JPS647383B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明はゼログラフイー（xerography）に関
し、またより特定的には一つの支持体から他の支
持体へとゼログラフイートナー像を転写するため
のバイアス転写ロールならびにベルトを製造する
方法に関する。 従来的なゼログラフイーにおいては、導電性裏
打材上におかれた光導電性被覆からなる感光プレ
ート（plate）が均一に荷電され、次いでこの荷
電したプレートが原画の光像に露出される。光像
の影響下で、プレート上の電荷が選択的に消散
し、静電的潜像の形で原画の入力情報がプレート
上に記録される。逆に荷電したトナー粒子をそれ
が像領域に吸引されるようにプレートに施すこと
により潜像が現像ないしは可視化される。現像さ
れた像は一般に光導電体から最終的な支持材料例
えば紙またはこれに類するものに転写され、かつ
これに固定されて原画の永久的記録がつくられ
る。 光導電体から最終的支持体材料への像の転写は
コロナ発生器を用いてコロナ誘導により達成する
ことができ、あるいはバイアス転写部材（ロール
またはベルト）と称される、ある電位にバイアス
されたローラーまたはベルト電極により達成する
ことができる。コロトロン（corotron）装置は比
較的簡単であるが、コロトロンにより与えられる
電荷は紙のごとき最終的支持材料へのトナーの転
移（transfer）を行うために所望な電場を発生す
るほかに、この支持材料を光導電体のごとき原画
トナー支持体に静電的に附着させる。紙と原画ト
ナー支持体との間の強い吸引力のためこれら二つ
の支持体を機械的に分離ないし脱着することが困
難になる。 バイアス転写部材により光導電体から最終的支
持材料に現像された像を転写することは現在技術
上周知であり、またこのような部材ではコロナ誘
導装置を利用する時遭遇する著しい附着の問題が
一般に回避される。バイアス転写部材は技術上周
知である。バイアス転写ロールは米国特許第
2807233号中にフイツチ（Fitch）により開示され
ており、同特許においては約10⁶ないし10⁸オーム
センチメートルのの抵抗率を有する弾性被覆で被
覆された金属ロールがバイアス転写部材として用
いられる。米国特許第3520604号においてシエル
フオ（Shelffo）は複写方法のための適切な環境
をつくるために、転写ロールを用いることおよび
これを約10¹¹ないし約10¹⁶オームセンチメートル
の範囲の抵抗率をもつ導電性ゴムからつくること
を示唆している。バイアス転写部材、つまり導電
性支持体表面電気的と協同して、荷電粒子を支持
体表面からその部材へと電気的に吸引するための
部材が米国特許第3702482号中にドルチマスコロ
（Dolcimascolo）によつて記載されている。ドル
チマスコロおよびその他の特許においては、バイ
アス転写部材はバイアス電位を保持するための導
電性基材、この基材上のバイアス電位をブランケ
ツト（blanket）の外縁に容易に伝達することの
できる電気抵抗率を有する基材と接触しておかれ
る中間層ブランケツトおよび、転写された部材が
像支持表面と電気的協同関係におかれかつ装置か
らトナーが除去されるのを可能にする良好なトナ
ー離脱特性を与える時に、雰囲気のイオン化を最
小にする電気抵抗率を有する、ブランケツトの外
縁上におかれる比較的薄い外側被覆を有する。ド
ルチマスコロおよびその他による比較的薄い外側
被覆のための代表的な材料は、使用するトナー物
質に関して比較的良好な機械的離脱特性を示す比
較的滑らかな表面を提供しうる物質から処方され
るものである。このような材料の一つは「アジプ
レン」（“Adiprene”）なる商標名にてデユポン社
により製造されているポリウレタン物質である。 弛緩性（relaxable）層としてもまた知られる
ドルチマスコロおよびその他の中間層ブランケツ
トは、光導電性ドラムの表面に動きながら接触さ
れる時に、接触しあう物体間でトナー粒子が転移
