JPS6381421A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

Info

Publication number
JPS6381421A
JPS6381421A JP22899686A JP22899686A JPS6381421A JP S6381421 A JPS6381421 A JP S6381421A JP 22899686 A JP22899686 A JP 22899686A JP 22899686 A JP22899686 A JP 22899686A JP S6381421 A JPS6381421 A JP S6381421A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive
hydrogen ion
photosensitive resin
proton
concn
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22899686A
Other languages
English (en)
Inventor
Narihiro Sato
成広 佐藤
Tokihiko Shimizu
清水 時彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP22899686A priority Critical patent/JPS6381421A/ja
Priority to DE3751650T priority patent/DE3751650T2/de
Priority to EP87113705A priority patent/EP0260712B1/en
Priority to US07/098,999 priority patent/US4828947A/en
Publication of JPS6381421A publication Critical patent/JPS6381421A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/0166Diazonium salts or compounds characterised by the non-macromolecular additives
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は紫外光もしくは可視光の照射により硬化または
分解する感光性樹脂組成物に関する。
従来の技術 感光性樹脂の紫外光あるいは可視光での反応は次の4種
に大別できる。
1)光感応性物質が光を吸収して励起し分散媒であるポ
リマーに橋かけして硬化する、もしくは光励起された光
感応性物質がポリマー鎖を切断するもの。
2)光架橋剤もしくは光分解剤だけでは十分な感度は得
られないが適切な増感剤を混在させることにより増感剤
から光架橋剤もしくは光分解剤へエネルギー移動が起こ
り光架橋剤もしくは光分解剤が励起されポリマー鎖と反
応するもの。
3)光感応性物質が光感応性基としてあらかじめポリマ
ーに結合しており、光励起された光感応性基が他の官能
基と結合するか、もしくはポリマー鎖を切断するもの。
4)分類3)に増感剤が関与するもの。
発明が解決しようとする問題点 以上の光硬化または分解反応における分光感度は1)ま
たは3)の場合、光感応性物質または光感応基の吸収ス
ペクトルにほぼ対応したものであった。
また2)または4)の場合、分光感度は光感応性物質と
増感剤の組み合わせにより決まっていた。したがって感
光性樹脂の分光感度をコントロールするためには光感応
性物質を種々変えるか感光性樹脂に適切な色素増感剤を
加える必要があった。
この場合、分光感度を任意に変化させることは不可能だ
った。
問題点を解決するための手段 水素イオン濃度の常用対数が所定値から0.5以上変化
したときの、光感応性物質におけるプロトン付加体のモ
ル41度の変化率が、10%以上となるような感光性樹
脂組成物を用いる。
作用 本発明の感光性樹脂組成物は、水素イオン濃度の常用対
数が所定値から0.5以上大きくなる(水素イオン濃度
が低くなる)と、光感応性物質中のプロトン脱離体の濃
度が増加する。光感応性物質からのプロトン脱離は水素
イオン濃度に依存する平衡反応であるので、水素イオン
濃度を調整することによってプロトン脱離体と付加体の
濃度比を連続的に変化させることができる。さらにプロ
トン脱離体とプロトン付加体は共役系の長さが異なるた
め吸収波長が異なることから水素イオン濃度の変化によ
って分光感度を任意に変化させることができる。
実施例 本発明の感光性樹脂組成物中の光感応性物質としては、
水素イオン濃度の常用対数がある定められた値から0.
5以上変化したとき光感応性物質におけるプロトン付加
体のモル濃度の変化率が10%以上ある物質であれば特
にその種類を限定しないが、水素イオン濃度を所定値か
らいくら高くまたは低くしても、プロトン付加体のモル
濃度の変化率が10%以下の場合は実際上分光感度のコ
ントロールとしては意味がない。
このような光感応性物質としてたとえば下記の一般式(
1) (ただしRはHSCH3または C2H5を示し、R′
はH,5O3HまたはC0OHを示す)で表される架橋
剤があげられる。
また感光性樹脂は水溶性であっても油溶性であってもよ
いが、水溶性樹脂をもちいるほうが水素イオン濃度を調
整しやすく好都合である。たとえばポリビニルアルコー
ル、ゼラチン、水溶性ナイロン、N−メチルアクリルア
ミドなと公知の水溶性樹脂をもちいることができる。
以下実際の実施例について説明する。
実施例1 架橋剤として4,4′−ビスジアゾジフェニルアミン塩
酸塩を用いた。この架橋剤は4,4′−ジアミノジフェ
ニルアミンを塩酸酸性下、亜硝酸ナトリウムを滴下して
常法どうり作成した。
樹脂水溶液は次のようにして作成した。ポリビニルアル
コール(PVA117、株式会社クラレ゛製)10部を
