JPS64465B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS64465B2 JPS64465B2 JP54043021A JP4302179A JPS64465B2 JP S64465 B2 JPS64465 B2 JP S64465B2 JP 54043021 A JP54043021 A JP 54043021A JP 4302179 A JP4302179 A JP 4302179A JP S64465 B2 JPS64465 B2 JP S64465B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tin
- crystals
- sample
- needle
- plated
- Prior art date
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- Expired
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/26—After-treatment
- C23C2/261—After-treatment in a gas atmosphere, e.g. inert or reducing atmosphere
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/26—After-treatment
- C23C2/28—Thermal after-treatment, e.g. treatment in oil bath
- C23C2/285—Thermal after-treatment, e.g. treatment in oil bath for remelting the coating
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は錫メツキ製品からの針状結晶体の発生
を防止する方法に関する。
を防止する方法に関する。
装飾品、電気部品、構造部品などの金属表面処
理方法として、コストが安く、耐食性、外観、ハ
ンダ付け性が優れているために錫メツキが一般的
に用いられているが、これらの錫メツキを施した
物品の表面から錫の針状結晶体（ホイスカ）の発
生が通例となつており、装飾品の美観を損じたり
電気部品、構造部品の場合には、短絡事故などの
障害の原因になる欠点がある。その原因はメツキ
膜の内部応力によるものと考えられ、これを除く
ためにメツキ金属融点以下で熱処理することが一
般的に行なわれている。たとえば、200℃、数時
間以上の熱処理が実施されているが、メツキの内
部応力を完全に解消することは不可能で、このよ
うな処理をした物品からも針状結晶体の発生が認
められ、使用上不都合を生じていることが判明し
ている。
理方法として、コストが安く、耐食性、外観、ハ
ンダ付け性が優れているために錫メツキが一般的
に用いられているが、これらの錫メツキを施した
物品の表面から錫の針状結晶体（ホイスカ）の発
生が通例となつており、装飾品の美観を損じたり
電気部品、構造部品の場合には、短絡事故などの
障害の原因になる欠点がある。その原因はメツキ
膜の内部応力によるものと考えられ、これを除く
ためにメツキ金属融点以下で熱処理することが一
般的に行なわれている。たとえば、200℃、数時
間以上の熱処理が実施されているが、メツキの内
部応力を完全に解消することは不可能で、このよ
うな処理をした物品からも針状結晶体の発生が認
められ、使用上不都合を生じていることが判明し
ている。
本発明の目的は、錫メツキした物品において、
錫メツキのすぐれた面である半田付け性、耐腐食
性、低コスト性を維持しながら、針状結晶体の発
生を防止できる方法を提供するものである。
錫メツキのすぐれた面である半田付け性、耐腐食
性、低コスト性を維持しながら、針状結晶体の発
生を防止できる方法を提供するものである。
本発明は錫メツキにおける針状結晶体の発生は
錫メツキのメツキ応力、歪によるものであり、溶
融錫メツキには針状結晶体の発生が見られないと
いうことから、メツキ応力、歪緩和のため、メツ
キ錫を再溶融し、針状結晶体の発生の防止に成功
したものである。具体的には、電気メツキ法、ま
たは化学メツキ法により錫メツキを施した物品を
酸化防止雰囲気下で錫の融点以上の温度に加熱し
て、メツキ錫を再溶融するものである。
錫メツキのメツキ応力、歪によるものであり、溶
融錫メツキには針状結晶体の発生が見られないと
いうことから、メツキ応力、歪緩和のため、メツ
キ錫を再溶融し、針状結晶体の発生の防止に成功
したものである。具体的には、電気メツキ法、ま
たは化学メツキ法により錫メツキを施した物品を
酸化防止雰囲気下で錫の融点以上の温度に加熱し
て、メツキ錫を再溶融するものである。
以下に本発明を実施例により詳細に説明する。
ガラス封止形IC用Fe−Ni−Co合金線に厚さが
平均で4μｍの錫メツキを施した試料とこの試料
を非酸化性雰囲気で250℃に加熱し、錫メツキを
溶融した試料とを多数作り、これらの試料を40
℃、相対湿度（RH）95％の空気中と50℃の空気
中とに放置し、時間の経過にしたがつて試料上に
発生、成長する針状結晶体の長さを測定した。そ
の結果を第１図に示した。同図には発生した針状
結晶体のうちの最も長いものの寸法のみを示して
ある。実線は錫メツキを施したままの試料、一点
鎖線はメツキ錫に溶融処理を施した本発明による
