JPS6381743A - 電界放射型電子銃 - Google Patents
電界放射型電子銃Info
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- JPS6381743A JPS6381743A JP61228624A JP22862486A JPS6381743A JP S6381743 A JPS6381743 A JP S6381743A JP 61228624 A JP61228624 A JP 61228624A JP 22862486 A JP22862486 A JP 22862486A JP S6381743 A JPS6381743 A JP S6381743A
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- JP
- Japan
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- anode
- voltage
- electron gun
- constant
- field emission
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- Granted
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- 230000005684 electric field Effects 0.000 title abstract description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 abstract description 23
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- UFHLMYOGRXOCSL-UHFFFAOYSA-N isoprothiolane Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C(=O)OC(C)C)=C1SCCS1 UFHLMYOGRXOCSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/073—Electron guns using field emission, photo emission, or secondary emission electron sources
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は電界放射型電子銃に関し、更に詳しくは第２ア
ノードと第３アノード間に静電レンズ作用をもたせた電
界放射型電子銃に関する。
ノードと第３アノード間に静電レンズ作用をもたせた電
界放射型電子銃に関する。
（従来の技術）
電子顕微鏡は、電子銃から出射された電子線を加速集束
して試料に照射し、透過電子乃至は反射電子を検出して
像を得るようになっている。電子線を加速する場合にお
いて、一般には加速電圧が高い程、陸の鮮明度が向上す
る。しかしながら、電子顕微鏡等では常に一定の加速電
圧で使用することは少ない。例えば１００ＫＶタイプの
電子顕微鏡では目的に応じて数１０ＫＶから１００ＫＶ
の範囲で使用する。
して試料に照射し、透過電子乃至は反射電子を検出して
像を得るようになっている。電子線を加速する場合にお
いて、一般には加速電圧が高い程、陸の鮮明度が向上す
る。しかしながら、電子顕微鏡等では常に一定の加速電
圧で使用することは少ない。例えば１００ＫＶタイプの
電子顕微鏡では目的に応じて数１０ＫＶから１００ＫＶ
の範囲で使用する。
ところで、加速電圧を変化させると、電子ビームのクロ
スオーバポイント（光源位置）は変化する。第２図はパ
トラ−（Ｂ ａｔｔｌｅｒ）型の静電レンズについての
クロスオーバポイントの移動特性を示す図である。第３
図に示すように、エミッタ１から第１アノード２までの
距離を８１、第１アノード２から第２アノード３までの
電極間距離をｄ。
スオーバポイント（光源位置）は変化する。第２図はパ
トラ−（Ｂ ａｔｔｌｅｒ）型の静電レンズについての
クロスオーバポイントの移動特性を示す図である。第３
図に示すように、エミッタ１から第１アノード２までの
距離を８１、第１アノード２から第２アノード３までの
電極間距離をｄ。
第２アノード３からクロスオーバポイントＰまでの距離
を８２、第１アノード２に印加される電圧をｖｌ、第２
アノード３に印加される電圧をＶ２とする。以上の定義
の下に、第２図はＳ１／ｄ（電極間距離をｄで規格化し
た第１アノードと工ミッタ間距ｆｉ）をパラメータとし
て電圧比Ｖ２／ｖ１を変化させた時のＳｚ／ｄ（電極間
距離をｄで規格化した第２アノードからクロスオーバポ
イントまでの距離）の変化を示している。ｆｌはＳｔ／
ｄ＝０．５の場合の、ｆｌはパラメータＳ１／ｄ−０，
６８の場合のそれぞれ特性を示している。第２図により
、加速電圧を変化させると、クロスオーバポイントＰの
位置が変化することが分かる。クロスオーバポイントの
位置が変化すると、試料上でのビームの明かるさ、ビー
ム径、ビームの安定性等が変化するため、クロスオーバ
