JPS6394622A - 書き込みレーザー光線の位置決めをし同期化するための装置及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、チップの縁部領域に走査レーザー光線用の認
識パターンが設けられ、それらのパターンはチップの表
面の他の部分に対して走査レーザー光線を異なった強さ
で反射する、レーザー−パターン−発生器を用いたレー
ザー書き込み方法でチップに対して書き込みレーザー光
線を位置決めし同期化させる装置及び方法に関する。

ヨーロッパ特許公開第００８８０４５号公報にはモノリ
スな集積半導体装置における導電領域の製造方法並びに
その方法により製造された記録密度の高い半導体装置が
含まれている。単独の集積回路を製造する場合Ｐ−及び
Ｎ−構造体乃至はＮ−及びＰ−構造体を有する普通のシ
リコン板が使用され、その上にそれぞれ各使用目的に応
じてこれらの構造体を接続するため固ａの接触面が作ら
れる。前照て作るチップの上には導電層と前照て作る凹
部とがあり、これらはプログラムに従って書き込みレー
ザー光線を用いて線形の転写によって結合され、従って
凹部は島のような領域の結合点、終了点および／または
コーナ一点を形成する。島のような領域はそれ相応の接
触面及び構造体と導電的に結合されている。

ヨーロッパ特許公開第０１６８３５１号公報にはレーザ
ー−パターン−発生器及びそれを駆動するための方法が
記載され、図示されている。このレーザー−パターン−
発生器は書き込みレーザー光線を発生するためのレーザ
ー装置と走査レーザー光線を製造するためのレーザー装
置とを含んでいる。走査レーザー光線でもってこの刊行
物に詳細に記載された電子技術を介してチップの表面が
走査され、そして種々の強さの反射に関しては少なくと
も１つの検出器で評価がなされ、次に論理装置を用いて
書き込みレーザー光線及びチップの相互運動が制御され
る。この方法及びそれに対応するレーザー−パターン−
発生器は後で第５ａ図及び第５ｂ図を用いて詳細に説明
される。

本発明の課題は、位置決め及び同期化が更に正確な要求
を満足しうるものであり且つ加工速度が更に上昇されう
る様な初めに述べた種の装置及び方法を形成することに
ある。

この上記の課題は初めに述べた種の装置にあっては、チ
ップの少なくとも２つの縁部に沿ってその表面上に同期
化構造体及びステップ認識構造体を有する第１の入力コ
ードが延びているようにして解決される。第１の入力コ
ードのこの列内には従って同期化構造体とそれに続くス
テップ認識構造体が含まれており、その際これら２つの
構造体は反射された走査レーザー光線を評価するための
適当な情報を与えている。

目的に叶った発展形態によれば第１の入力コードの長子
方向に対して直角なチップの表面上には論理回路を有す
るフレームのコーナーの方向に通しコードが延びている
。この通しコードは、吉き込みレーザー光線の通路が論
理回路の適当なコーナーで始まることを確保している。

論理回路を取り囲むフレームにはそれぞれ１つの第２の
入力コードが設けられると有利である。この第２の入力
コードは論理回路の構造体に対して書き込みレーザー光
線の精密で同心的な調整に役立つ。

それぞれ適当な第１の入力コードと平行にフレームの外
側の縁部領域上には第２の入力コードが延びているのが
より目的に叶っている。この第２の入力コードは核構造
体（いわゆる格子フィールド）の近くにあり、従って同
期化の最適な微細な修正を許すものである。

書き込み及びチップの相互の位置決め及び同期化に対す
る方法はより目的に叶うように次の点にその本質がある
。即ち各１つの走査レーザー光線で第１の入力コード及
び／又は通しコード及び／又は第２の入力コードが走査
され、次にチップの表面によって影響され反射された走
査レーザー光線が少なくとも１つの検出器で受信され、
その後評価され、そしてその評価に基づいてデツプ及び
書き込みレーザー光線の相互運動が予め決めたパターン
により制御され、場合によっては修正される。従ってそ
れが必ずしも必要でないにも拘わらず、これらあらゆる
３種のコードを利用するのが有利であることは明瞭であ
る。この方法でもってチップの”内側”のパターンに対
して”外側”の予め決めたパターンを結合することによ
る関連状態が確保されることになる。

