JPS638638B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS638638B2
JPS638638B2 JP12177276A JP12177276A JPS638638B2 JP S638638 B2 JPS638638 B2 JP S638638B2 JP 12177276 A JP12177276 A JP 12177276A JP 12177276 A JP12177276 A JP 12177276A JP S638638 B2 JPS638638 B2 JP S638638B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
holes
plating
printed circuit
hydrophobic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP12177276A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS52116866A (en
Inventor
J Polichette
F Schneble Jr
R Zeblisky
J Williamson
J Mccormack
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kollmorgen Technologies Corp
Kollmorgen Corp
Original Assignee
Kollmorgen Technologies Corp
Kollmorgen Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kollmorgen Technologies Corp, Kollmorgen Corp filed Critical Kollmorgen Technologies Corp
Publication of JPS52116866A publication Critical patent/JPS52116866A/ja
Publication of JPS638638B2 publication Critical patent/JPS638638B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 本発明はプリント回路板の補造法、特にシヌド
剀排斥性を有する疎氎性マスクを利甚しお行うメ
ツキ貫通孔を有するプリント回路板の補造法に関
するものである。
基板に貫通孔があけおあり、その貫通孔の呚壁
にメツキが斜しおあるタむプのプリント回路板は
すでによく知られおおり、この皮のプリント回路
板は信頌床が高く、か぀メツキ貫通孔を利甚しお
ろう付け等の方法によりいろいろな付属郚品を簡
単に取付けるこずができるので広い甚途に䟛され
おいる。
埓来のプリント回路補造技術によ぀お䜜られる
メツキ貫通孔を有するプリント回路板においお
は、金属回路パタヌンが基板の衚面䞊に裞のたた
圢成され、ろう付けたずえば浞挬ろう付けを行う
たえに貫通孔、基板衚面䞊の貫通孔を取り囲む郚
分パツドず呌ばれる、および回路パタヌンの
端子ないしは接続郚ずなる郚分フむンガず呌ば
れるを陀いお回路パタヌン党䜓に゜ルダマスク
がかぶせられる。そのあず、回路基板をろう付け
济に浞挬しお、゜ルダマスクでおおわれおいない
郚分、すなわちパツド、フむンガおよび金属メツ
キされおいる貫通孔に金属ろうを付着させる。そ
の際、回路パタヌンの倧郚分は゜ルダマスクでお
おわれおいるのでろうが付着するこずはなく、埓
぀お、回路パタヌンを構成する回路導䜓が盞互に
ろうによ぀お短絡されるのを防ぐこずができる。
芁するに、䞊に述べた埓来のプリント回路板の
補䜜に際しおは、回路基板䞭のパツド、フむンガ
郚分および貫通孔の呚壁は露呈されたたたである
䞀方、回路パタヌンを構成する導䜓は゜ルダマス
クでおおわれおいる。
本発明によればメツキ貫通孔を有するタむプの
プリント回路板を補䜜するための新しい方法が提
䟛され、この方法によれば回路板の補造ないしは
再加工の際回路パタヌンが埌述のシヌド剀
seeder排斥甚の疎氎性敎合マスクによ぀お保
護される。すなわち、たず回路基板の衚面に回路
パタヌンを圢成し、次に基板を貫通する孔をあけ
る。そのあず呚知の方法により圓該回路パタヌン
の少なくずも䞀郚分、通垞はその党䜓をシヌド剀
排斥甚疎氎性マスクでおおう。この疎氎性マスク
には絶瞁基板䞭の貫通孔に察応する孔があけおあ
り敎合マスク、疎氎性敎合マスクを被着した
絶瞁基板をシヌド剀増感剀で増感凊理した
埌、無電解金属メツキ液に浞挬する。するず貫通
孔の内壁を含む敎合マスクでおおわれおいない基