できる拡大された接触領域を与えるようにロール
が変形しうるのに十分な弾力性を有する厚さ約
0.25インチのポリウレタンゴムからなるのが好ま
しい。しかし上述のバイアスできる転写部材ない
しはバイアス転写部材は相対湿度の変化に敏感で
ある。バイアス転写部材の核心は、ロール直径お
よび表面速度に関連して選定される明確に規定さ
れた操作範囲内にある総体的（bulk）抵抗率を
有する厚手の弾力性ブランケツトないしは弛緩性
層である。これらの先行技術の装置についてはブ
ランケツトの総体的抵抗率は約10⁸ないし約10¹¹
オームセンチメートルの範囲で変化しうる。この
範囲の抵抗率の実際的に商業的に入手可能な物質
については、主として相対湿度RHの静的ならび
に動的変化（一般に５ないし10％RHから85ない
し100％RHまでにわたる）の結果としての、こ
の抵抗率の約２桁の変動が認められる。相対湿度
による抵抗率のこの変動は光導電体から最終的支
持材料へ転写される像の質に影響を与える。最適
な電圧は相対湿度と関連して著しく変化する。転
写電場が低い時に特徴的であるぼやけた（wash
―out）像は、紙の通路の外の領域での中核物か
ら受光体への電流の増加のため高い湿度の場合に
できる。 従つて光電導性表面から最終的支持シートにト
ナー像を電気的に転写するために用いるバイアス
できる転写部材を改良するのが本発明の目的であ
る。 本発明の他の目的は、バイアスできる部材の抵
抗率が相対湿度の変化に比較的依存しないバイア
スできる転写部材を製造するための組成物および
方法を提供することである。 本発明の別な目的は、抵抗率が相対湿度に対し
て実質的に不感である弾力性のあるエラストマー
層を有するバイアス転写ロールを提供することで
ある。 本発明のこれらのおよび他の目的はバイアスで
きる転写部材つまり導電性支持体表面と電気的に
協同して、荷電トナー粒子を支持体表面から部材
に吸引する部材であつて、疎水性エラストマーポ
リウレタンを包含する少くとも一つの層を有する
部材を用いることにより達成される。抵抗率の変
化が相対湿度の変化に対して実質的に不感である
抵抗率を有する本発明のバイアスできる転写部材
は、均一なバイアス電位を保持するための導電性
基材およびこの上におかれた疎水性エラストマー
ポリウレタンを含む少くとも一つの被覆を基本的
に包含する。従つて本発明に従うに、均一なバイ
アス電位を保持するための導電性基材を疎水性の
エラストマーポリウレタンの少くとも一つの層で
被覆することにより、バイアスできる転写部材の
抵抗率の相対湿度の変化に対する感度を低下する
方法が提供される。随意選択的に、疎水性エラス
トマーポリウレタンは接触領域内およびその近傍
における雰囲気のイオン化を最少にするために薄
い外側被覆で被覆されてよい。 「バイアスできる転写部材」ないしは「バイア
ス転写ロール」という用語は導電性支持体表面と
電気的に協同して荷電粒子を支持体表面から部材
に電気的に吸引するための部材ないしはロールの
意味に用いる。一層詳細には、バイアス転写ロー
ルとは光導電性プレートと接触される時これと電
気的に協同して荷電トナー粒子をプレートからロ
ールの方に吸引するものである。このようにし
て、現像された像が光導電体から紙またはこれに
類するもののごとき最終的支持材料に転写され
る。 「疎水性ポリウレタン」なる用語は、水と結合
せずあるいは水と著しく反応しない化学構造を有
するポリウレタンの部類を意味し、従つて官能性
のために水を実質的に疎外するポリウレタンをさ
す。このものは相対湿度10％での抵抗率と相対湿
度80％でのそれとの比が約１から約12までしか変
化しない性質をもち、相対湿度に対する振れ巾が
低いことを特徴とする。 本発明およびまた本発明の他の目的ならびに別
な特質を一層良く理解するために、添附の図面を
関連づけて査読すべき以下に述べる本発明の詳細
な説述を参照されたい。 第１図は導電性基材上に被覆された疎水性エラ
ストマーポリウレタンを包含するバイアス転写ロ
