JPS6384042A - 板状体の移送装置 - Google Patents

板状体の移送装置

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JPS6384042A
JPS6384042A JP61228174A JP22817486A JPS6384042A JP S6384042 A JPS6384042 A JP S6384042A JP 61228174 A JP61228174 A JP 61228174A JP 22817486 A JP22817486 A JP 22817486A JP S6384042 A JPS6384042 A JP S6384042A
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JP
Japan
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plate
fluid
wafer
holding
shaped body
Prior art date
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Pending
Application number
JP61228174A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiromitsu Tokisue
裕充 時末
Nobuo Tsumaki
妻木 伸夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6384042A publication Critical patent/JPS6384042A/ja
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半蕊体基板等の板状体の移送装置に係り、特に
板状体を非接触状態に保持して移送し、かつ開放時に板
状体の面方向の位置を定めて所定の場所に置くことがで
きる装置に関する。
〔従来の技術〕
半導体製造工程においては、平面やくぼみ付トレイに処
理面を上にしてウニ41を置いて処理を行う工程が多数
ある。このような平面やくぼみからウェハを保持、搬入
出する装置として、例えば特開昭58−141536号
公報に示されるように、保持すべきウェハの中心から外
周方向に向って流体を噴出させ、ベルヌイの原理により
ウェハを非接触で吸着するものがある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術は、前述のように平面やくぼみに処理面を
上にして置かれたウェハを、ウェハ処理面側から処理面
に接触することなく保持、搬出することができるという
利点を有する反面、ウェハを装置から所定の場所に開放
するとき、非接触に保持したウェハは面方向には固定さ
れていないことから、ウェハの面方向位置を定めて開放
するということができなかった。またベルヌイの原理に
よりウェハを吸着するものであるため、ウェハとその支
持面との間に広いすきまをとって、このすきまに多量の
流体を流す必要がある。すきまが広いことから保持力が
小さいという問題点があり、また多量の流体を流すこと
から、装置から噴出した流体によってゴミのまき上げや
ダウンフローの乱れが生じ、ウェハが汚れるという問題
点があった。
本発明の目的は、ウェハ等の板状体を強い保持力をもっ
て非接触かつ清浄に保持して他の所定の場所へ移送でき
、その所定の場所に板状体を開放するとき、板状体の位
置を定めて置くことができる板状体の移送装置を提供す
ることにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の上記の目的は、板状体との間に平面的なすきま
を形成するための保持面を備える保持体と、この保持体
の保持面に設けられ、この保持面に対向する板状体に対
して大気圧以上の圧力を発生する絞りを備えた流体噴出
部と、前記流体噴出部の周囲に位置するように、保持体
の保持面に設けられ、保持面に対向する板状体に対して
大気圧以下の圧力を発生する流体吸引部と、前記保持体
に設けられ、非接触に保持した板状体が面方向に大きく
移動するのを防ぐために、板状体を保持した状態におい
て板状体の周囲端に接し得るように形成され、この周囲
端に接し得る部分が板状体の周囲端より外側に位置する
ガイド部と、前記保持体に設けられ、非接触に保持した
板状体を板状体の面方向に移動させ、前記ガ′イド部の
ある特定の一部に接するように押しつける押し付け機構
とを備え、かつ前記ガイド部を、板状体がガイド部の前
記特定の一部に接するように押付けられたとき、ガイド
部に対して、板状体の面形状のある幾何学的位置特性が
一つに定まるように形成することにより達成される。
〔作用〕
流体吸引部からの流体の吸引により、保持面と板状体の
表面とのすきま内の平均圧力を大気圧以下にする。この
負圧により板状体の重量を支持する。このとき、絞りを
通して流体噴出部から加圧流体をすきま内に導くことに
より、すきま内の圧力は、すきま間かくが大きくなれば
減少し、小さくなれば増加する。したがって、板状体は
ある一定のすきま間かくを保って安全に非接触支持され
る。このとき保持面と板状体との間のすきま内の流れは
、ベルヌイ原理を用いた装置の場合の非粘性流れに対し
