JPS6395696A - 低誘電率複合回路基板 - Google Patents

低誘電率複合回路基板

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JPS6395696A
JPS6395696A JP24163786A JP24163786A JPS6395696A JP S6395696 A JPS6395696 A JP S6395696A JP 24163786 A JP24163786 A JP 24163786A JP 24163786 A JP24163786 A JP 24163786A JP S6395696 A JPS6395696 A JP S6395696A
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JP
Japan
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dielectric constant
circuit board
composite circuit
low dielectric
constant composite
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JP24163786A
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JPH051994B2 (ja
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秀男 高見沢
嶋田 勇三
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NEC Corp
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高速半導体素子等を実装するための低誘電率複
合回路基板に関する。
〔従来の技術〕
従来、半導体素子及びコンデンサ等の回路部品の実装用
基板としては、紙フェノール及びガラスエポキシ等のプ
リント回路基板及びアルミナセラミック基板が用いられ
ている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、大型高速コンピュータの高性能化に伴な
って素子の性能を損うことなく基板に実装することが重
要となってきている。性能で重要なことは信号パルスの
遅延時間を可能な限り少なくすることである。遅延時間
は基板の誘電率の平方根に比例するため、誘電率を下げ
ることが重要となる。通常、プリント回路基板の誘電率
は4.0以上であり、特にアルミナ系セラミック基板は
8.0以上と大きい。また、最近、一部実用化されたポ
リイミド系セラミック基板においては、誘電率3.8程
度であるが、一層の高速性の要求に伴なって誘電率3.
5以下の低誘電率基板が求められる。この要求を充足す
るためにフッ素樹脂及びポリスチレン系樹脂基板等の開
発検討が推進されているが、メタライズ性及び高温にお
ける熱変形が大きい等の問題があるため、高密度回路基
板としては未だ実用化されていない。また、高速半導体
素子の高密度実装基板には上述した低誘電率化を中心と
する電気特性の改善と共に、耐熱性、抗折強度(曲げ強
度)及び吸水性の改善が求められる。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の低誘電率複合回路基板は、3VOe%から6o
vog%の空隙と、80wt%以上ノ5i02を含む1
0 VO1!%以上のガラスセラミック繊維と、8ov
oe%以下のフッ素樹脂と、残部を構成する熱硬化性樹
脂とから成る。
〔作用〕
本発明の低誘電率複合回路基板において、フッ素樹脂は
低誘電率基板を構成するが、含有量が80vOe%を越
えると、高温下で大きな熱変形を招いたり、メタライズ
の信頼性を欠く。したがって、フッ素樹脂の含有量は8
0VO1!%以下が望ましい。また、基板中に設ける空
隙は誘電率を低下させるために有効であるが60VOe
%を越えると強度の低下をきたす。基板の抗折強度は2
0kg/關2以上であることが望ましい。また、空隙が
3vOe%以下では低誘電率化の効果が小さい。ガラス
セラミック繊維は織布として複合回路基板の補強剤及び
熱変形温度を上げるために用いるが、低誘電率化のため
酸化硅素5i02含有率の高い繊維、つまりSiO□を
80wt%以上含有することが望ましい。また、ガラス
セラミ・ツク繊維は補強剤として10VOff%以上必
要である。複合回路基板の残部を構成する熱硬化性樹脂
としては、エポキシ、ポリイミド、フェノール、ジアリ
ルフタレート、メラミン、ポリアミド、トリアジン及び
熱効果ポリエステル等が有効であるが、耐熱性の点から
エポキシ、ポリイミド、トリアジン及びジアリルフタレ
ートが特に望ましい。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について説明する。
本発明の第1の実施例の低誘電率複合回路基板は、フッ
素樹脂としてテフロン粉末45VOl%と5i0290
%純度のガラス織布20VOl%と熱硬化性樹脂として
エポキシ樹脂2OVO&’%と空隙を形成するポリカプ
ロラフ)−ン10vOe%とを用いて、200℃、 4
0kg/cm2の条件下で加圧成型した。厚さ1.Oi
mの銅張基板に構成後、電気特性をLCRメータにより
測定した結果、IMIlzの周波数で誘電率2.4.誘
電損失o、oo8及び絶縁抵抗5X10”Ωの値を得た
。また、抗折強度は40kg/lll112であった。
第2の実施例の回路基板は、テフロン粉末15vog%
と5i1)295%純度のガラスミR布30VOl%と
エポキシ樹脂30VOf%とポリカプロラクトン10V
O4?%トを用イテ、180℃、 30 kg/cm2
で加圧成型した。上記第1の実施例と同じ方法により測
定した結果、誘電率3.0及び誘電損失0.0011を
得た。また、他の特性は第1の実施例とほぼ同じ値であ
った。
次に、第3の実施例の回路基板は、テフロン粉末65V
O4’%とSiO□純度95%のガラス繊維によるガラ
ス織布10VO1!%とジアリルフタレート2ovol
!%とポリカプロチクトン5VOl%とを用い、200
℃、 40 kg/’cm2において加圧成型した。電
気特性を測定した結果、誘電率2.6及び誘電損失0.
008を得た。抗折強度等の他の特性は第1の実施例と
ほぼ同じであった。
さらに、第4の実施例の回路基板は、テフロン粉末50
VIH’%と5i02純度95%のシリカガラス繊布2
0VOe%とポリイミド樹脂25VOff%とポリカプ
ロラクトン5VO4’%とを用い、230℃。
50kg/′cm2において加圧成型した。電気特性と
し5て誘電率2.5.誘電損失0,01及び絶縁抵抗7
×10′2Ωを得た。また、抗折強度は60 kg /
 +am 2であった。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、フッ素樹脂とSi
O□含量の高いガラス繊維と空隙とにより抗折強度が大
きくかつ誘電率が小さい組織にし、さらに熱硬化性樹脂
を用いて基板の性能、特に熱変形温度を上げることによ
り、誘電率3.5以下でかつ基板性能の優れた複合回路
基板が得られた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  3VOl%から60VOl%の空隙と、80wt%以
    上のSiO_2を含む10VOl%以上のガラスセラミ
    ック繊維と、80VOl%以下のフッ素樹脂と、残部を
    構成する熱硬化性樹脂とから成ることを特徴とする低誘
    電率複合回路基板。
JP24163786A 1986-10-09 1986-10-09 低誘電率複合回路基板 Granted JPS6395696A (ja)

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JP24163786A JPS6395696A (ja) 1986-10-09 1986-10-09 低誘電率複合回路基板

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JPS6395696A true JPS6395696A (ja) 1988-04-26
JPH051994B2 JPH051994B2 (ja) 1993-01-11

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ID=17077275

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03159188A (ja) * 1989-11-16 1991-07-09 Toshiba Chem Corp プリント回路用基板
WO2022122607A1 (en) 2020-12-08 2022-06-16 Merck Patent Gmbh An ink system and a method for inkjet printing

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