ールの構造を示す部分断面透視図である。 第２図は導電性基材と比較的薄い外側被覆との
間にある、疎水性エラストマーポリウレタンであ
るエラストマー弾力性ブランケツトないしは弛緩
性層を有するバイアス転写ロールの構造を示す部
分断面透視図である。 本発明のバイアスできる転写部材は、転写部材
より特定的にはバイアス転写部材が、光導電性プ
レートと接触される時にこれと電気的に協同して
このプレートからロールへと荷電トナー粒子を吸
引するために用いられるゼオグラフイー装置のい
づれにも応用される。このようなバイアスロール
転写機構の効用は1972年11月７日公告の米国特許
第3702482号中にドルチマスコロおよびその他に
より述べられている。この特許には、導電性支持
体表面と電気的に協同して荷電粒子をこの支持体
表面から部材へと電気的に吸引するための転写部
材であつて、均一なバイアス電位を保持するため
の導電性基材、この基材と接触しておかれる中間
的弾力性ブランケツトであつて、この基材上のバ
イアス電位をブランケツトの外縁に伝達すること
ができるような電気抵抗率を有するブランケツ
ト、および転写部材が上記の支持体表面と電気的
協同関係におかれる時に周囲の雰囲気のイオン化
を最少にする電気抵抗率を有する、上記のブラン
ケツト上にある外側被覆を包含する転写部材が特
許請求されている。同特許においては商標名「ア
シプレン」の下にデユポン社により製造されるポ
リウレタン物質が、比較的滑らかな表面を与えか
つ使用するトナー物質に対して比較的良好な脱離
特性を示すことのできるロールの外側被覆として
示唆されており、エラストマー物質は厚さ約
0.0025インチであり、65ないし75Dデユロメータ
ーの範囲の硬度を有する。中核物上には、15ない
し25デユロメーターの硬度を有するエラストマ
ー、望ましくは厚さ約0.25インチのポリウレタン
ゴムの比較的厚手の中間層ブランケツトをおく。 次に第１図をより詳細に参照するとして、同図
には転写部材の内部構造を明白に示すこの部材の
断面図が示されている。転写部材はロールの形を
しておりまた、基本的には、かけられたバイアス
電位に容易に対応することのできるアルミニウ
ム、銅またはこれらに類するもののごとき導電性
金属からできている強固な中空円筒上に形づくら
れる。疎水性エラストマーポリウレタンである被
覆４が中核物２上におかれる。弾力性エラストマ
ー物質からつくられる外側被覆４は好ましくはそ
の厚さが約0.25インチであり、約40シヨアOOな
いし約40シヨアＡの硬度または望ましく約10ない
し25デユロメーターを有する。バイアス転写部材
と光導電体との接触領域内のあるいはこれの近傍
の雰囲気のイオン化を被覆４が最少にする場合；
これが適当な機械的安定性を有する場合；またこ
れを清浄化するのが容易である場合、疎水性エラ
ストマーポリウレタンがバイアス転写部材上の最
も外側の被覆であつてよい。弾力性の疎水性エラ
ストマーポリウレタンは約10⁷ないし5.0×10¹¹オ
ームセンチメートルの抵抗率を有するのが好まし
い。本発明に従うに、導電性基材の被覆は、望ま
しい抵抗率範囲内に抵抗率を変更することのでき
る化合物が添加剤として添加されている、少くと
も一つの層の疎水性エラストマーポリウレタンか
ら処方されねばならない。バイアスできる転写部
材（ロール）をこの特定な部類のポリウレタンで
被覆することにより、バイアスできる転写ロール
の抵抗率が相対湿度の変化に対する関係において
調整され、また一層特定的には相対湿度の変化が
起る時抵抗率は実質的に不変のままとなる。第１
図のバイアス転写部材の外側被覆として用いられ
る疎水性エラストマーポリウレタンは実質的に湿
度に不感である。疎水性エラストマーポリウレタ
ンの例は下記に示す。 バイアスできる転写ロールの断面が示されまた
その内部構造が明確に例解されている第２図を次
に参照するに、かけられたバイアス電位に容易に
呼応することのできる第１図におけるごとき電導