光学系の利用に関して走査レーザー光線がチップ表面の
範囲において書き込みレーザー光線と同心に導かれる時
、より目的に叶っている。

チップ表面の範囲にある走査レーザー光線が書き込みレ
ーザー光線の前に導かれていることも勿論可能である。

この方法の場合勿論より速く情報が届くことになる、従
って書き込みレーザー光線及びチップの相対運動の場合
による修正を実現することにかなりの時間を要すること
になる。

次に実施例に基づいて本発明の詳細な説明することにす
る。

全ての図面において同一部分には同一の参照番号を付し
である。

第１図はチップｌを示し、その表面には１つの調整構造
体２及び複数の調整部材３がある。

チップｌ上に示された部材は走査レーザー光線２３′　
（第５ａ図、第５ｂ図参照）を種々の強さで反射する。

デツプｌの縁部に沿って第１の入力コード４が延びてい
る。上方縁部には他の第１の入力コード４′の一部が示
されており、これはデツプｌの他の縁部と平行に延びて
いる。

第１の入力コード４は２つの平行に延びる構造体、即ち
同期化構造体５とステップ認識構造体６とから出来てい
る。この構造体の課題は既にその名称によって示されて
いる。第１の入力コード４の長手方向に対して直角に論
理回路１２を有するフレーム１１．１１’　のコーナー
１４の方向に通しコード７が延びている。だの通しコー
ド７′は他の第１の入力コード４′の長手方向に直角に
延びている。同様に第１の入力コード４に直角に文字記
入フィールド８が延びており、そのフィールドは概ねブ
ロック網目文字で製造されており、顧客名称、場合によ
っては型式を含むことも良い。第１図の下方部分には接
続回路−ＰＡＤ−９かあり、それは上方右側のコーナー
において他の接続回路９′に対応している。これらの接
続回路９，９′とそれに対応する入力構造体及び出力構
造体１０．１０’とが結合されており、それらは勿論フ
レーム１ｉ、ｉｉ’　に接続されている。このフレーム
１１．１１′−ヒには第２のコード１３があり、これは
第１の入力コード４と平行に延びており、そして他の第
２の入力コード１３’　は他の第１の入力コード４′　
と平行に位置している。

第２図には第１図の詳細部■が示されている。

この拡大された詳細部は同期化構造体５とステップ認識
構造体６を有する第１の入力コード４の上方部分を含み
、そして通しコード７への平面図を含んでいる。第１の
入力コード４は加工情報を与え、そして通しコード７は
通しコード７は走査レーザー光線及び書き込みレーザー
光線２１．２３’を正確な方向で加工すべき論理回路１
２の始めの方へ導くものである。

第３図は同期化構造体５とステップ認識構造体６の別の
２つの部分を示すものである。このために、文字記入フ
ィールド８の位置部が略図的に示され、その課題は既に
述べたとおりである。

第４図に従う拡大された詳細部は再び周辺構造体（ＰＡ
Ｄ−フィールド）と、同時にその格子フィールド（論理
回路）を有する構造体を示すものである。そこには接続
回路９とそれに従属する入力及び出力構造体ｌＯの略図
が明示されている。この入力及び出力構造体ｌＯはフレ
ーム１１に接続されており、更にフレーム１１内にある
論理回路１２と電気的に結合されている。フレーム１１
の縁部には第２の入力コード１３がある。

第５ａ図及び第５ｂ図はヨーロッパ特許公開ｉ　０１６
８３５１号公報によるそれ自体公知のレーザー−パター
ン−発生器の略図を示している。

この発生器では先に説明した方法が非常に有利なものと
して実現でき、そして先に説明したチップを加工するこ
とが出来る。第５ａ図によれば書き込みレーザー光線源
Ａ及び走査レーザー光線源Ｂが光学軸と平行して水平状
態に配設されている。書き込みレーザー光線源Ａは書き
込みレーザー装置１５を含み、その後ろに装置が開いた
場合書き込みレーザー光線２１を遮断するためにレーザ
ー光線スイッチ１６がある。絞り孔１６’　は書き込み
レーザー装置１５の拡大器１８の中に設けられている。

