JPS64472B2 - - Google Patents

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JPS64472B2
JPS64472B2 JP61009076A JP907686A JPS64472B2 JP S64472 B2 JPS64472 B2 JP S64472B2 JP 61009076 A JP61009076 A JP 61009076A JP 907686 A JP907686 A JP 907686A JP S64472 B2 JPS64472 B2 JP S64472B2
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solvent
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salt obtained
electrolyte
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JP61009076A
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JPS61170589A (ja
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Shirubesutori Giuzetsupe
Ganbiino Sarubadoore
Fuirarudo Giuzetsupe
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KONSHIIRIO NATSUIONAARE DETSURE RICHERUKE
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KONSHIIRIO NATSUIONAARE DETSURE RICHERUKE
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B3/00Electrolytic production of organic compounds
    • C25B3/20Processes
    • C25B3/25Reduction

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、1個以上の二酸化炭素分子を適当な
基質(substrate)中に挿入することによる、カ
ルボン酸類製造のための電気カルボキシ化
(electro−carboxylation)法に関する。更に詳
しくは、本発明はα−ヒドロキシカルボン酸類製
造のための、カルボニル化合物類の電気カルボキ
シル化法に関する。 上記電気カルボキシル化用に使用される基質は
オレフイン二重結合をもつ不飽和化合物、イミノ
又はカルボニル基をもつ化合物、多核芳香族化合
物又は有機ハロゲン化物であり得る、然しなが
ら、主として重要な反応はカルボニル化合物の電
気カルボキシル化(反応1)である。何故ならば
このカルボキシル化は、多数の有機合成において
中間体としての重要な適用を見出すα−ヒドロキ
シカルボン酸の製造を可能にするからである: カルボニル化合物の電気カルボキシル化に関す
る極く小数の例が知られており、これらを表1に
要約してある:
【表】 * 使用した支持体電解質はしゆう酸テトラア
ルキルアンモニウムであり、このもの
は、陽極で優先的に酸化する。
1 S.Wawzonek、A.Gundersen、J.
Electrochem.Soc.107(6)、537(1960). 2 R.Engels、C.J.Smit、W.J.M.VanTiloorg、
Angew.Chem.Jnt.Ed.Engl.22(6)、492(1983). 3 Y.Ikeda、E.Manda、Chem、Lett.1984、
453. アルデヒドカルボキシル化に関して、ベンズア
ルデヒドのカルボキシル化についての試ろみが引
用されているが、著者達(S.Wawzanek、A.
Gundersen、J.Electrohem.Soc.107(6)、537
(1960))は、期待したカルボキシル化生成物、即
ちマンデル酸の微量も得なかつたと明白に述べて
いる。 公知の方法に比べて、本発明方法は、カルボキ
シル化できる基質の範囲を、上記反応を脂肪族と
芳香族アルデヒドの両者に対しても可能にする程
度に相当に拡げることを可能にする。本発明方法
は一層高い収率を得ることを可能にし、かつ最後
に、溶剤支持体電解質系の再循環を可能にする生
成物回収法の適用を可能にする。この後者の面