性金属からつくられる強固な円空円筒が示され
る。この強固な中空円筒２上に、約40シヨアOO
ないし約40シヨアＡの硬度を有する疎水性エラス
トマーポリウレタン物質の比較的厚手の弾力性中
間層ブランケツト６がおかれる。疎水性エラスト
マーポリウレタンは厚さ約0.125インチないし約
0.625インチであつてよくまた厚さ0.25インチで
あるのが好ましく、ロールが光導電性ドラム表面
に動きながら接触される時変形して、接触する物
体間でトナー粒子が転移されうる拡大された接触
領域を与えることを可能にする十分な弾性を有す
る。第１図の層４に比すべき疎水性中間ブランケ
ツトは中核物上の荷電電位をロール表面の外側端
に電気的に与えるようにバイアス電位に迅速に呼
応することができるべきである。従つてブランケ
ツトは約10⁷ないし5.0×10¹¹オームセンチメート
ル、望ましくは約10⁹ないし約10¹⁰オームセンチ
メートルの抵抗率を有すべきである。中間ブラン
ケツト６上に比較的薄い外側被覆８が設けられ
る。このものは従来的技術のバイアス転写ロール
に従うに、10¹⁰ないし10¹⁵オームセンチメートル
の抵抗率を有するポリウレタンのごときエラスト
マー物質であつてよく、また厚さ約0.0025インチ
ならびに約65ないし75Dデユロメーターの硬度を
有するのが好ましい。接触領域内のまたその近傍
の雰囲気のイオン化は、外側被覆の抵抗率に関し
て上記に述べた論議に従つて最少化される。 自己平滑化（self―leveling）層としてもまた
知られる外側層８は漏洩性絶縁体であり、また弾
力性ブランケツト（弛緩性層）６の抵抗率より高
い抵抗率値を有するので一般に選択される。加え
て、外側層８はこれの外側表面に適用される電荷
がロールの１回転以内で一般に消散するような物
質を包含しあるいはそのように弛緩性層６に関連
づけられる。層８はまたロール中を流れる電流を
制限しかつロール表面が清浄化されるのを容易な
らしめるために、大気絶縁破壊（air
breakdown）の際に弾力性ブランケツト６を保
護するのを助ける薄い絶縁層としても働く。弛緩
性材料つまり弾力性のある疎水性エラストマーポ
リウレタンが耐久性がありまた清浄化可能である
場合、層８は必要でなく、また第１図のロールが
バイアスできる転写部材として用いられてよい。
さらにまた本発明に従うに、相対湿度の問題は実
質的に軽減されもしくはなくされ、また外側層８
は相対湿度の変化による弾力性ブランケツト６の
抵抗率変化を防止するための湿度障壁として働く
必要はない。従つて本発明のバイアス転写部材が
少くとも一層のエラストマーポリウレタンで被覆
される時、相対湿度が著しく変化する時でさえこ
の部材の抵抗率が調整される。 均一なバイアス電位を保持するための導電性基
材を疎水性エラストマーポリウレタンの少くとも
一層で被覆することによりバイアスできる転写部
材を製造するための本発明の疎水性エラストマー
ポリウレタンは、相対湿度10％および80％での疎
水性エラストマーポリウレタンの抵抗率を測定す
ることにより得られる低い低抗率の比を特徴とす
るものである。相対湿度10％での抵抗率と相対湿
度80％での抵抗率との比は、本発明に従つて好適
なバイアスできる転写部材を提供するために約１
ないし約12であるべきである。この相対湿度に関
する振れ巾はまた相対湿度感度とも称する。バイ
アス転写部材として有用な疎水性エラストマーポ
リウレタンは相対湿度振れ巾が低いことに加え
て、約10⁷ないし5.0×10¹¹オームセンチメートル
の抵抗率をまた有さねばならない。疎水性エラス
トマーポリウレタンが所望の抵抗率より高い抵抗
率を有する場合、特定のポリウレタンの抵抗率を
減少するための適当なイオン性添加剤を添加する
ことにより抵抗率を調整することができる。例え
ば特定の疎水性エラストマーポリウレタンは低い
相対湿度感度を有するが、抵抗率10¹⁴を有するこ
ともあろう。４級アンモニウム化合物のごとき適
当な添加剤の使用により、この抵抗率は相対湿度