て粘性流れであるので、すきま間隔が小さくなり、板状
体に対して強い保持力を発生する。また流体吸引部は圧
力が大気圧以下であることから、流体が周囲に噴出して
ゴミをまき上げたりすることがない。また保持した板状
体を所定の場所に開放するとき、まず押付け機構によっ
て板状体をガイド部のある特定の一部に接するように押
しつける。このとき、ガイド部は、ガイド部に対する板
状体の面形状のある幾何学的位置特性が一つに定まるよ
うに形成されていることから、装置に対する板状体のあ
る幾何学的位置が定まる。
したがって装置を板状体の面方向に適切に位置決めして
、その後保持機構を解除することにより、位置を定めて
板状体を所定の位置に開放することができる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図面により説明する。
第1図ないし第4図は本発明の板状体の移送装置の一実
施例を示すもので、これらの図において1は非接触に保
持すべきウェハを示す。2はウェハ1の保持体である。
保持体2には3つの保持面2Aが形成されており、それ
ぞれの保持面2Aとウェハ1の上面IAとの間には、す
きま間かくhをへだててすきま3が形成されている。3
つの保持面2Aは同じ構成となっており、それぞれ保持
面2Aには、すきま3内の気体を吸引してすきま3内の
平均圧力を外気圧以下に保つ流体吸引部と、すきま3へ
加圧流体を導入する流体噴出部とが備えられている。前
記流体吸引部は、保持面2Aの外周部に設けられる環状
の溝1oを備え、この溝10は保持体2内の流体吸引通
路11および管路12を通し、流体の吸引をo n −
o f fするための弁13を介して流体吸引源14に
連結している。
また流体噴出部は保持面2Aの中央部に設けた開口部4
および絞り5を備えており、絞り5は保持体2内の流体
供給通路6および管路7を通し、流体の供給をo n 
−o f fするための弁8を介して流体供給源9に連
結している。保持体2には、ウェハ1を保持したとき、
ウェハが面方向に大きく移動するのを防ぐように、7個
の棒状のガイド部15が設けられている。この7個のガ
イド部15は、ウェハ1の周囲端に接し得るように、そ
の先端がウェハ1の端部より第1図において下側まで延
びる長さがとっである。またガイド部15のウェハ1に
接し得る部分は、保持したウェハ1の周囲端より外側に
位置している。また前記保持体2には、非接触に保持し
たウェハ1を第3図および第4図において右側方向に移
動させ、ウェハ1がガイド部15D〜15Gの4個の内
少くとも3個に接するよう押しつけるように、板状体1
に流体を吹きつける流体吹き付け部16が設けられてい
る。流体吹き付け部は、保持体2内の通路17および管
路18を通し、流体の供給をon−offするための弁
19を介して流体供給源20に連結している。また15
D〜15Gの4個のガイド部は、ウェハ1がこの4個の
ガイド部の内少くとも3個に接するとき、オリフラIB
を除いて周囲が円形であるウェハ1の外周円の中心位置
がガイド15D〜15Gに対して定まるように、ガイド
15D〜15Gに内接する円の直径がウェハ1の直径と
等しくなるように配置しである。またウェハ1のオリフ
ラIBがガイド部15D〜15Gの4個の内いずれかの
側に来てもウェハ1の中心位置が定まるように、ガイド
部15Dと15E。
15Eと15F、15Fと15Gとの間隔は、それぞれ
オリフラIBの長さより長くとっである。
次に、上述した本発明の装置の一実施例の動作を説明す
る。
動作の説明に先立って、ウェハ1を非接触で保持するた
めの原理を説明する。
第5図において、流体吸引源14を作動させると、これ
によって管路12、流体吸引孔11を通して環状溝10
から流体が吸引され、この環状溝10内の圧力が大気圧
以下に減圧される。一方、環状溝10内の圧力より高い
圧力に保たれている加圧流体供給g9は、加圧流体を管
路7、加圧流体供給孔6から絞り5を通してすきま3に
供給し、この部分に大気圧以上の圧力を与えている。こ
のとき、すきま3内の圧力、またこの圧力から計算され
る板状体1に働く力は、理論的に以下のようになる。
いま、すきま3内の流れは、すきま3の間隔りを十分小
さくとるとき1等温2層流で、慣性力と比較して粘性力
が支配的な流れであると仮定できる。このとき、すきま
3内の流れに対し、第6図に示す座標系および記号を用
いて、次の方程式および境界条件が成立する。
r、h≦r≦roのすきまに対し、 P=Pc at  r= rr、 P=Pv at  
r= ro  =・(2)ra≦r≦rbのすきまに対
し、 P=Pv at  r=ra、 P=Pa at  r
=rb  ・・・(3)ここで。
r:保持体2の中心からすきま3のひろがり方向に測っ
た座標 h :すきま3の間隔 P :すきま3内の圧力 rl:開口部4の半径 ro:環状溝10に囲まれた保持面2Aの外半径、環状
溝10の内半径 ra:環状溝10の外半径 rb:保持体2の保持面2Aの半径 Pc:開口部4内の圧力 Pv:環状溝10内の圧力 Pa;大気圧 このすきま3内の流れ(圧力)の式に対し、加圧流体供
給孔6に介設された絞り5を通る気体質量流量mRは。
二二で、 Coニオリフイス絞り流量係数 (空気に対してはCo二〇、85) R:ガス定数 T :気体の絶対温度 Ps:加圧流体供給孔6に供給される気体の圧力K :