は、これを連続法に適用する際に特に重要であ
る。 本発明に依る、二酸化炭素の分子をカルボニル
化合物中に挿入することによりα−ヒドロキシカ
ルボン酸を製造するための電機カルボキシル化法
は、上記カルボニル化合物の電解のため、支持体
電解質及びCO2を中で泡立たせる溶剤の存在下に
上記電解を中で行なわせる隔膜の無い槽内に可溶
性金属陽極を用いること、及び電解から生じた溶
液に、電解により得た錯体塩を沈澱させる溶剤を
加えて生成物を回収し、これを分離し加水分解し
て上記の所要酸を得ることを特徴とする。 本発明方法の上記及びその他の特徴と利点は、
本発明の好ましい実施態様を記載し、かつ例示目
的のためにのみ与えられる下記の詳細な説明から
一層、明らかになるであろう。 本発明の電解法は、隔膜の無い電解層の使用を
可能にする可溶性金属陽極を用いる。使用陽極材
料には、アルミニウム、亜鉛、マグネシウム、銅
及び更に一般的には、反応環境内で、溶液中に存
在する他種のそれより低い陽極溶解電圧を持つ金
属種が含まれる。 上記金属類は単一、純粋状態で又は相互の合金
として又は他の非汚染性元素とともに使用でき
る。Al、Zn及びMgを用いることが好ましい。亜
鉛は二次プロセスとして陰極に樹枝状の金属沈着
を与え、その結果、電解効率が低下する。マグネ
シウムは小量の電流を通した後、電機不動態化
(electropassivation)現象を生ずる。 最善の結果はアルミニウム陽極を用いて得られ
る。99.0%純度の工業用アルミニウムを使用でき
ることが見出されている。 陰極は黒鉛又は陽極の構成材料と同じ材料であ
ることができる。然しながら、どのような高品質
の導体も使用できる。 陽極金属溶解反応の後に、溶液内で、金属陽イ
オンMn+とα−ヒドロキシカルボン酸の陰イオン
の間に反応が生ずる。電解槽の種々のセクター内
で起きるプロセスは下記の如くである。 (陽極において)2M→2Mn++2ne- (陰極において) (溶液内で) 錯体塩の生成は、陰極反応生成物を任意の次の
好ましくない反応から保護する、さしあたりの利
点を与える。又、アルコキシ陰イオンの塩基性を
抑制し、かつ、その後、カルボキシル化される基
質の大部分な対して生じ得る、可能なアルドール
又はカニツツアーロ縮合反応を防止する。これら
の結果を理論的に説明しようとは思わないが、こ
れまで公知方法により達成されたことのないベン
ズアルデヒドの電気カルボキシル化が、基質の還
元から生じる陰イオンの塩素性を抑制することに
より、ベンズアルデヒド自身に対するカニツツア
ーロ反応を防止するところの、まさしく上記錯体
の生成により可能になることが確かであるように
思われる。 適当な支持体電解質はアルカリ又はアルカリ土
類のハロゲン化物、ハロゲン化アンモニウム、又
はアルキル、シクロアルキル又はアリール−アン
モニウムハロゲン化物である。上記陽イオンの過
塩素酸塩、パラトルエンスルホン酸塩、ヘキサフ
ルオロリン酸塩又はテトラフルオロホウ酸塩も使
用できる。 支持体電解質の選択はどんな時でも、例えば、
陽極から生じる金属陽イオンと電解質陰イオンと
の間での不溶性塩の沈殿を防止するようになされ
る。 好ましく使用される溶剤はN,N−ジメチルホ
ルムアミドである。然しながら、他の液体アミ
ド、ニトリル、開鎖又は環状鎖エーテル、等を使
用することもできる。 電解は概して、適当な参照電極についての陰極
電位定数を保持することにより行なわれる。 適当な参照電極はカロメル電極又は上記合成用
に使用されるのと同じ溶剤中の既知濃度のヨウ化
物イオンの溶液中の銀/ヨウ化銀からなる電極で
ある。陰極電位の固定値は反応に付される基質に
依存し、かつ標準の電気分析法により決定され
る。 非常に揮発性の基質、例えばアセトアルデヒド
については、電解溶液からの基質に同伴する発泡
ガスを防止するため、中程度の二酸化炭素の圧の
下での電解を用いなければならない。 所要のα−ヒドロキシカルボン酸を電解から生
じる溶液から回収するため、二つの方法を用いる
ことができる。 第一の方法は公知の技術の内に入るものであつ
て、溶剤の蒸発、残存錯体塩の酸加水分解、これ
につぐ、酸加水分解液からの酸生成物の抽出から
なつている。この方法はかなり簡単ではあるが、
しかしながら、最終抽出の母液中に排出される支
持体電解質の損失を生ずる。 電解と共に本発明の主題をなす題二の方法は下
記の工程からなつている: −溶剤を電解溶液に加えて得た錯体塩を沈殿させ
る; −錯体塩を濾過、分離する; −錯体塩を加水分解して得た酸を回収する。 −沈殿用溶剤を、真空蒸発又は単純加熱により濾
液から除去し、かつ電解溶液(溶剤及び支持体