感度に悪影響を与えることなく10¹⁴から10⁷ない
し5.0×10¹¹オームセンチメートルの範囲内まで
減少される。好適なイオン性添加剤は、同一の受
託人に依託されかつ本出願とともに出願された同
時係属中の特許出願中に記載されている。 相対湿度の変化に実質的に不感であるバイアス
できる転写部材の製造のために好適なエラストマ
ーポリウレタンは本性上「疎水性」であり、また
水を吸収する極性基をわづかにしかもたない概ね
炭化水素である構造を包含するものである。 ウレタンの製造はイソシアネートとアルコール
との反応に依拠する。重合体（ポリウレタン）の
生成のために、各反応体は一分子あたり一つより
多い反応性基を有さねばならず、従つてイソシア
ネートはジイソシアネートでなければならずまた
アルコールはジアルコールでなければならない。
ジイソシアネートを過剰に用いる場合、−Ｎ＝Ｃ
＝Ｏ基は重合体鎖の末端にありまた通常このもの
は重合体鎖中のウレタン基と反応し、鎖間の交叉
結合ならびに重合体の硬化を惹起する。疎水性エ
ラストマーポリウレタンを軟化するために、ヒド
ロキシ化合物は過剰に用いられ、あるいはバイア
スできる転写部材の所望とする弾性に好適な軟ら
かさを与えるために軟化剤または可塑化剤を用い
る。 NCO／OH比はイソシアネートまたはヒドロキ
シルが過剰であることを示しまたそれがどの程度
であるかを示すのに用いるのに便利な量である。
等しい当量についてはNCO／OHは１である。ヒ
ドロキシルが過剰な場合、この比は１より小さ
い。 相対湿度に不感なバイアスできる転写部材を製
造するのに用いることのできる好適な疎水性エラ
ストマーポリウレタンの例は、ポリブタジエンポ
リオールとジイソシアネートとの反応；ひまし油
と２，４―トリレンジイソシアネートとの反応；
ひまし油と、ジイソシアネートとポリアルキレン
エーテルグリコールとの反応生成物との反応によ
りつくられるポリウレタン；ヒドロキシル末端封
鎖ブタジエン―アクリロニトリル共重合体とジイ
ソシアネートとの反応生成物；ならびにジイソシ
アネートとダイマー酸のポリエステルとの反応生
成物である。ジイソシアネートの一般式は下記の
通りである： Ｏ＝Ｃ＝Ｎ−〔Ｄ〕−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ ただしここでＤは36−炭素炭化水素基である。
デイールスアルダー（Diels Alder）型反応（こ
の反応生成物を水素化する）からつくられる典型
的ジイソシアネートは以下の典型的ジイソシアネ
ート式をもつものを生成するであろう： ポリブタジエン樹脂はジイソシアネートと反応
して本発明に従う疎水性エラストマーポリウレタ
ンを生成する。ポリブタジエンはポリオールであ
り、ジイソシアネートとのトランスエステル化反
応を行うことができる。ポリブタジエンポリオー
ル樹脂の例を下記に示すが、ｎは物質の等級に応
じて50または55である。 本発明に従うバイアスできる転写部材を被覆す
るのに用いることのできる疎水性エラストマーポ
リウレタンの他の例はひまし油とトリレンジイソ
シアネートとの反応生成物に基づく。ひまし油は
トリレンジイソシアネートと反応して先駆体を生
成しないしはポリウレタンとひまし油は反応生成
物とさらに反応してポリウレタンを生成する。ひ
まし油とトリレンジイソシアネートとの反応生成
物の例を簡単化した構造について以下に示す。重
合体構造はひまし油―トリレンジイソシアネート
先駆体の追加的な単位を包含する。先駆体の簡単
化された構造は下記のごとくである： 本発明に従つて用いることのできる疎水性エラ
ストマーポリウレタンの他の種々な例にはひまし
油と、ジイソシアネートとポリアルキレンエーテ
ルグリコールとの反応生成物およびジイソシアネ
ートとある種のダイマー酸のポリエステルとの反
応生成物であるポリエーテルポリウレタンとの反
応によりつくられるポリウレタンが含まれる。ダ
イマー酸は不飽和脂肪酸の二量体化によりつくら
れる高分子量の二塩基性酸である。二量体は36個
