレオ異性体および個々の光学活性体のいずれも本発明に包含されるものであり、また幾何異性体が存在する場合には（Ｅ）体、（Ｚ）体およびその混合物のいずれも本発明に包含されるものである。
一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物または一般式（Ｉａ）で表わされる本発明の化合物の塩としては、薬理学的に許容される塩であればとくに制限されず、たとえば、無機塩基との塩、有機塩基との塩、有機酸との塩、無機酸との塩およびアミノ酸との塩などがあげられる。無機塩基との塩の例としては、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩などがあげられる。有機塩基との塩の例としては、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、エタノールアミン塩、シクロヘキシルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、ジベンジルエタノールアミン塩などがあげられる。有機酸との塩の例としては、ギ酸塩、酢酸塩、酒石酸塩、マレイン酸塩、コハク酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、アスコルビン酸塩、シュウ酸塩、グリコール酸塩、フェニル酢酸塩、メタンスルホン酸塩などがあげられる。無機酸との塩の例としては、塩酸塩、臭化水素酸塩、リン酸塩、スルファミン酸塩、硝酸塩などがあげられる。また、アミノ酸との塩の例としては、グリシン塩、アラニン塩、アルギニン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩などがあげられる。
一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物または一般式（Ｉａ）で表わされる本発明の化合物はプロドラッグの形態をとり得る。本発明のプロドラッグは、一般式（Ｉ）または（Ｉａ）の化合物のカルボキシル基、アミノ基または水酸基が、投与された際に生体内で分解して遊離のカルボキシル基、アミノ基または水酸基を生成するようにいずれかの基が修飾された化合物を包含する。プロドラッグの例としては、一般式（Ｉ）または（Ｉａ）の化合物のカルボキシル基のメチルエステル、エチルエステル、アミノアルキルエステル誘導体、一般式（Ｉ）または（Ｉａ）の化合物の水酸基およびアミン官能基のアセテート、ホルメート、およびベンゾエート誘導体などがあげられるが、これらに限定されない。
本発明の一般式（Ｉ）で表されるリバースヒドロキサム酸誘導体の具体例としては、表１〜表２８に示される化合物をあげることができるが、もちろんこれらに限定されるものではない。
Figure 2003022801
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本発明のリバースヒドロキサム酸誘導体である一般式（Ｉ）または一般式（Ｉａ）で表わされる化合物は、種々の方法で製造できるが、以下に示す製造方法により、効率よく製造することができる。ここでは製造方法を一般式（Ｉ）の化合物の製造方法として説明するが、一般式（Ｉａ）の化合物は一般式（Ｉ）の化合物に包含されるため、一般式（Ｉａ）の化合物も同じ製造方法を適用できる。
以下の製造方法において使用される「保護基」の具体例としては、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基、ｏ−メチルベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｏ−クロロベンジル基、２，４−ジクロロベンジル基、ｐ−ブロモベンジル基、アリル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｏ−メチルベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｏ−クロロベンジルオキシカルボニル基、２，４−ジクロロベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ブロモベンジルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリエチルシリル基、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、カルボニルの保護基（たとえば、エタンジオール、プロパンジオール、メルカプトエタノール、メルカプトプロパノール、エタンジチオール、プロパンジチオールなど）などがあげられる。
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記の工程１〜工程５における反応により製造することができる。
スキーム１：
Figure 2003022801
（式中、Ａ、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１およびＲ２は前記と同じ、Ｐ１はヒドロキシルアミンの水酸基の保護基）
＜工程１＞
工程１においては、ヒドロキシルアミンまたはその塩を化合物（ＩＩ）に付加し、一般式（ＩＩＩａ）で表される化合物を製造する。この付加反応では、ヒドロキシルアミンが塩（塩酸塩や酢酸塩など）の場合、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどの無機塩基の存在下に行なわれる。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、水、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテルまたはそれらの混合溶媒などが好ましい。
反応温度はとくに限定されず、通常、０〜１００℃で行なわれ、反応時間は、２時間から１週間が好ましい。
＜工程２＞
工程２においては、工程１で得られた化合物（ＩＩＩａ）を、一般式（ＩＶ）で表される中間体と縮合し、一般式（Ｉ）で表される化合物を製造する。中間体（ＩＶ）においてＡが水素の場合、中間体（ＩＶ）は、ギ酸の混合酸無水物（ギ酸と酢酸の混合酸無水物など）、ギ酸ペンタフルオロフェニルまたはギ酸とカルボジイミド（ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミドまたは水溶性カルボジイミド）から得られる活性中間体であり、Ａが低級アルキル基またはシクロアルキル基の場合は、相当する酸無水物、相当するカルボン酸とカルボジイミド（ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミドまたは水溶性カルボジイミド）から得られる活性中間体であり、Ａが−ＮＲ３Ｒ４（Ｒ３およびＲ４は前記と同じ）でＲ３およびＲ４がともに水素原子の場合、トリメチルシリルイソシアナートであり、Ｒ３とＲ４のどちらかが水素原子の場合、相当するイソシアナートまたは相当するアミンとカルボニル化剤（カルボニルジイミダゾール、トリホスゲンなど）であり、Ｒ３およびＲ４がともに水素原子でない場合、相当する塩化カルバミルまたは相当するアミンとカルボニル化剤（カルボニルジイミダゾール、トリホスゲンなど）である。反応を円滑に行なうためにトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン、コリジン、ジメチルアミノピリジンなどの有機塩基を共存させてもよい。これらの場合の幾つか（とくにカルボジイミドから活性中間体を得る場合）は１−ヒドロキシベンゾトリアゾールおよび／または４−ジメチルアミノピリジンを加えることにより反応が促進される。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ピリジンなどが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、０〜１００℃で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。なお、本工程において、原料の化学的性質により、ヒドロキシルアミノ基の水酸基にもＡＣＯ基が付加する場合があるが、これは、酸性、塩基性または中性条件下において低級アルコールで処理することにより目的物である化合物（Ｉ）に変換できる。低級アルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノールなどが好ましい。補助溶媒を使用してもよく、その場合使用する補助溶媒はとくに限定されない。
＜工程３＞
工程３においては、水酸基が適当な保護基Ｐ１で保護されたヒドロキシルアミンまたはその塩を化合物（ＩＩ）に付加し、一般式（ＩＩＩｂ）で表される化合物を製造する。保護基としては、ベンジル基、４−メトキシベンジル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、テトラヒドロピラニルまたは２−プロペン−１−イル基などがあげられる。この付加反応では、保護されたヒドロキシルアミンが塩（塩酸塩や酢酸塩など）の場合、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどの無機塩基の存在下に行なわれる。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、水、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、トルエン、ジメトキシエタン、またはそれらの混合溶媒などが好ましい。
反応温度はとくに限定されず、通常、０〜１００℃で行なわれ、反応時間は、２時間から１週間が好ましい。
＜工程４＞
工程４においては、工程２と同様にして工程３で得られた化合物（ＩＩＩｂ）を、一般式（ＩＶ）で表される中間体と縮合し、一般式（Ｖ）で表される化合物を製造する。
＜工程５＞
Ｔ程５においては、工程４で得られた化合物（Ｖ）に使用されている保護基Ｐ１の種類にあわせて、公知の方法によりその脱保護を行ない、一般式（Ｉ）で表される化合物を製造する。脱保護に関しては、「プロテクティブ グループ イン オルガニック シンセシス第２版Ｇｒｅｅｎｅ，Ｔ．Ｗ．などＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９９１）」を参照されたい。
Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１およびＲ２の性質によっては、前記工程１〜工程５の反応において事前に保護基を使用することおよび事後に保護基の除去を行なうことが必要であることは言うまでもない。保護されていない場合、次工程あるいは次次工程の収率が低下したり、中間体の取り扱いが困難な場合がある。
前記化合物（ＩＩ）は、以下に示すように、工程ａ〜工程ｄにより製造することができる。
Figure 2003022801
（式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１およびＲ２は前記と同じ；Ｅは低級アルコキシ基、ハロゲン原子、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシアミノ基などの脱離性官能基；Ｍ１は、Ｌｉ、ＣｅＣｌ２、ＺｎＢｒ、ＺｎＣｌ、ＺｎＲ１、ＮａＢＨ３、ＬｉＢＨ３、ＬｉＢＥｔ３、ＫＢＥｔ３、ＬｉＢ［ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ２Ｈ５］３、ＫＢ［ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ２Ｈ５］３、Ａｌ［ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ２Ｈ５］２など）
＜工程ａ＞
工程ａにおいては、一般式（ＶＩ）で表される化合物を塩基によりアニオンにしたのち、一般式（ＶＩＩ）で表される化合物と反応させて化合物（ＶＩＩＩ）を製造する。使用する塩基としては、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム（ビストリメチルシリル）アミド、リチウムテトラメチルピペラジド、ナトリウム（ビストリメチルシリル）アミド、カリウム（ビストリメチルシリル）アミド、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムなどがあげられる。これらの塩基は、単独で用いるか、または場合によって２つ以上を組み合わせて使用する。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルまたはそれらの混合溶媒などが好ましい。
反応温度は、通常−１００〜４０℃で行なわれ、反応時間は、１〜１２時間が好ましい。なお、この工程においては、化合物（ＶＩ）の化学的性質により化合物（ＩＩ）が得られる場合があるが、本製造目的を斟酌すると問題にならない。
＜工程ｂ＞
工程ｂにおいては、工程ａで得られた化合物（ＶＩＩＩ）を脱水反応により化合物（ＩＩ）を製造する。脱水反応は、水酸基を活性化する試薬と有機塩基の組み合わせにより行なわれ、水酸基を活性化する試薬としては、塩化メタンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化クロロメタンスルホニル、塩化チオニル、塩化スルフリル、五塩化リンなどがあげられる。有機塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、ルチジン、コリジンなどがあげられる。好適な組み合わせとして、塩化メタンスルホニルとトリエチルアミンがあげられる。また、別の脱水試薬として、トリフェニルホスフィン−ジエチルアゾジカルボキシラート、トリフェニルホスフィン−ジイソプロピルアゾカルボキシラート、トリｎ−ブチルホスフィン−ジエチルアゾジカルボキシラート、トリｎ−ブチルホスフィン−ジイソプロピルアゾカルボキシラートなどがあげられる。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメチルホルムアミドなどが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、０〜１００℃で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
なお、工程ａまたは工程ｄの反応中あるいは反応後に、生成した化合物（ＶＩＩＩ）の水酸基が、Ｒ１やＲ２の化学的性質により自然脱離し、一部あるいは全部が化合物（ＩＩ）になる場合がある。一部の場合、分離することなく工程ｂを行なうことができ、全部の場合工程ｂを省略することができる。
＜工程ｃ＞
工程ｃにおいては、工程ａと同様にして、一般式（ＶＩ）で表される化合物を塩基によりアニオンにした後、化合物（ＩＸ）と反応させて化合物（Ｘ）を製造する。
＜工程ｄ＞
工程ｄにおいては、工程ｃで得られた化合物（Ｘ）を一般式（ＸＩ）で表される化合物と反応させ、一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物を製造する。反応溶媒としては、化合物（ＸＩ）が水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化ホウ素リチウムの場合には、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホルムまたはそれらの混合溶媒などが好ましく、化合物（ＸＩ）が前記２種以外の場合は、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルまたはそれらの混合溶媒などが好ましい。反応温度は、通常−１００〜３０℃で行なわれ、反応時間は、１〜１２時間が好ましい。
Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１およびＲ２の性質によっては、前記工程ａ〜工程ｄの反応において事前に保護基などを使用することおよび事後に保護基などの除去を行なうことが必要であることは言うまでもない。
前記化合物（ＶＩ）は、以下に示すように、工程ｅ〜工程ｉにより製造することができる。
Figure 2003022801
（式中、Ａｒ１およびＡｒ２は前記と同じ；Ｊ１はハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基；Ｍ２は、水素、リチウム、ナトリウムまたはカリウム）
＜工程ｅ＞
工程ｅにおいては、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物またはその塩と一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物を無機塩基の存在下縮合させ、化合物（ＶＩ）を製造する。好適な無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化カルシウムなどがあげられる。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、水、メタノール、エタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、２−メトキシエタノールまたはそれらの混合溶媒などが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、その反応溶液の沸騰温度で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
＜工程ｆ＞
工程ｆにおいては、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物またはその塩と一般式（ＸＩＶ）で表される化合物を無機塩基の存在下縮合させ、化合物（ＸＶ）を製造する。好適な無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化カルシウムなどがあげられる。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、水、メタノール、エタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、２−メトキシエタノールまたはそれらの混合溶媒などが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、その反応溶液の沸騰温度で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
＜工程ｇ＞
工程ｇにおいては、工程ｆで得られた化合物（ＸＶ）をクロルスルホン酸と反応させ、一般式（ＸＶＩ）で表される化合物を製造する。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、無溶媒か、クロロホルム、塩化メチレンまたは四塩化炭素などが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、０〜７０℃で行なわれ、反応時間は、１〜７２時間が好ましい。
＜工程ｈ＞
工程ｈにおいては、工程ｇで得られた化合物（ＸＶＩ）のクロルスルホニル基を還元試薬で還元し、一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物を製造する。還元試薬としては、亜鉛、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、マグネシウム、鉄、塩化スズ、硫化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなどがあげられる。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、水、エタノール、メタノール、エーテルなどがあげられる。反応温度はとくに限定されず、通常、２０〜１００℃で行なわれ、反応時間は、１〜１２時間が好ましい。
＜工程ｉ＞
工程ｉにおいては、工程ｈで得られた化合物（ＸＶＩＩ）をヨウ化メチルと反応させ、一般式（ＶＩ）で表される化合物を製造する。化合物（ＸＶＩＩ）のＭ２が水素の場合、塩基を使用する。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムまたは水酸化テトラｎ−ブチルアンモニウムなどがあげられる。本工程の反応においては、塩化テトラｎ−ブチルアンモニウム、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムなどの相間移動触媒を加えると反応が加速される。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、エタノール、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、水、ジメチルスルホキシドなどが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、０〜１００℃で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
Ａｒ１およびＡｒ２の性質によっては、前記工程ｅ〜工程ｉの反応において事前に保護基などを使用することおよび事後に保護基などの除去を行なうことが必要であることは言うまでもない。
前記化合物（Ｘ）は、以下に示すように、工程ｊにより製造することができる。
Figure 2003022801
（式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ２、Ｊ１およびＭ２は前記と同じ）
＜工程ｊ＞
工程ｊにおいては、一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物と一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物を縮合させ、一般式（Ｘ）で表される化合物を製造する。化合物（ＸＶＩＩ）のＭ２が水素の場合、塩基の存在下行なう。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムまたは水酸化テトラｎ−ブチルアンモニウムなどがあげられる。本工程の反応においては、塩化テトラｎ−ブチルアンモニウム、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムなどの相間移動触媒を加えると反応が加速される。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、エタノール、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、水、ジメチルスルホキシドなどが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、０〜１００℃で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
Ａｒ１、Ａｒ２およびＲ２の性質によっては、前記工程ｊの反応において事前に保護基などを使用することおよび事後に保護基などの除去を行なうことが必要であることは言うまでもない。
なお、前記化合物（ＸＶＩ）は、以下に示すように、工程ｋ〜工程ｌにより製造することができる。
Figure 2003022801
（式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｊ１およびＭ２は前記と同じ）
＜工程ｋ＞
工程ｋにおいては、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物またはその塩と一般式（ＸＩＸ）で表される化合物を無機塩基の存在下縮合させ、化合物（ＸＸ）を製造する。好適な無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどがあげられる。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、２−メトキシエタノールまたはそれらの混合溶媒などが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、その反応溶液の沸騰温度で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
＜工程ｌ＞
工程ｌにおいては、工程ｋで得られた化合物（ＸＸ）を塩化チオニルまたはホスゲンと反応させ、一般式（ＸＶＩ）で表される化合物を製造する。反応促進剤として触媒量のジメチルホルムアミドを添加してもよい。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、無溶媒か、クロロホルム、塩化メチレンまたは四塩化炭素などが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、０〜１００℃で行なわれ、反応時間は、１〜７２時間が好ましい。
Ａｒ１およびＡｒ２の性質によっては、前記工程ｋ〜工程ｌの反応において事前に保護基などを使用する事および事後に保護基などの除去を行なう事が必要であることは言うまでもない。
なお、前記化合物（ＸＶＩＩ）は、以下に示すように、工程ｍ〜工程ｎにより製造することができる。
Figure 2003022801
Figure 2003022801
（式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｊ１およびＭ２は前記と同じ；Ｊ２はハロゲン原子）
＜工程ｍ＞
工程ｍにおいては、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物またはその塩と一般式（ＸＸＩ）で表される化合物を無機塩基の存在下縮合させ、化合物（ＸＸＩＩ）を製造する。好適な無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化カルシウムなどがあげられる。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、２−メトキシエタノールまたはそれらの混合溶媒などが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、その反応溶液の沸騰温度で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
＜工程ｎ＞
工程ｎにおいては、工程ｍで得られた化合物（ＸＸＩＩ）のハロゲン原子（Ｊ２）をハロゲン−メタル交換反応によりリチウムにした後、二酸化硫黄と反応させ、一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物を製造する。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、またはそれらの混合溶媒などが好ましい。反応温度は、通常−１００〜３０℃で行なわれ、反応時間は、１〜６時間が好ましい。
Ａｒ１およびＡｒ２の性質によっては、前記工程ｍ〜工程ｎの反応において事前に保護基などを使用する事および事後に保護基などの除去を行なう事が必要であることは言うまでもない。
また、スキーム１における一般式（ＩＩＩａ）で表される化合物は、下記の工程ｏ〜工程ｓにおける反応によっても製造することができる。
Figure 2003022801
（式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｊ１およびＭ２は前記と同じ；Ｐ２は、アミノ基の保護基；Ａｒ３は、フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−トリル基または４−クロロフェニル基などの芳香族炭化水素基）
＜工程ｏ＞
工程ｏにおいては、一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物と一般式（ＸＸＩＩＩ）で表される化合物を縮合させ、一般式（ＸＸＩＶ）で表される化合物を製造する。化合物（ＸＶＩＩ）のＭ２が水素の場合、塩基の存在下反応を行なう。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムまたは水酸化テトラｎ−ブチルアンモニウムなどがあげられる。本工程の反応においては、塩化テトラｎ−ブチルアンモニウム、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムなどの相間移動触媒を加えると反応が加速される。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、エタノール、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、水、ジメチルスルホキシドなどが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、０〜１００℃で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
＜工程ｐ＞
工程ｐにおいては、工程ｏで得られた化合物（ＸＸＩＶ）に使用されている保護基Ｐ２の種類にあわせて、公知の方法によりその脱保護を行ない、一般式（ＸＸＶ）で表される化合物を製造する。たとえば、Ｐ２がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基の場合、酸性条件下でアミノ基の脱保護を行ない化合物（ＸＸＶ）を製造する。この酸性条件下での脱保護は公知の方法を使用すればよく、酸としては、トリフルオロ酢酸、塩酸、臭化水素、ヨウ化トリメチルシリルなどがあげられる。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、酢酸エチル、酢酸またはそれらの混合溶媒などが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、０〜１００℃で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
＜工程ｑ＞
工程ｑにおいては、工程ｐで得られた化合物（ＸＸＶ）またはその塩と一般式（ＸＸＶＩ）で表される化合物を脱水縮合させ、一般式（ＸＸＶＩＩ）で表される化合物を製造する。反応を加速させるために炭酸ナトリウム、硫酸マグネシウム、モレキュラーシーブスなどを加えてもよく、また副生成物である水を共沸除去してもよい。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、エタノール、メタノール、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、酢酸エチル、ベンゼン、トルエンまたはそれらの混合溶媒などが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、０〜１２０℃で行なわれ、反応時間は、１〜４８時間が好ましい。
＜工程ｒ＞
工程ｒにおいては、工程ｑで得られた化合物（ＸＸＶＩＩ）のイミン部分を酸化試薬で酸化し、一般式（ＸＸＶＩＩＩ）で表される化合物を製造する。酸化試薬としては、ｍ−クロロ過安息香酸、過安息香酸、過酢酸、ペルオキシカンファー酸、ｐ−ニトロ過安息香酸、モノペルオキシフタル酸、過ギ酸、過トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホニル過酸またはオキソンなどがあげられる。副反応を防ぐ目的で、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸一水素二ナトリウム、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウムなどを共存させてもよい。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、クロロホルム、塩化メチレン、ベンゼン、トルエンまたはそれらの混合溶媒などが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、−４０〜５０℃で行なわれ、反応時間は、１〜４８時間が好ましい。
＜工程ｓ＞
工程ｓにおいては、工程ｒで得られた化合物（ＸＸＶＩＩＩ）を加溶媒分解し、一般式（ＩＩＩａ）で表される化合物を製造する。反応促進剤として、塩酸、硫酸などの無機酸、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ヒドロキシルアミンの塩酸塩などのアミン塩、などがあげられる。溶媒としては、メタノール、エタノール、水などがあげられ、補助溶媒としてテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、エーテルなどがあげられる。反応温度はとくに限定されず、通常、０〜１００℃で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
Ａｒ１、Ａｒ２およびＲ２の性質によっては、前記工程ｏ〜工程ｓの反応において事前に保護基などを使用する事および事後に保護基などの除去を行なう事が必要であることは言うまでもない。
さらに、スキーム１における一般式（ＩＩＩｂ）で表される化合物は、下記の工程ｔ〜工程ｕにおける反応によっても製造することができる。
Figure 2003022801
（式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２およびＰ１は前記と同じ）
＜工程ｔ＞
一般式（ＶＩＩ）で表される化合物と保護基Ｐ１で保護されたヒドロキシルアミンまたはその塩を縮合させ、一般式（ＸＸＩＸ）で表される化合物を製造する。この反応では、保護されたヒドロキシルアミンが塩（塩酸塩や酢酸塩など）の場合、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、ピリジンなどの弱塩基の存在下に行なわれる。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エタノール、メタノール、ジメトキシエタンまたはそれらの混合溶媒などが好ましい。反応温度はとくに限定されず、通常、２０〜１５０℃で行なわれ、反応時間は、２〜７２時間が好ましい。
＜工程ｕ＞
工程ｕにおいては、一般式（ＶＩ）で表される化合物を塩基によりアニオンにした後、工程ｔで得られた化合物（ＸＸＩＸ）と反応させて化合物（ＩＩＩｂ）を製造する。使用する塩基としては、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム（ビストリメチルシリル）アミド、リチウムテトラメチルピペラジド、ナトリウム（ビストリメチルシリル）アミド、カリウム（ビストリメチルシリル）アミド、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムなどがあげられる。反応促進剤としてトリフルオロボロンエーテル錯体のようなルイス酸を存在させてもよい。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ヘキサンまたはそれらの混合溶媒などが好ましい。
反応温度は、通常−１００〜３０℃で行なわれ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１およびＲ２の性質によっては、前記工程ｔ〜工程ｕの反応において事前に保護基などを使用する事および事後に保護基などの除去を行なう事が必要であることは言うまでもない。
また、前記化合物（ＶＩＩＩ）は、以下に示すように、工程ｖ〜工程ｚにより製造することができる。
Figure 2003022801
（式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｅ、Ｍ１およびＪ１は前記と同じ、Ｐ３は水酸基の保護基）
＜工程ｖ＞
工程ｖにおいては、工程ａと同様にして、一般式（ＸＸＸ）で表される化合物を塩基によりアニオンとした後、化合物（ＶＩＩ）と反応させて化合物（ＸＸＸＩ）を製造する。
＜工程ｗ＞
工程ｗにおいては、工程ｃと同様にして、一般式（ＸＸＸ）で表される化合物を塩基によりアニオンとした後、化合物（ＩＸ）と反応させて化合物（ＸＸＸＩＩ）を製造する。
＜工程ｘ＞
工程ｘにおいては、工程ｄと同様にして、一般式（ＸＸＸＩＩ）で表される化合物を一般式（ＸＩ）で表される化合物と反応させ、化合物（ＸＸＸＩ）を製造する。
＜工程ｙ＞
工程ｙにおいては、一般式（ＸＸＸＩ）で表される化合物に使用されている保護基Ｐ３の種類にあわせて、公知の方法によりその脱保護を行い、一般式（ＸＸＸＩＩＩ）で表される化合物を製造する。
なお、工程ｖ、または工程ｘの反応中あるいは反応後に生成した化合物（ＸＸＸＩ）の保護基Ｐ３が、Ｒ１、Ｒ２およびＰ３の化学的性質により自然脱離し、一部あるいは全部が化合物（ＸＸＸＩＩＩ）になる場合がある。一部の場合、分離することなく工程ｙを行う事ができ、全部の場合工程ｙを省略する事ができる。
＜工程ｚ＞
工程ｚにおいては、工程ｙで得られた化合物（ＸＸＸＩＩＩ）と一般式（ＸＩＩ）で表される化合物またはその塩を無機塩基の存在下縮合させ、化合物（ＶＩＩＩ）を製造する。好適な無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水索ナトリウム、水酸化カルシウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシドなどがあげられる。反応溶媒としては、反応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、水、メタノール、エタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、２−メトキシエタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドまたはそれらの混合溶媒等が好ましい。反応温度は特に限定されず、通常、０〜１００℃で行われ、反応時間は、１〜２４時間が好ましい。
Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１およびＲ２の性質によっては、前記工程ｖ〜工程ｚの反応において事前に保護基などを使用することおよび事後に保護基などの除去を行うことが必要であることは言うまでもない。
前述した方法で製造される本発明化合物は遊離化合物、その塩、その水和物もしくはエタノール和物などの各種溶媒和物または結晶多形の物質として単離精製される。本発明化合物の薬理学的に許容される塩は常法の造塩反応により製造することができる。単離精製は抽出分別、結晶化、各種分画クロマトグラフィーなどの化学操作を適用して行なわれる。また、光学異性体は適当な原料化合物を選択することにより、またはラセミ化合物の光学分割により立体化学的に純粋な異性体として得ることができる。
本発明のリバースヒドロキサム酸誘導体Ｉまたはリバースヒドロキサム酸誘導体Ｉａは、優れた選択的ＴＡＣＥ阻害作用を示し、遊離の活性型ＴＮＦ−αの産生を抑制し、強いては先に記述したＴＮＦ−αに起因する種々の病態の治療薬として有用であり、たとえば、リウマチ性関節炎、全身性エリテマトーデス、多発性硬化症、ベーチェット病、シェーグレン症候群などの自己免疫疾患、およびそれらに伴う各種臓器炎症、喘息、アトピー性皮膚炎、鼻閉、鼻炎などのアレルギー性疾患、クローン病などを含む炎症性腸疾患、腎炎、肝炎、中枢神経系の炎症性疾患、心臓血管性疾患、動脈硬化症、糖尿病、重症筋無力症、急性感染症、発熱、貧血、敗血症、種々の悪性腫瘍、移植臓器の損傷予防、腫瘍増殖または転移阻止などがあげられる。
本発明のリバースヒドロキサム酸誘導体Ｉａを含有する医薬、またはリバースヒドロキサム酸誘導体Ｉを含有するＴＡＣＥ阻害剤は、全身的または局所的に、経口、経鼻、経気道、経肺、点眼、静脈内注射、皮下注射、直腸内投与などの方法で投与される。また剤形は投与経路に応じて適宜選択することができ、たとえば、錠剤、トローチ剤、舌下錠、糖衣錠、カプセル剤、丸剤、散剤、顆粒剤、液剤、乳剤、シロップ剤、点眼剤、点鼻剤、吸入剤、注射剤などがあげられる。またこれらの製剤には、賦形剤、防腐剤、湿潤剤、乳化剤、安定化剤、溶解補助剤などを配合し製造することができる。
本発明のリバースヒドロキサム酸誘導体Ｉａを含有する医薬、またはリバースヒドロキサム酸誘導体Ｉを含有するＴＡＣＥ阻害剤の投与量は、投与対象、投与ルート、症状などの条件によって適宜決定すればよく、たとえば、成人の患者に対して経口投与する場合、有効成分である本化合物を通常１回量として、約０．１〜１００ｍｇ／ｋｇ、好ましくは１〜４０ｍｇ／ｋｇの範囲であればよく、１日１〜３回投与するのが好ましい。
また、本発明のリバースヒドロキサム酸誘導体ＩまたはＩａのＴＡＣＥ阻害効果は、５０％抑制濃度（ＩＣ５０）で０．０１ｎＭ〜１０００ｎＭが好ましい。
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
