JPS6393193A - 銅導体厚膜回路基板の製造方法 - Google Patents
銅導体厚膜回路基板の製造方法Info
- Publication number
- JPS6393193A JPS6393193A JP23834186A JP23834186A JPS6393193A JP S6393193 A JPS6393193 A JP S6393193A JP 23834186 A JP23834186 A JP 23834186A JP 23834186 A JP23834186 A JP 23834186A JP S6393193 A JPS6393193 A JP S6393193A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper conductor
- thick film
- circuit board
- copper
- film circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 41
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims description 38
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims description 38
- 239000004020 conductor Substances 0.000 title claims description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 10
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 7
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 claims 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 17
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、産業用や民生用の各種電子機器に用いること
ができる銅導体厚膜回路基板の製造方法に関するもので
ある。
ができる銅導体厚膜回路基板の製造方法に関するもので
ある。
従来の技術
近年、電子機器に用いる回路基板は小型化や多機能化と
ともに低価格化の要求が強くなってきている。小型化、
多機能化には回路基板を多層化し、部品の実装密度を高
めることで対応する傾向にある。一方、低価格化へはこ
れまで使用度の高いＡｇ−Ｐｄ導体材料に代わってＡｇ
−Ｐｄ導体材料より低価格であり、電気抵抗が低く、か
つマイグレーションが発生しに（いＣ，ｕ導体材料が注
目され各方面での使用度が高くなってきている。
ともに低価格化の要求が強くなってきている。小型化、
多機能化には回路基板を多層化し、部品の実装密度を高
めることで対応する傾向にある。一方、低価格化へはこ
れまで使用度の高いＡｇ−Ｐｄ導体材料に代わってＡｇ
−Ｐｄ導体材料より低価格であり、電気抵抗が低く、か
つマイグレーションが発生しに（いＣ，ｕ導体材料が注
目され各方面での使用度が高くなってきている。
以下、図面を参照しながら、従来の銅導体厚膜回路基板
の製造方法の一例について説明する。
の製造方法の一例について説明する。
第１図は銅導体回路基板の断面を図示するものである。
第１図において、１はＡ１２Ｏｆｆなどのセラミック基
板であり、２は前記ＡＩｔｏ：＋基板ｌの上面に回路を
形成している銅導体層である。
板であり、２は前記ＡＩｔｏ：＋基板ｌの上面に回路を
形成している銅導体層である。
以上のように構成された銅導体回路基板の製造方法につ
いて、以下に詳細に述べる。
いて、以下に詳細に述べる。
まずＡ１２Ｃｈ基板１の上面にスクリーン印刷技術を用
い、銅金属粉末を主成分とする無機粉末に有機溶剤やバ
インダーに分散混合して得られる銅導体ペーストで回路
パターンを印刷形成し、空気中１２０℃で１０〜１５分
乾燥する。その後、ピーク温度８５０〜９００℃の範囲
内の温度で中性雰囲気条件のもとて焼成することで、銅
導体厚膜回路基板が得られる。
い、銅金属粉末を主成分とする無機粉末に有機溶剤やバ
インダーに分散混合して得られる銅導体ペーストで回路
パターンを印刷形成し、空気中１２０℃で１０〜１５分
乾燥する。その後、ピーク温度８５０〜９００℃の範囲
内の温度で中性雰囲気条件のもとて焼成することで、銅
