JPS6397222A - 薬液供給装置 - Google Patents

薬液供給装置

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JPS6397222A
JPS6397222A JP61243138A JP24313886A JPS6397222A JP S6397222 A JPS6397222 A JP S6397222A JP 61243138 A JP61243138 A JP 61243138A JP 24313886 A JP24313886 A JP 24313886A JP S6397222 A JPS6397222 A JP S6397222A
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JP
Japan
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chemical
chemical liquid
valve
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container
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JP61243138A
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Yoshiki Iwata
岩田 義樹
Manabu Matsuo
学 松尾
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Canon Inc
Canon Marketing Japan Inc
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Canon Inc
Canon Hanbai KK
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J4/00Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
    • B01J4/02Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices for feeding measured, i.e. prescribed quantities of reagents

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野] 本発明は、半導体製造プロセス、特にフォトプロセスに
おいて多量の薬液を使用する薬液供給装置に関し、特に
薬液の自動供給を可能とする薬液自動供給システムに関
する。
[従来の技術] 半導体フォトプロセス装置に対し使用する薬液を供給す
る場合、薬液は加圧ガス(エア)を導入した加圧薬液容
器から装置に供給される。従来のフォトプロセス装置に
おいては、薬液供給中の加圧薬液容器が空になると装置
を停止して加圧薬液容器を交換していた。従って容器交
換中はロスタイムとなり装置の稼動効率が低下し、特に
多量の薬液を消費する装置では交換頻度が高く問題が大
ぎかった。
[発明の目的コ 本発明は前記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、容器内の薬液が空になった場合、フォトプロセス装
置を停止することなく別の容器から直ちに連続的に薬液
の供給を可能としまた薬液供給動作を自動化して省力化
を図った薬液自動供給システムの提供を目的とする。
[実施例] 第1図は本発明に係る薬液自動供給システムの構成説明
図である。この実施例では2個の同様な構成の加圧薬液
容器5a、5bが配設される。各容器構造およびこれら
に接続する配管系等は同様であるため各構成部の参照番
号に添字a、bを付して両者を区別し、一方の加圧薬液
容器5aについてのみ構成を説明する。加圧ガス(N2
又はエア)を導入するためのガス配管31および薬液を
導入するための薬液配管30が加圧薬液容器5aに接続
されている。ガス配管31上には加圧弁1aおよびエア
抜き弁2aが設けられる。ガス配管31は図示しない加
圧ガス供給源に接続され、矢印Cのように加圧ガスを導
入し、エア抜き弁2aを通して矢印りのように大気に開
放される。薬液配管30上には入口弁3aおよび出口弁
4aが設けられる。
薬液配管30は図示しない薬液供給源(工場ライン)に
接続され、矢印Aのように薬液を各容器に導入する。ま
た薬液配管30は図示しないフォトプロセス装置に接続
され矢印Bのように薬液を供給する。加圧薬液容器5a
には薬液が満杯状態の上限位置および交換を要する空の
状態の下限位置を各々検知するための上限センサーSl
aおよび下限センサーS2aが備わる。
上限センサーSlaおよび下限センサーS2aの例を第
2図に示す。加圧薬液容器5a内に収容された薬液8a
の液面にマグネット付フロート9aが浮かべられる。マ
グネット付フロート9aはガイド棒10aに装着され液
面に従って上下動する。ガイド棒10aの上端部および
下端部には各々磁気センサーSlaおよびS2aが設け
られる。7aはキャップ、llaはリード線である。薬
液の充填時に容器内の薬液量が増加して液面が上昇する
とマグネット付フロート9aも上昇し、薬液が満杯状態