板衚面に金属がメツキされる。この方法によ぀お
補造される回路板の特城は、極めお信頌床の高い
ろう付け連結郚たり埗るメツキ貫通孔が蚭けられ
るこずである。メツキ貫通孔の䞊端たたは䞋端の
呚囲には、回路パタヌンを構成する導䜓の平面か
らずれた䜍眮にパツドないしは隆起郚分ができる
が、これらのパツド郚分も各メツキ貫通孔ずは電
気的に接続される。
本発明の方法によ぀お、䞊に述べた以倖の構造
的には匷靭で、耐久性および信頌性に富んだ䞀
局、二局あるいは倚局構造のプリント回路板を含
むさたざたな回路板を䜜るこずができる。本発明
によれば、回路板の補造あるいは再加工に際しお
も、氞久的なシヌド剀排斥甚疎氎性マスクの䜿甚
により、プリント回路導䜓間がメツキ金属によ぀
お短絡されるのを防ぐこずができる。
次に、本発明に぀いお詳しく説明する。埌述す
る所より明らかなように、本発明方法によりメツ
キ貫通孔を有するプリント回路板を補䜜するに際
しおは、プリント回路板補䜜甚ずしお䞀般に垂販
されおいる増感甚シヌド液を排斥する、いいかえ
れば実質䞊これらの液によ぀お湿最されるこずの
ないある皮のシヌド剀排斥甚疎氎性マスクを䜿甚
する。その結果、疎氎性マスクがそのようなシヌ
ド液に接するこずがあ぀おも、これがために無電
解メツキに察する受容性を有するようになるこず
はほずんどない。本発明のように、シヌド液ある
いはシヌド剀によ぀お湿最されるこずのない「非
湿最性」ないしは「疎氎性」暹脂マスクを䜿甚す
るこずにより、プリント回路板の補䜜費を倧幅に
軜枛できるのみならず、埌述する皮々の利点を享
受するこずが可胜ずなる。
なお、以䞋においおは、基板に觊媒性を付䞎す
るか、たたは基板を増感するこずによ぀お、これ
に無電解メツキによるメツキ金属を受け入れるこ
ずのできる性質を付䞎するものずしお圓該業界に
おいお䞀般的に知られおいるものを称しお「シヌ
ド剀」たたは「シヌド液」ず呌ぶこずにする。
たた、薄いフむルム状あるいはストリツプ状で
あろうず、厚い板状であろうず、その圢状、厚さ
に関係なく、䞀般に絶瞁性基板に無電解メツキに
よる金属の付着ないしは着床を可胜ならしめる性
質を付䞎するのに䜿甚される各皮のシヌド液によ
぀お湿最されるこずのない暹脂あるいはプラスチ
ツク材あるいはその性質を呌称するのに、以䞋に
おいおは「シヌド剀排斥性」ないしは「疎氎性」
ずいう蚀葉を䜿甚する。
䞊蚘のタむプのメツキ貫通孔を有するプリント
回路板を䜜るには、たず、呚知の適圓な方法によ
぀お絶瞁基板䞊に基本的なプリント回路パタヌン
を圢成する。それには、たずえば、プリントおよ
び゚ツチング法によ぀おもよいし、あるいは、䞀
定圢状に䜜られた金属局から䞍芁な郚分を機械的
に陀去しお所定の回路パタヌンを䜜぀おもよい
し、さらには、接着剀によるかあるいはいわゆる
「添加法additive technÂŽique」によ぀お金属導
䜓を絶瞁基板䞊に所定のパタヌンに固着するだけ
でもよい。奜たしいやり方は、呚知の方法によ぀
お金属が被着しおある基板に耐食レゞストをプリ
ントし、しかるのちに゚ツチングによ぀お所定の
圢のプリント回路パタヌンを圢成するこずであ
る。
本発明によれば、プリント回路が固着圢成しお
ある回路基板の所定箇所に貫通孔をあける。その
埌貫通孔の郚分を陀いお少なくずもプリント回路
パタヌンのうえにシヌド液によ぀お湿最されるこ
ずのない疎氎性絶瞁マスクをコヌテむングする。
このマスクずしお適した材料は埌に列挙する。こ
の皮のマスクは、シヌド液によ぀お実質䞊湿最さ
れるこずのない性質すなわち疎氎性を有するもの
でなければならない。逆にいえば、マスクはシヌ
ド液を排斥ないしは駆陀する性質を有するもので
なければならない。さらに、マスクはプリント回
路板がその補造工皋䞭に露呈される酞やアルカリ
による腐食に察する耐性を有し、か぀衚面が滑ら
かで光沢のあるものであるのが望たしい。次に、
回路基板をシヌド液に浞接しお疎氎性マスクにお
おわれおいない郚分すなわち貫通孔の呚壁を無電
解メツキ可胜なように増感する。疎氎性マスクが
シヌド液に察しお非湿最性であるので、基板衚面
のうちでマスクによ぀おおおわれおいる郚分には
無電解メツキ金属に察する受容性が付䞎されるこ
ずはない。次に、回路基板を良く掗浄しお、基板
衚面や貫通孔の呚壁から䜙蚈なシヌド液を掗い萜
す。そのあず、回路基板を無電解メツキ液に浞接
するず、基板䞭の増感された郚分すなわち貫通孔
の呚壁に金属がメツキされる。この無電解メツキ
法のみにより貫通孔の呚壁に所定の厚さの金属被
膜を着床させるこずができるが、必芁でありか぀
導䜓回路パタヌンがそれに適しおいるのであれ
ば、無電解メツキに続いお電解メツキを行぀おも
よい。
実際には、シヌド剀排斥甚疎氎性マスクを斜し
た基板ずいえども、シヌド液で凊理する際に疎氎