水90部に溶解したのち、0.I N塩酸と0、IN水
酸化ナトリウム水溶液を用いて、この樹脂水溶液をpH
6およびpH8に調製した。この樹脂水溶液100部に
4,4′−ビスジアゾジフェニルアミン塩酸塩を0.2
部を添加して水素イオン濃度を調製した感光性樹脂水溶
液を作成した。この感光性樹脂水溶液を直径50mm、
厚さ2mmの石英ガラス基板上にスピンコードしたのち
40”Cで20分ブレベークした。
実施例2 架橋剤として4,4′−ビスジアゾジフェニルメチルア
ミン塩酸塩を用いた。この架橋剤は4,4′−ジアミノ
ジフェニルメチルアミンを塩酸酸性下、亜硝酸ナトリウ
ムを滴下して常法どうり作成した。
pH6とpH8に水素イオン濃度を調製した樹脂水溶液
は実施例1と同様に作成した。この樹脂水溶液100部
に4,4′−ビスジアゾジフェニルメチルアミン塩酸塩
を0.2部を添加して感光性樹脂水溶液を作成した。こ
の感光性樹脂水溶液を実施例1と同様のガラス基板上に
スピンコードしたのち40℃で20分ブレベークした。
実施例3 架橋剤として4,4′−ビスジアゾジフェニルエチルア
ミン塩酸塩を用いた。この架橋剤は4,4′−ジアミノ
ジフェニルエチルアミンを塩酸酸性下、亜硝酸ナトリウ
ムを滴下して常法どうり作成した。
pH6とpH8に水素イオン濃度を調製した樹脂水溶液
は実施例1と同様に作成した。この樹脂水溶液100部
に4,4′−ビスジアゾジフェニルエチルアミン塩酸塩
を0.2部を添加して感光性樹脂水溶液を作成した。こ
の感光性樹脂水溶液を実施例1と同様のガラス基板上に
スピンコードしたのち40℃で20分ブレベークした。
実施例4 架橋剤として2−カルボキシル−4,4′−ビスジアゾ
ジフェニルアミン塩酸塩を用いた。この架橋剤は2−カ
ルボキシル−4,4′−ジアミノジフェニルアミンを塩
酸酸性下、亜硝酸ナトリウムを滴下して常法どうり作成
した。
pH6とpH8に水素イオン濃度を調製した樹脂水溶液
は実施例1と同様に作成した。この樹脂水溶液100部
に2−カルボキシル−4,4′−ビスジアゾジフェニル
アミン塩酸塩を0.2部を添加して感光性樹脂水溶液を
作成した。この感光性樹脂水溶液を実施例1と同様のガ
ラス基板上にスピンコードしたのち40℃で20分ブレ
ベークした。
実施例5 架橋剤として2−スルホニル−4,4′−ビスジアゾジ
フェニルアミン塩酸塩を用いた。この架橋剤は2−スル
ホニル−4,4′−ジアミノジフェニルアミンを塩酸酸
性下、亜硝酸ナトリウムを滴下して常法どうり作成した
pH6とpH8に水素イオン濃度を調製した樹脂水溶液
は実施例1と同様に作成した。この樹脂水溶液100部
に2−スルホニル−4,4′−ビスジアゾジフェニルア
ミン塩酸塩t!:0.2部を添加して感光性樹脂水溶液
を作成した。この感光性樹脂水溶液を実施例1と同様の
ガラス基板上にスピンコードしたのち40℃で20分ブ
レベークした。
比較例 架橋剤として4.4′−とスジアゾジフェニルスルフィ
ドを用いた。この架橋剤は4,4′−ジアミノジフェニ
ルスルフィドを塩酸酸性下、亜硝酸ナトリウムを滴下し
て常法どうり作成した。
pi−teとpH8に水素イオン濃度を調製した樹脂水
溶液は実施例1と同様に作成した。この樹脂水溶液10
0部に4,4′−とスジアゾジフェニルスルフィドを0
.3部を添加して感光性樹脂水溶液を作成した。この感
光性樹脂水溶液を実施例1と同様のガラス基板上にスピ
ンコードしたのち40℃で20分ブレベークした。
分光感度測定 以上の実施例1〜5の感光性樹脂は420nmと520
nun付近に吸収極大を有しており、これらの吸光度は
pHに依存している。図に実施例1の感光性樹脂につい
てpHを種々変えたときの可視光吸収スペクトル変化を
示した。
比較例の感光性樹脂はpH6のものもpH8のものも3
7Onm付近に吸収極大をもちこの吸光度はどちらの場
合も約0.7であり、pHによる変化はみられなかった
さらに実施例1〜5について420nmと520nmに
おける吸光度および感度を測定した。実施例1から5に
おいて酸性領域で増加している短波長側(420nm)
の吸収は、ジフェニルアミン部分のアミノ基を介した共
役系が伸びていないもの、すなわちアミノ基へのプロト
ン付加体によるものである。
ランベルト−ベール則より吸光度の変化がそのまま光感
応物質のモル濃度に対応するので、プロトン付加体のモ
ル濃度の変化は短波長側(420nm)の吸光度の変化
で表すことができる。その結果を表に示した。
(以下余白) また表中の感度は、回折格子分光器(CT−10型日本
分光工業(株)製)をもちいて取り出した420nmま
たは520nmの単色光をステップタブレット(コダッ
クステップタブレットNo、2イーストマンコダック社
製)を通して感光性樹脂が塗布されているガラス板に2
分間照射し、現像後の残膜ステップの最大番号を比較し
た0番号が1増すごとに感度は汀倍になっている。表に
明らかなように、pHが6から8へ変化したときすなわ
ち水素イオン濃度の常用対数の値が2変化したとき、プ
ロトン付加体の濃度は実施例1では(1,50−0,4
0)/1.50#0.73、すなわち73%変化してい
る。さらにそのときの長波長側の感度は4倍以上変化し
ている。
実施例2〜5についてもプロトン付加体の濃度は10%
以上変化している。
発明の効果 以上述べてきたように水素イオン濃度の常用対数がある
定められた値から0.5以上変化したとき光感応性物質
におけるプロトン付加体のモル濃度の変化率が10%以
上あるような感光性樹脂組成物を用いることによって、
水素イオン濃度を変化させて分光感度を任意に変化させ
ることが可能になった。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の感光性樹脂組成物の一例について水素イオ
ン濃度(pHで示す)を変化させたときの可視光吸収ス
ペクトル図である。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名ス  表 
(混り