になると、上限センサーである磁気センサーSlaがマ
グネット付フロート9aにより、動作し検知信号を発す
る。一方、薬液の使用時、容器内の薬液量が低下すると
マグネット付フロート9aが下降し、薬液がほぼ空にな
ると下限センサーである磁気センサーS2aが動作して
検知信号を発する。
2つの加圧薬液容器5a、5bの上限センサーSla、
Slbおよび下限センサーS2a、S2bは制御回路6
(第1図)に接続され、各容器の上限および下限位置の
検知信号が制御回路6に入力される。制御回路6はさら
に各容器の加圧弁1a。
lb、エア抜き弁2a、2b、人口弁3a。
3b、および出口弁4a、4bの駆動装置(図示しない
)に接続され、前記上限および下限センサーSla 、
 Slb 、 S2a 、 S2bの出力に基いて、予
め設定したシーケンスプログラムに従って前記各弁の開
閉駆動制御を行なう。
上記制御回路6のシーケンスプログラムに基づくバルブ
制御動作のフローチャートを第3図に示し、各パルプお
よびセンサーのON10 F Fのタイムチャートを第
4図に示す。第3図(a)および(b)は各々加圧薬液
容器5aおよび5bについての制御動作を示したもので
ある。各容器5a。
5bは同様の動作を交互に行なう。制御動作がスタート
し加圧薬液容器5a内の薬液がなくなると下限センサー
S2Aがこれを検出し、EMPTY出力を発する(ステ
ップ12)。この検出信号に基き容器5aの出口弁4a
を閉じ容器5bの出口弁4bを開いて加圧薬液容器5b
から薬液を供給する。この容器5bからの薬液供給動作
とともに入口弁3aを開いて空の容器5aへの薬液充填
動作を開始する(ステップ13)。このと籾、容器内へ
の薬液の流入を円滑にするために加圧弁1aを閉じ、エ
ア抜き弁2aを開いて容器5a内のエア抜きを行なう。
上限センサーSlaが容器5a内への薬液充填完了を検
出すると(ステップ14)、入口弁3aを閉じる(ステ
ップ15)。この状態で5秒間放置しエア抜きを行ない
その後エア抜き弁2aを閉じる。続いて加圧弁1aを開
いて加圧薬液容器5aからの薬液を供給可能な状態とす
る(ステップ17)。この状態で、供給動作中の容器5
bが空かどうかを検出しくステップ19)、容器5bの
下限センサーS2bが空の状態を検出すると容器5aか
らの薬液供給動作を開始する(ステップ20)。
この容器5aからの薬液供給動作中に、容器5bに対し
、前述と同様の薬液充填動作が行なわれる。容器5aが
空になると下限センサー1aがこれを検知しくステップ
22) 、 EMPTY出力を発して(ステップ12)
前述の薬液充填動作が繰返される。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明に係る薬液自動供給システ
ムにおいては、2木の加圧薬液容器を用いて制御回路に
より交互に連続的に薬液供給のシーケンス制御を行なっ
ている。従って薬液供給中の容器が空になっても供給動
作を中断することなく直ちに別の容器から薬液供給を連
続して行なうことができ、従来のような空の容器交換に
伴うプロセスのロスタイムがなくなる。また、薬液供給
動作の完全自動化が図られ、半導体製造プロセスが効率
良く行なわれる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る薬液自動供給システムの構成説明
図、第2図は本発明で用いる加圧薬液容器の概略斜視図
、第3図および第4図は各々本発明に係る薬液自動供給
システムにおける各弁およびセンサーの動作を示すフロ
ーチャートおよびタイムチャートである。 la、lb:加圧弁、2a、2b;エア抜き弁、3a、
3b+入口弁、4a、4b:出口弁、5a、5b:加圧
薬液容器、Sla、 Slb :上限センサー、S2a
、 S2b :下限センサー。 第 3 (f)) 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、2個の薬液容器を具備し、一方の薬液容器から薬液
    を供給し、該一方の薬液容器の薬液量が下限に達すると
    他方の薬液容器から薬液供給を開始するとともに前記一
    方の加圧薬液容器に薬液を充填するように制御手段によ
    りシーケンス制御することを特徴とする薬液自動供給シ
    ステム。 2、前記薬液容器に加圧用ガス配管および薬液配管を接
    続し、該ガス配管上にガス導入用加圧弁およびガス排出
    用エア抜き弁を設け、該薬液配管上に入口弁および出口
    弁を設け、前記2個の薬液容器に各々上限に達したこと
    を検知する上限センサーおよび下限に達したことを検知
    する下限センサーの出力に基き前記加圧弁、エア抜き弁
    、入口弁および出口弁を開閉駆動して2個の薬液容器を
    交互に用いて薬液供給動作を中断することなく連続的に
    行なうように前記制御手段を構成したことを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の薬液自動供給システム。 3、前記制御手段は、前記上限センサーおよび下限セン
    サーに接続し、かつ加圧弁、エア抜き弁、入口弁および
    出口弁の各駆動装置に接続する制御回路からなることを
    特徴とする特許請求の範囲第2項記載の薬液自動供給シ
    ステム。
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