これらの構成部材の間で光軸には変調器１７がある。拡
大器１８のレンズは番号１８′で示され、全体の書き込
みレーザー光線源Δはケーシング１９の中に支承されて
いる。変調器１７と拡大器１８とは調節可能な固定部材
２０でもって前記ケーシング１９の中に保持されている
。全体のケーシング１９は同様に調節可能な固定部材２
０を有し、それらはこの書き込みレーザー光線源Ａの光
軸を正しく配向することを可能にしている。書き込みレ
ーザー光線は参照番号２１で示されている。走査レーザ
ー光線源Ｂはケーシング２２の中に支承されている。こ
の光線源Ｂは走査レーザー装置２３を含み、その装置か
ら走査レーザー光線２３′が走査レーザー光線Ｂの拡大
器２４の中に誘導されている。この拡大器２４も既に述
べ１こレンズ１８′に対して付加的に絞り孔２５を含ん
でいる。走査レーザー光線源Ｂは、書き込みレーザー光
線源へを説明した時に既に述べたのと同じまた別の部材
を含んでいる。

走査レーザー装置２３から走査レーザー光線２３′が拡
大器２４の中に導かれる。走査レーザー光線源の構成部
材はケーシング２２の中に支承され、ごのケーシングは
調節可能な固定部材２０を有するケーシング１９と同様
型しい位置に育すことか出来る。書き込みレーザー光線
２１と走査レーザー光線２３′の光軸の方向にレーザー
光線集光″？：、Ｃがある。この集光器はケーシング２
６の中に書き込みレーザー光線分光器２７と走査レーザ
ー光線鏡２８とを含んでおり、それらは第５ａ図中平面
図で示されている。

これらの部材は上記ケーシング２６の中で５．１節部材
３０を用いて調節可能に支承されている。

書き込みレーザー光線分光器２７の左に書き込みレーザ
ー光線検出器２９があり、これは書き込みレーザー光線
２１の正しい出力位置をコントロールする。反射された
書き込みレーザー光線２１及び反射された走査レーザー
光線２３′は同一軸線３１上で結合するが、その軸線は
次に直接第５ｂ図に通じている。この第５ｂ図は垂直な
光軸を備えている。共通の光線路３Ｉがまず走査レーザ
ー光線分光器３２に集まる。ここから光線の’Ｊ要な部
分が対物レンズヘッドＤの対物レンズ３３へ進み、更に
材料ウェファ−Ｇへと進む。同一軸線上に導かれた書き
込みレーザー光線３！の方向で走査レーザー光線分光器
３２の後ろに検出器３２′がある。この検出器３２′の
課題は、正しい光線路３１を監視することである。対物
レンズ３３は調節部材３４を備え、それには圧電的駆動
装置３５が設けられている。対物レンズヘッドＤの真上
にはレボルバ−型ヘッドＥが回転可能に配設されており
、その際この対物ヘッドＤとレボルバ−型ヘッドＥとは
一つの機能ユニット、光学モジュールＦを形成している
。対物レンズヘッドＥは本質的に１つのレボルバ−保持
体３５を有しており、その−ヒにこの例では回転可能に
走査レーザー光線検出器３７、ひずみ干渉計接眼レンズ
３８（シェリングーインターフェロメーター）及び線条
交差部を有する顕微鏡接眼レンズ３９がある。

この顕微鏡接眼レンズ３９には安全性の理由から書き込
みレーザー阻止フィルターが設けられている。

第５図には図面を見易くするという理由からレボルバ−
型ヘッドＥが展開した、従って直線形に図示されている
。

この実施例において４作き込みレーザー装置１５として
当然空気冷却式ヘリウム−カドミウムレーザーシステム
（マーク　リコニックス、サニーベイル、　ＣＡ　９４
０８６．　ｔＪｓＡ）が使用された。

このレーザー装置は、冷間及び暖気スタートで、時間プ
ログラム及び点火制御装置付きの電流制御の高圧給電装
置　リコニックス、モデル４２０ｏ　ｐｓ、と、並びに
レーザー装置　モデル４１１０Ｂとから出来ている。書
き込みレーザー装置１５の主な特徴は次の如くである。