電解質)を回収する。 回収電解溶液は次の電解用に再び使用できる。
使用沈殿用溶剤は好ましくはジエチルエーテルで
あるが、他の揮発性溶剤、例えばより高級のエー
テルも使用できる。 本発明方法は既知の技術の方法に対して相当な
利点をもつている。 第一に、可溶性陽極の使用は、陰極液から陽極
液を分離するためのイオン交換膜の使用に関する
多くの重大な課題、例えば膜により導入される高
オーム抵抗、高い電解槽製作費及び膜の容易な腐
敗性、を避ける。 隔膜の無い槽中での電解については、表1の参
考文献2の方法が既に知られている。然しなが
ら、この方法は特別な陽極反応、即ち高級カルボ
ン酸の脱カルボキシル化の場合よりも一層低い、
正の酸化電位を持つ、しゆう酸塩の陽極酸化を用
いている。 この場合、上記二つの陽極法の費用及び合成自
身に対する溶液中の種の影響の両方を考慮して比
較してみる。 上記二つの陽極法の費用を比較する際には、
MW200のケトンを電気カルボキシル化すること
にし、かつ両方法が90%の収率を持つと仮定する
と、陽極反応の材料消費は生成酸Kg当り、それぞ
れ、陰イオンしゆう酸塩が450gで、アルミニウ
ムが90gであることに注目しさえすればよい。 アルミニウムとしゆう酸がほぼ等価であると仮
定すると、可溶性陽極法は、アルミニウムを使用
した場合、陽極反応について、費用がしゆう酸塩
法よりも約5倍少ない。 又、しゆう酸塩の使用は溶液中に生成した種に
対する保護を与えず、かつ特に中間体種の塩基性
を抑制しないことに注目するべきである。それ
故、反応性種、例えば上記ベンズアルデヒドの電
気カルボキシル化は不可能又は極めて困難にな
る。 生成物回収については、表1の方法中に用いた
公知の方法は下記の如くである: −溶剤蒸発、ついで残留物の酸化水分解及び生成
酸の抽出、その結果、支持体電解質の損失であ
る; −電解液へのヨウ化メチルの添加及び生成エステ
ルの分別蒸溜、その結果、支持体電解質の損失
がある。ついでエステルを加水分解し酸を回収
する; −溶剤回収、ついで水による沈澱及び支持体電解
質(Bu4NI)の濾過、残留溶液の酸化水分解及
び生成油状粗生成物のエーテル抽出による、生
成酸の回収。 これらの方法の内で、第三の方法だけが支持体
電解質及び溶剤の効率的回収を可能にするが、水
による沈殿は支持体電解質の再使用前に更に乾燥
工程があることを意味する。三つの分離方法がす
べて電解槽から生ずる溶液から溶剤を蒸溜するこ
とを必要とすることに注目すべきである。 これに対して、本発明方法に依れば、既に述べ
たように、簡単な濾過により錯体塩を回収し、電
解液を全部再循環させることができる。 下記の実施例は非限定の例示目的のために記載
される。 実施例 1 N,N−ジメチルホルムアミド(50ml)中の臭
化テトラブチルアンモニウム(2.5g)及びベン
ゾフエノン(2.0g)から生じた溶液を、交互の
位置に、全直面表面(facing surface)が30cm2
ある2個のアルミニウム電極と全直面表面が40cm2
である3個の亜鉛電極(全電極が5mm離れた距離
で、平行の平らな表面をもつている)を含有する
ガラス槽内で電解する。 亜鉛電極は陰極としてはたらき、アルミニウム
電極は陽極としてはたらく。適当な発泡器を電極
間の空間中に設置する。参照電極(N,N−ジメ
チルホルムアミド中のAg/AgI、0.1MBu4NI)
を陰極面の一つから少し離れたところに置く。上
記槽を20℃に調整した温度調節浴に入れる。 電解前に、溶液を約30分間、CO2の泡を吹かせ
て脱気する。ついで、陰極電位を上記参照電極に
対して−1.7Vに固定して、ポテンシオスタツト
により電流を槽に供給する。槽内を循環する電流
の強さは約500mAである。全電解の間、溶液を
20℃に保ち、CO2の泡を30/120Nl/hの割合で
吹かす。 2800クーロンを通した後、電気の供給を中止
し、槽の中身をあけ、電解液を30mmHgの圧で蒸
発する。 残留物を10%HCl水溶液で処理し、生じた懸濁
液をエーテルで抽出する。 エーテルを蒸発して2.16gの残留物を得る。 残留物はNMR分光分析法、元素分析及び酸−
塩基滴定により分析して、87%純度の粗ジフエニ
ルヒドロキシ酢酸からなることを見出した。 ベンゾフエノンについての収率は75%であり、
電流収率は57%である。 実施例 2 被電解溶液はN,N−ジメチルホルムアミド
(50ml)に溶解した6−メトキシアセトナフトン
(5g)及びヨウ化テトラブチルアンモニウム
(2.5g)を含有している。 電解手順及び槽及び電極型は実施例1に記載し
たのと同じである。5000クーロンを通じ、ついで
溶液を槽から、撹拌器をつけたガラスフラスコに