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)水素イオン濃度の常用対数が所定値から0.5以
    上変化したときの、光感応性物質におけるプロトン付加
    体のモル濃度の変化率が、10%以上あることを特徴と
    する感光性樹脂組成物。
  2. (2)光感応性物質が光感応性置換基を結合した高分子
    材料より構成されることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の感光性樹脂組成物。
  3. (3)光感応性物質が高分子材料と光架橋剤より構成さ
    れることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の感光
    性樹脂組成物。
  4. (4)光感応性物質中の光架橋剤が下記一般式で表わさ
    れることを特徴とする特許請求の範囲第1項または第3
    項記載の感光性樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただしRはH、CH_3または C_2H_5を示し
    、R′はH、SO_3HまたはCOOHを示す)
JP22899686A 1986-09-19 1986-09-26 感光性樹脂組成物 Pending JPS6381421A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22899686A JPS6381421A (ja) 1986-09-26 1986-09-26 感光性樹脂組成物
DE3751650T DE3751650T2 (de) 1986-09-19 1987-09-18 Verfahren zur Herstellung eines Reliefstruktur ausgehärtetem Kunststoff auf einer transparenten, angefärbten Schicht
EP87113705A EP0260712B1 (en) 1986-09-19 1987-09-18 Method for making a relief pattern of a cured resin on a transparent colored layer
US07/098,999 US4828947A (en) 1986-09-19 1987-09-21 Method for making a relief pattern of a cured resin on a transparent colored layer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22899686A JPS6381421A (ja) 1986-09-26 1986-09-26 感光性樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6381421A true JPS6381421A (ja) 1988-04-12