光の波長４４２ｎｍ、光出力ｔｏＩ１１ｅ（連続光）、
強度は通常光線直径に渡って配分されており、偏光方向
は水平方向に±５％、光線直径１．１ｍｍである。

走査レーザー装置２３は勿論空冷式メレスグリオット、
（Ｉ　Ｌ　Ｅ　ＥＡＧ、スイスーシュリーセン）ヘリウ
ム−ネオン−レーザーシステムで、これはレーザー装置
、モデル０５−　Ｌ　）（Ｉ）　−１１１とモデル０５
−　Ｌ　Ｐ　Ｎ−３４０給電装置（１８００Ｖ、６．５
　ｍＡ　）とから成っている。光の波長は６３３ｎｍ、
光出力は１　　ｍｌ！であり、冷間スタートによる光軸
のずれは２００μＲａｄ未満であり、１５分駆動後は３
０μＲａｄである。光線分散は１．３　ｍＲａｄ、光出
力の制御ずれは±５％未満である。

変調器１７は勿論空冷式電気制御のコヒレントの青色レ
ーザー光線遮断器システム（コヒレント　アソシエイツ
、ダンバリー、コネチカッ１−０６８１０　ＵＳΔ）で
あり、それは制御装置モデル３１と変調器モデル　３０
１Ｏから出来ている。変調器−管は壊れ易く同じ屈折率
を有する液体の中に埋め込まれＲつ２つの制御電極及び
出力に組み付けられたフォトグイオード光度計を有する
カリウムジヒドロゲン燐酸塩−結晶を含んでいる。この
結晶は偏光フィルターとして作用し、その方向角度は約
６００ｖの電圧で９０度以−に回転されうる。

拡大器１８は２つの集光レンズと、”ピンホール”とも
称される１つの絞り孔とからなり、それは１０μｍの直
径を肴ｆし、集光レンズの共通の焦点に位置している。

この拡大器は直径を拡大し、拡大比でレーザー光線の拡
散を小さくする。この比は焦点間距離の比であり、そそ
で出力光線における絞り孔の中の光点の像を転写し、即
ち例えば埃のために生ずる到着するレーザー光線の暗い
点のために距離か離れ、そして出力光線の方向を入力光
線の方向に関係ないものとする。

分光器２７として二色性の分光器が使われ、これは−側
で蒸着された誘電性の金属層を有する・［面平行のガラ
スプレートから出来ている。

これは、ｒｒ通力方向当たる所定の波長の、即ち一色の
光を同じ方向に貫通させ、その際光線用［１点をガラス
の厚さに関係した所定の波長のためのガラスの屈折率に
関連してずらす。

それ自体公知の圧電的駆動装置３５はこの例では、バー
レイ、モデルｉ’Ｚ７０．ｌ　０００Ｖ給電装置と、バ
ーレイ、モデルＰＺ４０圧電変換器とからできている。

圧電結晶積層体は印加された電圧とほぼ比例して膨張し
、それによって水平軸内で対物レンズ３３をずらす。

顕微鏡は対物レンズ３３と顕微鏡接眼レンズ３９とから
出来ている。対物レンズ３３は作業側でスタンダードの
被覆ガラスが有ったり無かったりで集光レンズシステム
を備え、同心的で平行に入ってくる計と赤のレーザー光
線を作業間距離で出来るだけ小さな焦点斑点に焦点合わ
せをし、焦点斑点に同心的に位置する緑に照明された画
像フィールドの拡大された空気像を誘導し、その空気像
は顕微鏡接眼レンズ３９で観察することができる。それ
は圧電的駆動装置３５による機械的ずれを画像および焦
点斑点の中心点をずらすように変換する。従って方向Ｚ
への必要な調整はΔＺだけ、そしてＹ方向にはΔＹだけ
調整が行われる。ΔＺだけのずれ範囲が矢印によってマ
ーキングされている。ΔＹのずれ範囲はそれに体して直
交している。

顕微鏡接眼レンズ３９はルーペの機能を有する集光レン
ズシステムとして形成されており、対物レンズ３３の空
気像から拡大された可視像を誘導する。

ひずみ干渉計は光線路内にずらし込みうる鏡と、平面平
行のガラスプレートと、接眼レンズ３８とからなり、対
物レンズ３３の焦点平面から反射するアルミニウム面の
距離のずれを測定するためにひずみ干渉計を形成する。

検出器２９．３２’　及び３７は合目的的にはそれぞれ
１つのシリコン−フォトダイオードの中央の内側の鈍感
な装置と外側の敏感な装置とからできている。これらの
フォトダイオードは材料によって反射された又は他の方
法で得られたレーザー光線に、該当するレーザー光線が
正しい位置にあるか又はこの位置から所定の方向に離れ
ているかどうかということの確認を誘導するものである
。