性マスクが党く増感凊理の圱響を受けないずいう
こずは有り埗ない。極くわずかであるが増感され
る郚分ができる。このため、増感凊理を斜したの
ちに回路基板を無電解メツキ液に浞すず、マスク
衚面の小さな穎や陥没郚分、あるいは凹凞郚分に
金属が着床するこずがあるが、その量はマスクで
おおわれおおらず、埓぀お増感された郚分、たず
えば貫通孔の呚壁における着床金属の量に比べお
ほんのわずかである。しかし、これも陀去しよう
ずするのであれば、回路基板を無電解メツキ液に
浞挬したあず゚ツチング液に短時間浞しお、シヌ
ド剀排斥甚疎氎性マスクの衚面に䞍芏則に着床し
おいる若干の無電金属を溶解陀去すればよい。無
電解メツキされる金属が銅であれば、゚ツチング
液ずしおは塩化第二鉄溶液を䜿甚すればよい。な
お、この凊理を以䞋においおは「クむツク゚ツチ
ング」ないしは単に「゚ツチング」ず呌ぶこずに
する。必芁であれば、䞀回の無電解金属メツキ工
皋䞭にこのクむツク゚ツチングを䜕床も繰り返し
おもよい。
疎氎性マスクに䞍芏則に点状に着床するメツキ
金属の厚さは、基板䞭の増感凊理された面域に着
床したメツキ金属の厚さに比べお盞察的に非垞に
薄いので、䞊蚘のクむツク゚ツチングを行぀おも
増感面域䞊のメツキ金属は党くないしはほずんど
圱響を受けない。
回路基板に無電銅メツキを行う堎合には、゚ツ
チング液ずしおは塩化第二鉄たたは過硫酞アンモ
ニりムを甚いる。クむツク゚ツチングは基板の衚
面に゚ツチング液を噎霧しながら行うか、たたは
゚ツチング液をタンクに入れおこれを撹拌し、そ
の䞭に基板を浞挬しお行う。゚ツチングに際しお
ぱツチング液の枩床、濃床、挬接時間等を適圓
に調節する必芁があるが、これらは経隓に即しお
最も劥圓な結果が埗られるように調節すればよ
い。クむツク゚ツチングのあず氎掗いを行぀お、
回路基板の衚面や偎瞁から゚ツチング液を家党に
陀去する。
本発明では、シヌド剀排斥甚疎氎性マスクは敎
合タむプのもの、すなわち回路基板䞭の貫通孔に
察応する孔があらかじめあけおある敎合マスクを
䜿甚する。この疎氎性敎合マスクを回路基板の衚
面に正しく重さね合せるず、マスク䞭の孔が回路
基板の貫通孔に合臎し、貫通孔は倖郚に露呈され
る。
埓぀お、敎合マスクを䜿甚する本発明の堎合に
は、たず、絶瞁回路基板の片面ないしは䞡面に所
定の回路パタヌンを䜜り、さらに基板の所定の箇
所に貫通孔をあけ、しかる埌に敎合マスクを基板
衚面にはり぀けお貫通孔の呚壁、および必芁であ
れば貫通孔を取り巻く隆起郚パツド、ならび
にフむンガ郚分を陀く基板衚面をマスクでおお
う。次に、回路基板をシヌド液に浞接しお疎氎性
マスクでおおわれおいない露出郚分に無電解メツ
キにより金属を着床させるこずができるように増
感凊理を斜す。それから、回路基板を無電解メツ
キ液に浞しお貫通孔の呚壁を含む露出増感郚分に
金属を着床させる。
本発明においお䜿甚する回路基板の材料ずしお
は、熱硬化性暹脂、熱可塑性暹脂、あるいはこれ
らの混合物をあげるこずができる。
適圓な熱可塑性暹脂ずしおは次のものがある。
アセタル暹脂、アクリル酞メチルのようなアクリ
リツクス、゚チルセルロヌズ、セルロヌズアセテ
ヌト、セルロヌズプロピオネヌト、セルロヌズア
セテヌトブチレヌト、セルロヌズニトレヌトのよ
うなセルロヌズ暹脂、塩玠化ポリ゚ステル類、ナ
むロン、ポリ゚チレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、アクリロニトリル・スチレン共重合䜓お
よびアクリロニトリル・ブタゞ゚ン・スチレン共
重合䜓のようなスチレンブレンド、ポリカヌボネ
ヌト類、ポリクロロトリフルオロ゚チレン、およ
びビニルアセテヌト、ビニルアルコヌル、ビニル
ブチラヌル、塩化ビニル、塩化ビニル・アセテヌ
ト共重合䜓、塩化ビニリデン、ビニルホルマルの
ごずきビニル重合䜓ないしはビニル共重合䜓。
熱硬化性暹脂ずしおは次のものがある。アリル
フタレヌト、フラン、メラミン・ホルムアルデヒ
ド、プノルホルムアルデヒドずプノルフルフ
ラルの共重合䜓単独たたはこれずブタゞ゚ンアク
リロニトリルの共重合䜓たたはアクリロニトリ
ル・ブタゞ゚ン・スチレン共重合䜓ずを化合させ
たもの、ないしはそれらの共重合䜓そのもの、ポ
リアクリル酞゚ステル類、シリコン類、尿玠ホル
ムアルデヒド類、゚ポキシ暹脂類、アリル暹脂
類、グリセリルフタレヌト類、ポリ゚ステル類。
絶瞁性回路基板を無電解メツキ可胜なように増
感するのに䜿甚するシヌド液は䞀般に氎性液であ
るので、シヌド剀排斥甚マスクにも前述のように
疎氎性のものすなわち氎を排陀する性質のものを
甚いる。
そのようなマスクを䜜るのに適した疎氎性暹脂
ずしおは次のものをあげるこずができる。米囜特
蚱第2937976号に開瀺されおいるごずきシリコン