の炭素を含むことを特徴とする。 共重合体が上述の特性にて特徴づけられる時あ
る種のポリウレタン共重合体もまた本発明に従つ
て用いられてよい。疎水性エラストマーポリウレ
タンであるポリウレタン共重合体の例は、ブタジ
エンとアクリロニトリルとの共重合体とジイソシ
アネートとの反応生成物であつて、ブタジエン―
アクリロニトリル共重合体がヒドロキシ末端封鎖
されているものである。典型的なブタジエン―ア
クリロニトリル共重合体の式を以下に示す： ここでａは約0.85であり；ｂは約0.15でありま
たは約78ないし87である。 本発明に従うに、相対湿度感度ないしは振れ巾
に干渉しないある種の添加剤もまた用いることが
できる。これらにはある種の可塑化剤、酸化防止
剤、抵抗率を調整ないしは減少するためのイオン
性添加剤、およびその他が含まれる。疎水性エラ
ストマーポリウレタンの抵抗率を調整するための
典型的イオン性添加剤には、４級アンモニウム化
合物が含まれ、その例はテトラヘプチルアンモニ
ウムブロマイドである。一般に振れ巾の最低であ
る疎水性エラストマーポリウレタンは抵抗率のよ
り高い物質であり、従つて抵抗率は、バイアスで
きる転写部材について所望とする抵抗率以下にな
るように減少されねばならない。テトラヘプチル
アンモニウムブロマイドイオン性添加剤は疎水性
エラストマーポリウレタンの抵抗率を調整するた
めの好適な薬剤として例証されている。より高い
抵抗率をもつ疎水性エラストマーポリウレタンの
抵抗率を減少するために一般に必要とされる添加
剤の量は、約0.01重量％ないし約6.0重量％であ
る。しかし疎水性エラストマーポリウレタンがバ
イアスできる転写部材のための適当な抵抗率を有
する場合、添加剤は不要であり、また抵抗率を調
整するための添加剤の上限は疎水性エラストマー
ポリウレタン基体物質の抵抗率によつてのみ限定
される。従つて6.0重量％より高い量を本発明の
バイアスできる転写部材を製造する際に用いるこ
とができる。所望の抵抗率を得るために一般に
0.5重量％より多い量の抵抗率調整添加剤は必要
でない。 上述したごとく本発明の疎水性エラストマーポ
リウレタンの硬度は約40シヨアO0ないし約40シ
ヨアＡ、望ましくは約10ないし25シヨアＡであ
る。硬度の調整は当技術に熟達するものの守備範
囲内にあり、また硬度はNCO／OH比を変えるこ
とによる、使用する反応体の型を変更することに
よる、また可疎化剤のごとき種々の添加剤を用い
ることによる変因子により調整できる。 本発明に従うに、約10⁷ないし約5.0×10¹¹オー
ムセンチメートルの抵抗率を有し、相対湿度振れ
巾ないし感度が約１ないし約12.0である疎水性エ
ラストマーポリウレタンの少くとも一つの層に
て、均一なバイアス電位を保持するための導電性
基材を被覆することにより、バイアスできる転写
部材の抵抗率を相対湿度の変化に対して調整する
方法が述べられている。相対湿度の振れ巾は上記
にすでに論じた。噴霧、型への鋳込み、適当な機
械的方法または適当な接合剤による基材部材への
材料シートの固着およびこれらに類する方法を含
めて、技術上既知の何らかの適当な方法あるいは
技術によつて被覆を基材に適用することができ
る。 以下の特定例は、相対湿度の変化が起きる時バ
イアスできる転写部材を製造する際にまたバイア
スできる転写部材の抵抗率を調整するために用い
られる疎水性エラストマーポリウレタン物質を一
層詳細に例解するものであるが、本発明はその範
囲がこれによつて限定されるものと解されるべき
でない。 試験すべき特定の疎水性エラストマーポリウレ
タンの板を約0.125インチの厚さをもつシートに
鋳込んだ。種々の鋳込まれた物質の試料を規定の
日数だけ湿度の調整された室内においた。一組の
室を相対湿度10％に保ち、他の一組を相対湿度80
％に保つた両面が雰囲気にさらされるような仕方
で、試料を室内に吊した。このようにして試料が
14日以内で平衡に非常に近い量の水を吸収したで