気体の比熱比 また、rl≦r≦roのすきま3内を流れる気体質量流
量mhは、 ここで、 μ :気体の粘性係数 と表わされ、これらの気体質量流JimR,mhには。
次の連続条件が課せられる。
m R: m h                 
 ・・・・・・(6)以上、式(1)〜(6)がすきま
3内の流れに対する基礎式であり、これらを解くことに
より、すきま3内の圧力が求まる。そして求まったすき
ま3内の圧力より、板状体1に働く吸引力F(上向き正
)は次式のように表わされる。
F=  /  (P−Pa)2grdr=−x rl2
(Pc−Pa) f  (P−Pa)2πrdr rl −π(r’a2roz)  (pv−pa)−/  (
P−Pa)2πrdr     =(7)Pa ここで圧力Pについての式(1)〜(3)の解は(4)
〜(6)より定まる。
以上の式(1)〜(7)より、すきま3の間隔りを変え
て板状体1に働く吸引力Fを計算した結果を第7図に示
す、これらの図により、上述した本発明の装置の一実施
例の動作を説明すると、以下の通りである。
いま、すきま3の間隔りが設計すきま間隔り6、すなわ
ち第5図において板状体1が実線で示す位置にあるとき
に吸引力と板状体1の重量とがつり合うように設定され
ているものとする。このとき。
板状体1が第5図において破線で示す位置に移動して、
すきま3の間隔りが設定すきま間隔haを越えてhbに
増加すると、第4図に示すように吸引力は板状体1の重
量より大きくなる。したがって、第5図の破線で示す位
置にある板状体1には、設計点であるすきま間隔h−の
位置に引きもどす方向に復元力が働く。同様にして、す
きま3の間隔りが設計点すきま間隔hdより小さくなっ
た場合にも、板状体1にはその位置を設計すきま間隔h
6の位置にもどす方向に復元力が働く。これにより、板
状体1は、保持体2の保持面2Aとすきま3の間隔り、
をへだでて非接触に安定浮上支持されることになる。
またこのとき、負圧に保たれる環状溝10は。
開口部4を取り囲むように環状に設けられているので、
開口部4からすきま3内へ流入した流体はすべて環状9
内へ吸引回収され、外部に噴出することはない。逆に、
保持体2の外周部から外気が環状溝10内に流入するが
、環状溝10内の負圧の大きさは200〜300nn水
柱程度であり、すきま3の間隔りも従来のベルヌイ原理
を利用した保持装置と異なって小さく設定できるので、
すきまへ流入させる流体の流量は少なくてよい。
上述の実施例においては、保持体2の保持面2Aと板状
体1とのすきまにおける板状体1の中心部に正の圧力を
、その周囲に負の圧力を生起し、板状体1を保持体2に
対し非接触状態で確実に保持することができるので、第
1図に示すように保持体2の保持面2Aを下方に向けて
板状体1を保持した状態から、保持体2をいかなる姿勢
に変化させても、板状体1を非接触で保持することがで
きる。
次1こ、第1図ないし第4図を用いて、本発明の装置に
より、ウェハ1を保持し、移送した後、所定の場所に位
置を定めて置く動作を説明する。
まず平面等に置かれたウェハ1を装置につかむとき、第
3図に示すように、ガイド部15がウェハ1に接触しな
い位置で装置をウェハ1上に下降させる。このとき、弁
装置8,13.19は閉になっており、保持機構および
押し付け機構の動作は停止した状態である。装置を下降
させ、保持面2Aとウェハ1の上面IAとの間のすきま
間かくが非接触支持を開始するに十分なだけ近づいた状
態を設定し、弁装置8.13を開にすると、前述した保
持原理にもとづいて、ウェハ1は装置に非接触保持され
る。この状態で装置を移動させることによって装置とと
もに、ウェハ1を移送することができる。次に、保持し
たウェハ1を他の場所に位置を定めて載置する揚会には
、まずウェハ1を保持した状態で弁装置19を開にし、
流体吹き付け部16から流体をウェハ1に吹きつけ、す
なわち押し付け機構の動作を開始して、ウェハ1を第4
図に示すように5図で右側に移動させ、ウェハ1がガイ
ド部15D〜15Gの4個の内少くとも3個に接する状
態にする。この状態において装置に対してウェハ1の中
心位置が定まっている。
そしてウェハ1を置くべき場所に対して装置を適切な場
所に位置決めし、装置を下降させ、ウェハ1がウェハ1
を置くべき平面等に十分近づいた。
あるいは接した状態で保持の動作および押し付けの動作
を停止するにれにより、ウェハ1は装置から離脱し、ウ
ェハ1の位置を定めてその所定場所に載置される。
以上述べたように1本発明の実施例においては、ウェハ
等の板状体を強い保持力をもって非接触かつ清浄に保持
して他の所定の場所へ移送することができ、その所定の
場所に板状体を開放するとき、板状体の位置を定めて置
くことができる。
第8図は本発明の装置の他の実施例を示すもので、この
図において第1図と同符号のものは同一部分または相当
する部分である。この実施例は、ウェハ1を図において
右側に押し付ける機構として、保持体2を水平かられず
かに傾斜させる機構を用いたものである。保持体2は回
転軸21のまわりに水平状態から矢印22の方向に角度
θ回転し、保持体2はわずかに傾斜する。これによりウ
ェハ1には、保持体2の保持面に平行で図中右方向に重
力の分力が作用し、ウェハ1は右側に押し付けられる。
この実施例によれば、ウェハ1をガイド15に押しつけ
るのに重力を用いるので、押し付け機構によって周囲の
環境が汚れることがない。