暹脂、同第3224094号に開瀺されおいるようなポ
リ゚チレン暹脂、同第3203829号に開瀺されおい
るようなフルオロカヌボン暹脂たずえばテフロ
ン、ポリりレタン暹脂、アクリル暹脂、および
これらの混合物。これらの疎氎性暹脂を単独で䜿
甚しおもよいが、できれば他の暹脂、たずえば、
絶瞁性基板材料ずしお䞊にあげた暹脂のどれかず
組み合せお䜿甚するのがよい。ただし、その堎合
でも、組合せお䜿甚する暹脂は埗られる組成物の
疎氎性が倱われない皋床の量に限定しなければな
らない。
゚ポキシ暹脂ず、プノルホルムアルデヒド暹
脂ず、シリコン暹脂ずを埌述するように混合する
ず特に良奜な疎氎性マスクが埗られる。
特に、本発明では疎氎性マスクを氞久マスクず
しお䜿甚するので、マスクの材料ずしおは硬化し
たずき滑らかで光沢があり、か぀プリント回路の
補造工皋䞭に䜿甚されるアルカリや酞性溶液に察
しお耐性を有する衚面を圢成するこずができるも
のでなければならない。
代衚的な疎氎性マスクの組成を次に蚘す。
第  郚 材 料 重 量 DEN438 100 ブチルカルビトヌル 51.5 モダフロヌ 2.0 キダブオシルM5 6.0 アツタゲル−50 5.2 サヌコシル− 1.3 166.0 第  郚 ゞメチルホルムアミド 22.5 ゞシアンゞアミド 4.0 DC21 6.0 TMBDA 1.2 33.7 䞊の組成衚においお、DEN438はダりケミカル
瀟から発売されおいる゚ポキシノボラツクプ
ノルホルムアルデヒド暹脂であり、モダフロヌ
Modaflowはモンサント瀟から発売されおい
る高分子重量の重合䜓であり、衚面をより平らに
するために䜿甚する。たた、キダブオシルCab
――SilM5はシリカ゚ヌロゲル、アツタゲル
Aitage―−50は珪酞アルミニりム充填剀、
サヌコシルSarkosyl−はオレオむルサルコ
シン陜性湿最剀、DC21はダりコヌニング瀟
のシリコン暹脂、TMBDAはN′N′―
テトラメチルベンゞルゞアミンである。これらの
組成分のうちモダフロヌずDC21ずは、組成物
に疎氎性を付䞎するためのものである。たた、こ
の぀の組成分は圓該組成物の平面性を向䞊させ
る働きをも有する。このため組成物を絶瞁基板に
塗垃するず組成物は波打぀たり泡を䜜぀たりする
こずなく滑らかな平面状に広ろがり、也燥したず
きには平坊で぀やのある衚面を圢成するようにな
る。
キダブオシルずアツタゲルは粘床調敎剀、ブチ
ルカルビトヌルずゞメチルホルムアミドは溶剀で
ある。ゞシアンゞアミドぱポキシ暹脂の硬化剀
であり、TMBDAは促進剀ずしお䜜甚する。䜿
甚にあた぀おは、たず第郚ず第郚ずをそれぞ
れ調補し、次にこれらを混合する。たずえば、第
郚の組成分166重量郚ず第郚の組成分33.7重
量郚ずを混合し、これをスプレヌかブラシを甚い
お基板䞊に所望の厚さに平らに塗垃する。121℃
250〓の枩床で玄10分間加熱するず、塗垃組成
物は粘着性を有しない皋床にたで硬化する。さら
に、132℃270〓の枩床で玄30分加熱するず完
党に硬化しお、シヌド剀排斥甚疎氎性マスクがで
きあがる。
本発明の疎氎性マスクずしおは、接着剀をコヌ
テむングしたプラスチツクないしは暹脂性フむル
ムも含たれる。そのようなフむルム状のマスクの
堎合には、これを基板材料に固着可胜ならしめる
ために片方の衚面に感圧性接着剀を塗぀おおく。
接着剀を塗垃したマスク材ずしお代衚的なもの
に、北玠化゚チレンプロピレン、ポリ゚チレン、
ポリプロピレン等がある。これらの材料に感圧性
接着剀を塗垃しおなるフむルム状のシヌトは圓該
業界においおよく知られおおり、感圧性接着剀を
コヌテむングしたポリ゚チレンが、たずえば、
「ポリスポツトステむクPoly Spot Stik」の
名で垂販されおいる。接着剀がコヌテむングしお
あるフむルムを疎氎性マスクずしお䜿甚すれば、
これを基板に接着するのに加熱その他の硬化凊理
を行う必芁がなくなる。たた、剥す必芁が生じた
ずきには容易に取り剥すこずができるのも利点で
ある。
絶瞁性基板を増感するのに甚いるシヌド剀に
は、さたざたなものがある。たずえば、貫通孔を
取り囲こむ絶瞁基板の呚壁やその他の露出面を無
電解メツキ可胜なように増感するには、第䞀スズ
むオン、あるいはたずえばゞメチルアミンボラ
ン、モルホリンボラン、む゜プロピルアミンボラ
ンのようなゞアルキルアミンボラン類のごずきア
ミンボラン類、あるいはナトリりムボロヒドリ
ド、カリりムボロヒドリドのようなアルカリボロ
ヒドリド類の氎溶液で凊理し、続いおパラゞりム
のような貎金属むオンの氎溶液で凊理する。埌者
の凊理を前者の凊理に先行させおもよい。具䜓的
には、たずえば、すでに貫通孔があけおある絶瞁
基板をたず塩化第䞀スズの酞性氎溶液に浞挬し、
次にこれを氎掗しおから塩化パラゞりムの酞性氎