また、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）を内部標準とし、ＪＮＭ−ＥＸ２７０型スペクトルメーター（２７０ＭＨｚ、日本電子（株）製）で測定し、δ値はｐｐｍで示した。低分解能質量スペクトル（ＦＡＢＭＳ）測定には日本電子ＪＭＳ−ＨＸ−１１０Ａ型を使用した。
実施例１
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−［１−（４−メチレンシクロヘキシル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ホルムアミド（Ｉ−１）の製造
Figure 2003022801
（１−１）：４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン（ＶＩ−１）
４−クロロメチル−２−メチルキノリン塩酸塩７．２３ｇ（２９．６ｍｍｏｌ）と４−メチルスルフォニルフェノール５．６１ｇ（３２．６ｍｍｏｌ）のエタノール（２６ｍＬ）溶液に、４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１７．１ｍＬ（６８．１ｍｍｏｌ）を加え、５時間加熱還流した。放冷後、水（１５０ｍｌ）と４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（２．５ｍＬ）を加え、室温で２０分間攪拌した。析出物を濾取し、水およびヘキサンで充分洗浄後、真空下五酸化リン存在下４０℃で乾燥したところ、４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン（ＶＩ−１）９．０６ｇ（収率９３．５％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．７６（３Ｈ，ｓ），３．０６（３Ｈ，ｓ），５．５９（２Ｈ，ｓ），７．１７（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．９，３．０），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．７４（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝８．６，１．３），７．９２（３Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ３２８；実測値３２８．
（１−２）：１−（４−メチレンシクロヘキシル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エタノン（Ｘ−１）
アルゴン雰囲気下、前記（１−１）で得た４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン（ＶＩ−１）１．９５ｇ（５．９４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）溶液に、−７８℃でリチウムジイソプロピルアミドの２ｍｏｌ／Ｌヘキサン−ヘプタン−エチルベンゼン溶液（アルドリッチ社製）３．７ｍＬ（７．４３ｍｍｏｌ）を滴下後、１時間攪拌した。この溶液に−７８℃で４−メチレンシクロヘキサンカルボン酸メチル１．１ｇ（６．５４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液を滴下後、４時間攪拌した。反応液に１Ｎ硫酸（４ｍＬ）を加え１０分間攪拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。減圧下で反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）で精製し、１−（４−メチレンシクロヘキシル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エタノン（Ｘ−１）１．６７ｇ（収率６０．０％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．４０（２Ｈ，ｍ），２．０５（４Ｈ，ｍ），２．３６（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），２．８５（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝１１．２，３．６），４．２２（２Ｈ，ｓ），４．６６（２Ｈ，ｓ），５．５８（２Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．９，３．０），７．４２（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．６，１．０），７．７４（１Ｈ，ｍ），７．８５（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．９，３．０），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４５０；実測値４５０．
（１−３）：１−（４−メチレンシクロヘキシル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エタノール（ＶＩＩＩ−１）
前記（１−２）で得た１−（４−メチレンシクロヘキシル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エタノン（Ｘ−１）４００ｍｇ（０．８９ｍｍｏｌ）のメタノールおよびテトラヒドロフラン混合溶液（６．５ｍＬ＋２．５ｍＬ）に０℃で水素化ホウ素ナトリウム３３．６ｍｇ（０．８９ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応液に水を加えた後、減圧下で反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したところ、１−（４−メチレンシクロヘキシル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エタノール（ＶＩＩＩ−１）４１０ｍｇ（収率１００％）が白色固体として得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１１（２Ｈ，ｍ），１．５０−１．８３（３Ｈ，ｍ），１．９８（２Ｈ，ｍ），２．２９（２Ｈ，ｍ），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９），３．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３），３．９９（１Ｈ，ｍ），４．６０（２Ｈ，ｓ），５．６０（２Ｈ，ｓ），７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．３），７．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．３），７．９０（３Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４５２；実測値４５２．
（１−４）：２−メチル−４−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）エテンスルホニル｝フェノキシメチル］キノリン（ＩＩ−１）
前記（１−３）で得た１−（４−メチレンシクロヘキシル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エタノール（ＶＩＩＩ−１）４１０ｍｇ（０．８９ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン３６０ｍｇ（３．６０ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（６．０ｍＬ）溶液に、０℃で塩化メタンスルホニル１８３ｍｇ（１．６０ｍｍｏｌ）を加え、室温で６時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したところ、２−メチル−４−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）−エテンスルホニル｝フェノキシメチル］キノリン（ＩＩ−１）４１５ｍｇ（収率１００％）が白色固体として得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．２５（２Ｈ，ｍ），１．８７（２Ｈ，ｍ），２．０５（２Ｈ，ｍ），２．３３（３Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），４．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．３），５．５７（２Ｈ，ｓ），６．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．２，１．３），６．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．２，６．３），７．１４（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．９，３．０），７．４２（１Ｈ，ｓ），７．５５（１Ｈ，ｍ），７．７３（１Ｈ，ｍ），７．８３（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．９，３．０），７．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．０），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４３４；実測値４３４．
（１−５）：Ｎ−［１−（４−メチレンシクロヘキシル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−１）
前記（１−４）で得た２−メチル−４−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）エテンスルホニル｝フェノキシメチル］キノリン（ＩＩ−１）４１５ｍｇ（０．８９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（９．３ｍＬ）溶液に０℃で５０％ヒドロキシルアミン水溶液（１．１ｍＬ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応液を減圧下にて留去し、得られた残渣を酢酸エチルで希釈した後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したところ、Ｎ−［１−（４−メチレンシクロヘキシル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−１）４４３ｍｇ（収率１００％）が白色固体として得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０１（２Ｈ，ｍ），１．５０−２．０４（５Ｈ，ｍ），２．２８（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．１２（２Ｈ，ｍ），３．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．２，９．９），４．６０（２Ｈ，ｓ），４．７１（１Ｈ，ｂｓ），５．５９（２Ｈ，ｓ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．７４（１Ｈ，ｍ），７．９１（３Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４６７；実測値４６７．
（１−６）：Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−［１−（４−メチレンシクロヘキシル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ホルムアミド（Ｉ−１）
ギ酸（２．２ｍＬ）と無水酢酸（０．５４ｍＬ）を０℃で３０分間混合したものを、前記（１−５）で得たＮ−［１−（４−メチレンシクロヘキシル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−１）４４３ｍｇ（０．８９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフランおよびギ酸（５．４ｍＬ＋２．２ｍＬ）混合溶液に０℃で滴下し、その後室温にて１時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮し、得られた残渣をキシレンにて共沸した後、クロロホルム（５．８ｍＬ）で希釈し、メタノール（１．５ｍＬ）を加え室温で４０時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮した後、中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル展開溶媒：酢酸エチル）で精製したところ、表題化合物３２６ｍｇ（収率７４．１％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０６（２Ｈ，ｍ），１．６５−２．０７（５Ｈ，ｍ），２．３２（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．２７（１Ｈ，ｍ），３．５７−３．９３（１．７Ｈ，ｍ），４．３９（０．３Ｈ，ｍ），４．６１（２Ｈ，ｍ），５．５８（２Ｈ，ｍ），７．１７（２Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｓ），７．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．６５−７．９２（４．７Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．４７（０．３Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４９５；実測値４９５．
実施例２
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−［２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）−ベンゼンスルホニル｝−１−（４−オキソシクロヘキシルメチル）エチル］ホルムアミド（Ｉ−２）の製造
Figure 2003022801
（２−１）：１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−２）
アルゴン雰囲気下、前記（１−１）で得られた４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン（ＶＩ−１）５．０ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２５０ｍＬ）溶液に、−７８℃でリチウムジイソプロピルアミドの２ｍｏｌ／Ｌヘキサン−ヘプタン−エチルベンゼン溶液（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）８．４ｍＬ（１６．８ｍｍｏｌ）を滴下後、５０分間撹拌した。
この溶液に−７８℃で（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）アセトアルデヒド３．１ｇ（１６．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液を加えたのち、２０分間撹拌した。反応液に酢酸（１．３ｍＬ）を加え１０分間撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）を加え室温で１５分間撹拌した。減圧下で有機溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル＝２５：７５〜０：１００）で精製し、１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−２）６．２４ｇ（収率７９．７％）を無色油状物として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．２２（２Ｈ，ｍ），１．４０−１．８３（９Ｈ，ｍ），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，２．３），３．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，８．６），３．３９（１Ｈ，ｂｓ），３．９２（４Ｈ，ｓ），４．２９（１Ｈ，ｍ），５．５９（２Ｈ，ｓ），７．１９（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．９，３．０），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｍ），７．９０（３Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５１２；実測値５１２．
（２−２）：４−［４−｛３−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−プロプ−１−エン−１−スルホニル｝フェノキシメチル］−２−メチルキノリン（ＩＩ−２）
前記（２−１）で得られた１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−２）６．２０ｇ（１２．１２ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン４．４２ｇ（４３．６３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（６０ｍＬ）溶液に、−１０℃で塩化メタンスルホニル１．９４ｇ（１６．９７ｍｍｏｌ）を１５分間かけて滴下した。反応混合物を０℃で３時間撹拌後、徐々に室温まで昇温した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したところ、４−［４−｛３−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−プロプ−１−エン−１−スルホニル｝フェノキシメチル］−２−メチルキノリン（ＩＩ−２）６．０ｇ（収率１００％）が白色固体として得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．２６（２Ｈ，ｍ），１．５２（２Ｈ，ｍ），１．７０（４Ｈ，ｍ），２．１６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．９２（４Ｈ，ｓ），５．５７（２Ｈ，ｓ），６．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８），６．９３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１４．９，７．３），７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９），７．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９），７．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４９４；実測値４９４．
（２−３）：Ｎ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イルメチル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−２ａ）
実施例１（１−５）と同様な方法により、前記（２−２）で得られた４−［４−｛３−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−プロプ−１−エン−１−スルホニル｝フェノキシメチル］−２−メチルキノリン（ＩＩ−２）６．０ｇ（１２．１２ｍｍｏｌ）と５０％ヒドロキシルアミン水溶液（１７ｍＬ）からＮ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イルメチル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−２ａ）６．４ｇ（収率１００％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０５−１．７８（１１Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），２．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，３．０），３．４５（１Ｈ，ｍ），３．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，８．３），３．９１（４Ｈ，ｓ），５．０６（１Ｈ，ｂｓ），５．５８（２Ｈ，ｓ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９），７．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．３），７．９１（３Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５２７；実測値５２７．
（２−４）：４−［２−ヒドロキシアミノ−３−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝プロピル］シクロヘキサノン（ＩＩＩ−２ｂ）
前記（２−３）で得られたＮ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イルメチル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−２ａ）６．４０ｇ（１２．１２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（７０ｍＬ）溶液に、０℃で２Ｎ塩酸（１７ｍＬ）を加え、室温で１４時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したところ、４−［２−ヒドロキシアミノ−３−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝プロピル］シクロヘキサノン（ＩＩＩ−２ｂ）６．２５ｇ（収率１００％）が油状物として得られた。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４８３；実測値４８３．
（２−５）：Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−［２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−オキソシクロヘキシルメチル）エチル］ホルムアミド（Ｉ−２）
実施例１（１−６）と同様な方法により、前記（２−４）で得られた４−［２−ヒドロキシアミノ−３−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝プロピル］シクロヘキサノン（ＩＩＩ−２ｂ）６．２５ｇ（１２．１２ｍｍｏｌ）とギ酸（６０ｍＬ）と無水酢酸（７．２ｍＬ）から表題化合物３．６ｇ（収率５８．２％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１５−２．５０（１１Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．０７（０．６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，３．０），３．２２（０．４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，４．０），３．５９（０．４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，９．９），３．７５（０．６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，８．６），４．４１（０．６Ｈ，ｍ），４．７８（０．４Ｈ，ｍ），５．５９（２Ｈ，ｓ），７．１８（２Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９），７．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．３），７．８２（３Ｈ，ｍ），７．９８（０．６Ｈ，ｓ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．５１（０．４Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５１１；実測値５１１．
実施例３
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−［２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−オキソシクロヘキシリデンメチル）エチル］ホルムアミド（Ｉ−３）の製造
Figure 2003022801
（３−１）：１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イリデン）−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−３）
実施例２（２−１）と同様な方法により前記（１−１）で得られた４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン（ＶＩ−１）１．８ｇ（５．５０ｍｍｏｌ）と（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イリデン）アセトアルデヒド１．１１ｇ（６．０９ｍｍｏｌ）から１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イリデン）−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−３）２．５０ｇ（収率８８．３％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．６５（４Ｈ，ｍ），２．２１（４Ｈ，ｍ），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，２．４），３．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７），３．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，９．２），３．９５（４Ｈ，ｓ），４．９９（１Ｈ，ｂｔ，Ｊ＝８．６），５．１７（１Ｈ，ｂｔ，Ｊ＝８．３），５．６０（２Ｈ，ｓ），７．１９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．９），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．７５（１Ｈ，ｍ），７．９１（３Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５１０；実測値５１０．
（３−２）：４−［４−｛３−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イリデン）−プロプ−１−エン−１−スルホニル｝フェノキシメチル］−２−メチルキノリン（ＩＩ−３）
実施例２（２−２）と同様な方法により、前記（３−１）で得られた１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イリデン）−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−３）２．５０ｇ（４．９１ｍｍｏｌ）から４−［４−｛３−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イリデン）−プロプ−１−エン−１−スルホニル｝フェノキシメチル］−２−メチルキノリン（ＩＩ−３）２．０５ｇ（収率８５．２％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．７５（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６），２．３９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６），２．５７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．９８（４Ｈ，ｓ），５．５７（２Ｈ，ｓ），５．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５），６．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５），７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．４２（１Ｈ，ｓ），７．５４（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６），７．８８（３Ｈ，ｍ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４９２；実測値４９２．
（３−３）：Ｎ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イリデンメチル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−３ａ）
実施例１（１−５）と同様な方法により、前記（３−２）で得られた４−［４−｛３−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イリデン）−プロプ−１−エン−１−スルホニル｝フェノキシメチル］−２−メチルキノリン（ＩＩ−３）２．０５ｇ（４．１７ｍｍｏｌ）と５０％ヒドロキシルアミン水溶液（１０ｍＬ）からＮ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イリデンメチル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−３ａ）２．２０ｇ（収率１００％）を得た。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５２５；実測値５２５．
（３−４）：４−［２−ヒドロキシアミノ−３−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝プロピリデン］シクロヘキサノン（ＩＩＩ−３ｂ）
実施例２（２−４）と同様な方法により、前記（３−３）で得られたＮ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イリデンメチル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−３ａ）２．２０ｇ（４．１７ｍｍｏｌ）から４−［２−ヒドロキシアミノ−３−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝プロピリデン］シクロヘキサノン（ＩＩＩ−３ｂ）２．１０ｇ（収率１００％）が油状物として得られた。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４８１；実測値４８１．
（３−５）：Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−［２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−オキソシクロヘキシリデンメチル）エチル］ホルムアミド（Ｉ−３）
実施例１（１−６）と同様な方法により、前記（３−４）で得られた４−［２−ヒドロキシアミノ−３−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝プロピリデン］シクロヘキサノン（ＩＩＩ−３ｂ）２．１０ｇ（４．１７ｍｍｏｌ）とギ酸（２０ｍＬ）と無水酢酸（２．４ｍＬ）から表題化合物１．１２ｇ（収率５２．８％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．５６−２．６５（８Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．２０（１Ｈ，ｍ），３．６０−３．９７（２Ｈ，ｍ），５．００−５．５０（２Ｈ，ｍ），５．６０（２Ｈ，ｓ），７．１８（２Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６），７．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９），７．８７（３Ｈ，ｍ），８．００（０．４Ｈ，Ｓ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），８．３９（０．６Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５０９；実測値５０９．
実施例４
Ｎ−［２−｛４−（２，６−ジメチルピリジン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−４）の製造
Figure 2003022801
（４−１）：４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２，６−ジメチルピリジン（ＶＩ−４）
４−クロロメチル−２，６−ジメチルピリジン塩酸塩１．０ｇ（５．２１ｍｍｏｌ）と４−メチルスルホニルフェノール１．１ｇ（６．２５ｍｍｏｌ）のエタノール（３．５ｍＬ）溶液に、４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液３．５ｍＬ（１４．０ｍｍｏｌ）を加え、９０分間加熱還流した。放冷したのち、減圧下にてエタノールを留去した。得られた残渣に水を加え析出物を濾取し、減圧乾燥して４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル−２，６−ジメチルピリジン（ＶＩ−４）７０７ｍｇ（収率４６．６％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．５５（６Ｈ，ｓ），３．０４（３Ｈ，ｓ），５．０９（２Ｈ，ｓ），７．０１（２Ｈ，ｓ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
（４−２）：２−［４−（２，６−ジメチルピリジン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノン（Ｘ−４）
実施例１（１−２）と同様な方法により、前記（４−１）で得られた４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２，６−ジメチルピリジン（ＶＩ−４）５００ｍｇ（１．７２ｍｍｏｌ）と４−メチレンシクロヘキサンカルボン酸メチル２９０ｍｇ（１．７２ｍｍｏｌ）から２−［４−（２，６−ジメチルピリジン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノン（Ｘ−４）３７７ｍｇ（収率５３．２％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．３３−１．４８（２Ｈ，ｍ），１．９４−２．１２（４Ｈ，ｍ），２．３４−２．３９（２Ｈ，ｍ），２．５５（６Ｈ，ｓ），２．８４（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝３．３，１１．２），４．２１（２Ｈ，ｓ），４．６６（２Ｈ，ｓ），５．０８（２Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｓ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４１４；実測値４１４．
（４−３）：２−［４−（２，６−ジメチルピリジン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノール（ＶＩＩＩ−４）
実施例１（１−３）と同様な方法により、前記（４−２）で得られた２−［４−（２，６−ジメチルピリジン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノン（Ｘ−４）３５７ｍｇ（０．８６ｍｍｏｌ）から２−［４−（２，６−ジメチルピリジン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノール（ＶＩＩＩ−４）３２９ｍｇ（収率９１．６％）を無色アモルファスとして得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０２−１．１８（２Ｈ，ｍ），１．５２−１．６５（１Ｈ，ｍ），１．７３−１．８４（２Ｈ，ｍ），１．９２−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．２７−２．３４（２Ｈ，ｍ），２．５５（６Ｈ，ｓ），３．１９−３．２１（２Ｈ，ｍ），３．４２（１Ｈ，ｓ），３．９８（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．３），４．５９（２Ｈ，ｓ），５．０９（２Ｈ，ｓ），７．０１（２Ｈ，ｓ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２），７．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４１６；実測値４１６．
（４−４）：２，６−ジメチル−４−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）エテンスルホニル｝フェノキシメチル］ピリジン（ＩＩ−４）
実施例１（１−４）と同様な方法により、前記（４−３）で得られた２−［４−（２，６−ジメチルピリジン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノール（ＶＩＩＩ−４）３０６ｍｇ（０．７４ｍｍｏｌ）から２，６−ジメチル−４−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）エテンスルホニル｝フェノキシメチル］ピリジン（ＩＩ−４）２９３ｍｇ（収率１００％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１７−１．３２（２Ｈ，ｍ），１．７９−１．９０（２Ｈ，ｍ），２．００−２．１１（２Ｈ，ｍ），２．３０−２．３６（３Ｈ，ｍ），２．５４（６Ｈ，ｓ），４．６４（２Ｈ，ｓ），５．０７（２Ｈ，ｓ），６．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．３，１５．２），６．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１５．２），７．００（２Ｈ，ｓ），７．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ３９８；実測値３９８．
（４−５）：Ｎ−［２−｛４−（２，６−ジメチルピリジン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−４）
実施例１（１−５）と同様な方法により、前記（４−４）で得られた２，６−ジメチル−４−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）エテンスルホニル｝フェノキシメチル］ピリジン（ＩＩ−４）２９３ｍｇ（０．７４ｍｍｏｌ）と５０％ヒドロキシルアミン水溶液（１．２ｍＬ）からＮ−［２−｛４−（２，６−ジメチルピリジン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−４）３０６ｍｇ（収率９６．４％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：０．８９−１．１０（２Ｈ，ｍ），１．７５−２．０４（４Ｈ，ｍ），２．２８−２．３２（２Ｈ，ｍ），２．５５（６Ｈ，ｓ），３．０８−３．１７（２Ｈ，ｍ），３．３７−３．４６（１Ｈ，ｍ），４．６０（２Ｈ，ｓ），４．７８（１Ｈ，ｓ），５．０９（２Ｈ，ｓ），７．０１（２Ｈ，ｓ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４３１；実測値４３１．