移し、これにジエチルエーテル(200ml)を撹拌
下に加える。 白黄色固体が沈殿し、これをG3フイルターを
通して濾過する。 固体を減圧下(1時間、40℃で30mmHg)に乾
燥し、ついで10%HCl水溶液で処理する。得た懸
濁液をエーテルで抽出する。 エーテルを蒸発させると麦わら色の固体(5.43
g)を生じた、このものは元素分析、NMR分光
分析法及び酸−塩基滴定により、粗2−ヒドロキ
シ−2−(6−メトキシ−2−ナフチル)プロピ
オン酸(純度93%)であると確認された。収率は
上記ケトンに対して85%であり、電流に対して82
%である。 上記濾過から得られた、臭化テトラブチルアン
モニウム、N,N−ジメチルホルムアミド及び小
量の当初のケトン(約3%)からなる母液を、沈
殿を誘発するために加えたエーテルと一緒に減圧
下に蒸発させてエーテルを除去し、次の電解にお
いて使用するための電解液を再生する。 実施例 3〜11 これらの実施例において使用した基質、操作条
件及び得られた収率を表2中に要約してある。 表2の注に記載した例外以外は、使用手順は、
溶剤としてN,N−ジメチルホルムアミド、支持
体電解質として0.1Mの臭化テトラブチルアンモ
ニウム、アルミニウム陽極、陰極表面40cm2、電流
密度15−25mA/cm2、DMF中Ag/AgI0.1Mの参
照電極、温度20℃及び1気圧のCO2圧を用いた。
【表】
【表】
【特許請求の範囲】
1 次の工程からなることを特徴とする金属製棚
の被覆方法。 (a) 金属製棚の表面を洗浄し、 (b) 前記金属面に、第1層がニツケルで第2層が
クロムである、2つの金属層を電着し、 (c) 前記付着したクロム層を、 (i) リン酸鉄−洗浄剤混合物でクロム表面を洗
浄し、 (ii) 前記洗浄した表面に冷水を散布して水洗い
し、そして (iii) 前記冷水洗した表面を温水洗に受けさせる
ことによりクロム層と最終のエポキシ樹脂の
外層との間の付着性を増すように処理し、 (d) 前記処理したクロム層に低下透明性のエポキ
シ樹脂を付着し、そして (e) 前記金属製棚に前記被覆を得るよう前記樹脂
を硬化する。 2 前記エポキシ樹脂は熱硬化性プラスチツクと
して適用されることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の方法。

Claims (1)

  1. 法。 4 上記有機溶剤がN,N−ジメチルホルムアミ
    ド、又は他の液体アミド、又はニトリル、又は開
    鎖又は環状鎖エーテルであることを特徴とする、
    特許請求の範囲第1項に記載の方法。 5 上記のカルボニル化合物の電解が0ないし50
    ℃の温度で行なわれることを特徴とする、特許請
    求の範囲第1項に記載の方法。 6 上記のカルボニル化合物の電解が1ないし20
    気圧の二酸化炭素の圧で行なわれることを特徴と
    する、特許請求の範囲第1項に記載の方法。 7 上記の電解により得た錯体塩を沈殿させるた
    めの溶剤がジエチルエーテル又はより高級のエー
    テルであることを特徴とする、特許請求の範囲第
    1項に記載の方法。 8 上記の電解により得た錯体塩の分離が濾過に
    より行なわれることを特徴とする、特許請求の範
    囲第1項に記載の方法。 9 上記の電解により得た錯体塩の加水分解が10
    %のHCl水溶液による処理により行われることを
    特徴とする、特許請求の範囲第1項に記載の方
    法。 10 上記の電解により得た錯体塩の分離から生
    じる液相を蒸発させて上記溶剤を除去して、次の
    電解に再循環させることを特徴とする、特許請求
    の範囲第1項に記載の方法。
JP61009076A 1985-01-21 1986-01-21 α‐ヒドロキシカルボン酸を製造するための、カルボニル化合物の電気カルボキシル化法 Granted JPS61170589A (ja)

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JPS61170589A JPS61170589A (ja) 1986-08-01
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EP (1) EP0189120B1 (ja)
JP (1) JPS61170589A (ja)
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CA (1) CA1273601A (ja)
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