導体厚膜回路基板が得られる。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような製造方法では銅導体層とセラ
ミック基板との接着強度に問題を有し、例えば１５０℃
で熱エージソゲした場合エージング時間が長くなると著
しい接着強度の低下がみられる。そのため、一部には銅
ペーストにバインダとして無機酸化物を添加してその接
着力を増す努力がなされているが、半田付は性が極端に
悪くなるなどの影響から、実用上満足するペーストは少
ない。
ミック基板との接着強度に問題を有し、例えば１５０℃
で熱エージソゲした場合エージング時間が長くなると著
しい接着強度の低下がみられる。そのため、一部には銅
ペーストにバインダとして無機酸化物を添加してその接
着力を増す努力がなされているが、半田付は性が極端に
悪くなるなどの影響から、実用上満足するペーストは少
ない。
本発明は上記問題点に鑑み、銅導体層の接着強度を何等
の添加物を加えることなく高めることを可能とする銅導
体厚膜回路基板の製造方法を提供するものである。
の添加物を加えることなく高めることを可能とする銅導
体厚膜回路基板の製造方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の銅導体厚膜回路基
板の製造方法は、銅導体ペースト印刷・乾燥後の焼成工
程において、銅導体シート抵抗・半田付は性等に悪影響
を及ぼさない範囲において焼成炉内の酸素濃度を増加さ
せることにより銅導体層の接着強度を向上させるもので
ある。
板の製造方法は、銅導体ペースト印刷・乾燥後の焼成工
程において、銅導体シート抵抗・半田付は性等に悪影響
を及ぼさない範囲において焼成炉内の酸素濃度を増加さ
せることにより銅導体層の接着強度を向上させるもので
ある。
作用
本発明は上記した製造方法にすることにより、銅粒子の
酸化が進み、その結果として銅酸化物が生成されること
によりセラミック基板との界面において、焼成時にいわ
ゆるｃｕＡｌｚｏａなる化学式を有するスピネルが形成
されるため、初期の接着強度が増加し、合せて熱エージ
ングにおいても安定な接着が得られるものである。
酸化が進み、その結果として銅酸化物が生成されること
によりセラミック基板との界面において、焼成時にいわ
ゆるｃｕＡｌｚｏａなる化学式を有するスピネルが形成
されるため、初期の接着強度が増加し、合せて熱エージ
ングにおいても安定な接着が得られるものである。
これらの効果は、銅粒子の酸化度合によって大きくなる
が、他方その割合が一定量をこえると、半田付は性が悪
くなり、時にはシート抵抗も著しく高くなるので適度な
０□量を必要とする。
が、他方その割合が一定量をこえると、半田付は性が悪
くなり、時にはシート抵抗も著しく高くなるので適度な
０□量を必要とする。
実施例
以下本発明の一実施例の銅導体厚膜回路基板の製造方法
について図面を参照しながら説明する。
について図面を参照しながら説明する。
銅導体厚膜回路基板の構成は従来例と同じであり、前記
基板の断面図を第１図に示す。第１図において、１はＡ
ｌ２Ｏ２などのセラミック基板であり、２は前記Ａ Ｉ
ｚ Ｏ：ｌ基板１の上面に回路を形成している銅導体
層である。
基板の断面図を第１図に示す。第１図において、１はＡ
ｌ２Ｏ２などのセラミック基板であり、２は前記Ａ Ｉ
ｚ Ｏ：ｌ基板１の上面に回路を形成している銅導体
層である。
以上のように構成された銅導体厚膜回路基板の製造方法
の実施例を以下に説明する。
の実施例を以下に説明する。
まずＡＩ□０３基板１の上面にスクリーン印刷技術を用
い、銅金属粉末を主成分とする無機粉末に有機溶剤やバ
インダーに分散混合して得られる銅導体ペーストで回路
の印刷形成を行い、１２０℃１５分間の条件で乾燥する
。次にコンベア式厚膜焼成炉にて、ピーク温度９００℃
の中性雰囲気中６０分サイクルで焼成を行う。焼成時に
おけるバインダー除去ゾーンの酸素濃度条件を第１表に
示す。第１表のバインダー除去ゾーンの酸素濃度条件で
焼成をおこなったサンプルの接着強度を測定した結果を
図２に示す。焼成後の接着強度は各条件ともに変わらな
いが、１５０℃の高温下で４８時間放置した後の接着強
度は、条件１では０．４ｋｇ ／ ｚｌｌ”となってい
るが、酸素濃度を増してい（と接着強度は高くなってい
く傾向を示し条件４では１．５ｋｇ／ｍｍ”と約４倍に
改善されている。
い、銅金属粉末を主成分とする無機粉末に有機溶剤やバ
インダーに分散混合して得られる銅導体ペーストで回路
の印刷形成を行い、１２０℃１５分間の条件で乾燥する
。次にコンベア式厚膜焼成炉にて、ピーク温度９００℃