（４−６）：Ｎ−［２−｛４−（２，６−ジメチルピリジン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−４）
実施例１（１−６）と同様な方法により、前記（４−５）で得られたＮ−［２−｛４−（２，６−ジメチルピリジン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−４）２００ｍｇ（０．４６ｍｍｏｌ）とギ酸（２．４ｍＬ）と無水酢酸（０．３ｍＬ）から表題化合物６８．３ｍｇ（収率３２．１％）を褐色アモルファスとして得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０１−１．１５（２Ｈ，ｍ），１．７７−２．０５（５Ｈ，ｍ），２．２８−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．５５（６Ｈ，ｓ），３．２３−３．８９（３Ｈ，ｍ），４．６０−４．６４（２Ｈ，ｍ），５．０９（２Ｈ，ｓ），７．０１（２Ｈ，ｓ），７．０６−７．１２（２Ｈ，ｍ），７．７８−７．８３（２Ｈ，ｍ），８．４７（１Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４５９；実測値４５９．
実施例５
Ｎ−［２−｛４−（３，５−ジメチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−５）の製造
Figure 2003022801
（５−１）：１−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−３，５−ジメチルベンゼン（ＶＩ−５）
１−クロロメチル−３，５−ジメチルベンゼン２．９ｇ（１８．９ｍｍｏｌ）と４−メチルスルホニルフェノール３．９ｇ（２２．７ｍｍｏｌ）のエタノール（１０ｍＬ）溶液に、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１０ｍＬ（２０．０ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流した。放冷したのち、水を加え析出物を濾取し、減圧乾燥して１−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−３，５−ジメチルベンゼン（ＶＩ−５）４．１ｇ（収率７５．３％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．３４（６Ｈ，ｓ），３．０３（３Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｓ），７．０３（２Ｈ，ｓ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２），７．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ２９１；実測値２９１．
（５−２）：２−［４−（３，５−ジメチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノン（Ｘ−５）
実施例１（１−２）と同様な方法により、前記（５−１）で得られた１−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−３，５−ジメチルベンゼン（ＶＩ−５）５００ｍｇ（１．７２ｍｍｏｌ）と４−メチレンシクロヘキサンカルボン酸メチル２９０ｍｇ（１．７２ｍｍｏｌ）から２−［４−（３，５−ジメチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノン（Ｘ−５）２８８ｍｇ（収率４０．５％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．３３−１．４８（２Ｈ，ｍ），１．９４−２．１３（４Ｈ，ｍ），２．２５−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．３４（６Ｈ，ｓ），２．８４（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝３．３，１１．２），４．２０（２Ｈ，ｓ），４．６５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３），５．０６（２Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｓ），７．０３（２Ｈ，ｓ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４１３；実測値４１３．
（５−３）：２−［４−（３，５−ジメチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノール（ＶＩＩＩ−５）
実施例１（１−３）と同様な方法により、前記（５−２）で得られた２−［４−（３，５−ジメチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノン（Ｘ−５）２８８ｍｇ（０．７０ｍｍｏｌ）から２−［４−（３，５−ジメチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノール（ＶＩＩＩ−５）２７０ｍｇ（収率９３．１％）を淡黄色油状物として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０２−１．２２（２Ｈ，ｍ），１．５３−１．６５（１Ｈ，ｍ），１．７３−１．８４（２Ｈ，ｍ），１．９２−２．０２（２Ｈ，ｍ），２．２８−２．３４（２Ｈ，ｍ），２．３４（６Ｈ，ｓ），３．１７−３．１９（２Ｈ，ｍ），３．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３），３．９６（１Ｈ，ｍ），４．６０（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｓ），７．０３（２Ｈ，ｓ），７．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４１５；実測値４１５．
（５−４）：１，３−ジメチル−５−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）エテンスルホニル｝フェノキシメチル］ベンゼン（ＩＩ−５）
実施例１（１−４）と同様な方法により、前記（５−３）で得られた２−［４−（３，５−ジメチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノール（ＶＩＩＩ−５）２４３ｍｇ（０．５９ｍｍｏｌ）から１，３−ジメチル−５−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）エテンスルホニル｝フェノキシメチル］ベンゼン（ＩＩ−５）２２４ｍｇ（収率９６．４％）を黄色油状物として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１７−１．３２（２Ｈ，ｍ），１．８３−１．８９（２Ｈ，ｍ），２．００−２．１１（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．３９（３Ｈ，ｍ），２．３３（６Ｈ，ｓ），４．６４（２Ｈ，ｓ），５．０４（２Ｈ，ｓ），６．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．３，１５．２），６．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，１５．２），６．９９（１Ｈ，ｓ），７．０３（２Ｈ，ｓ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ３９７；実測値３９７．
（５−５）：Ｎ−［２−｛４−（３，５−ジメチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−５）
実施例１（１−５）と同様な方法により、前記（５−４）で得られた１，３−ジメチル−５−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）エテンスルホニル｝フェノキシメチル］ベンゼン（ＩＩ−５）２４３ｍｇ（０．５９ｍｍｏｌ）と５０％ヒドロキシルアミン水溶液（１．０ｍＬ）からＮ−［２−｛４−（３，５−ジメチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−５）２２３ｍｇ（収率９１．７％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０２−１．２２（２Ｈ，ｍ），１．５３−１．６５（１Ｈ，ｍ），１．７３−１．８４（２Ｈ，ｍ），１．９２−２．０２（２Ｈ，ｍ），２．２８−２．３４（２Ｈ，ｍ），２．３４（６Ｈ，ｓ），３．１７−３．１９（２Ｈ，ｍ），３．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３），３．９６（１Ｈ，ｍ），４．６０（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｓ），７．０３（２Ｈ，ｓ），７．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４３０；実測値４３０．
（５−６）：Ｎ−［２−｛４−（３，５−ジメチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−５）
実施例１（１−６）と同様な方法により、前記（５−５）で得られたＮ−［２−｛４−（３，５−ジメチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−５）２２３ｍｇ（０．５２ｍｍｏｌ）とギ酸（２．４ｍＬ）と無水酢酸（０．３ｍＬ）から表題化合物２２３ｍｇ（収率９１．７％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１０（２Ｈ，ｍ），１．４８−２．３２（７Ｈ，ｍ），２．３４（６Ｈ，ｓ），３．０５−３．４２（１Ｈ，ｍ），３．５２−３．９６（１．６Ｈ，ｍ），４．３９（０．４Ｈ，ｍ），４．６２（２Ｈ，ｍ），５．０６（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１６（５Ｈ，ｍ），７．７０−７．９２（２．６Ｈ，ｍ），８．４８（０．４Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４５８；実測値４５８．
実施例６
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−［１−（４−ヒドロキシイミノシクロヘキシリデンメチル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ホルムアミド（Ｉ−６）の製造
Figure 2003022801
（６−１）：４−［２−ヒドロキシアミノ−３−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝プロピリデン］シクロヘキサノンオキシム（ＩＩＩ−６）
前記実施例３（３−３）で得られたＮ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イリデンメチル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−３ａ）１．６０ｇ（３．０５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）溶液に、０℃で５０％ヒドロキシルアミン水溶液（０．８ｍＬ）２Ｎ塩酸（１１ｍＬ）を加え、室温で１４時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したところ、４−［２−ヒドロキシアミノ−３−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝プロピリデン］シクロヘキサノンオキシム（ＩＩＩ−６）１．６８ｇ（収率１００％）が固体として得られた。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４９６；実測値４９６．
（６−２）：Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−［１−（４−ヒドロキシイミノシクロヘキシリデンメチル）−２−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ホルムアミド（Ｉ−６）
実施例１（１−６）と同様な方法により、前記（６−１）で得られた４−［２−ヒドロキシアミノ−３−｛４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル｝プロピリデン］シクロヘキサノンオキシム（ＩＩＩ−６）１．６８ｇ（３．０５ｍｍｏｌ）とギ酸（１４ｍＬ）と無水酢酸（１．７ｍＬ）から表題化合物０．９２ｇ（収率５７．６％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：１．９５−２．４０（８Ｈ，ｍ），２．６７（３Ｈ，ｓ），３．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，５．０），３．６８（１Ｈ，ｍ），４．７１−５．４２（２Ｈ，ｍ），５．７４（２Ｈ，ｓ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．５６（１Ｈ，ｓ），７．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６），７．７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９），７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．０７（２Ｈ，ｍ），９．６５（０．５Ｈ，ｂｓ），１０．０３（０．５Ｈ，ｂｓ），１０．３１（１Ｈ，ｍ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５２４；実測値５２４．
実施例７
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−［２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］ホルムアミド（Ｉ−７）の製造
Figure 2003022801
（７−１）：１−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−３−メトキシ−５−メチルベンゼン（ＶＩ−７）
３，５−ジメチルアニソール５．０ｇ（３６．７ｍｍｏｌ）の四塩化炭素（３５ｍＬ）溶液に、室温でＮ−ブロモスクシンイミド５．２ｇ（２９．４ｍｍｏｌ）と過酸化ベンゾイル０．２ｇ（０．７４ｍｍｏｌ）を加え２時間加熱還流した。反応液を放冷後濾過し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をエタノール（７．５ｍＬ）に溶解し、そこに４−メチルスルホニルフェノール４．５ｇ（２６．１ｍｍｏｌ）と４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液７．５ｍＬ（３０．０ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱還流した。放冷後、反応液に水、ヘキサンを加え析出物を濾取したのち、エーテルで洗浄した。残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル８０ｇ、展開溶媒：クロロホルム−酢酸エチル＝４：１）で精製し、１−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−３−メトキシ−５−メチルベンゼン（ＶＩ−７）４．５ｇ（収率４０．４％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．３５（３Ｈ，ｓ），３．０３（３Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），５．０８（２Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｓ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ３０７；実測値３０７．
（７−２）：２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノン（Ｘ−７）
実施例１（１−２）と同様な方法により、前記（７−１）で得られた１−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−３−メトキシ−５−メチルベンゼン（ＶＩ−７）７００ｍｇ（２．２９ｍｍｏｌ）と４−メチレンシクロヘキサンカルボン酸メチル３８５ｍｇ（２．２９ｍｍｏｌ）から２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）−ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノン（Ｘ−７）４８５ｍｇ（収率４９．５％）を無色油状物として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．３３−１．４８（２Ｈ，ｍ），１．９３−２．１２（４Ｈ，ｍ），２．３１−２．３９（２Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ），２．７７−２．８８（１Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．２０（２Ｈ，ｓ），４．６５（２Ｈ，ｓ），５．０７（２Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｓ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４２９；実測値４２９．
（７−３）：２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノール（ＶＩＩＩ−７）
実施例１（１−３）と同様な方法により、前記（７−２）で得られた２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノン（Ｘ−７）４８０ｍｇ（１．１２ｍｍｏｌ）から２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノール（ＶＩＩＩ−７）４８２ｍｇ（収率１００％）を無色油状物として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０２−１．１８（２Ｈ，ｍ），１．５１−１．６２（２Ｈ，ｍ），１．７３−１．８３（２Ｈ，ｍ），１．９３−２．０５（２Ｈ，ｍ），２．２８（１Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ），３．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３），３．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．９３−４．００（１Ｈ，ｍ），４．６０（２Ｈ，ｓ），５．０８（２Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｓ），７．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４３１；実測値４３１．
（７−４）：１−メトキシ−３−メチル−５−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）エテンスルホニル｝フェノキシメチル］ベンゼン（ＩＩ−７）
実施例１（１−４）と同様な方法により、前記（７−３）で得られた２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エタノール（ＶＩＩＩ−７）４８２ｍｇ（１．１２ｍｍｏｌ）から１−メトキシ−３−メチル−５−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）エテンスルホニル｝フェノキシメチル］ベンゼン（ＩＩ−７）４６２ｍｇ（収率１００％）を褐色油状物として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．２２−１．３６（２Ｈ，ｍ），１．３８−１．５０（２Ｈ，ｍ），１．８４−１．８９（２Ｈ，ｍ），２．００−２．１１（２Ｈ，ｍ），２．３１（１Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．６４（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｓ），６．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．３，１５．２），６．７０（１Ｈ，ｓ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｓ），６．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１５．２），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４１３；実測値４１３．
（７−５）：Ｎ−［２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−７）
実施例１（１−５）と同様な方法により、前記（７−４）で得られた１−メトキシ−３−メチル−５−［４−｛２−（４−メチレンシクロヘキシル）エテンスルホニル｝フェノキシメチル］ベンゼン（ＩＩ−７）４６２ｍｇ（１．１２ｍｍｏｌ）と５０％ヒドロキシルアミン水溶液（３．０ｍＬ）からＮ−［２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−７）３５９ｍｇ（収率７１．９％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：０．９９−１．０９（２Ｈ，ｍ），１．７７−１．８５（３Ｈ，ｍ），１．９０−２．０３（２Ｈ，ｍ），２．２７−２．２８（１Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ），３．０７−３．１７（２Ｈ，ｍ），３．３６−３．４５（１Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．５０（１Ｈ，ｓ），４．６０（２Ｈ，ｓ），５．０８（２Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｓ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４４６；実測値４４６．
（７−６）：Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−［２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］ホルムアミド（Ｉ−７）
実施例１（１−６）と同様な方法により、前記（７−５）で得られたＮ−［２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝−１−（４−メチレンシクロヘキシル）エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−７）３５０ｍｇ（０．７９ｍｍｏｌ）とギ酸（４．０ｍＬ）と無水酢酸（０．５ｍＬ）から表題化合物１２１ｍｇ（収率３２．６％）を褐色アモルファスとして得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０４−１．２０（２Ｈ，ｍ），１．７５−２．１０（５Ｈ，ｍ），２．２５−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ），３．２１−３．３１（１Ｈ，ｍ），３．７１−３．９１（１Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．０６−４．２０（０．６Ｈ，ｍ），４．３５−４．４５（０．４Ｈ，ｍ），４．５９−４．６３（２Ｈ，ｍ），５．０７（２Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｓ），７．０６−７．１２（２Ｈ，ｍ），７．７６−７．８１（２．６Ｈ，ｍ），８．４７（０．４Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４７４；実測値４７４．
実施例８
Ｎ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−８）の製造
Figure 2003022801
（８−１）：１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］エタノン（Ｘ−８）
実施例１（１−２）と同様な方法により、前記（７−１）で得られた１−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−３−メトキシ−５−メチルベンゼン（ＶＩ−７）１ｇ（３．２６ｍｍｏｌ）と１，４−ジオキサスピロ［４．５］デカン−８−カルボン酸エチル７００ｍｇ（３．２７ｍｍｏｌ）から１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］エタノン（Ｘ−８）８３８ｍｇ（収率５４．１％）を無色油状物として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．５２−１．９３（８Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ），２．６６−２．７５（１Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．９０−３．９６（４Ｈ，ｍ），４．１９（２Ｈ，ｓ），５．０７（２Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｓ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４７５；実測値４７５．
（８−２）：１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］エタノール（ＶＩＩＩ−８）
実施例１（１−３）と同様な方法により、前記（８−１）で得られた１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］エタノン（Ｘ−８）８３０ｍｇ（１．７３ｍｍｏｌ）から１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］エタノール（ＶＩＩＩ−８）８３４ｍｇ（収率１００％）を無色油状物として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．２１−１．３７（２Ｈ，ｍ），１．４３−１．５４（２Ｈ，ｍ），１．６６−１．７７（５Ｈ，ｍ），２．３６（３Ｈ，ｓ），３．１７−３．１９（２Ｈ，ｍ），３．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０），３．８１（３Ｈ，ｓ），３．８６−３．９６（５Ｈ，ｍ），５．０８（２Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．８３（１Ｈ，ｓ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４７７；実測値４７７．
（８−３）：８−［２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝ビニル］−１，４−ジオキサスピロ［４．５］デカン（ＩＩ−８）
実施例１（１−４）と同様な方法により、前記（８−２）で得られた１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−［４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］エタノール（ＶＩＩＩ−８）８３４ｍｇ（１．７３ｍｍｏｌ）から８−［２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝ビニル］−１，４−ジオキサスピロ［４．５］デカン（ＩＩ−８）７９４ｍｇ（収率１００％）を褐色油状物として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．３６−１．６６（４Ｈ，ｍ），１．７６−１．７９（４Ｈ，ｍ），２．２１−２．３１（１Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．９０−３．９４（４Ｈ，ｍ），５．０６（２Ｈ，ｓ），６．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．３，１５．２），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｓ），６．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１５．２），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４５９；実測値４５９．
（８−４）：Ｎ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−８）
実施例１（１−５）と同様な方法により、前記（８−３）で得られた８−［２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝ビニル］−１，４−ジオキサスピロ［４．５］デカン（ＩＩ−８）４６２ｍｇ（１．１２ｍｍｏｌ）と５０％ヒドロキシルアミン水溶液（５．０ｍＬ）からＮ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−８）６９９ｍｇ（収率８２．２％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１１−１．３１（２Ｈ，ｍ），１．４４−１．５６（２Ｈ，ｍ），１．６７−１．７７（５Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ），３．０８−３．１９（２Ｈ，ｍ），３．３４−３．４４（１Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．８５−３．９６（４Ｈ，ｍ），４．８６（１Ｈ，ｓ），５．０８（２Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｓ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４９２；実測値４９２．
（８−５）：Ｎ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−８）
実施例１（１−６）と同様な方法により、前記（８−４）で得られたＮ−［１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−｛４−（３−メトキシ−５−メチルベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル｝エチル］ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−８）２５０ｍｇ（０．５１ｍｍｏｌ）とギ酸（２．４ｍＬ）と無水酢酸（０．３ｍＬ）から表題化合物３０．０ｍｇ（収率１１．４％）を褐色アモルファスとして得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．２３−１．３４（２Ｈ，ｍ），１．４４−１．８１（７Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ），３．２２−３．３２（２Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．８３−３．９３（４Ｈ，ｍ），４．４０（１Ｈ，ｍ），５．０７（２Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｓ），７．０６−７．１２（２Ｈ，ｍ），７．７５−７．８３（２．６Ｈ，ｍ），８．４６（０．４Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５２０；実測値５２０．
実施例９
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−９）の製造
Figure 2003022801
（９−１）：１−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−３−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−９）
アルゴン雰囲気下、前記（１−１）で得た４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン（ＶＩ−１）１２．０ｇ（３６．７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４５０ｍＬ）溶液に、−７８℃でリチウムジイソプロピルアミドの２ｍｏｌ／Ｌヘキサン−ヘプタン−エチルベンゼン溶液（アルドリッチ社製）２２．０ｍＬ（４４．０ｍｍｏｌ）を滴下後、３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃で（テトラヒドロピラン−４−イリデン）アセトアルデヒド５．５５ｇ（４４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液を滴下し、３０分間攪拌した。反応液にエタノール（１００ｍＬ）を加え、減圧下で反応混合物を濃縮し、残渣に水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣にエタノールを加え加熱し、不溶物を濾取後、減圧下５０℃で乾燥し、１−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−３−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−９）を１２．９ｇ（収率７７％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．１５−２．３５（４Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，１．７），３．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，８．９），３．６４（４Ｈ，ｍ），５．０２（１Ｈ，ｍ），５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），５．３０（２Ｈ，ｓ），７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．４２（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｍ），７．９０（３Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３）．
（９−２）：２−メチル−４−｛４−［３−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロプ−１−エン−１−スルホニル］フェノキシメチル｝キノリン（ＩＩ−９）
前記（９−１）で得た１−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−３−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−９）１２．９ｇ（２８．４ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン１４．３ｇ（１４１．３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２４０ｍＬ）溶液に、−１０℃で塩化メタンスルホニル６．６６ｇ（５８．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で１２時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、粗２−メチル−４−｛４−［３−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロプ−１−エン−１−スルホニル］フェノキシメチル｝キノリン（ＩＩ−９）を１２．４ｇ（収率１００％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．３５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３），２．５６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．７３（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３），５．５７（２Ｈ，ｓ），５．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６），６．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５），７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．４２（１Ｈ，ｓ），７．４８−７．５８（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｍ），７．８４−７．７２（３Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３）．
（９−３）：Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−９）
前記（９−２）で得た粗２−メチル−４−｛４−［３−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロプ−１−エン−１−スルホニル］フェノキシメチル｝キノリン（ＩＩ−９）１２．４ｇ（２８．４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）溶液に、室温で５０％ヒドロキシルアミン水溶液（７０ｍＬ）を加え６４時間攪拌した。反応液を減圧下にて留去し、得られた残渣を酢酸エチルで希釈した後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣にテトラヒドロフラン（６０ｍＬ）を加え、この溶液にギ酸（２０ｍＬ）と無水酢酸（５．０ｍＬ）を０℃で３０分間混合したものを０℃で加え、その後室温にて１時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮し、得られた残渣をトルエンにて共沸した後、クロロホルム（２５ｍＬ）で希釈し、メタノール（１００ｍＬ）を加え室温で１６時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮した後、中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル−エタノール＝９６：４）で精製したところ、表題化合物（Ｉ−９）３．８０ｇ（収率２７．０％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：１．８２−２．１５（４Ｈ，ｍ），２．６７（３Ｈ，ｓ），３．２５−３．７８（６Ｈ，ｍ），４．９０（０．４Ｈ，ｍ），５．１０−５．４０（１．６Ｈ，ｍ），５．７６（２Ｈ，ｓ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．５７（１Ｈ，ｓ），７．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．３），７．７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．０５（１Ｈ，ｓ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），９．６５（０．４Ｈ，ｂｓ），１０．０４（０．６Ｈ，ｂｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４９７；実測値４９７．