溶液に浞挬しおシヌドないしは増感凊理を行う。
絶瞁基板の増感凊理は、浞挬法によ぀お絶瞁基
板を第䞀スズむオンず貎金属むオンずを含む透明
な酞性氎溶液に接觊させるこずによ぀おも行うこ
ずができる。䜿甚可胜な貎金属ずしおは、パラゞ
りムの他にプラチナ、金、ロゞりム、オスミり
ム、むリゞりムがある。これらの貎金属の混合物
であ぀おもよい。
次に、代衚的なシヌド剀の䟋をあげ、その組成
およびシヌド剀による増感凊理の方法に぀いお述
べる。これらは、前述のように絶瞁基板のうちで
シヌド剀排斥甚疎氎性マスクによ぀おおおわれお
いない露出面を無電解メツキできるように増感す
るのに䜿甚するものである。
シヌド液〔1〕 シヌド剀排斥甚疎氎性敎合マスクをかぶせた回
路基板を、次の組成を有する酞性化塩化第䞀スズ
溶液に浞しお掗浄する。
塩化第䞀スズ 50 塩酞12N 50 æ°Ž の溶液を䜜るに必芁な量 塩化第䞀スズ溶液に10分間浞挬し、そのあず垌
釈塩酞、続いお氎で掗浄する。次に、回路基板を
以䞋の組成を有する塩化パラゞりム液に分間浞
挬する。
塩化パラゞりム 20/ 塩酞12N 20ml/ æ°Ž 残䜙 このあず回路基板を完党に氎掗するず、基板䞭
の貫通孔呚壁を含む疎氎性マスクでおおわれおい
ない郚分が、無電解メツキできる状態に増感され
おいる。
シヌド液〔2〕 マスクでおおわれた絶瞁性回路基板を次の組成
を有する郚のシヌド液に浞挬する。
塩化第䞀スズ 70/ 塩化パラゞりム / 塩酞37 200〜300ml/ æ°Ž の液を䜜るに必芁な量 こののち回路基板を氎で完党に掗い終えるず、
貫通孔の呚壁を含む基板の露出面が、無電解メツ
キ金属の着床が可胜な状態に増感されおいる。
䞊蚘のシヌド液による増感凊理のあず、絶瞁基
板の増感面域を無電解銅、無電解金、無電解ニツ
ケルメツキ液等の無電解メツキ液に浞接させるこ
ずによ぀お、金属をメツキする。このような無電
解メツキ液は圓該技術分野においお公知であり、
電気を甚いないでも基板䞭の増感された面域に金
属を自觊媒的に着床させる胜力を有する。
本発明方法においお利甚可胜な無電解銅メツキ
液は、米囜特蚱第3095309号明现曞に開瀺されお
おり、その蚘述を必芁な限りにおいお本明现曞䞭
で匕甚する。䞀般的に、無電解銅メツキ液は硫酞
銅のごずき第二銅むオン䟛絊源ず、ホルムアルデ
ヒドのごずき第二銅むオンの還元剀、テトラナト
リりム゚チレンゞアミンテトラ酢酞のごずき第二
銅むオンの錯化剀、氎酞化ナトリりムのごずきPH
調敎剀ずからなる。
本発明に利甚できる無電解ニツケルメツキ济
は、1954幎発行のブレナヌBrenn′er著、「金
属仕䞊げMetal Finishing」の第68〜76頁に
蚘茉されおいる。それを匕甚するず、無電解ニツ
ケルメツキ济は塩化ニツケルのようなニツケル塩
の氎溶液ず、次亜燐酞塩むオンのごずきニツケル
塩の掻性還元剀ず、カルボン酞類、その塩類等の
錯化剀ずからなる。
本発明に利甚できる無電解金メツキ济は、米囜
特蚱第2976181号に開瀺されおおり、それを匕甚
するず、無電金メツキ济はシアン化金のごずきや
や氎溶性のある金塩ず、次亜燐酞塩むオンのごず
き金塩の還元剀ず、シアン化ナトリりム、シアン
化カリりムのごずきキレヌト詊薬ないしは錯化剀
ずからなる。次亜燐酞塩むオンはナトリりムカル
シりム、アンモニりム塩のごずき酞ないしは塩類
の圢で導入しおもよい。錯化剀を甚いるのは、溶
液䞭の少量の金を氎溶性金錯䜓ずしお維持するこ
ずにより、金の倧郚分が「金準備」ずしお溶液倖
にずどた぀おいるようにするためである。济のPH
倀は玄13.5たたは玄13〜14の間に維持し、次亜燐
酞塩察䞍溶性金塩のむオン比は玄0.33〜10ず
する。
本発明方法の実斜に際しお䜿甚するのに特に適
した無電解銅メツキ济を次に蚘す。
硫酞銅 0.03Mol/ 氎酞化ナトリりム 0.125Mol/ シアン化ナトリりム 0.0004Mol/ ホルムアルデヒド 0.08Mol/ テトラナトリりム゚チレンゞアミン―テトラアセ
テヌト 0.035Mol/ æ°Ž 残䜙 この济は玄55℃の枩床で䜜甚させるのが望たし
く、䞊蚘枩床においお玄51時間経過するず玄ミ
ルの厚さの延圚のある銅の被膜が基板の増感面に
着床圢成される。
䞊述のタむプの無電解金属メツキ济を䜿甚する
こずにより、極めお薄い導電性金属膜を着床させ
るこずができる。通垞この方法によ぀お0.1〜
ミル皋床の厚さの金属膜を無電解メツキするこず
ができ、厚さ0.1ミル以䞋のものをメツキするこ
ずも可胜である。
次に、本発明の方法を添附の図面を参照しお具
䜓的に説明する。添附の図面には本発明方法によ
぀おメツキ貫通孔を有するプリント回路板を補䜜
する工皋が図匏的に瀺しおある。
第〜図に瀺すのは、疎氎性敎合マスク
を甚いお行うメツキ貫通孔を有するプリント回路