Family

ID=16885124

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22899686A Pending JPS6381421A (ja) 1986-09-19 1986-09-26 感光性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6381421A (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57169742A (en) * 1981-03-24 1982-10-19 Senshitaizaazu Research Ltd Forming composition of relief image and forming method for relief image
JPS58121033A (ja) * 1982-01-12 1983-07-19 オ−トタイプ・インタ−ナシヨナル・リミテツド 感光性組成物
JPS59136731A (ja) * 1983-01-26 1984-08-06 Kuraray Co Ltd 感光性樹脂組成物

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57169742A (en) * 1981-03-24 1982-10-19 Senshitaizaazu Research Ltd Forming composition of relief image and forming method for relief image
JPS58121033A (ja) * 1982-01-12 1983-07-19 オ−トタイプ・インタ−ナシヨナル・リミテツド 感光性組成物
JPS59136731A (ja) * 1983-01-26 1984-08-06 Kuraray Co Ltd 感光性樹脂組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4410621A (en) Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan
US4824765A (en) Water-soluble photoinitiators
DE3636697C2 (ja)
US3640718A (en) Spectral sentization of photosensitive compositions
JPH01233443A (ja) パターン形成方法
DE2824928A1 (de) Verfahren zur erzeugung eines photopolymerisierten bildes
DE2851472A1 (de) Lichtempfindliche massen
CA1326579C (en) Ternary photoinitiator system for addition polymerization
JPH0289055A (ja) 光重合可能な記録材料
US3615452A (en) Dye-sensitized photopolymerization process
US3884697A (en) Photographic process utilizing spiropyran compound dispersed in nitrocellulose films with high nitrogen content
Meier et al. Thioxanthone ester derivatives: efficient triplet sensitizers for photopolymer applications
Merrill et al. Photosensitive azide polymers
CN111909683A (zh) 量子点材料、量子点彩膜基板及制备方法
JPH01103602A (ja) 放射線感応性化合物の又は該化合物に関する改良
US2936276A (en) Photochemical compositions and processes utilizing salts of para-amino triphenylacetonitriles
JPH0834923A (ja) 黒色感光性樹脂組成物及びブラックマトリクスの製造法
JPS6381421A (ja) 感光性樹脂組成物
US4168981A (en) Bis(substituted amino)sulfides as reversible inhibitor sources for photopolymerization
US5691113A (en) Anionic photoinitiation
JPS6344648A (ja) パタ−ン形成用コントラストエンハンスト材料
US3147119A (en) Photopolymerization of vinyl monomers with metal oxides as catalysts
DE3831782A1 (de) Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
EP0189271A2 (en) Photosensitive composition
EP0260712B1 (en) Method for making a relief pattern of a cured resin on a transparent colored layer