実施例１０
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−オキソシクロヘキシル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−１１）の製造
Figure 2003022801
（１０−１）：Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−オキソシクロヘキシル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−１１）
実施例１と同様な方法で得たＮ−｛１−（１，４−ジオキサスピロ［４．５］デク−８−イル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エチル｝−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−２８）７．６ｇ（１４．０６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２２０ｍＬ）溶液に０℃で、０℃に冷却した０．５Ｎ塩酸水溶液１６０ｍＬ（８０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌した。反応液に炭酸水素ナトリウムを加えて中和後、減圧下でテトラヒドロフランを除去した。残渣を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２回）、飽和食塩水で順じ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。酢酸エチルから再結晶し、表題化合物５．９ｇ（収率８４．５％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：１．１０−２．４０（９Ｈ，ｍ），２．６７（３Ｈ，ｓ），３．５０−４．０５（２．６４Ｈ，ｍ），４．４０（０．３６Ｈ，ｂｔ，Ｊ＝７．６），５．７６（２Ｈ，ｓ），７．３９（２Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｓ），７．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６），７．８０−８．１８（５Ｈ，ｍ），９．６６（０．６４Ｈ，ｓ），９．９９（０．３６Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４９７；実測値４９７．
実施例１１
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロチオピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−１７）の製造
Figure 2003022801
（１１−１）：Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロチオピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−１７）
実施例９（９−１）、（９−２）と同様な方法で得た２−メチル−４−｛４−［３−（テトラヒドロチオピラン−４−イリデン）−１−プロペン−１−スルホニル］フェノキシメチル｝キノリン０．１８ｇ（０．４０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍＬ）に、室温で５０％ヒドロキシルアミン水溶液（２ｍＬ）を加え５４時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、残渣をクロロホルムで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４ｇ、展開溶媒；クロロホルム：メタノール＝２０：１）に付し、Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロチオピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−１７）を０．１２ｇ（収率６３％）、白色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．３５−２．６５（８Ｈ，ｍ），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，５．０），３．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，７．３），４．３０（１Ｈ，ｍ），５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），５．５９（２Ｈ，ｓ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．８４−７．９２（３Ｈ，ｍ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４８４；実測値４８４．
（１１−２）：Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロチオピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−１７）
ギ酸（３．０ｍＬ）と無水酢酸（０．４ｍＬ）を０℃で３０分間混合したものを、前記（１１−１）で得たＮ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロチオピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−１７）０．２８ｇ（０．５８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に０℃で加え、室温で更に２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、更にトルエンで共沸した後、得られた残渣にメタノール（１ｍＬ）およびクロロホルム（３ｍＬ）の混液に溶解し、室温で１時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、得られた残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；クロロホルム：メタノール＝３０：１）に付し、表題化合物を０．１ｇ（収率３４％）、白色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：２．２１−２．２８（４Ｈ，ｍ），２．５０−２．６１（４Ｈ，ｍ），２．６７（３Ｈ，ｓ），３．３７−３．７０（２Ｈ，ｍ），４．９２−５．３５（２Ｈ，ｍ），５．７６（２Ｈ，ｓ），７．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．５８（１Ｈ，ｓ），７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），７．７６（１Ｈ，ｍ），７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），８．０６（１Ｈ，ｓ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），９．６５（０．４Ｈ，ｓ），１０．０４（０．６Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５１３；実測値５１３．
実施例１２
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛１−（１−イソブチルピペリジン−４−イリデンメチル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エチル｝ホルムアミド（Ｉ−２４）の製造
Figure 2003022801
（１２−１）：４−｛２−ヒドロキシ−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロピリデン｝ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔブチルエステル（ＶＩＩＩ−２４）
アルゴン気流下、４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン１１．０ｇ（３３．６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（４００ｍＬ）に、−７８℃で２ｍｏｌ／Ｌリチウムジイソプロピルアミドのヘキサン−ヘプタン−エチルベンゼン溶液１９．３ｍＬ（３８．６ｍｍｏｌ）を滴下し、滴下後同温度で４０分間攪拌した。この溶液に、４−（２−オキソエチリデン）ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔブチルエステル８．０ｇ（３５．６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５０ｍＬ）を加え１時間攪拌した。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４００ｇ、展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）に付し、４−｛２−ヒドロキシ−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロピリデン｝ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔブチルエステル（ＶＩＩＩ−２４）を１５．７ｇ（収率８４％）、淡黄色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．４５（９Ｈ，ｓ），２．１２（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．３１−３．４８（４Ｈ，ｍ），５．０２（１Ｈ，ｍ），５．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２），５．６０（２Ｈ，ｓ），７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｍ），７．９１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５５３；実測値５５３．
（１２−２）４−｛３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］アリリデン｝ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔブチルエステル（ＩＩ−２４）
前記（１２−１）で得られた４−｛２−ヒドロキシ−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロピリデン｝ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔブチルエステル（ＶＩＩＩ−２４）１５．７ｇ（２８．４ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン１６．６ｍＬ（１２０ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（３２０ｍＬ）に、−１０℃で塩化メタンスルホニル４．０ｍＬ（５１．１ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（５０ｍＬ）を３０分間かけてゆっくり滴下し、２時間攪拌した。反応後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３００ｇ、展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）に付し、４−｛３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］アリリデン｝ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔブチルエステル（ＩＩ−２４ａ）を１１．５ｇ（収率７６％）、淡黄色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．４８（９Ｈ，ｓ），２．２６−２．３０（２Ｈ，ｍ），２．４７−２．５１（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．４７（４Ｈ，ｍ），５．５７（２Ｈ，ｓ），５．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６），６．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５），７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．４２（１Ｈ，ｓ），７．４８−７．５８（２Ｈ，ｍ），７．７３（１Ｈ，ｍ），７．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５３５；実測値５３５．
（１２−３）：４−｛４−［３−（１−イソブチルピペリジン−４−イリデン）−１−プロペン−１−スルホニル］フェノキシメチル｝−２−メチルキノリン（ＩＩ−２４ｂ）
前記（１２−２）で得られた４−｛３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］アリリデン｝ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔブチルエステル（ＩＩ−２４ａ）９．０ｇ（１６．９ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（１５０ｍＬ）に、０℃で４Ｎ塩酸−ジオキサン溶液（６０ｍＬ）を加え、室温で４時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、粗２−メチル−４−［４−（３−ピペリジン−４−イリデン−１−プロペン−１−スルホニル）フェノキシメチル］キノリンを得た。この化合物をメタノール（３００ｍＬ）に溶解し、０℃でイソブチルアルデヒド２．４ｍＬ（２６．５ｍｍｏｌ）、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム８．１ｇ（３８．２ｍｍｏｌ）および酢酸２５ｍＬを加え１５時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｇ、展開溶媒；酢酸エチル）に付し、４−｛４−［３−（１−イソブチルピペリジン−４−イリデン）−１−プロペン−１−スルホニル］フェノキシメチル｝−２−メチルキノリン（ＩＩ−２４ｂ）を６．１ｇ（収率７３％）、淡黄色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：０．９０（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６），１．７７（１Ｈ，ｍ），２．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３），２．４３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０），２．４４（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６），２．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６），２．７６（３Ｈ，ｓ），５．５７（２Ｈ，ｓ），５．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５），６．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５），７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．４２（１Ｈ，ｓ），７．４９−７．５９（２Ｈ，ｍ），７．７０−７．７７（１Ｈ，ｍ），７．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４９１；実測値４９１．
（１２−４）：Ｎ−｛１−（１−イソブチルピペリジン−４−イリデンメチル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−２４）
前記（１２−３）で得られた４−｛４−［３−（１−イソブチルピペリジン−４−イリデン）−１−プロペン−１−スルホニル］フェノキシメチル｝−２−メチルキノリン（ＩＩ−２４ｂ）６．１ｇ（１２．４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２００ｍＬ）に、室温で５０％ヒドロキシルアミン水溶液（６０ｍＬ）を加え７２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、残渣をクロロホルムで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５０ｇ、展開溶媒；クロロホルム：メタノール＝１０：１）に付し、Ｎ−｛１−（１−イソブチルピペリジン−４−イリデンメチル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−２４）を６．２ｇ（収率９５％）、白色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：０．８８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６），１．７４（１Ｈ，ｍ），２．０３−２．５２（８Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，５．３），３．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，６．９），４．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，６．９），５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），５．５８（２Ｈ，ｓ），７．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｍ），７．７３（１Ｈ，ｍ），７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５２４；実測値５２４．
（１２−５）：Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛１−（１−イソブチルピペリジン−４−イリデンメチル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エチル｝ホルムアミド（Ｉ−２４）
ギ酸（５５ｍＬ）と無水酢酸（７．１ｍＬ）を０℃で混合し、３０分間攪拌した。これを前記（１２−４）で得られたＮ−｛１−（１−イソブチルピペリジン−４−イリデンメチル）−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−２４）のテトラヒドロフラン（６５ｍＬ）に０℃で加え、室温で更に２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、更にトルエンで共沸した後、得られた残渣にメタノール（６０ｍＬ）およびクロロホルム（９０ｍＬ）の混液に溶解し、室温で１２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、得られた残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；クロロホルム：メタノール＝８７：１３）に付し、表題化合物を５．３ｇ（収率９０％）、白色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ値：０．８０（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６），１．７０（１Ｈ，ｍ），１．９９−２．１１（６Ｈ，ｍ），２．２７−２．３７（４Ｈ，ｍ），２．６７（３Ｈ，ｓ），３．４３−３．７８（２Ｈ，ｍ），４．８０−５．３５（２Ｈ，ｍ），５．７６（２Ｈ，ｍ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．５６（１Ｈ，ｓ），７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３），７．７６（１Ｈ，ｍ），７．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．０５（０．５Ｈ，ｓ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），８．１６（０．５Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５５２；実測値５５２．
実施例１３
Ｎ−｛１−［１−（２，２−ジメチルプロピオニル）ピペリジン−４−イリデンメチル］−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エチル｝−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−２５）の製造
Figure 2003022801
（１３−１）：２，２−ジメチル−１−（４−｛３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］アリリデン｝ピペリジン−１−イル）プロパン−１−オン（Ｘ−２５）
実施例１２（１２−２）で得られた４−｛３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］アリリデン｝ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔブチルエステル（ＩＩ−２４ａ）０．２ｇ（０．３７ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２．０ｍＬ）に、０℃で４Ｎ塩酸−ジオキサン溶液（２．０ｍＬ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、粗２−メチル−４−［４−（３−ピペリジン−４−イリデン−１−プロペン−１−スルホニル）フェノキシメチル］キノリンを得た。これをジクロロメタン（１０ｍＬ）に溶解し、０℃でトリエチルアミン（０．０７７ｍＬ、０．５６ｍｍｏｌ）および塩化ピバロイル（０．０５８ｇ、０．４８ｍｍｏｌ）を加え、２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。濾液を減圧濃縮し、２，２−ジメチル−１−（４−｛３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］アリリデン｝ピペリジン−１−イル）プロパン−１−オン（Ｘ−２５）０．１８ｇ（収率９４．７％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．２１（９Ｈ，ｓ），２．２８（２Ｈ，ｂｒｓ），２．４９（２Ｈ，ｂｒｓ），２．６８（３Ｈ，ｓ），３．５２−３．６１（４Ｈ，ｍ），５．７３（２Ｈ，ｓ），６．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５），７．３５−７．４９（３Ｈ，ｍ），７．５７−７．６２（２Ｈ，ｍ），７．７３−７．８６（３Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３）．
（１３−２）：１−（４−｛２−ヒドロキシアミノ−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロピリデン｝ピペリジン−１−イル）−２，２−ジメチルプロパン−１−オン（ＩＩＩ−２５）
実施例１（１−５）と同様な方法により、前記（１３−１）で得られた２，２−ジメチル−１−（４−｛３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］アリリデン｝ピペリジン−１−イル）プロパン−１−オン（Ｘ−２５）０．１７ｇ（０．３３ｍｍｏｌ）と５０％ヒドロキシルアミン水溶液（１．５ｍＬ）からから１−（４−｛２−ヒドロキシアミノ−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロピリデン｝ピペリジン−１−イル）−２，２−ジメチルプロパン−１−オン（ＩＩＩ−２５）７０ｍｇ（３８．９％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：１．２８（９Ｈ，ｓ），２．０８−２．３４（３Ｈ，ｍ），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，５．３），３．５５−３．８５（６Ｈ，ｍ），４．３１（１Ｈ，ｍ），５．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２），５．５９（２Ｈ，ｓ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．４４（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．３），７．７５（１Ｈ，ｍ），７．８８−７．９２（３Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９）．
（１３−３）：Ｎ−｛１−［１−（２，２−ジメチルプロピオニル）ピペリジン−４−イリデンメチル］−２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］エチル｝−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−２５）
実施例１（１−６）と同様な方法により、前記（１３−２）で得られた１−（４−｛２−ヒドロキシアミノ−３−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］プロピリデン｝ピペリジン−１−イル）−２，２−ジメチルプロパン−１−オン（ＩＩＩ−２５）６０ｍｇ（０．０１１ｍｍｏｌ）とギ酸（１．０ｍＬ）と無水酢酸（０．１５ｍＬ）から表題化合物４０ｍｇ（収率６３．６％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：０．７７−１．０１（２Ｈ，ｍ），１．２５−１．７３（５Ｈ，ｍ），１．３６（９Ｈ，ｓ），２．５１−２．６０（２Ｈ，ｍ），２．６７（３Ｈ，ｓ），３．３９−３．６７（２Ｈ，ｍ），３．８１−３．９０（２Ｈ，ｍ），４．１２（０．５Ｈ，ｍ），４．６５（０．５Ｈ，ｍ），５．７５（２Ｈ，ｓ），７．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３），７．５７（１Ｈ，ｓ），７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６），７．７６（１Ｈ，ｍ），７．８６−８．００（３Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｍ），９．５３（０．４Ｈ，ｓ），９．８６（０．６Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５９８；実測値５９８．
実施例１４
光学活性Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−３３）の製造
Figure 2003022801
（１４−１）：Ｎ−（（Ｒ）−４−ベンジル−２−オキソオキサゾリジン−３−カルボニルオキシ）−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド
（Ｒ）−４−ベンジル−２−オキサゾリジノン２４１ｍｇ（１．３６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．５ｍＬ）溶液に、−７８℃でブチルリチウムの１．５８ｍｏｌ／Ｌヘキサン溶液０．９ｍＬ（１．４２ｍｍｏｌ）を滴下後、３０分間撹拌した。この溶液に−７８℃で炭酸ビストリクロロメチル４００ｍｇ（１．３５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．５ｍＬ）溶液を加え、１時間撹拌した後、減圧濃縮した。得られた無色固体に、Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−９）３００ｍｇ（０．６０ｍｍｏｌ）、塩化メチレン１２ｍＬおよびトリエチルアミン０．５ｍＬ（３．５９ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、減圧濃縮した。得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２０ｇ、展開溶媒：酢酸エチル）および高速液体クロマトグラフィー［５ＳＬ−ＩＩＷａｔｅｒｓ（内径２０ｍｍ、長さ２５０ｍｍ）、ヘキサン−酢酸エチル−エタノール（１４：１４：１）、流量７．０ｍＬ／ｍｉｎ、ＵＶ２５４ｎｍ］により精製すると、Ｎ−（（Ｒ）−４−ベンジル−２−オキソオキサゾリジン−３−カルボニルオキシ）−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド ９２ｍｇ（収率２１．８％、保持時間２３分）およびそのジアステレオマー化合物、Ｎ−（（Ｒ）−４−ベンジル−２−オキソオキサゾリジン−３−カルボニルオキシ）−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド ５２ｍｇ（収率１２．３％、保持時間２４．５分）が得られた。物性値を以下に示す。
Ｎ−（（Ｒ）−４−ベンジル−２−オキソオキサゾリジン−３−カルボニルオキシ）−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド（保持時間２３分）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．０７−２．２７（２Ｈ，ｍ），２．２７−２．４９（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），２．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．２，９．２），３．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．２，３．３），３．３７（１Ｈ，ｍ），３．５５−３．８０（４Ｈ，ｍ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，６．３），４．２１（１Ｈ，ｍ），４．３１（１Ｈ，ｍ），４．５７（１Ｈ，ｍ），５．２４（１Ｈ，ｂｄ，Ｊ＝８．６），５．５７（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．２３（１Ｈ，ｍ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．２５−７．４０（３Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｓ），７．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．７３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．８４−７．９４（１Ｈ，ｍ），７．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），８．２０（１Ｈ，ｂｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ７００；実測値７００．
Ｎ−（（Ｒ）−４−ベンジル−２−オキソオキサゾリジン−３−カルボニルオキシ）−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド（保持時間２４．５分）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．１０−２．２６（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．４８（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），２．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．５，９．２），３．２７−３．４３（２Ｈ，ｍ），３．５６−３．７９（４Ｈ，ｍ），３．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，６．３），４．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２，３．６），４．３２（１Ｈ，ｍ），４．６０（１Ｈ，ｍ），５．２５（１Ｈ，ｂｄ，Ｊ＝８．６），５．５８（２Ｈ，ｓ），７．１１−７．２４（２Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．２４−７．３８（３Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．２１（１Ｈ，ｂｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ７００；実測値７００．
（１４−２）：光学活性Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−３３）
前記（１４−１）で得たＮ−（（Ｒ）−４−ベンジル−２−オキソオキサゾリジン−３−カルボニルオキシ）−Ｎ−［２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル］ホルムアミド（保持時間２３分）９２ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）にメタノール３ｍＬ、テトラヒドロフラン３ｍＬおよび２．０ｍｏｌ／Ｌ水酸化リチウム水溶液１ｍＬ（２．０ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、水で希釈した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えｐＨ８に調整した。酢酸エチルで抽出した後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、減圧濃縮した。得られた油状物を分取薄層クロマトグラフィー［シリカゲル、２００ｍｍ×２００ｍｍ×０．５ｍｍ、３枚、酢酸エチル−エタノール（１０：１）］により精製すると、表題化合物４０ｍｇ（６２％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．０３−２．２２（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．３９（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．１８（１Ｈ，ｍ），３．４５−３．９２（５Ｈ，ｍ），５．０４−５．４８（１Ｈ，ｍ），５．３０（１Ｈ，ｂｓ），５．６０（２Ｈ，ｂｓ），７．１０−７．２４（２Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６），７．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６），７．８０−７．９４（３Ｈ，ｍ），７．９６（０．４５Ｈ，ｂｓ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），８．３８（０．５５Ｈ，ｂｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４９７；実測値４９７．
実施例１５
光学活性Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−３４）の製造
Figure 2003022801
前記（１４−２）と同様な方法により、前記（１４−１）で得たＮ−（（Ｒ）−４−ベンジル−２−オキソオキサゾリジン−３−カルボニルオキシ）−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ホルムアミド（保持時間２４．５分）５２ｍｇ（０．０７４ｍｍｏｌ）、メタノール３ｍＬ、テトラヒドロフラン３ｍＬと２．０Ｍ水酸化リチウム水溶液１ｍＬ（２．０ｍｍｏｌ）から表題化合物２７ｍｇ（７３％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．０３−２．２２（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．１８（１Ｈ，ｍ），３．４５−３．９２（５Ｈ，ｍ），５．０４−５．４８（１Ｈ，ｍ），５．３０（１Ｈ，ｂｓ），５．６０（２Ｈ，ｂｓ），７．１０−７．２４（２Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），７．８０−７．９４（３Ｈ，ｍ），７．９７（０．４Ｈ，ｂｒ ｓ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．３８（０．６Ｈ，ｂｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４９７；実測値４９７．
実施例１６
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）−ベンゼンスルホニル］−１−ｐ−トリルエチル｝ホルムアミド（Ｉ−５７）の製造
Figure 2003022801
（１６−１）：１−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）−ベンゼンスルホニル］−２−ｐ−トリルプロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−５７）
アルゴン雰囲気下、４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン４７３ｍｇ（１．４４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を−７８℃に冷却し、２Ｍのリチウムジイソプロピルアミドを１．４４ｍＬ（１．４４ｍｍｏｌ）加え、４０分間攪拌した。この溶液にｐ−メチルアセトフェノン１９４ｍｇ（１．５９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、２時間３０分間攪拌した。飽和食塩水を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１〜１：２）で精製し、１−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−２−ｐ−トリルプロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−５７）を４４０ｍｇ（０．９５ｍｍｏｌ）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．６９（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５），３．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５），４．５９（１Ｈ，ｓ），５．５３（２Ｈ，ｓ），６．９５−７．０１（４Ｈ，ｍ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），７．４１（１Ｈ，ｓ），７．５３−７．５９（３Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