ポイントは常に前記特性に対しオプティマムな位置に固
定されることが望まれる。
を８２、第１アノード２に印加される電圧をｖｌ、第２
アノード３に印加される電圧をＶ２とする。以上の定義
の下に、第２図はＳ１／ｄ（電極間距離をｄで規格化し
た第１アノードと工ミッタ間距ｆｉ）をパラメータとし
て電圧比Ｖ２／ｖ１を変化させた時のＳｚ／ｄ（電極間
距離をｄで規格化した第２アノードからクロスオーバポ
イントまでの距離）の変化を示している。ｆｌはＳｔ／
ｄ＝０．５の場合の、ｆｌはパラメータＳ１／ｄ−０，
６８の場合のそれぞれ特性を示している。第２図により
、加速電圧を変化させると、クロスオーバポイントＰの
位置が変化することが分かる。クロスオーバポイントの
位置が変化すると、試料上でのビームの明かるさ、ビー
ム径、ビームの安定性等が変化するため、クロスオーバ
ポイントは常に前記特性に対しオプティマムな位置に固
定されることが望まれる。
〈発明が解決しようとする問題点）
従来の１段加速型の電界放射型電子銃においては加速電
圧に応じて第２アノードに印加する電圧の値を変えてク
ロスオーバポイントの位置が変わらないようにしている
。第４図は従来の１００ＫＶタイプ電界放射型電子銃の
構成例を示す図である。−１００ＫＶｆ１位に保持され
たエミッタ１１から出射された電子線は、第１アノード
（引出し電極）１２により引出された後、第２アノード
１３及び第３７ノード１４を通過して加速され１）点に
クロスオーバを結ぶ。ここで１第１アノード１２の電位
としては−１００ＫＶ〜−９０ＫＶ、第２アノード１３
の電位としては同じ＜−１００に■〜−９０ＫＶ程度が
用いられ、第３アノード１４は接地されている。このよ
うに構成された装置において、各アノードに前述範囲の
電位を与えた後、第２アノード１３に印加する電圧の値
を可変してクロスオーバポイントＰの位置を一定に調整
している。ここで、第２アノード１３．第３７ノード１
４は静電レンズとして作用する。しかしながら、２００
ＫＶの多段加速管を用いた電界Ｉ’１０１型電子銃でク
ロスオーバポイントの位置を一定にする技術は確立され
ていなかった。
圧に応じて第２アノードに印加する電圧の値を変えてク
ロスオーバポイントの位置が変わらないようにしている
。第４図は従来の１００ＫＶタイプ電界放射型電子銃の
構成例を示す図である。−１００ＫＶｆ１位に保持され
たエミッタ１１から出射された電子線は、第１アノード
（引出し電極）１２により引出された後、第２アノード
１３及び第３７ノード１４を通過して加速され１）点に
クロスオーバを結ぶ。ここで１第１アノード１２の電位
としては−１００ＫＶ〜−９０ＫＶ、第２アノード１３
の電位としては同じ＜−１００に■〜−９０ＫＶ程度が
用いられ、第３アノード１４は接地されている。このよ
うに構成された装置において、各アノードに前述範囲の
電位を与えた後、第２アノード１３に印加する電圧の値
を可変してクロスオーバポイントＰの位置を一定に調整
している。ここで、第２アノード１３．第３７ノード１
４は静電レンズとして作用する。しかしながら、２００
ＫＶの多段加速管を用いた電界Ｉ’１０１型電子銃でク
ロスオーバポイントの位置を一定にする技術は確立され
ていなかった。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであって、
その目的は、多段加速管を用いた電子銃の場合であって
も、加速電圧を可変した場合でもクロスオーバポイント
の位置を一定に固定することができる電界放射型電子銃
を実現することにある。
その目的は、多段加速管を用いた電子銃の場合であって
も、加速電圧を可変した場合でもクロスオーバポイント
の位置を一定に固定することができる電界放射型電子銃
を実現することにある。
（問題点を解決するための手段）
前記した問題点を解決する本発明は、エミッタより出射
した電子線を多段加速管及び複数個のアノードにより加
速集束するようにした電界放射型電子銃において、加速
電圧に応じて第２アノードと第３アノードに印加される
電圧の比を一定に保つ手段を設けたことを特徴とするも
のである。
した電子線を多段加速管及び複数個のアノードにより加
速集束するようにした電界放射型電子銃において、加速
電圧に応じて第２アノードと第３アノードに印加される
電圧の比を一定に保つ手段を設けたことを特徴とするも
のである。
（作用）
本発明は、第２アノード、第３アノードに印加される電
圧の比を加速電圧の変化に応じて常に一定に保つように
する。
圧の比を加速電圧の変化に応じて常に一定に保つように
する。
以下に、本発明の動作原理を第２図の特性図を参照して
説明する。第２図において、第２アノード以下のＮ極は
ビーム通路の穴径を大きくとり、殆ど静電レンズ作用を
無視できるため、クロスオーバポイントは略第１アノー
ド、第２アノードによるレンズ作用で見積もることがで
きる。従って、Ｓ１／ｄが一定の時、電圧比Ｖ ２ ／
Ｖ ｔが一定であれば特性図より８２／ｄも一定とな
る。即ち、クロスオーバポイントを固定できることにな
る。
説明する。第２図において、第２アノード以下のＮ極は
ビーム通路の穴径を大きくとり、殆ど静電レンズ作用を
無視できるため、クロスオーバポイントは略第１アノー