あろう。標準的技術、例えば抵抗率を決定するた
めのACブリツジ、緩減（relaxation）技術によ
り抵抗率を測定した。これらの標準的方法は技術
的に熟達した者にとつて利用可能である。例え
ば、抵抗率を決定するための緩減技術において
は、この方法は既知のベータを有する較正された
探針（Probe）を用いまたこれをバイアスロール
あるいは板の表面上におくことからなる。既知の
電位を板ないし表面の他の側に適用し、また探針
電位の上昇を追跡することによりポリウレタン中
の電荷の緩減を調べる。このことはストレージス
コープ（Storage Scope）を用いることにより便
利に行われる。 AC抵抗はゼネラルラジオモデル（General
Radio Model）1615A容量ブリツジおよび1690A
型〔ハートシヨーン（Hartshorn）型〕誘電試料
ホルダーを用いて1000ヘルツで測定した。試料は
ダイスで切られた直径２インチの円板であつた。
試料上に錫箔電極をおいた。 相対湿度10％および80％の両方において測定し
た抵抗率を記録し、かつ相対湿度10％での抵抗率
と80％でのそれとの比を各試料につき決定した。
得られる比率を相対湿度感度ないしは相対湿度振
れ巾と規定し、下記第１表の相対湿度感度として
記録する。同表においては相対湿度10％および80
％における抵抗率もまた種々の試験試料につき示
す。 例 １および２ ヒドロキシ末端封鎖ポリブタジエンポリオール
〔アルコ（Arco）ケミカル社により供給されるア
ルコポリオール樹脂〕と、ジイソシアネート〔ゼ
ネラルミルズ（General Mills）により供給され
るDDI1420〕とからつくられるポリウレタンを第
１表の例１に示す。ポリブタジエンポリオールは
生成物の約80％を占めまたジイソシアネートは約
20重量％を占めた。成分を1.2重量％の従来的触
媒と100℃で混合した。規定した二つの相対湿度
において上述のごとく抵抗率を測定しかつ相対湿
度室内で14日間の平衡時間の後相対湿度感度を決
定した。相対湿度感度は1.7と決定された。 テトラヘプチルアンモニウムブロマイド添加剤
を例１に従つてつくられる生成物に１％および２
％の量にてそれぞれ添加し、疎水性ポリウレタン
エラストマーの抵抗率を減少した。 例 ３および４ ひまし油〔ベーカーキヤスターオイル（Baker
Castor Oil）社により供給されるDB油〕と２，
４―トリレンジイソシアネートとからトランスエ
ステル化型反応において疎水性エラストマーポリ
ウレタンを製造した。成分を60ないし65℃に加熱
しつつ混合した。ポリウレタンの抵抗率を測定し
かつ相対湿度感度を決定した。平衡に達する時間
もまた日数で下記第１表に示す。硬度は16シヨア
Ａであつた。例４を例３に従つて実施したが、た
だし各ポリウレタンの抵抗率を調整するためにテ
トラヘプチルアンモニウムブロマイド添加率１％
および２％を用いた。各量の添加剤の使用による
抵抗率の減少を第１表に示す。 例 ５および６ ゼネラルミルズにより供給されるDDI1420であ
るジイソシアネートおよびエメリーインダストリ
ーズ（Emery Industries）による3390と称され
るダイマー酸のポリエステルをポリウレタンをつ
くるのに用いた。反応は0.05％の従来的触媒の存
在で実施した。硬度は厚さ0.25インチの試料につ
いて16シヨアＡであつた。抵抗率と相対湿度感度
を下記第１表に示す。例６において、一層疎水性
であるアルコール部分を有するダイマー酸のポリ
エステルつまりアルコール基をより少く含むもの
でエメリー1211と称されるものをゼネラルミルズ
により供給されるジイソシアネートDDI1420と反
応した。厚さ0.25インチの試料について硬度は22
シヨアＡであつた。相対湿度10％および80％のそ
れぞれの抵抗率同じくまた相対湿度振れ巾の比を
下記第１表に示す。例５を例６と較べる時、極性
アルコール部分をより少く含むポリウレタン（例
６）は極性アルコール含有率がより高い例５のポ