（１６−２）：２−メチル−４−［４−（２−ｐ−トリルプロプ−１−エン−１−スルホニル）フェノキシメチル］キノリン（ＩＩ−５７）
前記（１６−１）で得た１−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）−ベンゼンスルホニル］−２−ｐ−トリルプロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−５７）４３４ｍｇ（０．９４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液にトリエチルアミン０．６６ｍＬ（４．７０ｍｍｏｌ）を加え、０℃に冷却し、塩化メタンスルホニル０．１５ｍＬ（１．８８ｍｍｏｌ）を加えた。その後室温にて再度トリエチルアミン、塩化メタンスルホニルをそれぞれ０．６６ｍＬ、０．１５ｍＬ加えた。反応終了後水を加え、クロロホルムで抽出、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過の後、溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝６：４〜１：１）で精製し、２−メチル−４−［４−（２−ｐ−トリルプロプ−１−エン−１−スルホニル）フェノキシメチル］−キノリン（ＩＩ−５７）３９３ｍｇ（０．８９ｍｍｏｌ）を無色油状物質として得た。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４４４；実測値４４４．
（１６−３）：Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ｐ−トリルエチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−５７）
前記（１６−２）で得た２−メチル−４−［４−（２−ｐ−トリルプロプ−１−エン−１−スルホニル）フェノキシメチル］キノリン（ＩＩ−５７）のテトラヒドロフラン溶液に５０％ヒドロキシルアミン水溶液（３ｍＬ）を加え、室温にて６日間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮した後、飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過の後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１〜１：２）で精製し、Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ｐ−トリルエチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−５７）２０２ｍｇ（０．４２ｍｍｏｌ）を無色粉末として得た。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４７７；実測値４７７．
（１６−４）：Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ｐ−トリルエチル｝ホルムアミド（Ｉ−５７）の合成
ギ酸（１２ｍＬ）と無水酢酸（３ｍＬ）を０℃で３０分間混合したものを、前記（１６−３）で得たＮ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ｐ−トリルエチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−５７）１８７ｍｇ（０．３９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液に０℃で滴下し、その後室温にて４時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮し、得られた残渣をトルエンにて共沸した後、クロロホルム（２ｍＬ）で希釈し、メタノール（８ｍＬ）を加え室温で１２時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮した後、中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル−ヘキサン＝２：１〜酢酸エチル）で精製したところ、表題化合物１３９ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）を無色粉末として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．１０（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５），４．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．５），５．５６（２Ｈ，ｓ），７．１２（６Ｈ，ｓ），７．４１（１Ｈ，ｓ），７．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４），７．７３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４），７．８０−７．９０（３Ｈ，ｍ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），８．２９（１Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５０５；実測値５０５．
実施例１７
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−６０）の製造
Figure 2003022801
（１７−１）：２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）エタノール（ＶＩＩＩ−６０）
アルゴン雰囲気下、４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン（ＶＩ−１）１．０３ｇ（３．１４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）溶液に、−７８℃でリチウムジイソプロピルアミドの２ｍｏｌ／Ｌヘキサン−ヘプタン−エチルベンゼン溶液１．７ｍＬ（３．４５ｍｍｏｌ）を滴下後、５０分攪拌した。この溶液に−７８℃でリチウム（ビストリメチルシリル）アミドの１ｍｏｌ／Ｌテトラヒドロフラン溶液３．１ｍＬ（３．１０ｍｍｏｌ）を滴下後、４−メチルテトラヒドロピラン−４−カルボン酸メチル７４５ｍｇ（４．７１ｍｍｏｌ）を滴下し、６時間攪拌した。反応液に酢酸４７１ｍｇ（７．８５ｍｍｏｌ）を加え５分間攪拌後、減圧下で反応混合物を濃縮した。残渣をエタノール（５ｍＬ）に溶解後、０℃で水素化ホウ素ナトリウム４１５ｍｇ（１１．０ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。反応液に水（１５ｍＬ）を加え５分間攪拌後、減圧下で反応混合物を濃縮した。残渣を酢酸エチル−水で分配抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣を中圧カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）エタノール（ＶＩＩＩ−６０）１．０６ｇ（収率７４．２％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：０．９７（３Ｈ，ｓ），１．０６（１Ｈ，ｍ），１．４２（２Ｈ，ｍ），１．６４（１Ｈ，ｍ），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．００−３．２９（２Ｈ，ｍ），３．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３），３．５１（２Ｈ，ｍ），３．６５−３．８８（３Ｈ，ｍ），５．５９（２Ｈ，ｓ），７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｍ），７．９０（３Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４５６；実測値４５６．
（１７−２）：２−メチル−４−｛４−［２−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）エテンスルホニル］フェノキシメチル｝キノリン（ＩＩ−６０）
前記（１７−１）で得た２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）エタノール（ＶＩＩＩ−６０）１．０３ｇ（２．２６ｍｍｏｌ）とジメチルアミノピリジン３．５６ｇ（２９．１５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３０ｍＬ）溶液に、０℃で塩化メタンスルホニル１．０３ｇ（９．０４ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１０分間、室温で１時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈後、シリカゲルカラムを通過させた。ろ液を濃縮後、得られた残渣を中圧カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、２−メチル−４−｛４−［２−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）エテンスルホニル］フェノキシメチル｝キノリン（ＩＩ−６０）８５０ｍｇ（収率８６．０％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１５（３Ｈ，ｓ），１．５０（２Ｈ，ｍ），１．６８（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．６４（４Ｈ，ｍ），５．５８（２Ｈ，ｓ），６．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５），７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６），７．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５），７．８８（３Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４３８；実測値４３８．
（１７−３）：Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）エチル｝ヒドロキシアミン（ＩＩＩ−６０）
前記（１７−２）で得た２−メチル−４−｛４−［２−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）エテンスルホニル］フェノキシメチル｝キノリン（ＩＩ−６０）５１４ｍｇ（１．１７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（８．０ｍＬ）溶液に室温で５０％ヒドロキシルアミン水溶液（１．５ｍＬ）を加え、２４時間攪拌した。反応液を真空下にて濃縮し、粗Ｎ−［２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）エチル］ヒドロキシアミン（ＩＩＩ−６０）５７０ｍｇ（収率１００％）を得た。
（１７−４）：Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）エチル｝ホルムアミド（Ｉ−６０）
前記（１７−３）で得た粗Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）エチル｝ヒドロキシアミン（ＩＩＩ−６０）５７０ｍｇ（１．１７ｍｍｏｌ）とギ酸７００ｍｇ（１５．２１ｍｍｏｌ）のピリジン（３．５ｍＬ）溶液に、０℃で無水酢酸４７８ｍｇ（４．６８ｍｍｏｌ）を１５分間かけて滴下し、０℃で１０分間、室温で１時間攪拌した。反応混合物を真空下で濃縮した。残渣をクロロホルム（８．０ｍＬ）で溶解し、メタノール（４．０ｍＬ）を加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮した。残渣を酢酸エチル−飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で分配抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順じ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣を中圧カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル−エタノール）で精製し、表題化合物２３８ｍｇ（収率４０．８％）を白色粉末として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０８（０．９Ｈ，ｓ），１．１３（２．１Ｈ，ｓ），１．１４−１．８０（４Ｈ，ｍ），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．１２−３．９５（６．７Ｈ，ｍ），４．３９（１Ｈ，ｍ），５．６０（２Ｈ，ｍ），７．０９−７．２５（２Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｍ），７．６５−７．９２（４．７Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３），８．５２（０．３Ｈ，ｍ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４９９；実測値４９９．
実施例１８
Ｎ−｛２−［４−（２，６−ジメチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−７４）の製造
Figure 2003022801
（１８−１）：（２，６−ジメチルキノリン−４−イル）メタノール２，６−ジメチルキノリン１０．０ｇ（６３．６ｍｍｏｌ）およびペルオキソ二硫酸アンモニウム２９．１ｇ（１２７．５ｍｍｏｌ）のメタノール（１４０ｍＬ）−水（１１０ｍＬ）混合溶液に、濃硫酸４．０ｍＬを加え２４時間加熱還流した。反応液を放冷した後メタノールを減圧下で留去した。残渣に炭酸ナトリウムを加えｐＨ１０に調整した後、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｇ、展開溶媒：クロロホルム：酢酸エチル：トリエチルアミン＝１：１：０．０１）で精製し、（２，６−ジメチルキノリン−４−イル）メタノールを５．５０ｇ（収率４６％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．５２（３Ｈ，ｓ），２．６７（３Ｈ，ｓ），５．１５（２Ｈ，ｓ），７．３６（１Ｈ，ｓ），７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，２．０），７．６９（１Ｈ，ｓ），７．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ １８８；実測値１８８．
（１８−２）：４−クロロメチル−２，６−ジメチルキノリン塩酸塩（ＸＩＩ−７４）
前記（１８−１）で得た（２，６−ジメチルキノリン−４−イル）メタノール５．５０ｇ（２９．４ｍｍｏｌ）のクロロホルム（３５ｍＬ）溶液に、０℃で塩化チオニル４．２ｍＬ（５８．４ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１８時間攪拌した。反応液を減圧下で留去した後、残渣を酢酸エチルで洗浄し、４−クロロメチル−２，６−ジメチルキノリン塩酸塩（ＸＩＩ−７４）を６．９６ｇ（収率９８％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．６６（３Ｈ，ｓ），３．１９（３Ｈ，ｓ），５．１２（２Ｈ，ｓ），７．７６（１Ｈ，ｓ），７．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，１．８），７．９３（１Ｈ，ｓ），８．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ２０６；実測値２０６．
（１８−３）：４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２，６−ジメチルキノリン（ＶＩ−７４）
前記（１８−２）で得た４−クロロメチル−２，６−ジメチルキノリン塩酸塩（ＸＩＩ−７４）６．９６ｇ（２８．７ｍｍｏｌ）と４−メタンスルホニルフェノール５．２０ｇ（３０．２ｍｍｏｌ）のエタノール（２５ｍＬ）懸濁液に、４ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液２５ｍＬ（１００．０ｍＬ）を加え、３時間加熱還流した。放冷後、水、４ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え、析出物を濾取した後、減圧下５０℃で乾燥し、４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２，６−ジメチルキノリン（ＶＩ−７４）を３．７０ｇ（収率３８％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．５６（３Ｈ，ｓ），２．７４（３Ｈ，ｓ），３．０６（３Ｈ，ｓ），５．５７（２Ｈ，ｓ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．３９（１Ｈ，ｓ），７．５５−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．９０−８．００（３Ｈ，ｍ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ３４２；実測値３４２．
（１８−４）：１−［４−（２，６−ジメチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−３−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−７４）
アルゴン雰囲気下、前記（１８−３）で得た４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２，６−ジメチルキノリン（ＶＩ−７４）５００ｍｇ（１．４６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２５ｍＬ）溶液に、−７８℃でリチウムジイソプロピルアミドの２ｍｏｌ／Ｌヘキサン−ヘプタン−エチルベンゼン溶液（アルドリッチ社製）０．８ｍＬ（１．６０ｍｍｏｌ）を滴下後、３０分間攪拌した。この溶液に−７８℃で（テトラヒドロピラン−４−イリデン）アセトアルデヒド２００ｍｇ（１．５９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５．０ｍＬ）溶液を滴下し、１時間攪拌した。反応液にエタノール（２０ｍＬ）を加え、減圧下で反応混合物を濃縮し、残渣に水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４０ｇ、展開溶媒：酢酸エチル：ヘキサン：トリエチルアミン＝１０：１：０．１）で精製し、１−［４−（２，６−ジメチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−３−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−７４）を３３４ｍｇ（収率４９％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．１５−２．３０（４Ｈ，ｍ），２．５６（３Ｈ，ｓ），２．７４（３Ｈ，ｓ），３．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，２．３），３．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，９．２），３．６５（４Ｈ，ｍ），５．０３（１Ｈ，ｍ），５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），５．５７（２Ｈ，ｓ），７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２），７．３９（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，２．０），７．６４（１Ｈ，ｓ），７．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４６８；実測値４６８．
（１８−５）：Ｎ−｛２−［４−（２，６−ジメチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イルメチル）エチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−７４）
前記（１８−４）で得た１−［４−（２，６−ジメチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−３−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロパン−２−オール（ＶＩＩＩ−７４）３３０ｍｇ（０．７１ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン３６３ｍｇ（３．５９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３．０ｍＬ）溶液に、−１０℃で塩化メタンスルホニル１４８ｍｇ（１．２９ｍｍｏｌ）を加え、室温で４時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をテトラヒドロフラン（６．０ｍＬ）に溶解した後、室温で５０％ヒドロキシルアミン水溶液（２．５ｍＬ）を加え、６５時間攪拌した。反応液を減圧下にて留去し、得られた残渣を酢酸エチルで希釈した後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したところ、粗Ｎ−｛２−［４−（２，６−ジメチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イルメチル）エチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−７４）３４１ｍｇ（収率１００％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．１５−２．３０（４Ｈ，ｍ），２．５６（３Ｈ，ｓ），２．７４（３Ｈ，ｓ），３．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，５．０），３．６０−３．７０（４Ｈ，ｍ），４．２８（１Ｈ，ｍ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），５．５７（２Ｈ，ｓ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．３９（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｓ），７．７０−７．８５（１Ｈ，ｍ），７．９０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４８３；実測値４８３．
（１８−６）：Ｎ−｛２−［４−（２，６−ジメチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イリデンメチル）エチル｝−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−７４）
ギ酸（４．０ｍＬ）と無水酢酸（１．０ｍＬ）を０℃で３０分間混合したものを、前記（１８−５）で得た粗Ｎ−｛２−［４−（２，６−ジメチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロピラン−４−イルメチル）エチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−７４）３４１ｍｇ（０．７１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．０ｍＬ）溶液に０℃で滴下し、その後室温にて２時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮し、得られた残渣をトルエンにて共沸した後、クロロホルム（１．５ｍＬ）で希釈し、メタノール（６．０ｍＬ）を加え室温で１２時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮した後、中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（Ｉ−７４）５３．７ｍｇ（収率１５％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：１．９０−２．２０（４Ｈ，ｍ），２．５０（６Ｈ，ｓ），２．６０−２．８０（１Ｈ，ｍ），３．４０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．８０（１Ｈ，ｍ），４．９０（０．４Ｈ，ｍ），５．１９（１Ｈ，ｍ），５．３１（０．６Ｈ，ｍ），５．７２（２Ｈ，ｓ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．５１（３Ｈ，ｓ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２），７．８５−７．９５（３．６Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｓ），８．３２（０．４Ｈ，ｓ），９．６５（０．４Ｈ，ｓ），１０．０５（０．６Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５１１；実測値５１１．
実施例１９
Ｎ−｛２−［４−（６−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエチル｝−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−７９）の製造
Figure 2003022801
（１９−１）：（６−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イル）メタノール
６−フルオロ−２−メチルキノリン１０．０ｇ（６２．０ｍｍｏｌ）およびペルオキソ二硫酸アンモニウム２８．３ｇ（１２４．０ｍｍｏｌ）のメタノール（１４０ｍＬ）−水（１１０ｍＬ）混合溶液に、濃硫酸４．０ｍＬを加え１８時間加熱還流した。反応液を放冷した後、メタノールを減圧下で留去した。残渣に炭酸ナトリウムを加えｐＨ１０に調整した後、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、（６−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イル）メタノールを９．６１ｇ（収率８１％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．７３（３Ｈ，ｓ），５．１２（２Ｈ，ｓ），７．４０−７．５５（３Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，５．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ １９２；実測値１９２．
（１９−２）：４−クロロメチル−６−フルオロ−２−メチルキノリン塩酸塩（ＸＩＩ−７９）
前記（１９−１）で得た（６−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イル）メタノール９．６０ｇ（５０．２ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１２０ｍＬ）溶液に、０℃で塩化チオニル７．２ｍＬ（１００．１ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１５時間攪拌した。反応液を減圧下で留去した後、残渣を酢酸エチルで洗浄し、４−クロロメチル−６−フルオロ−２−メチルキノリン塩酸塩（ＸＩＩ−７９）を１１．９９ｇ（収率９７％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：２．８６（３Ｈ，ｓ），５．３７（２Ｈ，ｓ），７．８５−８．００（２Ｈ，ｍ），８．１２−８．１７（１Ｈ，ｍ），８．３５−８．３８（１Ｈ，ｍ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ２１０；実測値２１０．
（１９−３）：６−フルオロ−４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン（ＶＩ−７９）
前記（１９−４）で得た４−クロロメチル−６−フルオロ−２−メチルキノリン塩酸塩（ＸＩＩ−７９）７．９９ｇ（３２．５ｍｍｏｌ）と４−メタンスルホニルフェノール６．７１ｇ（３９．０ｍｍｏｌ）のエタノール（３０ｍＬ）懸濁液に、４ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液１８ｍＬ（７２．０ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱還流した。放冷後、水、４ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え、析出物を濾取した後、減圧下５０℃で乾燥し、６−フルオロ−４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン（ＶＩ−７９）を９．２２ｇ（収率８２％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．７６（３Ｈ，ｓ），３．０６（３Ｈ，ｓ），５．５１（２Ｈ，ｓ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２），７．４５−７．５５（３Ｈ，ｍ），７．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），８．０６−８．１２（１Ｈ，ｍ）．
（１９−４）：２−［４−（６−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエタノール（ＶＩＩＩ−７９）
アルゴン雰囲気下、前記（１９−３）で得た６−フルオロ−４−（４−メタンスルホニルフェノキシメチル）−２−メチルキノリン（ＶＩ−７９）６５０ｍｇ（１．８８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３５ｍＬ）溶液に、−７８℃でリチウムジイソプロピルアミドの２ｍｏｌ／Ｌヘキサン−ヘプタン−エチルベンゼン溶液（アルドリッチ社製）１．０ｍＬ（２．００ｍｍｏｌ）を滴下後、４０分間攪拌した。この溶液に−７８℃で２−メチルベンズアルデヒド０．２６ｍＬ（２．２５ｍｍｏｌ）を滴下後、３０分間攪拌した。反応液にエタノール（２０ｍＬ）を加え、減圧下で反応混合物を濃縮し、残渣に水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をエーテルで洗浄し、２−［４−（６−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエタノール（ＶＩＩＩ−７９）を６２０ｍｇ（収率７１％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．１２（３Ｈ，ｓ），２．７５（３Ｈ，ｓ），３．２５（１Ｈ，ｍ），３．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，９．９），５．５２（２Ｈ，ｓ），７．０５−７．３０（５Ｈ，ｍ），７．４０−７．６０（４Ｈ，ｍ），７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），８．０９（１Ｈ，ｍ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４６６；実測値４６６．
（１９−５）：６−フルオロ−２−メチル−４−［４−（２−ο−トリルエテンスルホニル）フェノキシメチル］キノリン（ＩＩ−７９）
前記（１９−４）で得た２−［４−（６−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエタノール（ＶＩＩＩ−７９）６１０ｍｇ（１．３１ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン６５３ｍｇ（６．４６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１０ｍＬ）溶液に、−１０℃で塩化メタンスルホニル２９６ｍｇ（２．５８ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル７０ｇ、展開溶媒：酢酸エチル：ヘキサン：トリエチルアミン＝２：１：０．０２）で精製し、６−フルオロ−２−メチル−４−［４−（２−ο−トリルエテンスルホニル）フェノキシメチル］キノリン（ＩＩ−７９）を４３７ｍｇ（収率７４％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．４６（３Ｈ，ｓ），２．７５（３Ｈ，ｓ），５．４９（２Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．２），７．１０−７．３５（５Ｈ，ｍ），７．４０−７．５５（４Ｈ，ｍ），７．９０−８．００（３Ｈ，ｍ），８．０８（１Ｈ，ｍ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４４８；実測値４４８．
（１９−６）：Ｎ−｛２−［４−（６−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−７９）
前記（１９−５）で得た６−フルオロ−２−メチル−４−［４−（２−ο−トリルエテンスルホニル）フェノキシメチル］キノリン（ＩＩ−７９）４２０ｍｇ（０．９４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（７．０ｍＬ）溶液に室温で５０％ヒドロキシルアミン水溶液（３．０ｍＬ）を加え、６５時間攪拌した。反応液を減圧下にて留去し、得られた残渣を酢酸エチルで希釈した後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したところ、粗Ｎ−｛２−［４−（６−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−７９）４５１ｍｇ（収率１００％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．２１（３Ｈ，ｓ），２．７５（３Ｈ，ｓ），３．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，３．０），３．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．９，９．９），４．７０（１Ｈ，ｂｓ），４．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２，３．３），５．５０（２Ｈ，ｓ），７．１０−７．２０（５Ｈ，ｍ），７．３２（１Ｈ，ｍ），７．４４（１Ｈ，ｓ），７．５０（２Ｈ，ｍ），７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），８．０９（１Ｈ，ｍ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４８１；実測値４８１．
（１９−７）：Ｎ−｛２−［４−（６−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエチル｝−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−７９）
ギ酸（８．０ｍＬ）と無水酢酸（２．０ｍＬ）を０℃で３０分間混合したものを、前記（１９−６）で得た粗Ｎ−｛２−［４−（６−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−７９）４５１ｍｇ（０．９４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．０ｍＬ）溶液に０℃で滴下し、その後室温にて３時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮し、得られた残渣をトルエンにて共沸した後、クロロホルム（２．０ｍＬ）で希釈し、メタノール（８．０ｍＬ）を加え室温で１８時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮した後、中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル−ヘキサン＝８０：２０〜９３：７）で精製し、表題化合物（Ｉ−７９）３９６ｍｇ（収率８３％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：２．１５（３Ｈ，ｓ），２．６７（３Ｈ，ｓ），３．８０−３．９５（１Ｈ，ｍ），４．０５−４．２０（１Ｈ，ｍ），５．３６（０．４Ｈ，ｍ），５．７０（２Ｈ，ｓ），５．９２（０．６Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（２．５Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（３Ｈ，ｍ），７．６０−７．７５（２Ｈ，ｍ），７．８０−７．９５（３Ｈ，ｍ），８．００−８．１５（１．５４Ｈ，ｍ），８．６５−１０．１０（ｔｏｔａｌ １Ｈ，ｓＸ２）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５０９；実測値５０９．
実施例２０
Ｎ−｛２−［４−（８−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエチル｝−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−１２４）の製造
Figure 2003022801
（２０−１）：４−（２−ヒドロキシ−２−ο−トリルエタンスルホニル）フェノール（ＶＩ−１２４）
アルゴン雰囲気下、ｔｅｒｔ−ブチル−（４−メタンスルホニルフェノキシ）ジメチルシラン１．５０ｇ（５．２４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）溶液に、−７８℃でリチウムジイソプロピルアミドの２ｍｏｌ／Ｌヘキサン−ヘプタン−エチルベンゼン溶液（アルドリッチ社製）３．１ｍＬ（６．２０ｍｍｏｌ）を滴下後、１時間攪拌した。この溶液に−７８℃で２−メチルベンズアルデヒド０．７２ｍＬ（６．２３ｍｍｏｌ）を滴下後、３０分間攪拌した。反応液にエタノール（３０ｍＬ）を加え１８時間攪拌した。減圧下で反応混合物を濃縮し、残渣に１Ｎ塩酸を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣を中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝２：１〜１：１）で精製し、４−（２−ヒドロキシ−２−ο−トリルエタンスルホニル）フェノール（ＸＸＸＩ−１２４）９３０ｍｇ（６０．８％）を無色結晶として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．１０（３Ｈ，ｓ），３．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，１．３），３．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，９．６），５．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．６，１．３），６．４２（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（２Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｍ），７．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