板の補䜜工皋である。絶瞁性回路基板の䞡面
に薄い金属フむルムが被着しおあり第
図、呚知のプリント゚ツチ法によりそのフむル
ムを食刻しお所定の回路パタヌンを䜜りあげ
る第図。次に、きりもみ、穎抜き等の適
圓な方法によ぀お基板のあらかじめ定められ
た䜍眮に貫通孔をあけ第図、回路パ
タヌンのうえに盞察的に厚い疎氎性マスク
を重ね合せる第図。疎氎性マスク
は敎合マスクであ぀お、基板䞭の貫通孔およ
びこれを取り囲こむ隆起域および必芁であ
ればフむンガに察応する面域のみを露呈したた
たにするこずができるように、それらの孔および
面域に察応する郚分に穎があけおある。回路基板
をシヌド液〔1〕あるいは〔2〕を甚い、そこで述
べた方法で増感凊理し、貫通孔の呚壁および
隆起域に第図の参照笊号で瀺すよう
に無電解メツキ金属に察する受容性を付䞎する。
敎合マスクは疎氎性であるので、増感凊理に
よ぀おも敎合マスクの衚面はほずんど増感される
こずがない。回路基板をシヌド液に浞挬する
䜜業が終぀たら、これを掗浄しお敎合マスク
の衚面に付着しおいるシヌド液あるいは貫通孔
の呚壁に残぀おいる䜙蚈なシヌド液を陀去す
る。
このあず、回路基板をたずえば前に述べた組成
の無電解銅メツキ液に浞挬しお、第図に瀺す
ように、貫通孔の呚壁および貫通孔の䞊䞋端
を取り巻く郚分に無電解メツキによ぀お金属
膜および金属隆起をそれぞれ着床させ
る。この堎合にも、必芁に応じおメツキ䜜業を䞀
時䞭断し、マスクの衚面にわずかに着床する
金属をクむツク゚ツチングによ぀お陀去すればよ
い。すなわち回路基板をしばらく、たずえば30〜
60分無電解銅メツキ液に浞挬した埌、これを塩化
第二鉄溶液に数秒間぀けおマスクの衚面に付
着しおいる銅を溶かし去る。無電解メツキは必芁
な時間をかけお行えばよいのであるが、第図
に瀺すように、貫通孔の䞊䞋端呚囲に金
属が着床しお隆起郚パツドができあが぀
た時点で終えるのが望たしい。特に、無電解メツ
キ䜜業は貫通孔の䞊䞋端呚囲に金属が着床
し、その金属が敎合マスクの衚面ず同じ高さ
にたで盛り䞊がる成長するたで続けるのが望
たしい。このようにしおできあが぀たメツキ貫通
孔を通じお回路基板の䞡面に圢成されお
いるプリント回路パタヌンを必芁に応じお盞
互に電気接続するこずもできるし、あるいはメツ
キ貫通孔を利甚しおろう付け等の方法により
皮々の付属電気郚品を接続ないしは取付けるこず
もできる。
以䞊においおは、本発明方法をメツキ貫通孔を
有し、䞡面にプリント回路が圢成しおあるタむプ
のプリント回路板ずの関連で説明したものである
が、本発明は片面にのみプリント回路が圢成しお
あるタむプのプリント回路板を補造するためにも
適甚可胜である。たた、回路板を局以䞊重ねお
なる倚局回路板の補造にも適甚するこずができ
る。
以䞊詳述した凊から明らかなように、本発明で
は、シヌダ液排斥性の敎合絶瞁マスクを氞久マス
クずしお利甚する。本発明の方法では、予め絶瞁
基板衚面にプリント回路パタヌンが圢成されおお
り、その衚面を敎合マスクで被芆するものである
ので、あずでプリント回路パタヌン圢成のために
マスクを剥離陀去する必芁もないし、たた、絶瞁
基板の貫通孔の無電解メツキ䜜業時に敎合マスク
衚面が増感されるこずも、メツキされるこずもな
いので、そのたた氞久被着した状態で完成品ずす
るこずができる。本発明によれば絶瞁基板の衚面
における回路パタヌンの圢成ず貫通孔内壁のメツ
キが手際よく、数少い工皋で、無駄なく所望通り
効果的に行われ、しかも埗られる補品の信頌床が
極めお高いずいう効果が埗られるものである。
さらに本発明によれば、プリント回路パタヌン
䞊に氞久被着マスクを圢成する工皋が疎氎性絶瞁
材組成物をコヌテむングするこずによ぀お行われ
るので、圢成される氞久被着マスクの絶瞁基板に
察する敎合性が確実ずなり、孔およびその呚囲郚
分をより所望通り正確にき぀ちりず露出しお残す
こずができ、か぀氞久被着マスクの絶瞁基板に察
する良奜な接着を確保でき、長期間にわた぀お安
定性の高いものが埗られる。これに察し、あらか
じめ䜜られた疎氎性絶瞁マスクを適甚するこずは
䜜業性に劣り、か぀孔郚分を正確に露出した状態
に残すこずが困難であり、さらにそのようなあら
かじめ䜜られたマスクを利甚するこずは長期間の
安定性に欠け、たた接着匷床の点でも難点がある
ものである。
【図面の簡単な説明】
第〜図は本発明方法の工皋を瀺す図で
ある。   絶瞁基板、  金属フむルム、
  回路パタヌン、  疎氎性敎合マス
ク、  貫通孔、  増感枈みの貫通孔
呚壁、  無電解メツキによる金属膜、
  無電解メツキによる金属隆起郚。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  絶瞁基板の少なくずも片面にプリント回路パ