リウレタンよりも良い相対湿度感度を有する。 例 ７ アルコケミカル社によりアルコCN―15の商標
名で供給される83.7重量％のブタジエン―アクリ
ロニトリル共重合体をゼネラルミルズにより商品
名DDI1410にて供給されるもの16.2％と、アーガ
ス（Argus）ケミカルにより商品名キヤタリスト
（Catalyst）Ul−19にて供給される0.1％の通常の
触媒の存在で反応することによりポリウレタンの
板をつくつた。共重合体は約85重量％のブタジエ
ンと約15重量％のアクリロニトリルとを含む。こ
のものは0.60ミリ当量／グラムのヒドロキシ価と
30℃での525ポイズの粘度を有した。反応生成物
の硬度は29シヨアＡであつた。それぞれ0.1％お
よび0.35％のテトラヘプチルアンモニウムブロマ
イド添加剤の混入された二つの試料と共に相対湿
度10％および80％での抵抗率およびまた相対湿度
感度の比率を第１表に示す。

【表】 本発明の目的は上記諸例により広汎に例証され
ている。疎水性エラストマーポリウレタンで被覆
されるバイアスできる転写部材は、従来的ポリウ
レタンより相対湿度変化に対する感度が低い。例
えば三つの異つた試料について得られた、従来的
ポリエステルを基体とするポリウレタンの相対湿
度感度はそれぞれ43、40および38であつた。従つ
て本発明の疎水性エラストマーポリウレタンを用
いることにより、相対湿度振れ巾が著しく減少さ
れており、またバイアスできる部材の抵抗率が相
対湿度の変化に比較的依存しないバイアスできる
転写部材を製造するための組成物および方法が例
証されている。抵抗率が相対湿度に実質的に不感
である、弾力性エラストマー層を有するバイアス
転写ロールが例証されている。 本発明は本明細書中に記載の構造および組成物
について開示てれてきたが、本発明はここに記載
の詳細に必ずしも限定されるものでなく、また本
出願は添附の特許請求の範囲内に入るであろう変
改ないしは変更を包含することを意図する。

【図面の簡単な説明】

第１図は導電性基材上に被覆されたエラストマ
ーポリウレタンを有するバイアス電写ロールの構
造を示す部分断面透視図である。第２図は導電性
基材と外側被覆との間に弾力性ブランケツトを有
するバイアス転写ロールの構造を示す部分断面透
視図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 均一なバイアス電位を保持するための導電性
   基材、および疎水性エラストマーポリウレタン
   で、ポリブタジエンポリオールとジイソシアネー
   トとの反応、ひまし油と２，４―トリレンジイソ
   シアネートとの反応、ひまし油と、ジイソシアネ
   ートとポリアルキレンエーテルグリコールとの反
   応生成物との反応、ヒドロキシル末端封鎖ブタジ
   エン―アクリロニトリル共重合体とジイソシアネ
   ートとの反応、およびジイソシアネートとダイマ
   ー酸のヒドロキシ末端封鎖ポリエステルとの反応
   によつて生成したポリウレタンからなる群から選
   ばれた水と著しく反応したり結合することのない
   構造をもつ疎水性エラストマーポリウレタンから
   なる、前記基材上にある少くとも一つの被覆を有
   し、然も前記疎水性エラストマーポリウレタンの
   相対湿度10％で測定した抵抗率対相対湿度80％で
   測定した抵抗率の比として表した相対湿度感度が
   １〜12の範囲にあるバイアスできる転写部材。 ２ 疎水性エラストマーポリウレタンの被覆上に
   ある外側被覆をさらに含む上記第１項のバイアス
   できる転写部材であつて、疎水性エラストマーポ
   リウレタンが弾力性であつて、そのために疎水性
   エラストマーポリウレタン被覆が基材と接触する
   弾力性ブランケツトを形成し、基材からブランケ
   ツトの外縁までブランケツトがバイアス電位を伝
   達することができるような電気抵抗率を疎水性エ
   ラストマーポリウレタンが有する上記第１項のバ
   イアスできる転写部材。