ド、第２アノードによるレンズ作用で見積もることがで
きる。従って、Ｓ１／ｄが一定の時、電圧比Ｖ ２ ／
Ｖ ｔが一定であれば特性図より８２／ｄも一定とな
る。即ち、クロスオーバポイントを固定できることにな
る。
（実施例）
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図である。
図は２００ＫＶの多段加速ＦＥＧの構成を示している。
図において、２１はハイテンション（ｌ〜ＩＴ）電位（
−２００ＫＶ）に維持されたエミッタ、２２は第１アノ
ード（引出し電極）、２３は第２アノード、２４は６段
の多段加速管である。該多段加速管２／ｌはＲ１−Ｒ６
の分圧抵抗、各段から引出された加速電極Ａ１〜Ａｓ、
各加速電極Ａ１〜ΔＧとは逆方向（真空外）に引出され
たフープ〈電界緩和リング）より構成されている。イし
て。
−２００ＫＶ）に維持されたエミッタ、２２は第１アノ
ード（引出し電極）、２３は第２アノード、２４は６段
の多段加速管である。該多段加速管２／ｌはＲ１−Ｒ６
の分圧抵抗、各段から引出された加速電極Ａ１〜Ａｓ、
各加速電極Ａ１〜ΔＧとは逆方向（真空外）に引出され
たフープ〈電界緩和リング）より構成されている。イし
て。
加速ｆＨｔｌＡｔ−Ａｓはインシュレータ２５により位
置決め固定されている。、２Ｇは第３アノードで、多段
加速管２４のうちの加速電極Ａ３を第３アノードとして
併用している。Ｓ＋乃至＄３はそれぞれ加速電１１Ａ
Ａ ４〜八６と接地間に接続された短絡用スイッチであ
る。
置決め固定されている。、２Ｇは第３アノードで、多段
加速管２４のうちの加速電極Ａ３を第３アノードとして
併用している。Ｓ＋乃至＄３はそれぞれ加速電１１Ａ
Ａ ４〜八６と接地間に接続された短絡用スイッチであ
る。
Ｖ １０は第１アノード２２とエミッタ２１間に印加さ
れたフィールドエミッション（電界放射）電流引出し電
圧、■乙は第２アノード２３とエミッタ２１間に印加さ
れたエミッション電流コントロール及び静電レンズコン
トロール電圧で、これら電圧Ｖｗ、Ｖａは最適な値に調
整できるようになっている。分圧抵抗Ｒ１〜Ｒ６はその
一端がハイテンション電圧（−２００ＫＶ）端子に接続
され、他端は接地されている。従って、分圧抵抗Ｒ１〜
ＲＡＩ、の各段からは分圧比に応じた分圧電圧が取出さ
れ、各加速電極Ａ１−八〇に供給される。
れたフィールドエミッション（電界放射）電流引出し電
圧、■乙は第２アノード２３とエミッタ２１間に印加さ
れたエミッション電流コントロール及び静電レンズコン
トロール電圧で、これら電圧Ｖｗ、Ｖａは最適な値に調
整できるようになっている。分圧抵抗Ｒ１〜Ｒ６はその
一端がハイテンション電圧（−２００ＫＶ）端子に接続
され、他端は接地されている。従って、分圧抵抗Ｒ１〜
ＲＡＩ、の各段からは分圧比に応じた分圧電圧が取出さ
れ、各加速電極Ａ１−八〇に供給される。
エミッタ２１は電子線の発生源であり、ＦＥＧの場合、
コールドタイプと多少加熱して用いるサーマルタイプと
がある。第２アノード２３に印加される電圧は、適正な
電子線を得るための手段であり、引出し電圧（第１アノ
ード電圧）とも関連しながら設定する。この電圧は、通
常エミッタ電位（−２００ＫＶ） に対シテ通常Ｏ〜１
０に■正方向に設定される。第２アノード２３と第３７
ノード２６とでパトラ−型静電レンズを構成し、エミッ
タ２１から出射された電子線を集束する役目をする。こ
のように構成された装置の動作を説明すれば、以下のと
おりである。
コールドタイプと多少加熱して用いるサーマルタイプと
がある。第２アノード２３に印加される電圧は、適正な
電子線を得るための手段であり、引出し電圧（第１アノ
ード電圧）とも関連しながら設定する。この電圧は、通
常エミッタ電位（−２００ＫＶ） に対シテ通常Ｏ〜１
０に■正方向に設定される。第２アノード２３と第３７
ノード２６とでパトラ−型静電レンズを構成し、エミッ
タ２１から出射された電子線を集束する役目をする。こ
のように構成された装置の動作を説明すれば、以下のと
おりである。
第１アノード２２にエミッタ電位（−１−！ Ｔ ）に
対して数ＫＶ〜１０ＫＶ程度正方向の電圧を印加すると
、エミッタ２１から電子線が発生する。発生した電子線
は、第２アノード２３、第３７ノード２６による静電レ
ンズ作用により集束される。
対して数ＫＶ〜１０ＫＶ程度正方向の電圧を印加すると
、エミッタ２１から電子線が発生する。発生した電子線
は、第２アノード２３、第３７ノード２６による静電レ
ンズ作用により集束される。
集束された電子ビームは多段加速管２４を通過１゛る間
に加速される。
に加速される。
ここで、例えば加速電圧（−ＨＴ）が２００ＫＶの時、
スイッチＳｒ〜Ｓ３は全てオフ、従って、各段は２００
÷６−３３ （ＫＶ）を負担する。この場合、第２．第
３アノード２３．２６間の電位差は３３Ｘ２−６６ （
ＫＶ）となる。次に、加速電圧（−１−ＩＴ）が１６０
ＫＶの時にはスイッチＳ３のみオンになり、各段は１６
０÷５＝３２ （ＫＶ）を負担する。この時、第２．第
３アノード２３．２６６間ノミ差は３２ｘ２−６４ （
ＫＶ） となる。同様にして加速電圧（−）−ＩＴ）が
１２０に■の時にはスイッチＳ２及び＄３がオンになり