（２０−２）：２−［４−（８−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエタノール（ＶＩＩＩ−１２４）
アルゴン雰囲気下、前記（２０−１）で得た４−（２−ヒドロキシ−２−ο−トリルエタンスルホニル）フェノール（ＸＸＸＩ−１２４）３６０ｍｇ（１．２３ｍｍｏｌ）と炭酸セシウム４００ｍｇ（１．２３ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド溶液（３ｍＬ）に室温で４−クロロメチル−８−フルオロ−２−メチルキノリン塩酸塩３００ｍｇ（１．２２ｍｍｏｌ）を加え３日間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したところ、粗２−［４−（８−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエタノール（ＶＩＩＩ−１２４）５６７ｍｇ（収率１００％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．２３（３Ｈ，ｓ），３．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，３．３），３．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，９．２），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２，３．３），５．２８（２Ｈ，ｓ），６．４５（１Ｈ，ｓ），６．８５−６．９５（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（５Ｈ，ｍ），７．３０（１Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（１Ｈ，ｍ），７．８５−７．９０（２Ｈ，ｍ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４６６；実測値４６６．
（２０−３）：８−フルオロ−２−メチル−４−［４−（２−ο−トリルエテンスルホニル）フェノキシメチル］キノリン（ＩＩ−１２４）
前記（２０−２）で得た２−［４−（８−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエタノール（ＶＩＩＩ−１２４）５６７ｍｇ（１．２２ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン６１７ｍｇ（６．１０ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１０ｍＬ）溶液に、−１０℃で塩化メタンスルホニル２８１ｍｇ（２．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル７０ｇ、展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝３：２）で精製し、８−フルオロ−２−メチル−４−［４−（２−ο−トリルエテンスルホニル）フェノキシメチル］キノリン（ＩＩ−１２４）４４０ｍｇ（収率８０．７％）を褐色アモルファスとして得た。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４４８；実測値４４８．
（２０−４）：Ｎ−｛２−［４−（８−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−１２４）
前記（２０−３）で得た８−フルオロ−２−メチル−４−［４−（２−ο−トリルエテンスルホニル）フェノキシメチル］キノリン（ＩＩ−１２４）５４６ｍｇ（０．９８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（９．０ｍＬ）溶液に室温で５０％ヒドロキシルアミン水溶液（４．０ｍＬ）を加え、３０時間攪拌した。反応液を減圧下にて留去し、得られた残渣を酢酸エチルで希釈した後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したところ、粗Ｎ−｛２−［４−（８−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−１２４）４７２ｍｇ（収率１００％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．２１（３Ｈ，ｓ），２．８１（３Ｈ，ｓ），３．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，３．３），３．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５，９．６），４．５５（１Ｈ，ｍ），４．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２，３．０），５．５７（２Ｈ，ｓ），７．１０−７．２０（５Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（１Ｈ，ｍ），７．４０−７．５５（３Ｈ，ｍ），７．６５−７．７５（１Ｈ，ｍ），７．８５−７．９５（２Ｈ，ｍ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ４８１；実測値４８１．
（２０−５）：Ｎ−｛２−［４−（８−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエチル｝−Ｎ−ヒドロキシホルムアミド（Ｉ−１２４）
ギ酸（８．０ｍＬ）と無水酢酸（２．０ｍＬ）を０℃で３０分間混合したものを、前記（２０−４）で得たＮ−｛２−［４−（８−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−ο−トリルエチル｝ヒドロキシルアミン（ＩＩＩ−１２４）４７２ｍｇ（０．９８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．０ｍＬ）溶液に０℃で滴下し、その後室温にて１時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮し、得られた残渣をトルエンにて共沸した後、クロロホルム（２．０ｍＬ）で希釈し、メタノール（８．０ｍＬ）を加え室温で４０時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮した後、中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル−ヘキサン＝２：１〜４：１）で精製したところ、表題化合物３９２ｍｇ（収率７８．４％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．１８（１．８Ｈ，ｓ），２．３９（１．２Ｈ，ｓ），２．８１（３Ｈ，ｓ），３．２０−３．４５（１Ｈ，ｍ），３．９５−４．３５（１Ｈ，ｍ），５．５５−５．８０（１Ｈ，ｍ），５．６０（２Ｈ，ｓ），７．０５−７．２５（６Ｈ，ｍ），７．３５−７．６５（３Ｈ，ｍ），７．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），７．８４（０．６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），７．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），８．０２（０．４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），８．０７（０．４Ｈ，ｓ），８．４６（０．６Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５０９；実測値５０９．
実施例２１
１−ヒドロキシ−１−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロチオピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ウレア（Ｉ−１２５）の製造
Figure 2003022801
実施例１１（１１−１）で得たＮ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロチオピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ヒドロキルアミン（ＩＩＩ−１７）０．２ｇ（０．４１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍＬ）に０℃でトリメチルシリルイソシアナート０．０７３ｍＬ（０．５３ｍｍｏｌ）を加え１時間室温で攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、エーテルを加え沈殿物をろ取し、表題化合物３５ｍｇ（収率１６．７％）を白色固体として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．３４−２．６１（６Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｍ），３．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，５．０），３．６０（１Ｈ，ｍ），４．４８−５．５１（２Ｈ，ｍ），５．５８（２Ｈ，ｓ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９），７．４３（１Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｍ），７．８５−７．９２（３Ｈ，ｍ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５２８；実測値５２８．
実施例２２
Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロチオピラン−４−イリデンメチル）エチル｝アセトアミド（Ｉ−１２６）の製造
Figure 2003022801
酢酸（２ｍＬ）と無水酢酸（０．３ｍＬ）を０℃で３０分間攪拌したものを、実施例１１（１１−１）で得たＮ−｛２−［４−（２−メチルキノリン−４−イルメトキシ）ベンゼンスルホニル］−１−（テトラヒドロチオピラン−４−イリデンメチル）エチル｝ヒドロキルアミン（ＩＩＩ−１７）０．１５ｇ（０．３１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３ｍＬ）に０℃で加え、１時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣をメタノール（３ｍＬ）に溶解し、２Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（１ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、クロロホルムで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥する。濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、酢酸エチル：エタノール＝５０：１）に付し、表題化合物５０ｍｇ（収率３１．３％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．１４（３Ｈ，ｓ），２．３１−２．６０（８Ｈ，ｍ），２．７５（３Ｈ，ｍ），３．１５（１Ｈ，ｍ），３．７２（１Ｈ，ｍ），５．２１−５．４２（２Ｈ，ｍ），５．５９（２Ｈ，ｓ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．４４（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｍ），７．８５−７．９２（３Ｈ，ｍ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ５２７；実測値５２７
実施例１と同様な方法で、化合物Ｉ−１０、Ｉ−１６、Ｉ−１９、Ｉ−２２、Ｉ−２３、Ｉ−２８、Ｉ−２９、Ｉ−３１、Ｉ−３２、Ｉ−３５、Ｉ−３６、Ｉ−３７、Ｉ−３８、Ｉ−３９、Ｉ−４０、Ｉ−４９、Ｉ−５６、Ｉ−５８、Ｉ−５９、Ｉ−６７、Ｉ−６８、Ｉ−７２、Ｉ−７８、Ｉ−８０、Ｉ−８１、Ｉ−８７、Ｉ−９０、Ｉ−９３、Ｉ−９８、Ｉ−１０５、Ｉ−１２１、Ｉ−１２７、Ｉ−１２９、Ｉ−１３５、Ｉ−１３６、Ｉ−１４４、Ｉ−１４５、Ｉ−１４６、Ｉ−１４７、Ｉ−１４８、Ｉ−１４９、Ｉ−１５０、Ｉ−１６５、Ｉ−１６６、Ｉ−１６９、Ｉ−１７０を合成した。各化合物の構造と物性値を表２９〜３６、３８および３９に示す。
実施例６と同様な方法で、化合物Ｉ−１２、Ｉ−１３、Ｉ−１４、Ｉ−２７、Ｉ−７５、Ｉ−７６、Ｉ−８５、Ｉ−８６、Ｉ−８８、Ｉ−１００、Ｉ−１０２、１−１０７、Ｉ−１０９、Ｉ−１１１、Ｉ−１１２、Ｉ−１２０、Ｉ−１２２を合成した。各化合物の構造と物性値を表２９、３０、３２、３５〜３８に示す。
実施例９と同様な方法で、化合物Ｉ−１５、Ｉ−１８、Ｉ−２０、Ｉ−６１、Ｉ−７７、Ｉ−８２、Ｉ−８３、Ｉ−９１、Ｉ−９５、Ｉ−９９、Ｉ−１０３、Ｉ−１０４、Ｉ−１０６、Ｉ−１１０、Ｉ−１１５、Ｉ−１１６、Ｉ−１１７、Ｉ−１１８、Ｉ−１４３、Ｉ−１５２、Ｉ−１６３を合成した。各化合物の構造と物性値を表２９、３０、３２〜３８に示す。
実施例１０と同様な方法で、化合物Ｉ−４８、Ｉ−８４、Ｉ−８９、Ｉ−９２、Ｉ−９４、Ｉ−１０１、Ｉ−１０８、Ｉ−１１３、Ｉ−１１４、Ｉ−１１９、Ｉ−１２３、Ｉ−１３７を合成した。各化合物の構造と物性値を表２９、３２〜３８に示す。
実施例１２と同様な方法で、化合物Ｉ−２６、Ｉ−３０、Ｉ−４４、Ｉ−４５、Ｉ−４６、Ｉ−６５、Ｉ−６６、Ｉ−７１、Ｉ−１４０、Ｉ−１４２、Ｉ−１５３、Ｉ−１５４、Ｉ−１５５、Ｉ−１５６、Ｉ−１５８、Ｉ−１５９、Ｉ−１６０、Ｉ−１６４、Ｉ−１６７、Ｉ−１７４を合成した。各化合物の構造と物性値を表２９および３０に示す。
実施例１３と同様な方法で、化合物Ｉ−２１、Ｉ−４１、Ｉ−４２、Ｉ−４３、Ｉ−５０、Ｉ−５１、Ｉ−５２、Ｉ−５３、Ｉ−５４、Ｉ−５５、Ｉ−６２、Ｉ−６３、Ｉ−６４、Ｉ−６９、Ｉ−７０、Ｉ−７３、Ｉ−１３０、Ｉ−１３１、Ｉ−１３２、Ｉ−１３３、Ｉ−１３８、Ｉ−１３９、Ｉ−１４１、Ｉ−１５７、Ｉ−１７１、Ｉ−１７２、Ｉ−１７３、Ｉ−１７５を合成した。各化合物の構造と物性値を表２９および３０に示す。
実施例１６と同様な方法Ｉ−１３４、Ｉ−１６２で、化合物を合成した。構造と物性値を表２９に示す。
実施例１７と同様な方法で、化合物Ｉ−４７、Ｉ−１２８、Ｉ−１６１、Ｉ−１６８を合成した。構造と物性値を表２９に示す。
実施例２２と同様な方法で、化合物Ｉ−１５１を合成した。構造と物性値を表４０に示す。
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
本発明に使用した新規中間体の製造例を以下に示す。
製造例１
４−メチルテトラヒドロピラン−４−カルボン酸メチル（ＩＸ−６０）の製造
Figure 2003022801
アルゴン雰囲気下、テトラヒドロピラン−４−カルボン酸メチル（ＩＸ−４９）６．１８ｇ（４２．９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１４０ｍＬ）溶液に、−７８℃でリチウムジイソプロピルアミドの２ｍｏｌ／Ｌヘキサン−ヘプタン−エチルベンゼン溶液（アルドリッチ社製）２５．７ｍＬ（５１．５ｍｍｏｌ）を滴下後、９０分間攪拌した。この溶液に−７８℃でヨウ化メチル８．５ｇ（６０．１ｍｍｏｌ）を加え、４時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（３０ｍＬ）を加え１０分間攪拌後、減圧下で反応混合物を約１／３容積になるまで濃縮し、残渣を酢酸エチル−ヘキサン（３：１）で抽出した。有機層を水（２回）、飽和食塩水で順じ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣を中圧液体シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、４−メチルテトラヒドロピラン−４−カルボン酸メチル（ＩＸ−６０）５．９ｇ（収率８６．４％）を無色液体として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．２３（３Ｈ，ｓ），１．５０（２Ｈ，ｍ），２．０７（２Ｈ，ｍ），３．４７（２Ｈ，ｍ），３．７２（３Ｈ，ｓ），３．７９（２Ｈ，ｍ）．
製造例２
４−メトキシメチルテトラヒドロピラン−４−カルボン酸メチル（ＩＸ−１６８）の製造
Figure 2003022801
アルゴン雰囲気下、テトラヒドロピラン−４−カルボン酸メチル（ＩＸ−４９）３．０ｇ（２０．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（６０ｍＬ）溶液に、−７８℃でリチウムジイソプロピルアミドの２ｍｏｌ／Ｌヘキサン−ヘプタン−エチルベンゼン溶液（アルドリッチ社製）１２．６ｍＬ（２５．２ｍｍｏｌ）を滴下後、９０分間攪拌した。この溶液に−７８℃でクロロメチルメチルエーテル１．８４ｇ（２２．９ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌後、徐々に−１０℃まで昇温した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（３０ｍＬ）を加え１０分間攪拌後、減圧下で反応混合物を約１／３容積になるまで濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を水（２回）、飽和食塩水で順じ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣を中圧液体シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、４−メトキシメチルテトラヒドロピラン−４−カルボン酸メチル（ＩＸ−１６８）１．２８ｇ（収率３２．４％）を無色液体として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．５８（２Ｈ，ｍ），２．０７（２Ｈ，ｍ），３．３１（３Ｈ，ｓ），３．４０（２Ｈ，ｓ），３．４９（２Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝９．６，２．７），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．８２（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．６，４．０）．
製造例３
４−メトキシメトキシ−１−メチルシクロヘキサンカルブアルデヒド（ＶＩＩ−１２８、−１３７）の製造
Figure 2003022801
１）１−メチル−４−オキソシクロヘキサンカルボン酸メチル３．７ｇ（２０．１ｍｍｏｌ）のメタノールおよびエタノール混合溶液（６ｍＬ＋１５ｍＬ）に０℃で水素化ホウ素ナトリウム２００ｍｇ（５．２９ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間攪拌した。反応液に水を加えた後、減圧下で反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したところ、４−ヒドロキシ−１−メチルシクロヘキサンカルボン酸メチル３．８ｇ（収率１００％）が無色液体として得られた。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ １８７；実測値１８７．
２）前記１）で得た４−ヒドロキシ−１−メチルシクロヘキサンカルボン酸メチル１．１８ｇ（６．３３ｍｍｏｌ）とジイソプロピルエチルアミン２．０４ｇ（１５．８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（８．０ｍＬ）溶液に、室温でクロロメチルメチルエーテル１．０２ｇ（１２．７ｍｍｏｌ）を加え、１２時間攪拌した。反応液に水を加え１０分間攪拌後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣を中圧液体シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）で精製したところ、４−メトキシメトキシ−１−メチルシクロヘキサンカルボン酸メチル６２０ｍｇ（収率４２．５％）が無色液体として得られた。物性値を以下に示す。
ジアステレオマーＡ
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１０−１．５０（１０Ｈ，ｍ），１．８７（２Ｈ，ｍ），２．１３（２Ｈ，ｍ），３．３６（３Ｈ，ｓ），３．５０（１Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９），４．６７（２Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ２３１；実測値２３１．
ジアステレオマーＢ
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１９（３Ｈ，ｓ），１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９），１．５２−１．７２（６Ｈ，ｍ），１．８６（２Ｈ，ｍ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．６７（１Ｈ，ｍ），４．１３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９），４．６６（２Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ２３１；実測値２３１．
３）前記２）で得た４−メトキシメトキシ−１−メチルシクロヘキサンカルボン酸メチル６００ｍｇ（２．６０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（８ｍＬ）にアルゴン気流下０℃で水素化アルミニウムリチウム９９ｍｇ（２．６０ｍｍｏｌ）を加え、０℃で２時間攪拌後、室温で１０時間攪拌した。反応液をエーテルで希釈後、水（３ｍＬ）で注意深く過剰の試薬を不活性化した。反応混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去したところ、（４−メトキシメトキシ−１−メチルシクロヘキシル）メタノール６０３ｍｇ（収率１００％）が無色液体として得られた。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ １８９；実測値１８９．
４）塩化オキサリル１．６２ｇ（１２．７６ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２０ｍＬ）溶液に、アルゴン気流下−７８℃でジメチルスルホキシド１．３０ｇ（１６．６ｍｍｏｌ）を滴下し、１０分間攪拌した。この溶液に前記３）で得た（４−メトキシメトキシ−１−メチルシクロヘキシル）メタノール６００ｍｇ（３．１９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２．５ｍＬ）溶液を−７８℃で滴下し、１５分間攪拌後、トリエチルアミン２．７４ｇ（２７．１２ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を−７８℃で２０分間、−２０〜−１０℃で１５分間攪拌後、エーテルで希釈し水（３回）、飽和食塩水で順じ洗浄した。エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた残渣を中圧液体シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、４−メトキシメトキシ−１−メチルシクロヘキサンカルブアルデヒド（ＶＩＩ−１２８、−１３７）６００ｍｇ（収率１００％）を無色液体として得た。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ １８７；実測値１８７．
製造例４
２−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロピオンアルデヒド（ＶＩＩ−１５）の製造
Figure 2003022801
１）２−ホスホノプロピオン酸トリエチル１２．９ｇ（５４．１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（６０ｍＬ）溶液に、アルゴン気流下２５℃でカリウムｔ−ブトキシド５．５２ｇ（４９．２ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌した。この溶液にテトラヒドロピラン−４−オン５．４２ｇ（５４．１ｍｍｏｌ）を滴下し、約７０℃で５時間攪拌した。得られた混合物を室温に冷却後、水中に投じ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液を水（２回）、飽和食塩水で順じ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣を中圧液体シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、２−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロピオン酸エチル４．２ｇ（収率４２．１％）を無色液体として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９），１．８８（３Ｈ，ｓ），２．３８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３），２．６７（２Ｈ，ｍ），３．７２（４Ｈ，ｍ），４．２０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９）．
２）前記１）で得た２−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロピオン酸エチル４．２ｇ（２４．３９ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（５０ｍＬ）にアルゴン気流下０℃で水素化アルミニウムリチウム１．２０ｇ（３１．７ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間攪拌後、室温で２時間攪拌した。反応液をエーテルで希釈後、エタノール及び塩化アンモニウム水溶液で注意深く過剰の試薬を不活性化した。反応混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去したところ、２−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロパン−１−オール４．２ｇ（収率１００％）が無色液体として得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．７９（３Ｈ，ｓ），２．２５−２．４１（４Ｈ，ｍ），３．６８（４Ｈ，ｍ），４．１４（２Ｈ，ｓ）．
３）活性二酸化マンガン２３ｇ（０．２６５ｍｏｌ）のヘキサン−ジクロロメタン混合けん濁液（２０ｍＬ＋７０ｍＬ）に前記２）で得た２−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロパン−１−オール２．０ｇ（１４．０７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（４ｍＬ）を加え、２５℃で４０時間攪拌した。混合物をろ過し、ろ液を濃縮したところ、２−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロピオンアルデヒド（ＶＩＩ−１５）２．０ｇ（収率１００％）が無色液体として得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．７９（３Ｈ，ｓ），２．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３），２．８９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３），３．８２（４Ｈ，ｍ），１０．１７（１Ｈ，ｓ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ １４１；実測値１４１．
製造例５
フルオロ−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）酢酸 エチル（ＩＸ−１６）の製造
Figure 2003022801
２−フルオロ−２−ホスホノ酢酸トリエチル５．２５ｇ（２１．６８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）溶液に、アルゴン気流下−１０℃でｎ−ブチルリチウムの１．５ｍｏｌ／Ｌヘキサン溶液（関東化学社製）１３．２ｍＬ（１９．８７ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で２０分間攪拌後、テトラヒドロピラン−４−オン２．０ｇ（１９．８７ｍｍｏｌ）を滴下し、約５５℃で２時間攪拌した。得られた混合物を室温に冷却後、水中に投じ、エーテルで抽出した。エーテル抽出液を水（３回）、飽和食塩水で順じ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣を中圧液体シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、フルオロ−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）酢酸 エチル（ＩＸ−１６）３．３２ｇ（収率８８．８％）を無色液体として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．３５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９），２．５０（２Ｈ，ｍ），２．９０（２Ｈ，ｍ），３．７６（４Ｈ，ｍ），４．２９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９）．
製造例６
クロロ−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）酢酸 エチル（ＩＸ−１９）の製造
Figure 2003022801
フルオロ−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）酢酸 エチル（ＩＸ−１６）の製造とほぼ同様な方法により、テトラヒドロピラン−４−オン５．４２ｇ（５４．１３ｍｍｏｌ）とｎ−ブチルリチウムの１．５ｍｏｌ／Ｌヘキサン溶液（関東化学社製）３６．１ｍＬ（５４．１３ｍｍｏｌ）と２−クロロ−２−ホスホノ酢酸トリエチル１５．４ｇ（５９．５ｍｍｏｌ）からクロロ−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）酢酸 エチル（ＩＸ−１９）８．２ｇ（収率７４．０２％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．３５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９），２．６５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６），２．８７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６），３．７３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６），３．７８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６），４．２７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９）．
製造例７
３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）プロペナール（ＶＩＩ−１４３）の製造
Figure 2003022801
１）前記製造例１で得た４−メチルテトラヒドロピラン−４−カルボン酸メチル（ＩＸ−６０）３．４５ｇ（２１．８ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（７０ｍＬ）にアルゴン気流下０℃で水素化アルミニウムリチウム８３０ｍｇ（２１．８ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間攪拌後、室温で１時間攪拌した。反応混合物を再び０℃に冷却後、水素化アルミニウムリチウム８３０ｍｇ（２１．８ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間攪拌後、室温で１時間攪拌した。反応液をエーテルで希釈後、０℃でエタノール（８ｍＬ）及び飽和食塩水（１０ｍＬ）で注意深く過剰の試薬を不活性化した。反応混合物を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去したところ、（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）メタノール３．６４ｇ（収率１００％）が無色液体として得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０４（３Ｈ，ｓ），１．２９（２Ｈ，ｍ），１．５９（３Ｈ，ｍ），３．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６），３．５４−３．８２（４Ｈ，ｍ）．
２）塩化オキサリル７．０ｇ（５５．４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（９０ｍＬ）溶液に、アルゴン気流下−７８℃でジメチルスルホキシド５．６ｇ（７２．０ｍｍｏｌ）を滴下し、１０分間攪拌した。この溶液に前記１）で得た（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）メタノール３．６ｇ（２７．７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍＬ）溶液を−７８℃で滴下し、１５分間攪拌後、トリエチルアミン１４．６ｇ（１４４．０ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を−７８℃で２０分間、−２０〜−１０℃で１５分間攪拌後、エーテルで希釈し水（３回）、飽和食塩水で順じ洗浄した。エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた残渣を中圧液体シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、４−メチルテトラヒドロピラン−４−カルブアルデヒド（ＶＩＩ−６０）２．７５ｇ（収率７７．５％）を無色液体として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１１（３Ｈ，ｓ），１．５１（２Ｈ，ｍ），１．９４（２Ｈ，ｍ），３．５１（２Ｈ，ｍ），３．７８（２Ｈ，ｍ），９．４７（１Ｈ，ｓ）．
３）アルゴン気流下、ジエチルホスホノ酢酸エチル１．９２ｇ（８．５８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン−メタノール溶液（３．５ｍＬ＋２．８ｍＬ）に、０℃でナトリウムメトキシドの２８％メタノール溶液１．６５ｍＬ（８．５８ｍｍｏｌ）を滴下し、１０分間攪拌した。これに前記２）で得た４−メチルテトラヒドロピラン−４−カルブアルデヒド１．０ｇ（７．８０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１．５ｍＬ）を滴下した。滴下後室温で５時間攪拌した。反応終了後、氷水中に注ぎ、エーテルで抽出した。有機層を水（３回）及び飽和食塩水で順じ洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣を中圧液体シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）アクリル酸メチル０．９３ｇ（収率６４．７％）を無色液体として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１３（３Ｈ，ｓ），１．４１−１．７６（４Ｈ，ｍ），３．６８（４Ｈ，ｍ），３．７５（３Ｈ，ｓ），５．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２）．
４）アルゴン雰囲気下、前記３）で得た３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）アクリル酸 メチルエステル６４０ｍｇ（３．４７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液に、−７８℃で水素化ジイソブチルアルミニウム１．０ｍｏｌ／Ｌトルエン溶液８．０ｍＬ（８．００ｍｍｏｌ）を滴下し、−７８℃で３時間攪拌した。反応液を室温に昇温し、酒石酸ナトリウムカリウム水溶液を加えた後、溶媒を減圧下で留去した。残渣に水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、粗３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）プロプ−２−エン−１−オールを５４３ｍｇ（収率７１％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．０８（３Ｈ，ｓ），１．４０−１．５５（２Ｈ，ｍ），１．５５−１．７０（２Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（４Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０），５．５４−５．７１（２Ｈ，ｍ）．
５）前記４）で得られた３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）プロプ−２−エン−１−オール５４３ｍｇ（３．４７ｍｍｏｌ）のヘキサン（３０ｍＬ）−クロロホルム（１０ｍＬ）混合溶液に、活性二酸化マンガン６．０ｇを加え、室温で１８時間激しく攪拌した。不溶物を濾過し、溶媒を減圧下留去した後、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２５ｇ、展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）プロペナール（ＶＩＩ−１４３）を５３５ｍｇ（収率１００％）得た。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ １５５；実測値１５５．
製造例８
３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）プロピオン酸 メチルエステル（ＩＸ−１４４）の製造
Figure 2003022801
