JPS6410066U - - Google Patents

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JPS6410066U
JPS6410066U JP10182687U JP10182687U JPS6410066U JP S6410066 U JPS6410066 U JP S6410066U JP 10182687 U JP10182687 U JP 10182687U JP 10182687 U JP10182687 U JP 10182687U JP S6410066 U JPS6410066 U JP S6410066U
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JP
Japan
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electron beam
filament
beam emitting
thin film
forming apparatus
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JP10182687U
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図はこの考案の一実施例の要部正面図、第
２図は従来の薄膜形成装置の正断面図、第３図は
第２図のものの要部正面図である。 １……真空槽、３……ルツボ、５……蒸着物質
、６……加熱用フイラメント、７，１２……熱シ
ールド板、９……蒸気発生源、１０……電子ビー
ム放出フイラメント、１３……イオン化手段、１
５……加速電極、１６……基板、２３……第１の
支柱、２４……第２の支柱、２５……ナツト、２
６……座金。なお、各図中、同一符号は同一又は
相当部分を示す。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 所定の真空度に保持される真空槽と、 前記真空槽内に設けられ蒸着物質の蒸気を噴出
    して前記蒸着物質のクラスターを発生させるルツ
    ボと、このルツボを加熱する加熱用フイラメント
    およびこの加熱用フイラメントの熱を遮る熱シー
    ルド板からなる蒸気発生源と、 前記クラスターの一部をイオン化するための電
    子ビーム放出フイラメントを含むイオン化手段と
    、 前記イオン化手段によつてイオン化された前記
    クラスターに加えイオン化されていない前記蒸着
    物質の前記クラスターおよび蒸気の少なくともい
    ずれかを前記真空槽内に置いた基板に向けて運動
    エネルギーを付与して衝突させるための加速手段
    と、 を備えた薄膜形成装置において、前記加熱用フ
    イラメントおよび前記電子ビーム放出フイラメン
    トがそれぞれモリブデンである取付部材に取付け
    られていることを特徴とする薄膜形成装置。 (2) 支柱と、この支柱に座金を介してら着され
    るナツトとからなる取付部材を備えた実用新案登
    録請求の範囲第１項記載の薄膜形成装置。 (3) イオン化手段が、交換可能に取付部材によ
    り取付けられた電子ビーム放出フイラメントと、
    この電子ビーム放出フイラメントからの電子を引
    き出し加速する電子ビーム引出電極と、前記電子
    ビーム放出フイラメントの熱を遮る熱シールド板
    からなる実用新案登録請求の範囲第１項記載の薄
    膜形成装置。
JP10182687U 1987-07-03 1987-07-03 Pending JPS6410066U (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009034717A1 (ja) 2007-09-14 2009-03-19 Daikin Industries, Ltd. 回転式流体機械
AU2007223244B2 (en) * 2006-03-09 2010-02-25 Daikin Industries, Ltd. Refrigeration system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2007223244B2 (en) * 2006-03-09 2010-02-25 Daikin Industries, Ltd. Refrigeration system
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