、加速電圧（−ＨＴ）が１００ＫＶの時にはスイッチ８
１．８２及びＳ３がオンになる。この時の第２、第３ア
ノード間の電位差は前者が６０ＫＶ。
スイッチＳｒ〜Ｓ３は全てオフ、従って、各段は２００
÷６−３３ （ＫＶ）を負担する。この場合、第２．第
３アノード２３．２６間の電位差は３３Ｘ２−６６ （
ＫＶ）となる。次に、加速電圧（−１−ＩＴ）が１６０
ＫＶの時にはスイッチＳ３のみオンになり、各段は１６
０÷５＝３２ （ＫＶ）を負担する。この時、第２．第
３アノード２３．２６６間ノミ差は３２ｘ２−６４ （
ＫＶ） となる。同様にして加速電圧（−）−ＩＴ）が
１２０に■の時にはスイッチＳ２及び＄３がオンになり
、加速電圧（−ＨＴ）が１００ＫＶの時にはスイッチ８
１．８２及びＳ３がオンになる。この時の第２、第３ア
ノード間の電位差は前者が６０ＫＶ。
後者が６６ＫＶとなる。このようにして、加速電圧が変
化した場合でも第２アノード２３と第３アノード２６間
の電位差が略６０ＫＶと一定に保たれる。電位差が一定
に保たれるということは、これらアノードに印加される
電圧の比が一定に保たれることを表わす。第２．第３ア
ノードに印加される電圧の比が一定に保たれると、前述
したようにクロスオーバポイントを一定位置に固定する
ことができる。従って加速電圧を変化させても常にクロ
スオーバポイントをオプティマムに位置づけて使用する
ことができる。
化した場合でも第２アノード２３と第３アノード２６間
の電位差が略６０ＫＶと一定に保たれる。電位差が一定
に保たれるということは、これらアノードに印加される
電圧の比が一定に保たれることを表わす。第２．第３ア
ノードに印加される電圧の比が一定に保たれると、前述
したようにクロスオーバポイントを一定位置に固定する
ことができる。従って加速電圧を変化させても常にクロ
スオーバポイントをオプティマムに位置づけて使用する
ことができる。
上述の実施例においては、第２アノードと第３アノード
に印加される電圧の比を一定に保つ手段として、多段加
速管各段と接地間に短絡スイッチを設けた場合を例にと
ったが、本発明はこれに限るものではない。第２アノー
ドと第３アノードに印加される電圧の比を一定に保つこ
とができるものであればどのような手段であってもよい
。
に印加される電圧の比を一定に保つ手段として、多段加
速管各段と接地間に短絡スイッチを設けた場合を例にと
ったが、本発明はこれに限るものではない。第２アノー
ドと第３アノードに印加される電圧の比を一定に保つこ
とができるものであればどのような手段であってもよい
。
（発明の効果）
以上詳細に説明したように、本発明によれば、加速電圧
に応じて第２アノードと第３アノードに印加される電圧
の比を一定になるような手段を設けることにより、クロ
スオーバポイントを各加速電圧に対して常にオブティマ
ムな位置に固定することができる電界放射型電子銃を実
現することができる。
に応じて第２アノードと第３アノードに印加される電圧
の比を一定になるような手段を設けることにより、クロ
スオーバポイントを各加速電圧に対して常にオブティマ
ムな位置に固定することができる電界放射型電子銃を実
現することができる。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図はクロ
スオーバポイントの移動特性を示す図、第３図、第４図
は電子銃の構成概念を示す図である。 １．１１．２１・・・エミッタ ２．１２．２２・・・第１アノード ３．１３．２３・・・第２アノード １４．２６・・・第３アノード ２４・・・多段加速管 ２５・・・インシュレータ
Ｒ１〜Ｒ６・・・分圧抵抗 △１〜八６・・・加速電極
５ｌ−８３・・・短絡スイッチ 特許出願人 日 本 電 子 株 式
会 社代 理 人 弁理士 井
島 藤 治外１名 第１図 ２つ一１ノンユレータ ２６ｉ第３アノード 第３図 第４ 図
スオーバポイントの移動特性を示す図、第３図、第４図
は電子銃の構成概念を示す図である。 １．１１．２１・・・エミッタ ２．１２．２２・・・第１アノード ３．１３．２３・・・第２アノード １４．２６・・・第３アノード ２４・・・多段加速管 ２５・・・インシュレータ
Ｒ１〜Ｒ６・・・分圧抵抗 △１〜八６・・・加速電極
５ｌ−８３・・・短絡スイッチ 特許出願人 日 本 電 子 株 式
会 社代 理 人 弁理士 井
島 藤 治外１名 第１図 ２つ一１ノンユレータ ２６ｉ第３アノード 第３図 第４ 図
Claims (2)
- （１）エミッタより出射した電子線を多段加速管及び複
数個のアノードにより加速集束するようにした電界放射
型電子銃において、加速電圧に応じて第２アノードと第
３アノードに印加される電圧の比を一定に保つ手段を設
けたことを特徴とする電界放射型電子銃。 - （２）前記手段は多段加速管の各段と接地間に設けた短
絡スイッチであることを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の電界放射型電子銃。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61228624A JPS6381743A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | 電界放射型電子銃 |