第9図および第10図は本発明のさらに他の実施例を示
すもので、これらの図において、第1図と同符号のもの
は同一部分または相当する部分である。この実施例は、
ウェハ1を図において右側に押し付ける機構として、保
持したウェハ1の面方向に移動可能に構成されたガイド
部23を用いるものである。移動可能なガイド部23が
アクチュエータによって右側に移動し、この動作によっ
て保持されているウェハ1は図で右方向に押しつけられ
る。
この実施例によれば、押し付け力が強いので、ウェハ1
の押し付けを確実に行うことができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、ウェハ等の板状
体を強い保持力をもって非接触かつ清浄に保持して他の
所定の場所へ移送することができ、その所定の場所に板
状体を開放するとき、板状体の位置を定めて置くことが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の縦断正面図、第2図ないし
第4図はその底面図、第5図は本発明の装置による板状
体の保持動作を説明するために供した保持面付近の部分
断面図、第6図はその寸法関係を示す説明図、第7図は
本発明の装置による板状体の保持動作特性図、第8図は
本発明の装置の他の実施例を示す縦断正面図、第9図は
本発明の装置のさらに他の実施例を示す縦断正面図、第
10図はその平面図である。 1・・・ウェハ、2・・・保持体、2A・・・保持面、
4・・・開口部、5・・・絞り、9・・・流体供給源、
10・・・溝、14・・・流体吸引源、15・・・ガイ
ド部、16・・・流体吹き付け部。         
         、−1・ン、7′″−,11゜ 萬l 侶 ′$2因 鴇 31!1 第5 区 第6 国 第7区 吉V舎セキ!I含閣力゛く vj8I!1 21  回転湘

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、流体力によつて板状体を非接触で保持し、他の場所
    へ移送するものにおいて、板状体との間に平面的なすき
    まを形成するための保持面を備える保持体と、この保持
    体の保持面に設けられ、この保持面に対向する板状体に
    対して大気圧以上の圧力を発生する絞りを備えた流体噴
    出部と、前記流体噴出部の周囲に位置するように、保持
    体の保持面に設けられ、保持面に対向する板状体に対し
    て大気圧以下の圧力を発生する流体吸引部と、前記保持
    体に設けられ、非接触に保持した板状体が板状体の面方
    向に大きく移動するのを防ぐために、板状体を保持した
    状態において板状体の周囲端に接し得るように形成され
    、この周囲端に接し得る部分が板状体の周囲端より外側
    に位置するガイド部と、前記保持体に設けられ、非接触
    に保持した板状体を板状体の面方向に移動させ、前記ガ
    イド部のある特定の一部に接するように押しつける押付
    け機構とを備え、かつ前記ガイド部は、板状体がガイド
    部の前記特定の一部に接するよう押しつけられたとき、
    ガイド部に対して、板状体の面形状のある幾何学的位置
    特性が一つに定まるように形成されていることを特徴と
    する板状体の移送装置。 2、前記押付け機構は、保持体に設けられ、保持した板
    状体に流体を吹き付ける流体吹き付け部であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の板状体の移送装置
    。 3、前記押付け機構は、保持体全体を傾斜させる傾斜機
    構であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    板状体の移送装置。 4、前記押付け機構は、保持した板状体の面方向に移動
    可能に構成されたガイド部と、このガイド部を移動させ
    るアクチュエータから成ることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の板状体の移送装置。
JP61228174A 1986-09-29 1986-09-29 板状体の移送装置 Pending JPS6384042A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011027546A1 (ja) * 2009-09-07 2011-03-10 村田機械株式会社 基板移載装置、および基板移載方法
US8167521B2 (en) 2006-05-09 2012-05-01 Tokyo Electron Limited Substrate transfer apparatus and vertical heat processing apparatus

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8167521B2 (en) 2006-05-09 2012-05-01 Tokyo Electron Limited Substrate transfer apparatus and vertical heat processing apparatus
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