金属被覆された網目は本発明に従う装置では関連構造体
として役立つ。２つの網目ストリップの間隔は例えば７
μｍであり、その幅は５μｍである。書き込みレーザー
装置１５は最後に述べた例では例えば４５８ｎｍ波長で
１から５ｍＷ　　のアルゴンイオンレーザ−（例えばス
ペクトラ　フィジイクス、マウンテン　ビュー、カルフ
ォルニア、モデル　１６２Ａ、０７　、　　アメリカン
レーザーＣｏｒｐ、　、ソルト　レイク　シティ−、ウ
タ、モデル　６０Ｃ）　、又は４４２ｎｍで７から４０
ｍＷ出力の１ｉｅ−Ｃｄ−レーザー、又は３２５　ｎｍ
でｌから１０ｍｍのレーザー（例えばリコニックス、サ
ニーベイル、カルフォルニア、モデル４２００　Ｎ又は
４２００　ＮＢ　）。

連続的にレーザー出力を切り換えることはまた電子光学
的変調器で一光線スイッチ１７−（例えばコヒレント　
Ｉｎｃ、、パロ　アルド、カルフォルニア、変調器部門
　モデル　３０１０）又は音響光学的変調器−光線スイ
ッチ−（例えばコヒレント　変Ａ器部門　モデル　３０
４Ｄ）により行われる。必要な切換え時間は、１Ｆき込
み速度及び場所的な解明から生じ、それは例えば２μ秒
である。次に続く光線拡大４１８は光線直径を例えば１
０倍に高める。水平の１１Ｆき込み光線は　１畢直の方
向に偏向鏡でもって偏向される。対物レンズ３３はこの
例では１８ｍｍの焦点を有し、１０ｍｍの直径を有して
いる。結果として生ずる斑点の大きさは約２μｍであり
、そして焦点深度は約１３μｍである。偏向鏡はより制
御可能に又は調整可能に設けろと良い。

走査レーザー装置２３はこの例では０．６５　ｍｍ光線
直径でＩ　　ｍＷの！Ｉｅ−Ｎｅレーザーである。これ
は拡大器２４で４倍に拡大され、そして調整可能な偏向
鏡で書き込みレーザー光線に重ねられる。

発明対象の機能の仕方は部分的に既に而の部分に記載さ
れている。

本発明の対象は勿論説明されたものに限定されるもので
はない。１つのレーザー装置又は複数のレーザー装置は
図示したものと違っていても良いし、走査レーザー光線
及びｊＩき込みレーザー光線の光学的案内は別のように
実施することもできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、特徴的な周辺構造体と示唆された核構造体と
を’Ｉｆする本発明に従うチップのコーナーへの略図を
示すものであり、第２図から第４図までは第１図の拡大
した詳細部■から■を示すものであり、第５ａ図及び第
５ｂ図は本発明に従う方法をより目的に叶って実現しう
るヨー【１ツバ特許公開第０１６８３５１号公報からそ
れ自体公知のレーザー−パターン−発生器の略図をそれ
ぞれ示すものである。 図中参照番号 １・・・・チップ ２・・・・調整溝造 ３・・・・調整部材 ４．４′　・・・第１の入力コード ５・・・・同期化構造体 ６・・・・ステップ認識構造体 ７．７′　・・・通しコード ８・・・・文字記入フィールド ９．９′　・・・接続回路（ＰＡＤ） １０．１０’　　・・・入力及び出力構造体１１．１１
’　　・・・フレーム １２・・・論理回路 １３．１３’　　・・・第２の入力コード１４・・・フ
レーム１１．１１’のコーナー１５・・・書き込みレー
ザー装置 １６・・・書き込みレーザー装置のレーザー光線スイッ
チ １６′　・・・拡大器１８の絞り孔 １７・・・変調器 １８・・・占き込みレーザー装置１５の拡大器１９・・
・占き込みレーザー光線源へのケーシング ２０・・・調節可能な固定部材 ２１・・・占き込みレーザー装置 ２２・・・走査レーザー光線源Ｂのケーシング２３・・
・走査レーザー装置 ２３′　・・・走査レーザー光線 ２４・・・走査レーザー光線源Ｂの拡大器２５・・・絞
り孔 ２６・・・レーザー光線集光器Ｃのケーシング２７・・
・占き込みレーザー光線分光器２８・・・走査レーザー
光線源 ２９・・・書き込みレーザー光線検出器３０・・・レー
ザー光線集光器Ｃの調節部材３Ｉ・・・同一軸上に導か
れた書き込み及び走査レーザー光線２１．２３’ ３２・・・走査レーザー光線分光器 ３２′　・・走査レーザー光線分光器３２の検出器 ３３・・・対物レンズヘッドＤの対物レンズ３４・・・
対物レンズ３３の調整部材 ３５・・・圧電的駆動装置 ３６・・・レボルバ−型保持体 ３７・・・走査レーザー光線検出器 ３８・・・ひずみ干渉計接眼レンズ ３９・・・線条交差を有する顕微鏡接眼レンズ３９′　
・・・とき込みレーザー阻止フィルターＡ・・・・占き
込みレーザー光線源 Ｂ・・・・走査レーザー光線源 Ｃ・・・・レーザー光線集光２に ■）・・・・対物レンズヘッド Ｅ・・・・レボルバ−型ヘッド Ｆ・・・・光学モジュール Ｇ・・・・材料−ウニバー