試料に対する結果を示す。ただし、本発明による
試料の結果はほぼ横軸上に乗るが、見やすくする
ためやや上にあげて記入してある。同図によれ
ば、本発明による効果は明らかである。
平均で4μｍの錫メツキを施した試料とこの試料
を非酸化性雰囲気で250℃に加熱し、錫メツキを
溶融した試料とを多数作り、これらの試料を40
℃、相対湿度（RH）95％の空気中と50℃の空気
中とに放置し、時間の経過にしたがつて試料上に
発生、成長する針状結晶体の長さを測定した。そ
の結果を第１図に示した。同図には発生した針状
結晶体のうちの最も長いものの寸法のみを示して
ある。実線は錫メツキを施したままの試料、一点
鎖線はメツキ錫に溶融処理を施した本発明による
試料に対する結果を示す。ただし、本発明による
試料の結果はほぼ横軸上に乗るが、見やすくする
ためやや上にあげて記入してある。同図によれ
ば、本発明による効果は明らかである。
以上説明したように、本発明による処理をした
錫メツキ製品は長時間放置しても、製品に欠陥を
もたらすような長い針状結晶体を発生することが
なく、実用上の効果は大である。
錫メツキ製品は長時間放置しても、製品に欠陥を
もたらすような長い針状結晶体を発生することが
なく、実用上の効果は大である。
第１図はコバール線に錫メツキを施したままの
試料と該試料を加熱してメツキ錫を溶融した試料
を放置しておいたときに発生した針状結晶体の長
さと経過時間との関係を示す図である。
試料と該試料を加熱してメツキ錫を溶融した試料
を放置しておいたときに発生した針状結晶体の長
さと経過時間との関係を示す図である。
１ 鋼表面に厚さが１〜7μで、Niの含有量が0.2
〜30％であるAl−Si−Fe−Ni系合金層を有し、
さらにその上に厚さが３〜40μのAl−Si系合金被
覆層を施したことを特徴とする耐食性と耐熱性に
優れた溶融アルミメツキ鋼板。 ２ 鋼表面に厚さが2μ以下で平均Ni濃度50％以
下のNi−Fe系拡散層を有し、その上に厚さが１
〜7μでNiの含有量が0.2〜30％のAl−Si−Fe−Ni
系合金層を有し、さらにその上に厚さが３〜40μ
のAl−Si系合金被覆層を施したことを特徴とす
る耐食性と耐熱性に優れた溶融アルミメツキ鋼
板。
〜30％であるAl−Si−Fe−Ni系合金層を有し、
さらにその上に厚さが３〜40μのAl−Si系合金被
覆層を施したことを特徴とする耐食性と耐熱性に
優れた溶融アルミメツキ鋼板。 ２ 鋼表面に厚さが2μ以下で平均Ni濃度50％以
下のNi−Fe系拡散層を有し、その上に厚さが１
〜7μでNiの含有量が0.2〜30％のAl−Si−Fe−Ni
系合金層を有し、さらにその上に厚さが３〜40μ
のAl−Si系合金被覆層を施したことを特徴とす
る耐食性と耐熱性に優れた溶融アルミメツキ鋼
板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4302179A JPS55138067A (en) | 1979-04-11 | 1979-04-11 | Preventing method of generation of needle crystal from tin plated product |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4302179A JPS55138067A (en) | 1979-04-11 | 1979-04-11 | Preventing method of generation of needle crystal from tin plated product |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55138067A JPS55138067A (en) | 1980-10-28 |
| JPS64465B2 true JPS64465B2 (ja) | 1989-01-06 |
Family
ID=12652303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4302179A Granted JPS55138067A (en) | 1979-04-11 | 1979-04-11 | Preventing method of generation of needle crystal from tin plated product |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55138067A (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5736993B2 (ja) * | 1974-02-06 | 1982-08-06 | ||
| JPS50147441A (ja) * | 1974-05-20 | 1975-11-26 | ||
| JPS5144011A (ja) * | 1974-10-12 | 1976-04-15 | Japan Servo | Katsujipureetookurisochi |
-
1979
- 1979-04-11 JP JP4302179A patent/JPS55138067A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55138067A (en) | 1980-10-28 |
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