    タヌンを圢成する工皋ず、 絶瞁基板のあらかじめ定められた箇所に孔をあ
    ける工皋ず、 前蚘孔の郚分を陀いお、少なくずもプリント回
    路パタヌンのうえに無電解金属メツキ甚シヌド液
    によ぀お実質䞊湿最されるこずのない疎氎性絶瞁
    材組成物をコヌテむングによ぀お氞久被着マスク
    ずしお適甚する工皋ず、 絶瞁基板をシヌド液に浞接しお孔の内壁に無電
    解金属メツキに察する受容性を䞎える工皋ず、 絶瞁基板を無電解金属メツキ液に浞接しお孔の
    内壁を含む絶瞁基板の露出面に金属を無電解メツ
    キする工皋ず からなるメツキ貫通孔を有するプリント回路板の
    補造法。  前蚘の疎氎性絶瞁材組成物を適甚する工皋
    が、前蚘孔の郚分および前蚘孔を取り巻く郚分を
    残しおプリント回路パタヌンのうえに無電解メツ
    キ甚シヌド液によ぀お実質䞊湿最されるこずのな
    い疎氎性絶瞁材組成物を、コヌテむングによ぀お
    氞久被着マスクずしお適甚するこずによ぀お行わ
    れるこずを特城ずする特蚱請求の範囲第項蚘茉
    のメツキ貫通孔を有するプリント回路板の補造
    法。
JP12177276A 1970-03-05 1976-10-08 Method of producing printed circuit board with plated through hole Granted JPS52116866A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US1684670A 1970-03-05 1970-03-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS52116866A JPS52116866A (en) 1977-09-30
JPS638638B2 true JPS638638B2 (ja) 1988-02-23

Family

ID=21779293

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP46012165A Expired JPS638637B2 (ja) 1970-03-05 1971-03-05
JP12177276A Granted JPS52116866A (en) 1970-03-05 1976-10-08 Method of producing printed circuit board with plated through hole
JP12177176A Pending JPS53870A (en) 1970-03-05 1976-10-08 Method of producing printed circuit board with plated through hole

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP46012165A Expired JPS638637B2 (ja) 1970-03-05 1971-03-05

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12177176A Pending JPS53870A (en) 1970-03-05 1976-10-08 Method of producing printed circuit board with plated through hole

Country Status (2)

Country Link
JP (3) JPS638637B2 (ja)
CA (1) CA931664A (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5758394A (en) * 1980-09-24 1982-04-08 Hitachi Chemical Co Ltd Method of producing flexible printed circuit board with through hole
JPS5758393A (en) * 1980-09-24 1982-04-08 Hitachi Chemical Co Ltd Method of producing flexible printed circuit board with through hole
JPS62167251U (ja) * 1986-04-12 1987-10-23
JPH01295491A (ja) * 1988-05-24 1989-11-29 Hitachi Chem Co Ltd 配線板の補造法
JPH0834340B2 (ja) * 1988-12-09 1996-03-29 日立化成工業株匏䌚瀟 配線板およびその補造法