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）チップ（１）の縁部領域に走査レーザー光線用の
   認識パターンが設けられ、それらパターンがチップの表
   面の他の部分に対して走査レーザー光線（２３′）を異
   なった強さで反射する様な、レーザー−パターン−発生
   器を用いたレーザー書き込み方法でのチップ（１）に対
   して書き込みレーザー光線（２１）の位置決めをし同期
   化するための装置において、表面上でチップ（１）の少
   なくとも２つの縁部に沿って同期化構造体（５）とステ
   ップ認識構造体（６）とを有する第１の入力コード（４
   ，４′）が延びていることを特徴とする装置。
2. （２）第１の入力コード（４）の長手方向に対して直角
   なチップの表面上に論理回路（１２）を有するフレーム
   （１１，１１′）のコーナー（１４）の方向に通しコー
   ド（７，７′）が延びていることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項に記載の装置。
3. （３）論理回路（１２）を取り囲むフレーム（１１，１
   １′）にはそれぞれ１つの第２の入力コード（１３，１
   ３′）が設けられていることを特徴とする特許請求の範
   囲第２項に記載の装置。
4. （４）第２の入力コード（１３，１３′）はフレーム（
   １１，１１′）の外側縁部領域上でそれぞれ適当な第１
   の入力コード（４，４′）と平行に延びていることを特
   徴とする特許請求の範囲第３項に記載の装置。
5. （５）表面上でチップ（１）の少なくとも２つの縁部に
   沿って同期化構造体（５）とステップ認識構造体（６）
   とを有する第１の入力コード（４，４′）が延びている
   、チップ（１）の縁部領域に走査レーザー光線用の認識
   パターンが設けられ、それらパターンがチップの表面の
   他の部分に対して走査レーザー光線（２３′）を異なっ
   た強さで反射する様な、レーザー−パターン−発生器を
   用いたレーザー書き込み方法でチップ（１）および書き
   込みレーザー光線（２１）の位置決めをし同期化するた
   めの方法において、走査レーザー光線（２３′）でもっ
   て第１の入力コード（４，４′）及び／又は通しコード
   （７，７′）及び／又は第２の入力コード（１３，１３
   ′）が走査され、次にチップ（１）の表面によって影響
   を受け反射された走査レーザー光線（２３′）が少なく
   とも１つの検出器（３７）で受信され、その後評価され
   、そしてその評価に基づいてチップ（１）及び書き込み
   レーザー光線（２１）の相互運動が予め決められたパタ
   ーンによって制御されそして場合によっては修正される
   ことを特徴とする方法。
6. （６）走査レーザー光線（２３′）がチップ−表面の範
   囲で書き込みレーザー光線（２１）と同軸的に導かれる
   ことを特徴とする特許請求の範囲第５項に記載の方法。
7. （７）走査レーザー光線（２３′）がチップ−表面の範
   囲で書き込みレーザー光線（２１）の前に導かれること
   を特徴とする特許請求の範囲第５項に記載の方法。