３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）アクリル酸メチルエステル２２０ｍｇ（１．１９ｍｍｏｌ）のメタノール（１５ｍＬ）溶液に、パラジウム炭素４０ｍｇを加え、水素置換した後室温にて１２時間攪拌した。反応液をセライト濾過した後、減圧下にて溶媒を留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２０ｇ、展開溶媒：酢酸エチル）にて精製し、３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）プロピオン酸メチルエステル（ＩＸ−１４４）を２２２ｍｇ（収率１００％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：０．９８（３Ｈ，ｓ），１．２０−１．４０（２Ｈ，ｍ），１．４０−１．５５（２Ｈ，ｍ），１．６０−１．７５（２Ｈ，ｍ），２．２５−２．３５（２Ｈ，ｍ），３．５５−３．８０（４Ｈ，ｍ），３．６８（３Ｈ，ｓ）．
製造例９
２−メチル−３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）アクリル酸メチル（ＩＸ−１６９）の製造
Figure 2003022801
前記製造例４の２−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）プロピオン酸エチルの合成とほぼ同様な方法により、前記製造例７で得た４−メチルテトラヒドロピラン−４−カルブアルデヒド（ＶＩＩ−６０）８００ｍｇ（６．２４ｍｍｏｌ）とカリウムｔ−ブトキシド９８０ｍｇ（８．７４ｍｍｏｌ）と２−ホスホノプロピオン酸トリエチル２．２３ｇ（９．３６ｍｍｏｌ）から２−メチル−３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）アクリル酸メチル（ＩＸ−１６９）５５６ｍｇ（収率４２．０％）が得られた。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１８（１．２Ｈ，ｓ），１．２１（１．８Ｈ，ｓ），１．３０（１．２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９），１．３１（１．８Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９），１．４２−１．９３（４Ｈ，ｍ），１．９４（３Ｈ，ｍ），３．４２−３．８１（４Ｈ，ｍ），４．１０−４．２２（２Ｈ，ｍ），５．５０（０．４Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７），６．８２（０．６Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３）．
製造例１０
２−メチル−３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）プロピオン酸エチルエステル（ＩＸ−１７０）の製造
Figure 2003022801
前記製造例９で得られた２−メチル−３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）アクリル酸メチル（ＩＸ−１６９）を原料として、製造例８と同様な方法で２−メチル−３−（４−メチルテトラヒドロピラン−４−イル）プロピオン酸エチルエステル（ＩＸ−１７０）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：０．９７（３Ｈ，ｓ），１．１５−１．６０（５Ｈ，ｍ），１．１７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３），１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９），１．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．２，９．２），２．５３（１Ｈ，ｍ），３．５３−３．７５（４Ｈ，ｍ），４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９）．
製造例１１
２−（テトラヒドロピラン−４−イル）プロピオン酸メチルエステル（ＩＸ−１６６）の製造
Figure 2003022801
アルゴン雰囲気下、（テトラヒドロピラン−４−イル）酢酸メチルエステル１．００ｇ（６．３２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）溶液に、−７８℃でリチウムジイソプロピルアミドの２ｍｏｌ／Ｌヘキサン−ヘプタン−エチルベンゼン溶液（アルドリッチ社製）４．５ｍＬ（９．００ｍｍｏｌ）を滴下後、沃化メチル０．４７ｍＬ（７．５５ｍｍｏｌ）を滴下し、−７８℃で３０分間攪拌した後、室温で４８時間攪拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加えた後、減圧下で濃縮し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３０ｇ、展開溶媒：ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、２−（テトラヒドロピラン−４−イル）プロピオン酸メチルエステル（ＩＸ−１６６）９２７ｍｇ（８５．１％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．１４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９），１．２５−１．７０（４Ｈ，ｍ），１．７９（１Ｈ，ｍ），２．２９（１Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７．３），３．３７（２Ｈ，ｍ），３．６８（３Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｍ）．
製造例１２
４−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）ブタン酸エチル（ＩＸ−１２７）の製造
Figure 2003022801
アルゴン気流下、６０％水素化ナトリウム１．１３ｇ（２８．２ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミドけん濁液（２ｍＬ）に、１０℃で臭化［３−（エトキシカルボニル）プロピル］トリフェニルホスホニウム１１．２ｇ（２４．５ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（１９ｍＬ）を滴下し、４０分間攪拌した。これにテトラヒドロピラン−４−オン２．５ｇ（２４．５ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下後、１０℃で１時間、室温で１４時間攪拌した。反応終了後、氷水中に注ぎ、エーテルで抽出した。有機層を水（３回）及び飽和食塩水で順じ洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣を中圧液体シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、４−（テトラヒドロピラン−４−イリデン）ブタン酸 エチル（ＩＸ−１２７）３２０ｍｇ（収率６．６％）を無色液体として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），２．１９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０），２．２３−２．４０（８Ｈ，ｍ），３．６５（４Ｈ，ｍ），４．１３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３），５．１７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ １９９；実測値１９９．
製造例１３
３−（６−メチルピリジン−２−イル）プロピオン酸エチルエステル（ＩＸ−１２９）の製造
Figure 2003022801
３−（６−メチルピリジン−２−イル）アクリル酸エチルエステル１．３９ｇ（７．８５ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（５０ｍＬ）に、１０％パラジウム−炭素を２００ｍｇ加え、水素ガス雰囲気下、室温にて４時間攪拌した。溶液をセライトで濾過し、得られた濾液を減圧下留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１〜２：１）で精製し、３−（６−メチルピリジン−２−イル）プロピオン酸エチルエステル（ＩＸ−１２９）を１．０９ｇ（６．０９ｍｍｏｌ）の無色油状物質として得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１），２．５２（３Ｈ，ｓ），２．７６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７），３．０７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６），４．１３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２），６．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６），７．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６）．
製造例１４
３−［５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラニルオキシ）シクロヘキシ−１−エニル］プロピオン酸メチルエステル（ＩＸ−３８）の製造
Figure 2003022801
１）アルゴン雰囲気下、３−（３−メトキシフェニル）プロピオン酸２．１８ｇ（１２．０９ｍｍｏｌ）を３方フラスコに入れ、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール（２０ｍＬ）を加えた。−７８℃に冷却の後、アンモニアを約１５０ｍＬ入れ、続いてナトリウムを少しずつ加えた。反応終了後、エタノールを加え反応を停止し、室温にてアンモニアを除去した。リン酸二水素ナトリウムを加え酸性とし、クロロホルムで抽出、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過の後、溶媒をを減圧下留去した。得られた残渣に、酢酸水溶液３２ｍＬ（酢酸：蒸留水＝４：１）を加え、４５分間攪拌の後、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣にエタノールを５０ｍＬ加え、０℃にて２Ｍのトリメチルシリルジアゾメタンを８ｍＬ（１６ｍｍｏｌ）加えた。１時間攪拌後、反応溶液を減圧下濃縮し、得られた残渣にエタノールを５０ｍＬ加えた。０℃にて水素化ホウ素ナトリウムを４５０ｍｇ（１１．９ｍｍｏｌ）加え、反応終了後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。この溶液を減圧下濃縮した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。溶媒を減圧下留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝７：３〜１：１）で精製し、３−（５−ヒドロキシシクロヘキサ−１−エニル）プロピオン酸メチルエステルを７９３ｍｇ（４．３ｍｍｏｌ）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．５０−１．６３（２Ｈ，ｍ），１．７９（１Ｈ，ｍ），１．９９（１Ｈ，ｍ），２．１２（１Ｈ，ｍ），２．２４−２．３１（３Ｈ，ｍ），２．４０−２．４５（２Ｈ，ｍ），３．６７（３Ｈ，ｓ），３．９７（１Ｈ，ｍ），５．４１（１Ｈ，ｂｓ）．
２）前記１）で得た３−（５−ヒドロキシシクロヘキサ−１−エニル）プロピオン酸メチルエステル６０７ｍｇ（３．２９ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液に、イミダゾール４９０ｍｇ（７．２４ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン５５０ｍｇ（３．６２ｍｍｏｌ）を加え、室温にて３時間攪拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチル：ヘキサン＝３：１の混合溶媒で抽出、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過の後、溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、３−［５−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシラニルオキシ）シクロヘキシ−１−エニル］プロピオン酸メチルエステル（ＩＸ−３８）を６７８ｍｇ（２．２７ｍｍｏｌ）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：０．０６（６Ｈ，ｓ），０．８８（９Ｈ，ｓ），１．４６−１．６０（２Ｈ，ｍ），１．７６（１Ｈ，ｍ），１．９６−２．１６（２Ｈ，ｍ），２．２０−２．３１（２Ｈ，ｍ），２．３８−２．４５（３Ｈ，ｍ），３．６６（３Ｈ，ｓ），３．８７（１Ｈ，ｍ），５．３６（１Ｈ，ｂｓ）．
製造例１５
４−（２−オキソエチリデン）ピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−１８、２０、２１、２４、３０、４１、４２、４３、４４、４５）の製造
Figure 2003022801
４−（２−ヒドロキシエチリデン）ピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（１０．４ｇ、４６ｍｍｏｌ）のヘキサン（３００ｍＬ）−クロロホルム（１００ｍＬ）の混合溶液に、二酸化マンガン（１００ｇ）を加え、１０時間攪拌した。反応後、不溶物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮し、４−（２−オキソエチリデン）ピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−１８、２０、２１、２４、３０、４１、４２、４３、４４、４５）を９．２ｇ（収率８９％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：７．９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），５．９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），３．５（４Ｈ，ｍ），２．８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），２．４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），１．５（９Ｈ，ｓ）．
製造例１６
（テトラヒドロチオピラン−４−イリデン）アセトアルデヒド（ＶＩＩ−１７、１２５、１２６）の製造
Figure 2003022801
１）アルゴン気流下、（テトラヒドロチオピラン−４−イリデン）酢酸メチルエステル（４．４ｇ、２５．６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１００ｍＬ）に、−７８℃にて１Ｍ−水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液（５４．０ｍＬ、５３．８ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下後、同温度にて２時間攪拌した。反応後、０℃にてエタノール（１０ｍＬ）を加え徐々に室温まで昇温した。次に反応液を減圧濃縮し、２０％酒石酸ナトリウムカリウム水溶液（３００ｍＬ）を加え３０分間攪拌した。攪拌後、エーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝３：１から５：２）に付し、（テトラヒドロチオピラン−４−イリデン）エタノール２．７ｇ（収率７５％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．４５−２．７１（８Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９），５．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９）．
２）前記１）で得た（テトラヒドロチオピラン−４−イリデン）エタノール（１．０ｇ、６．９ｍｍｏｌ）のヘキサン（３０ｍＬ）−クロロホルム（１０ｍＬ）の混合溶液に、二酸化マンガン（１０ｇ）を加え、１０時間攪拌した。反応後、不溶物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮し、（テトラヒドロチオピラン−４−イリデン）アセトアルデヒド（ＶＩＩ−１７、１２５、１２６）０．７４ｇ（収率７６％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．６２−２．６６（２Ｈ，ｍ），２．８１−２．８５（４Ｈ，ｍ），３．０７−３．１１（２Ｈ，ｍ），５．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），１０．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９）．
製造例１７
４−（２−オキソエチリデン）アゼパン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−１３８、１３９、１４０）の製造
Figure 2003022801
１）窒素気流下、ジエチルホスホノ酢酸エチル（１０２．５ｍＬ、０．５２ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（７６０ｍＬ）に、０℃で２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（９５．５ｍＬ、０．６５ｍｏｌ）を加え、続いて４−オキソパーヒドロアゼピンカルボン酸 ｔ−ブチルエステル（１００．５ｇ、０．４７ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２５０ｍＬ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、残渣に水を加え、エーテルで抽出し、更に水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、４−メトキシカルボニルメチレンアゼパン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル１２４ｇ（収率９８％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４４（９Ｈ，ｓ），１．７５−１．８２（２Ｈ，ｍ），２．３２（１Ｈ，ｍ），２．５１（１Ｈ，ｍ），２．８１（１Ｈ，ｍ），３．０４（１Ｈ，ｍ），３．３５−３．５１（４Ｈ，ｍ），３．６７ ａｎｄ ３．６８（３Ｈ，ｓ×２），５．７１（１Ｈ，ｍ）．
２）アルゴン気流下、前記１）で得た４−メトキシカルボニルメチレンアゼパン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル６８ｇ（０．２５ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（７００ｍＬ）に、−７８℃にて１Ｍ−水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液（８００ｍＬ、０．８０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。滴下後、同温度にて２時間攪拌した。反応後、０℃にてエタノール（４６０ｍＬ）を加え徐々に室温まで昇温した。次に反応液を減圧濃縮し、２０％酒石酸ナトリウムカリウム水溶液（１３００ｍＬ）を加え３０分間攪拌した。攪拌後、エーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝３：１から１：１）に付し、４−（２−ヒドロキシエチリデン）アゼパン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル６１．９ｇ（収率１００％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４４ ａｎｄ １．４５（９Ｈ，ｓ×２），１．６１−１．６８（２Ｈ，ｍ），２．１９−２．２８（３Ｈ，ｍ），２．３６−２．６１（２Ｈ，ｍ），３．３２−３．４８（３Ｈ，ｍ），４．０７−４．１６（２Ｈ，ｍ），５．６０（１Ｈ，ｍ）．
３）前記２）で得た４−（２−ヒドロキシエチリデン）アゼパン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル６１ｇ（０．２５ｍｏｌ）のヘキサン（１８６５ｍＬ）−クロロホルム（６２４ｍＬ）の混合溶液に、二酸化マンガン（５０７ｇ）を加え、１８時間攪拌した。反応後、不溶物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮し、４−（２−オキソエチリデン）アゼパン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−１７、１２５、１２６）を３３．２ｇ（収率５５％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４４（９Ｈ，ｓ），１．６７−１．８２（２Ｈ，ｍ），２．４４（１Ｈ，ｍ），２．６０（１Ｈ，ｍ），２．７９（１Ｈ ｍ），３．０４（１Ｈ，ｍ），３．３８−３．５５（４Ｈ，ｍ），５．９４（１Ｈ，ｍ），１０．０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９）．
製造例１８
３−メチル−４−（２−オキソエチリデン）ピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−６１、６３、６５、６６）の製造
Figure 2003022801
１）窒素気流下、ジエチルホスホノ酢酸エチル（０．４６ｍＬ、２．３１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ）に、０℃で２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（０．４３ｍＬ、２．３１ｍｏｌ）を加え、続いて３−メチル−４−オキソピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル０．４５ｇ（２．１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍＬ）を加え、室温で４時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、残渣に水を加え、エーテルで抽出し、更に水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、４−メトキシカルボニルメチレン−３−メチルピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル０．４７ｇ（収率８２．５％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．１５ ａｎｄ １．１９（３Ｈ，ｄ×２，Ｊ＝６．９），１．４７（９Ｈ，ｓ），１．６６（１Ｈ，ｓ），２．０５（１Ｈ，ｓ），２．４０（１Ｈ，ｍ），２．６９（１Ｈ，ｍ），２．９１（１Ｈ，ｍ），３．３１（１Ｈ，ｍ），３．６９ ａｎｄ ３．７０（３Ｈ，ｓ×２），５．６３ ａｎｄ ５．６９（１Ｈ，ｓ×２）．
２）アルゴン気流下、前記１）で得た４−メトキシカルボニルメチレン−３−メチルピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（１．５ｇ、５．６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３０ｍＬ）に、−７８℃にて１Ｍ−水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液（１３．９ｍＬ、１３．９ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下後、同温度にて２時間攪拌した。反応後、０℃にてエタノール（８ｍＬ）を加え徐々に室温まで昇温した。次に反応液を減圧濃縮し、２０％酒石酸ナトリウムカリウム水溶液（２０ｍＬ）を加え３０分間攪拌した。攪拌後、エーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、４−（２−ヒドロキシエチリデン）−３−メチルピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル１．２ｇ（収率８９．６％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９），１．３２（１Ｈ，ｍ），１．４７（９Ｈ，ｓ），１．６３（１Ｈ，ｓ），２．２８（１Ｈ，ｍ），２．４５（１Ｈ，ｍ），２．８３（１Ｈ，ｍ），３．６０（２Ｈ，ｓ），４．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９）．
３）前記２）で得た４−（２−ヒドロキシエチリデン）−３−メチルピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（１．２ｇ、５．０ｍｍｏｌ）のヘキサン（３０ｍＬ）−クロロホルム（１０４ｍＬ）の混合溶液に、二酸化マンガン（１２ｇ）を加え、１８時間攪拌した。反応後、不溶物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮し、３−メチル−４−（２−オキソエチリデン）ピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−６１、６３、６５、６６）０．８６ｇ（収率７２．３％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．１３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６），１．４８（９Ｈ，ｓ），２．４５（１Ｈ，ｍ），３．０１−３．１７（２Ｈ，ｍ），３．６１−３．８９（４Ｈ，ｍ），５．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），１０．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９）．
製造例１９
４−メトキシカルボニルメチル−３−メチルピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＩＸ−６４）の製造
Figure 2003022801
水素気流下、前記製造例１８の１）で得られた４−メトキシカルボニルメチレン−３−メチルピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（０．４７ｇ、１．７ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（２０ｍＬ）に、１０％パラジウム−炭素０．０３ｇを加え、３気圧で反応した。反応後、触媒を除去し、ろ液を減圧濃縮し、４−メトキシカルボニルメチル−３−メチルピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＩＸ−６４）０．４４ｇ（収率９３．６％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．８６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２），１．４５（９Ｈ，ｓ），１．６５（２Ｈ，ｓ），１．７２（１Ｈ，ｓ），２．１１−２．２６（３Ｈ，ｍ），２．８１（１Ｈ，ｂｒｓ），２．９８（１Ｈ，ｍ），３．６８（３Ｈ，ｓ），３．７６（１Ｈ，ｍ），４．０８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
製造例２０
３，３−ジメチル−４−（２−オキソエチリデン）ピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−１４１、１４２）の製造
Figure 2003022801
１）窒素気流下、ジエチルホスホノ酢酸エチル（４．４ｍＬ、２４．２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５０ｍＬ）に、０℃で２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（４．６ｍＬ、２６．４ｍｍｏｌ）を加え、続いて３，３−ジメチル−４−オキソピペリジン−１−カルボン酸ｔ−ブチルエステル（５．０ｇ、２２．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１０ｍＬ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧濃縮し、残渣に水を加え、エーテルで抽出し、更に水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）に付し、４−メトキシカルボニルメチレン−３，３−ジメチルピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（Ａ）１．８ｇ（収率３２．１％）および４−メトキシカルボニルメチル−３，３−ジメチル−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（Ｂ）３．３ｇ（収率５８．９％）を得た。各々の物性値を以下に示す。
（Ａ）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．１１（６Ｈ，ｓ），１．４８（９Ｈ，ｓ），３．０３−３．０８（２Ｈ，ｍ），３．２２（２Ｈ，ｓ），３．４８−３．５３（２Ｈ，ｍ），３．７０（３Ｈ，ｓ），５．７３（１Ｈ，ｍ）．
（Ｂ）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．００（６Ｈ，ｓ），１．４６（９Ｈ，ｓ），３．００（２Ｈ．ｓ），３．２４（２Ｈ，ｓ），３．６９（３Ｈ，ｓ），３．９３（２Ｈ，ｓ），５．４６（１Ｈ，ｍ）．
２）アルゴン気流下、前記１）で得た４−メトキシカルボニルメチレン−３，３−ジメチルピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（１．８ｇ、６．４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５０ｍＬ）に、−７８℃にて１Ｍ−水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液（１５．９ｍＬ、１５．９ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下後、同温度にて２時間攪拌した。反応後、０℃にてエタノール（１０ｍＬ）を加え徐々に室温まで昇温した。次に反応液を減圧濃縮し、２０％酒石酸ナトリウムカリウム水溶液（５０ｍＬ）を加え３０分間攪拌した。攪拌後、エーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、４−（２−ヒドロキシエチリデン）−３，３−ジメチルピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル０．９５ｇ（収率５８．６％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０７（６Ｈ，ｓ），１．４７（９Ｈ，ｓ），２．３０−２．３４（２Ｈ，ｍ），３．１５（２Ｈ，ｓ），３．４０−３．４４（２Ｈ，ｍ），４．２０−４．２３（２Ｈ，ｍ），５．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６）．
３）前記２）で得た４−（２−ヒドロキシエチリデン）−３，３−ジメチルピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（０．９ｇ、３．５ｍｍｏｌ）のヘキサン（３０ｍＬ）−クロロホルム（１０ｍＬ）の混合溶液に、二酸化マンガン（１０ｇ）を加え、１０時間攪拌した。反応後、不溶物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮し、（３，３−ジメチル−４−（２−オキソエチリデン）ピペリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−１４１、１４２）０．６３ｇ（収率７０．８％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．１５（６Ｈ，ｓ），１．４９（９Ｈ，ｓ），２．８９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９），３．２７（２Ｈ，ｓ），３．５５−３．５７（２Ｈ，ｍ），５．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６），１０．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９）．
製造例２１
３，３−ジメチル−４−（２−オキソエチル）−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−１５２）の製造
Figure 2003022801
１）アルゴン気流下、前記製造例２０の１）で得た４−メトキシカルボニルメチル−３，３−ジメチル−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル１．６ｇ（５．７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（７０ｍＬ）に、−７８℃にて１Ｍ−水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液（１４．０ｍＬ、１４．１ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下後、同温度にて２時間攪拌した。反応後、０℃にてエタノール（１０ｍＬ）を加え徐々に室温まで昇温した。次に反応液を減圧濃縮し、２０％酒石酸ナトリウムカリウム水溶液（５０ｍＬ）を加え３０分間攪拌した。攪拌後、エーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、４−（２−ヒドロキシエチル）−３，３−ジメチル−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル１．１ｇ（収率７６．４％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．０２（６Ｈ，ｓ），１．４７（９Ｈ，ｓ），２．２４−２．３１（２Ｈ，ｍ），３．２２（２Ｈ，ｓ），３．７４−３．７９（２Ｈ，ｍ），３．９１（２Ｈ．ｓ），５．３４（１Ｈ，ｍ）．
２）アルゴン気流下、−７８℃で塩化オキサリル（０．６７ｍＬ、７．５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（５０ｍＬ）に、ジメチルスルホキシド（１．１ｍＬ、１５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（５ｍＬ）を加え、１０分間攪拌後、４−（２−ヒドロキシエチル）−３，３−ジメチル−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（０．９６ｇ、３．７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（５ｍＬ）を加え、−７８℃で１５分間、−４０℃で４５分間攪拌した。反応後、トリエチルアミン（３．７ｍＬ、２６．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、濾過し濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１から７：１）に付し、３，３−ジメチル−４−（２−オキソエチル）−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリジン−１−カルボン酸 ｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−１５２）０．３９ｇ（収率４１．１％）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．９９（６Ｈ，ｓ），１．４７（９Ｈ，ｓ），３．０４（２Ｈ，ｓ），３．２７（２Ｈ，ｓ），３．９６（２Ｈ，ｂｒｓ），５．４３（１Ｈ，ｍ），９．６４（１Ｈ，ｍ）．
製造例２２
３−［４−メトキシ−２，３−ジメチルフェニル］プロピオン酸メチルエステル（ＩＸ−１４５）の製造
Figure 2003022801
１）４−メトキシ−２，３−ジメチルベンズアルデヒドを原料として、製造例１７の１）と同様な方法により、３−（４−メトキシ−２，３−ジメチルフェニル）アクリル酸メチルエステルを得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．１８（３Ｈ，ｓ），２．３４（３Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），６．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．８），６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．８）．
２）前記１）で得た３−（４−メトキシ−２，３−ジメチルフェニル）アクリル酸メチルエステルを原料として、製造例１３と同様な方法により３−［４−メトキシ−２，３−ジメチルフェニル］プロピオン酸メチルエステル（ＩＸ−１４５）を得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：２．１８（３Ｈ，ｓ），２．３４（３Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），６．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．８），６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．８）．
製造例２３
４−（２−オキソプロピリデン）ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−１６３、１６４）の製造
Figure 2003022801
１）４−メトキシカルボニルメチレンピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル３．０２ｇ（１１．８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍＬ）溶液に、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１５ｍＬ）を加え、２時間攪拌後さらに１Ｍ−水酸化ナトリウム溶液（１０ｍＬ）を加え、１８時間攪拌した。反応終了後、１Ｍ−塩酸を加えて中和し、溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧下留去し、４−カルボキシメチレンピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルを２．７８ｇ得た。この４−カルボキシメチレンピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル２．７８ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３５ｍＬ）溶液にＮ−メチルモルホリン３．８ｍＬ（３４．６ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール２．３４ｇ（１７．３ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２．６５ｇ（１３．８ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩１．３５ｇ（１３．８ｍｍｏｌ）を加え、約２０時間攪拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で２回洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝３：２〜１：１）で精製し、４−［（メトキシメチルカルバモイル）メチレン］ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルを１．９９ｇ（７．００ｍｍｏｌ）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．４７（９Ｈ，ｓ），２．３０（２Ｈ，ｍ），２．９０（２Ｈ，ｍ），３．２１（３Ｈ，ｓ），３．４９（４Ｈ，ｍ），３．６９（３Ｈ，ｓ），６．１６（１Ｈ，ｓ）．