の中性雰囲気中６０分サイクルで焼成を行う。焼成時に
おけるバインダー除去ゾーンの酸素濃度条件を第１表に
示す。第１表のバインダー除去ゾーンの酸素濃度条件で
焼成をおこなったサンプルの接着強度を測定した結果を
図２に示す。焼成後の接着強度は各条件ともに変わらな
いが、１５０℃の高温下で４８時間放置した後の接着強
度は、条件１では０．４ｋｇ ／ ｚｌｌ”となってい
るが、酸素濃度を増してい（と接着強度は高くなってい
く傾向を示し条件４では１．５ｋｇ／ｍｍ”と約４倍に
改善されている。
第１表
また、酸素濃度２０ ｐｐｍより接着強度に対する効果
は発生し、１００ ｐｐｍを超えると効果が減少してい
く傾向がみられ、１５０ ｐｐｍ以上では半田付は性が
悪くなるため見掛は上、接着強度が悪くなるものと考え
る。一方２０ ｐｐｍ以下では接着強度の改善効果はみ
られない。接着強度の改善効果はパインダ−除去ゾーン
の酸素濃度２０〜１００ ｐｐｍの範囲において顕著に
現れることがわかる。
は発生し、１００ ｐｐｍを超えると効果が減少してい
く傾向がみられ、１５０ ｐｐｍ以上では半田付は性が
悪くなるため見掛は上、接着強度が悪くなるものと考え
る。一方２０ ｐｐｍ以下では接着強度の改善効果はみ
られない。接着強度の改善効果はパインダ−除去ゾーン
の酸素濃度２０〜１００ ｐｐｍの範囲において顕著に
現れることがわかる。
発明者の実験によれば、バインダー除去ゾーンの酸素濃
度１００ ｐｐｍ以下では銅導体シート抵抗・半田付は
性に与える影響は特に問題ない。
度１００ ｐｐｍ以下では銅導体シート抵抗・半田付は
性に与える影響は特に問題ない。
以上のように本実施例によれば、銅導体ペースト印刷・
乾燥後の焼成工程において、バインダー除去ゾーンの酸
素濃度を増加させることにより銅導体層にＣｕ２Ｏなど
の酸化物を生成させ、後の焼成ゾーンで前記酸化物とＡ
ｌ２Ｏ３基板との反応によるＣｕＡ Ｉ□０４などのス
ピネル形化合物の生成がより増長され、銅導体層の接着
強度を向上させることができる。
乾燥後の焼成工程において、バインダー除去ゾーンの酸
素濃度を増加させることにより銅導体層にＣｕ２Ｏなど
の酸化物を生成させ、後の焼成ゾーンで前記酸化物とＡ
ｌ２Ｏ３基板との反応によるＣｕＡ Ｉ□０４などのス
ピネル形化合物の生成がより増長され、銅導体層の接着
強度を向上させることができる。
発明の効果
以上のように本発明は銅導体ペースト印刷・乾燥後の焼
成工程において、バインダー除去ゾーンの酸素濃度を２
０〜１００ ｐｐｍとすることにより銅導体層の接着強
度を向上させ、信頼性の高い銅導体厚膜回路基板を得る
ことができる。
成工程において、バインダー除去ゾーンの酸素濃度を２
０〜１００ ｐｐｍとすることにより銅導体層の接着強
度を向上させ、信頼性の高い銅導体厚膜回路基板を得る
ことができる。
第１図は銅導体厚膜回路基板の断面図、第２図は本発明
の製造方法の効果を示す接着強度特性図である。 １・・・・・・セラミック基板、２・・・・・・銅導体
層。
の製造方法の効果を示す接着強度特性図である。 １・・・・・・セラミック基板、２・・・・・・銅導体
層。
Claims (1)
- セラミック基板上に、金属銅粉末を主成分とする厚膜
銅ペーストで回路パターンを形成し、上記導体パターン
形成済基板を窒素雰囲気に対して、酸素濃度が２０ｐｐ
ｍから１００ｐｐｍの範囲で、前記厚膜銅ペーストに含
まれる有機バインダが分解・除去されるに必要な温度ま
で加熱し、しかる後上記雰囲気を窒素雰囲気に対して酸
素濃度が５ｐｐｍ以下になるように置き換え、前記銅ペ
ーストの焼成温度までさらに加熱し、前記セラミック基
板上に前記銅ペーストをメタライズする工程よりなるこ
とを特徴とする銅導体厚膜回路基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23834186A JPS6393193A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 銅導体厚膜回路基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23834186A JPS6393193A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 銅導体厚膜回路基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6393193A true JPS6393193A (ja) | 1988-04-23 |
Family