JP3264971B2 (ja) 1991-03-28 2002-03-11 セむコヌ゚プ゜ン株匏䌚瀟 むンクゞェット蚘録ヘッドの補造方法
JP6308637B1 (ja) 2017-05-08 2018-04-11 囜立倧孊法人犏井倧孊 特城量を甚いた次元蚈枬方法およびその装眮
JP2020148700A (ja) * 2019-03-15 2020-09-17 オムロン株匏䌚瀟 距離画像センサ、および角床情報取埗方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS638637B2 (ja) 1988-02-23
JPS52116866A (en) 1977-09-30
JPS53870A (en) 1978-01-07
CA931664A (en) 1973-08-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6212769B1 (en) Process for manufacturing a printed wiring board
US3628999A (en) Plated through hole printed circuit boards
US4217182A (en) Semi-additive process of manufacturing a printed circuit
JP3009326B2 (ja) 䞍導性基材に金属被芆を適甚するための方法
US4232060A (en) Method of preparing substrate surface for electroless plating and products produced thereby
EP0144612B1 (en) Method for selective electroless plating copper onto a non-conductive substrate surface
US4152477A (en) Printed circuit board and method for making the same
US4668532A (en) System for selective metallization of electronic interconnection boards
JP2643099B2 (ja) 導電金属の基板ぞの付着方法
US3799816A (en) Metallizing insulating bases
US4358479A (en) Treatment of copper and use thereof
US4782007A (en) Additive method for manufacturing printed circuit boards using aqueous alkaline developable and strippable photoresists
US4847114A (en) Preparation of printed circuit boards by selective metallization
US4233344A (en) Method of improving the adhesion of electroless metal deposits employing colloidal copper activator
US6265075B1 (en) Circuitized semiconductor structure and method for producing such
JPS638638B2 (ja)
US5358602A (en) Method for manufacture of printed circuit boards
US3674485A (en) Method of manufacturing electrically conducting metal layers
EP0098472B1 (en) Method for decreasing plated metal defects by treating a metallic surface
JPH0454399B2 (ja)
KR100235930B1 (ko) 읞쇄 배선 볎드와 ê·ž 형성 방법
EP0139233B1 (en) Method for conditioning a surface of a dielectric substrate for electroless plating
JPS60120589A (ja) プリント回路基板の補造方法
JPS62149884A (ja) 無電解銅め぀きの前凊理方法
JPS5952555B2 (ja) プリント基板の補造方法