２）前記１）で得た４−［（メトキシメチルカルバモイル）メチレン］ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル１．９９ｇ（７．００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２３ｍＬ）に、３Ｍのメチルマグネシウムブロミドのエーテル溶液３．５ｍＬ（１０．５ｍｍｏｌ）を−７８℃で滴下した。さらにメチルマグネシウムブロミドのエーテル溶液１０．５ｍＬ（３１．５ｍｍｏｌ）を滴下し、１時間攪拌した。その後、−２０℃で３時間、０℃で１時間攪拌した。飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過の後、溶媒を減圧下留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝２：１〜１：１）で精製し、４−（２−オキソプロピリデン）ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル（ＶＩＩ−１６３、１６４）を０．７９ｇ（３．２９ｍｍｏｌ）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：１．４７（９Ｈ，ｓ），２．２０（３Ｈ，ｓ），２．２６（２Ｈ，ｍ），２．９０（２Ｈ，ｍ），３．４３−３．５４（４Ｈ，ｍ），６．０９（１Ｈ，ｓ）
製造例２４
４−クロロメチル−８−フルオロ−２−メチルキノリン塩酸塩（ＸＩＩ−１２４）の製造
Figure 2003022801
１）８−フルオロ−２−メチルキノリン２．７０ｇ（１６．８ｍｍｏｌ）およびペルオキソ二硫酸アンモニウム７．７０ｇ（３３．７ｍｍｏｌ）のメタノール（３５ｍＬ）−水（２５ｍＬ）混合溶液に、濃硫酸（１．２ｍＬ）を加え１５時間加熱還流した。反応液を放冷した後メタノールを減圧下で留去した。残渣に炭酸ナトリウムを加えｐＨ１０に調整した後、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をエーテルで洗浄し、（８−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イル）メタノールを１．０３ｇ（収率３２％）得た。物性値を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：２．５０（１Ｈ，ｔ，ｄ＝１．７），２．６８（３Ｈ，ｓ），４．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０），５．６１（１Ｈ，ｍ），７．４５−７．６０（３Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｍ）．
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ １９２；実測値１９２．
２）前記１）で得た（８−フルオロ−２−メチルキノリン−４−イル）メタノール１．００ｇ（５．２３ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１２ｍＬ）溶液に、０℃で塩化チオニル０．７５ｍＬ（１０．４ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１５時間攪拌した。反応液を減圧下で留去した後、残渣を酢酸エチルで洗浄し、４−クロロメチル−８−フルオロ−２−メチルキノリン塩酸塩（ＸＩＩ−１２４）を１．２９ｇ（収率１００％）得た。物性値を以下に示す。
ＦＡＢ−ＭＳ：計算値Ｍ＋＋１ ２１０；実測値２１０．
試験例１
ＴＡＣＥ阻害実験（インビトロ）
ＴＡＣＥの塩基配列はモス（Ｍｏｓｓ）らにより報告されている（Ｍｏｓｓ，Ｍ．Ｌ．ｅｔ ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ １９９７，３８５，７３３−７３６）。したがって、ＴＨＰ−１細胞などから定法にしたがってＴＡＣＥのｃＤＮＡを取得し、これを発現ベクターに組み込み、次いでこのベクターを哺乳動物細胞あるいは昆虫細胞に形質転換し、ＴＡＣＥを発現取得した。
ＴＡＣＥ阻害実験は、前記のようにして得られたＴＡＣＥを酵素として用い、また基質としては、膜結合型ＴＮＦのＴＡＣＥ切断配列を含んだ蛍光合成基質Ｎｍａ（Ｎ−メチルアントラニル酸）−Ｌｅｕ−Ａｌａ−Ｇｌｎ−Ａｌａ−Ｖａｌ−Ａｒｇ−Ｓｅｒ−Ｓｅｒ−Ｌｙｓ−Ｄｎｐ（ジニトロフェニル）−Ｄ−Ａｒｇ−ＨＨ２を用いて、被験物質存在下または非存在下におけるＴＡＣＥの活性を測定することにより行なった。以下にＴＡＣＥ阻害実験の方法を示した。
すなわち、アッセイバッファーＡ（２００ｍＭ 塩化ナトリウム、５ｍＭ 塩化カルシウム、１０μＭ 硫酸亜鉛、０．００４％ アジ化ナトリウム、２ｍｇ／ｍＬ 牛血清アルブミンを含む、５０ｍＭ トリス−塩酸緩衝液（ｐＨ７．５））にて調整した１４ｕｎｉｔｓの酵素液（２５℃の条件下で１ｐｍｏｌの基質を１分間で分解する酵素量を１ｕｎｉｔと定義した）９０μＬ、およびアッセイバッファーＢ（２００ｍＭ 塩化ナトリウム、５ｍＭ 塩化カルシウム、１０μＭ 硫酸亜鉛、０．００４％アジ化ナトリウム、０．０５％ＰＬＵＲＯＮＩＣ Ｆ−６８を含む、５０ｍＭ トリス−塩酸緩衝液（ｐＨ７．５））にて２０μＭに調製した蛍光合成基質９０μＬを混合し、３７℃で２時間反応させた。この後、蛍光強度計（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ、Ｃｙｔｏｐｌａｔｅ２３５０）にて、励起波長３６０ｎｍ、測定波長４６０ｎｍの条件で測定し、酵素活性を求めた。
被験化合物の存在下および非存在下の酵素活性より阻害率を求め、５０％抑制濃度（ＩＣ５０）を算出した。
試験例２
ＭＭＰ阻害実験
ＭＭＰ阻害実験は、たとえばビケット（Ｂｉｃｋｅｔｔ）ら（Ｄ．Ｍａｒｋ Ｂｉｃｋｅｔｔ ｅｔ ａｌ．，Ａｎａｌ．Ｂｉｏｃｈｅｍ．，１９９３，２１２，５８−６４）およびナガセ（Ｎａｇａｓｅ）ら（Ｈ．Ｎａｇａｓｅ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９９４，２６９，２０９５２−２０９５７）の方法に準じて、蛍光合成基質を用いて行なうことができる。以下に各ＭＭＰの阻害実験の方法を示した。
ＭＭＰ１阻害実験
ヒトＭＭＰ１（Ｃａｌｂｉｏｃｈｅｍ＃４４４２０８）９０μＬ（１００ｎｇ）は、１０ｍＭのｐ−アミノフェニル水銀アセテート（ＡＰＭＡ）１０μＬと混和し、３７℃で１時間反応させることによって活性化した。この酵素液１０μＬをアッセイバッファーＡにて９０μＬに希釈し、これをアッセイバッファーＢにて調製した２０μＭの蛍光基質（Ｄｎｐ−Ｐｒｏ−Ｃｈａ（β−シクロヘキシルアラニル）−Ｇｌｙ−Ｃｙｓ（Ｍｅ）−Ｈｉｓ−Ａｌａ−Ｌｙｓ（Ｎｍａ）−ＮＨ２）９０μＬに添加して、３７℃で５時間反応させた。この後、蛍光強度計（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ、Ｃｙｔｏｐｌａｔｅ２３５０）にて、励起波長３６０ｎｍ、測定波長４６０ｎｍの条件で測定し、酵素活性を求めた。
被験化合物の存在下および非存在下の酵素活性より阻害率を求め、５０％抑制濃度（ＩＣ５０）を算出した。
ＭＭＰ２阻害実験
ヒトＭＭＰ２（Ｃａｌｂｉｏｃｈｅｍ＃４４４２１３）９０μＬ（５ｎｇ）は、１０ｍＭのＡＰＭＡ１０μＬと混和し、３７℃で１時間反応させることによって活性化した。この酵素液１０μＬをアッセイバッファーＡにて９０μＬに希釈し、これをアッセイバッファーＢにて調製した２０μＭの蛍光基質（ＭＯＣＡｃ（（７−ｍｅｔｈｏｘｙｃｏｕｍａｒｉｎ−４−ｙｌ）ａｃｅｔｙｌ）−Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−Ｌｅｕ−Ａ２ｐｒ（Ｄｎｐ）−Ａｌａ−Ａｒｇ−ＮＨ２、ペプチド研究所＃３１６３−ｖ）９０μＬに添加して、３７℃で５時間反応させた。この後、蛍光強度計（Ｌａｂｓｙｓｔｅｍｓ、Ｆｌｕｏｒｏｓｋａｎ Ａｓｃｅｎｔ）にて、励起波長３２０ｎｍ、測定波長４０５ｎｍの条件で測定し、酵素活性を求めた。
被験化合物の存在下および非存在下の酵素活性より阻害率を求め、５０％抑制濃度（ＩＣ５０）を算出した。
ＭＭＰ３阻害実験
アッセイバッファーＡにて調製したヒトＭＭＰ３（Ｃａｌｂｉｏｃｈｅｍ＃４４４２１７）９０μＬ（５ｎｇ）を、アッセイバッファーＢにて調製した２０μＭの蛍光基質ＮＦＦ−３（ＭＯＣＡｃ−Ａｒｇ−Ｐｒｏ−Ｌｙｓ−Ｐｒｏ−Ｖａｌ−Ｇｌｕ−Ｎｖａ−Ｔｒｐ−Ａｒｇ−Ｌｙｓ（Ｄｎｐ）−ＮＨ２、ペプチド研究所＃３１６８−ｖ）９０μＬに添加して、３７℃で５時間反応させた。この後、蛍光強度計（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ、Ｃｙｔｏｐｌａｔｅ２３５０、励起波長３６０ｎｍ、測定波長４６０ｎｍ：またはＬａｂｓｙｓｔｅｍｓ、Ｆｌｕｏｒｏｓｋａｎ Ａｓｃｅｎｔ、励起波長３２０ｎｍ、測定波長４０５ｎｍ）にて測定し、酵素活性を求めた。
被験化合物の存在下および非存在下の酵素活性より阻害率を求め、５０％抑制濃度（ＩＣ５０）を算出した。
ＭＭＰ８阻害実験
ヒトＭＭＰ８（Ｃａｌｂｉｏｃｈｅｍ＃４４４２２９）９０μＬ（３０ｎｇ）は、１０ｍＭのＡＰＭＡ１０μＬと混和し、３７℃で１時間反応させることによって活性化した。この酵素液１０μＬをアッセイバッファーＡにて９０μＬに希釈し、これをアッセイバッファーＢにて調製した２０μＭの蛍光基質（ＭＯＣＡｃ−Ｐｒｏ−Ｌｅｕ−Ｇｌｙ−Ｌｅｕ−Ａ２ｐｒ（Ｄｎｐ）−Ａｌａ−Ａｒｇ−ＮＨ２、ペプチド研究所＃３１６３−ｖ）９０μＬに添加して、３７℃で５時間反応させた。この後、蛍光強度計（Ｌａｂｓｙｓｔｅｍｓ、Ｆｌｕｏｒｏｓｋａｎ Ａｓｃｅｎｔ）にて、励起波長３２０ｎｍ、測定波長４０５ｎｍの条件で測定し、酵素活性を求めた。
被験化合物の存在下および非存在下の酵素活性より阻害率を求め、５０％抑制濃度（ＩＣ５０）を算出した。
ＭＭＰ９阻害実験
ヒトＭＭＰ９（Ｃａｌｂｉｏｃｈｅｍ＃４４４２３１）９０μＬ（８０ｎｇ）は、１０ｍＭのＡＰＭＡ１０μＬと混和し、３７℃で２時間反応させることによって活性化した。この酵素液１μＬをアッセイバッファーＡにて９０μＬに希釈し、これをアッセイバッファーＢにて調製した２０μＭの蛍光基質（Ｄｎｐ−Ｐｒｏ−Ｃｈａ−Ｇｌｙ−Ｃｙｓ（Ｍｅ）−Ｈｉｓ−Ａｌａ−Ｌｙｓ（Ｎｍａ）−ＮＨ２）９０μＬに添加して、３７℃で４時間反応させた。この後、蛍光強度計（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ、Ｃｙｔｏｐｌａｔｅ２３５０）にて、励起波長３６０ｎｍ、測定波長４６０ｎｍの条件で測定し、酵素活性を求めた。
被験化合物の存在下および非存在下の酵素活性より阻害率を求め、５０％抑制濃度（ＩＣ５０）を算出した。
ＭＭＰ１３阻害実験
ヒトＭＭＰ１３（Ｃｈｅｍｉｃｏｎ＃ＣＣ０６８）９０μＬ（２００ｎｇ）は、１０ｍＭのＡＰＭＡ１０μＬと混和し、３７℃で１時間反応させることによって活性化した。この酵素液０．６μＬをアッセイバッファーＡにて９０μＬに希釈し、これをアッセイバッファーＢにて調製した２０μＭの蛍光基質（Ｄｎｐ−Ｐｒｏ−Ｃｈａ−Ｇｌｙ−Ｃｙｓ（Ｍｅ）−Ｈｉｓ−Ａｌａ−Ｌｙｓ（Ｎｍａ）−ＮＨ２）９０μＬに添加して、３７℃で４時間反応させた。この後、蛍光強度計（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ、Ｃｙｔｏｐｌａｔｅ２３５０）にて、励起波長３６０ｎｍ、測定波長４６０ｎｍの条件で測定し、酵素活性を求めた。
被験化合物の存在下および非存在下の酵素活性より阻害率を求め、５０％抑制濃度（ＩＣ５０）を算出した。
ＭＭＰ１４阻害実験
アッセイバッファーＡにて調製したヒトＭＭＰ１４（Ｂｉｏｇｅｎｅｓｉｓ＃５９８０−１４６１またはＣａｌｂｉｏｃｈｅｍ＃４７５９３５）９０μＬ（４ｎｇ）を、アッセイバッファーＢにて調製した２０μＭの蛍光基質（Ｄｎｐ−Ｐｒｏ−Ｃｈａ−Ｇｌｙ−Ｃｙｓ（Ｍｅ）−Ｈｉｓ−Ａｌａ−Ｌｙｓ（Ｎｍａ）−ＮＨ２）９０μＬに添加して、３７℃で５時間反応させた。この後、蛍光強度計（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ、Ｃｙｔｏｐｌａｔｅ２３５０）にて、励起波長３６０ｎｍ、測定波長４６０ｎｍの条件で測定し、酵素活性を求めた。
被験化合物の存在下および非存在下の酵素活性より阻害率を求め、５０％抑制濃度（ＩＣ５０）を算出した。
ＭＭＰ１７阻害実験
アッセイバッファーＡにて調製したヒトＭＭＰ１７（Ｃａｌｂｉｏｃｈｅｍ＃４７５９４０）９０μＬ（１０ｎｇ）を、アッセイバッファーＢにて調製した２０μＭの蛍光基質（Ｄｎｐ−Ｐｒｏ−Ｃｈａ−Ｇｌｙ−Ｃｙｓ（Ｍｅ）−Ｈｉｓ−Ａｌａ−Ｌｙｓ（Ｎｍａ）−ＮＨ２）９０μＬに添加して、２５℃で５時間反応させた。この後、蛍光強度計（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ、Ｃｙｔｏｐｌａｔｅ２３５０）にて、励起波長３６０ｎｍ、測定波長４６０ｎｍの条件で測定し、酵素活性を求めた。
被験化合物の存在下および非存在下の酵素活性より阻害率を求め、５０％抑制濃度（ＩＣ５０）を算出した。
本試験により得られた本発明のリバースヒドロキサム酸誘導体Ｉの５０％阻害濃度を表４１に示す。また、比較の目的で対照化合物の５０％阻害濃度も表４１に示す。
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
Figure 2003022801
対照化合物１（国際公開第９９／５８５３１号パンフレット収載化合物）
（Ｓ）−４−［［（２，６−ジメチル−４−ピリジニル）メトキシ］フェニル］スホニル］−Ｎ−ヒドロキシ−２，２−ジメチル−３−チオモルホリンカルボキシアミド
対照化合物２（国際公開第００／０９４９２号パンフレット収載化合物）
（２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ）−４−［４−（４−フルオロベンジルオキシ）ベンゼンスルホニル］−６−ヒドロキシメチル−２−メチルモルホリン−３−カルボン酸ヒドロキシアミド
対照化合物３（国際公開９８／３８１７９号パンフレット収載化合物）
（２Ｒ，３Ｓ）−３−（ホルミルヒドロキシアミノ）−２−（２−メチル−１−プロピル）−４−メチルペンタン酸［（１Ｓ，２Ｓ）−２−メチル−１−（ピリジン−２−イルカルバモイル）−１−ブチル］アミド
前記の対照化合物１〜３は、各々が収載されている特許に記されている方法に準じて合成した。
試験例３
インビボでのＴＮＦ−α産生（遊離）抑制実験
雄性Ｌｅｗｉｓラット（体重約２５０ｇ、８週齢前後、一群４匹）を試験動物として使用した。大腸菌由来リポポリサッカライド（ＬＰＳ）（ＳＩＧＭＡ社製）を生理食塩水に溶解してＬＰＳ溶液（１ｍｇ／ｍＬ）を調製した。被験化合物（Ｉ−２、Ｉ−９およびＩ−２４）はそれぞれ５％ＤＭＳＯ−生理食塩水に溶解し、被験化合物調製液とした。
ラットにＬＰＳ溶液（１ｍＬ／ｋｇ）を静脈内投与し、その３０分後に被験化合物調製液（５ｍＬ／ｋｇ、３ｍｇ／ｋｇ被験化合物を含む）を皮下投与した。ＬＰＳ投与９０分後に尾静脈より採血し、これを４℃、３０００ｒｐｍで１０分間遠心分離し、血漿を得た。この血漿中のＴＮＦ−α濃度をラットＴＮＦ−α特異的ＥＬＩＳＡキットにより測定した。
被験化合物のＴＮＦ−α産生（遊離）抑制率は、下記の式により算出した。
抑制率（％）＝（Ａ−Ｂ）／Ａ×１００
Ａ：被験化合物非投与群の血漿中ＴＮＦ−α濃度
Ｂ：被験化合物投与群の血漿中ＴＮＦ−α濃度
＜結果＞
表４２に被験化合物３ｍｇ／ｋｇ皮下投与によるＴＮＦ−αの産生（遊離）抑制率（％）を示した。
Figure 2003022801
産業上の利用可能性
本発明のリバースヒドロキサム酸誘導体ＩおよびＩａは、優れた選択的ＴＡＣＥ阻害作用を示し、ＴＮＦ−αが関連する疾患の治療および予防用医薬として有用である。

Claims (4)

  1. 一般式（Ｉａ）：
    Figure 2003022801
    ［式中、Ａは、水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基または−ＮＲ３Ｒ４（式中、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ３およびＲ４が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）；Ａｒ１は、アリーレンまたはヘテロアリーレン；Ａｒ２は、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいヘテロアリール基または置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基；Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルケニル基、置換されていてもよいシクロアルキル基；Ｒ２ａは、一般式（ａ）：
    Figure 2003022801
    （式中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基；Ｒ６８およびＲ６９はそれぞれ独立して水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基；Ｘ１およびＹ１は、それぞれ独立して単結合、酸素、硫黄、−ＣＲ７Ｒ８−（式中、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立してＲ５と同じ）または−ＮＲ９−（式中、Ｒ９は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基）；Ｚ１は、酸素、硫黄、＝ＣＲ１０Ｒ１１（式中、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ１２Ｒ１３（式中、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基またはＲ１２およびＲ１３が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、−ＣＯＲ１４（式中、Ｒ１４は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいヘテロアリール基または置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基））、＝ＮＲ１５（式中、Ｒ１５は、水素原子、水酸基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基または置換されていてもよいアシル基）、−Ｏ（ＣＨ２）ｐ１Ｏ−（式中、ｐ１は、２〜４の整数）、−Ｓ（ＣＨ２）ｒ１Ｓ−（式中、ｒ１は、２〜４の整数）または−Ｏ（ＣＨ２）ｔ１Ｓ−（式中、ｔ１は、２〜４の整数）；ｍ１は、０〜６の整数；ｎ１およびｑ１は、それぞれ独立して０〜３の整数；ｖ１は０または１）、一般式（ｂ）：
    Figure 2003022801
    （式中、Ｒ１６は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基；Ｒ１７は、水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい低級アルキル基；Ｒ７０およびＲ７１はそれぞれ独立して水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基；Ｘ２およびＹ２は、それぞれ独立して単結合、酸素、硫黄、−ＣＲ１８Ｒ１９−（式中、Ｒ１８は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基、Ｒ１９は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、置換されていてもよいアシル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ２０Ｒ２１（式中、Ｒ２０およびＲ２１は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ２０およびＲ２１が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、−ＳＯ２Ｒ２２（式中、Ｒ２２は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基）、−ＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、ホルミル基、置換されていてもよいアシル基、低級アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル基、−ＣＯＮＲ２５Ｒ２６（式中、Ｒ２５およびＲ２６は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ２５およびＲ２６が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、シクロアルキル基またはＲ２３およびＲ２４が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、または−ＯＣＯＲ２７（式中、Ｒ２７は、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基または−ＮＲ２８Ｒ２９（式中、Ｒ２８およびＲ２９は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ２８およびＲ２９が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）））または−ＮＲ３０−（式中、Ｒ３０は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基、−ＣＯＲ３１（式中、Ｒ３１は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基）または−ＣＯＮＲ３２Ｒ３３（式中、Ｒ３２およびＲ３３は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ３２およびＲ３３が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成））；Ｚ２は、２個の水素原子、酸素、硫黄、＝ＣＲ３４Ｒ３５（式中、Ｒ３４およびＲ３５は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、または置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアシル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ３６Ｒ３７（式中、Ｒ３６およびＲ３７は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ３６およびＲ３７が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成））、＝ＮＲ３８（式中、Ｒ３８は、水素原子、水酸基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基または置換されていてもよいアシル基）、−Ｏ（ＣＨ２）ｐ２Ｏ−（式中、ｐ２は、２〜４の整数）、−Ｓ（ＣＨ２）ｒ２Ｓ−（式中、ｒ２は、２〜４の整数）または−Ｏ（ＣＨ２）ｔ２Ｓ−（式中、ｔ２は、２〜４の整数）；ｍ２は、０〜６の整数；ｎ２およびｑ２は、それぞれ独立して０〜３の整数；ｖ２は０または１）、一般式（ｃ）：
    Figure 2003022801
    （式中、Ｇ１は、任意の位置で１〜４個のそれぞれ独立したＲ３９で置換されていてもよい不飽和の４〜７員環；Ｒ３９は、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、置換されていてもよいアシル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ４０Ｒ４１（式中、Ｒ４０およびＲ４１は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ４０およびＲ４１が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、−ＳＯ２Ｒ４２（式中、Ｒ４２は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基）、−ＮＲ４３Ｒ４４（式中、Ｒ４３およびＲ４４は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、ホルミル基、置換されていてもよいアシル基、低級アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル基、−ＣＯＮＲ４５Ｒ４６（式中、Ｒ４５およびＲ４６は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ４５およびＲ４６が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、シクロアルキル基、またはＲ４３およびＲ４４が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、または−ＯＣＯＲ４７（式中、Ｒ４７は、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基または−ＮＲ４８Ｒ４９（式中、Ｒ４８およびＲ４９は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ４８およびＲ４９が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成））；ｍ３は、０〜６の整数）、一般式（ｄａ）
    Figure 2003022801
    （式中、Ｇ２ａは、任意の位置で１個のＲ５０が置換した、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいシクロアルキル基または置換されていてもよいヘテロシクロアルキル基（Ｒ５０は、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルケニル基）；ｍ４は、０〜６の整数）、または一般式（ｅ）：
    Figure 2003022801
    （式中、Ｒ５１は、−ＣＲ７２＝ＣＲ７３−、−Ｃ≡Ｃ−または−ＣＲ７４Ｒ７５−ＣＲ７６Ｒ７７−（式中、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６およびＲ７７は、それぞれ独立して水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基）；Ｒ５２は、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキルアルキル基、置換されていてもよいヘテロシクロアルキル基、置換されていてもよいヘテロシクロアルケニル基、置換されていてもよいヘテロシクロアルキルアルキル基または置換されていてもよいヘテロシクロアルケニルアルキル基；ｍ５は、０〜６の整数）、または一般式（ｆ）：
    Figure 2003022801
    （式中、Ｒ６、Ｒ６８、Ｒ６９、Ｘ１、Ｚ１、ｎ１、ｑ１およびｖ１は前記と同じ；ｍ６は、１〜６の整数）］
    で表されるリバースヒドロキサム酸誘導体またはその塩。
  2. 請求の範囲第１項に記載のリバースヒドロキサム酸誘導体またはその塩を有効成分として含有する医薬。
  3. 一般式（Ｉ）：
    Figure 2003022801
    ［式中、Ａは、水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基または−ＮＲ３Ｒ４（式中、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ３およびＲ４が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）；Ａｒ１は、アリーレンまたはヘテロアリーレン；Ａｒ２は、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいヘテロアリール基または置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基；Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルケニル基、置換されていてもよいシクロアルキル基；Ｒ２は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、一般式（ａ）：
    Figure 2003022801
    （式中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基；Ｒ６８およびＲ６９はそれぞれ独立して水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基；Ｘ１およびＹ１は、それぞれ独立して単結合、酸素、硫黄、−ＣＲ７Ｒ８−（式中、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立してＲ５と同じ）または−ＮＲ９−（式中、Ｒ９は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基）；Ｚ１は、酸素、硫黄、＝ＣＲ１０Ｒ１１（式中、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ１２Ｒ１３（式中、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基またはＲ１２およびＲ１３が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、−ＣＯＲ１４（式中、Ｒ１４は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいヘテロアリール基または置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基））、＝ＮＲ１５（式中、Ｒ１５は、水素原子、水酸基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基または置換されていてもよいアシル基）、−Ｏ（ＣＨ２）ｐ１Ｏ−（式中、ｐ１は、２〜４の整数）、−Ｓ（ＣＨ２）ｒ１Ｓ−（式中、ｒ１は、２〜４の整数）または−Ｏ（ＣＨ２）ｔ１Ｓ−（式中、ｔ１は、２〜４の整数）；ｍ１は、０〜６の整数；ｎ１およびｑ１は、それぞれ独立して０〜３の整数；ｖ１は０または１）、一般式（ｂ）：
    Figure 2003022801
    （式中、Ｒ１６は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基；Ｒ１７は、水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい低級アルキル基；Ｒ７０およびＲ７１はそれぞれ独立して水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基；Ｘ２およびＹ２は、それぞれ独立して単結合、酸素、硫黄、−ＣＲ１８Ｒ１９−（式中、Ｒ１８は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基、Ｒ１９は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、置換されていてもよいアシル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ２０Ｒ２１（式中、Ｒ２０およびＲ２１は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ２０およびＲ２１が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、−ＳＯ２Ｒ２２（式中、Ｒ２２は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基）、−ＮＲ２３Ｒ２４（式中、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、ホルミル基、置換されていてもよいアシル基、低級アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル基、−ＣＯＮＲ２５Ｒ２６（式中、Ｒ２５およびＲ２６は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ２５およびＲ２６が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、シクロアルキル基またはＲ２３およびＲ２４が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、または−ＯＣＯＲ２７（式中、Ｒ２７は、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基または−ＮＲ２８Ｒ２９（式中、Ｒ２８およびＲ２９は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ２８およびＲ２９が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）））または−ＮＲ３０−（式中、Ｒ３０は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基、−ＣＯＲ３１（式中、Ｒ３１は、水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルコキシ基）または−ＣＯＮＲ３２Ｒ３３（式中、Ｒ３２およびＲ３３は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ３２およびＲ３３が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成））；Ｚ２は、２個の水素原子、酸素、硫黄、＝ＣＲ３４Ｒ３５（式中、Ｒ３４およびＲ３５は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、または置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアシル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ３６Ｒ３７（式中、Ｒ３６およびＲ３７は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ３６およびＲ３７が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成））、＝ＮＲ３８（式中、Ｒ３８は、水素原子、水酸基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基または置換されていてもよいアシル基）、−Ｏ（ＣＨ２）ｐ２Ｏ−（式中、ｐ２は、２〜４の整数）、−Ｓ（ＣＨ２）ｒ２Ｓ−（式中、ｒ２は、２〜４の整数）または−Ｏ（ＣＨ２）ｔ２Ｓ−（式中、ｔ２は、２〜４の整数）；ｍ２は、０〜６の整数；ｎ２およびｑ２は、それぞれ独立して０〜３の整数；ｖ２は０または１）、一般式（ｃ）：
    Figure 2003022801
    （式中、Ｇ１は、任意の位置で１〜４個のそれぞれ独立したＲ３９で置換されていてもよい不飽和の４〜７員環；Ｒ３９は、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルコキシ基、置換されていてもよいアシル基、カルボキシル基、−ＣＯＮＲ４０Ｒ４１（式中、Ｒ４０およびＲ４１は、それぞれ独立して水素原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、またはＲ４０およびＲ４１が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、−ＳＯ２Ｒ４２（式中、Ｒ４２は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいヘテロアリール基）、−ＮＲ４３Ｒ４４（式中、Ｒ４３およびＲ４４は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、ホルミル基、置換されていてもよいアシル基、低級アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアリールスルホニル基、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル基、−ＣＯＮＲ４５Ｒ４６（式中、Ｒ４５およびＲ４６は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ４５およびＲ４６が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、シクロアルキル基、またはＲ４３およびＲ４４が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成）、または−ＯＣＯＲ４７（式中、Ｒ４７は、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基または−ＮＲ４８Ｒ４９（式中、Ｒ４８およびＲ４９は、それぞれ独立して水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基またはＲ４８およびＲ４９が結合している窒素と一緒になって含窒素複素環を形成））；ｍ３は、０〜６の整数）、一般式（ｄ）：
    Figure 2003022801
    （式中、Ｇ２は、Ｒ５０で置換されていてもよい、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいシクロアルキル基または置換されていてもよいヘテロシクロアルキル基（Ｒ５０は、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよい低級アルケニル基）；ｍ４は、０〜６の整数）、または一般式（ｅ）：
    Figure 2003022801
    （式中、Ｒ５１は、−ＣＲ７２＝ＣＲ７３−、−Ｃ≡Ｃ−または−ＣＲ７４Ｒ７５−ＣＲ７６Ｒ７７−（式中、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６およびＲ７７は、それぞれ独立して水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基）；Ｒ５２は、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキルアルキル基、置換されていてもよいヘテロシクロアルキル基、置換されていてもよいヘテロシクロアルケニル基、置換されていてもよいヘテロシクロアルキルアルキル基または置換されていてもよいヘテロシクロアルケニルアルキル基；ｍ５は、０〜６の整数）、または一般式（ｆ）：
    Figure 2003022801
    （式中、Ｒ６、Ｒ６８、Ｒ６９、Ｘ１、Ｚ１、ｎ１、ｑ１およびｖ１は前記と同じ；ｍ６は、１〜６の整数）］で表されるリバースヒドロキサム酸誘導体またはその塩を有効成分として含有する腫瘍壊死因子−α変換酵素阻害剤。
  4. 治療が必要な患者に有効量の請求の範囲第３項記載のリバースヒドロキサム酸誘導体またはその塩を投与することからなる、ＴＮＦ−αに起因する病態の治療方法。
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