ID=17028763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23834186A Pending JPS6393193A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 銅導体厚膜回路基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6393193A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01293595A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-27 | Murata Mfg Co Ltd | 厚膜配線基板の製造方法 |
| JPH02284497A (ja) * | 1989-03-16 | 1990-11-21 | L'air Liquide | 電気接続部材の製造方法 |
| JPH0340485A (ja) * | 1987-09-24 | 1991-02-21 | Air Prod And Chem Inc | 厚膜電子回路の製造方法 |
-
1986
- 1986-10-07 JP JP23834186A patent/JPS6393193A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0340485A (ja) * | 1987-09-24 | 1991-02-21 | Air Prod And Chem Inc | 厚膜電子回路の製造方法 |
| JPH0520916B2 (ja) * | 1987-09-24 | 1993-03-22 | Air Prod & Chem | |
| JPH01293595A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-27 | Murata Mfg Co Ltd | 厚膜配線基板の製造方法 |
| JPH02284497A (ja) * | 1989-03-16 | 1990-11-21 | L'air Liquide | 電気接続部材の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0163478B1 (en) | Process of manufacturing ceramic circuit board | |
| JPS6166303A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
| JPS6393193A (ja) | 銅導体厚膜回路基板の製造方法 | |
| JPS61288484A (ja) | セラミツク配線基板用導体混練物 | |
| JPS61292392A (ja) | セラミツク配線基板の製造方法 | |
| JPS61292393A (ja) | セラミック多層配線基板用酸化第二銅混練物 | |
| JPS622405A (ja) | 厚膜導体組成物 | |
| JP2002231049A (ja) | 導電性ペースト | |
| JPH0674166B2 (ja) | 低温焼成用磁器組成物 | |
| JPH08134388A (ja) | 導電性インキ | |
| JPS6322046B2 (ja) | ||
| JPS62145896A (ja) | セラミツク銅多層配線基板の製造方法 | |
| JPS6235696A (ja) | 電気回路用磁器基板及びその製造方法 | |
| JPS5873185A (ja) | 厚膜回路基板の製造方法 | |
| JPH0221669B2 (ja) | ||
| JPH0674167B2 (ja) | 低温焼成用磁器組成物 | |
| JPS6263488A (ja) | 厚膜基板の製造方法 | |
| JPS6377196A (ja) | グレ−ズ抵抗体付銅多層基板の製造方法 | |
| JPS63147393A (ja) | 銅配線パタ−ンの活性化法 | |
| JPS63181496A (ja) | 厚膜回路基板の製造方法 | |
| JPH0253951B2 (ja) | ||
| JPS6126292A (ja) | セラミック多層配線基板の製造方法 | |
| JPS5915481B2 (ja) | グレ−ズ抵抗器の製造方法 | |
| JPS62232191A (ja) | セラミツク多層配線基板の製造方法 | |
| JPH03165089A (ja) | 銅導体組成物とそれを用いた銅配線パターンの形成方法 |