| US07/099,550 US4814716A (en) | 1986-09-26 | 1987-09-22 | Apparatus for producing and accelerating an electron beam |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61228624A JPS6381743A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | 電界放射型電子銃 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6381743A true JPS6381743A (ja) | 1988-04-12 |
| JPH0530015B2 JPH0530015B2 (ja) | 1993-05-07 |
Family
ID=16879256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61228624A Granted JPS6381743A (ja) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | 電界放射型電子銃 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4814716A (ja) |
| JP (1) | JPS6381743A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8901517A (nl) * | 1988-06-17 | 1990-01-16 | Hitachi Ltd | Elektronenkanonsysteem met veldemissie. |
| JP2007518223A (ja) * | 2003-12-30 | 2007-07-05 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | 発散制御機能を有したハイブリッド型マルチビーム電子放出デバイス |
| JP2017204375A (ja) * | 2016-05-11 | 2017-11-16 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および電子顕微鏡の制御方法 |
| JP2019139964A (ja) * | 2018-02-09 | 2019-08-22 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および電子顕微鏡の制御方法 |
| WO2024018568A1 (ja) * | 2022-07-20 | 2024-01-25 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| KR20020079848A (ko) * | 2000-02-11 | 2002-10-19 | 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크. | 고에너지 가속기를 저에너지 모드에서 가동하는 방법 및장치 |
| JP2004335320A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
| JP2006216396A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
| RU2313925C2 (ru) * | 2005-02-22 | 2007-12-27 | Валерий Тимофеевич Гавич | Способ ускорения двух пучков электронов в одном линейном резонансном ускорителе |
| JP5149387B2 (ja) * | 2008-08-08 | 2013-02-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子銃及びこれを用いた集束イオンビーム装置 |
| DE102010041813A1 (de) | 2010-09-30 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Teilchenstrahlgerät und Verfahren zur Untersuchung und/oder Bearbeitung eines Objekts |
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| JPS51117568A (en) * | 1975-04-07 | 1976-10-15 | Hitachi Ltd | Electron gun for use in electron microscope |
Family Cites Families (3)
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