JPS6376327A - レジスト吐出・吸引装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、レジスト塗布装置に組込まれるレジスト吐出
・吸引装置に関する。

（従来の技術） 従来、レジスト吐出φ吸引装置としては、レジストを吸
引させる為にレジストラインの配管中に吸引量調整装置
及び吸引タイミングの調整装置を組込んで吸引制御を行
なっているものがある。

これは、レジスト滴下後にレジストのしずくが滴下した
り、レジスト滴下用のノズルが動く様な自動装置でのレ
ジスト滴下防止、ノズル乾燥防止等に用いられている。

しかしながら、従来ＷＡＨによれば、レジストライン途
中の配管が複雑になったり、ダスト、気泡等の混入の可
能性が大きいという欠点がある。そこで、本発明者は、
吸引Ｉ調整装置及び吸引タイミングの調整装置にて何度
か調整を試みた結果、吸引量が安定しないばかりでなく
、この変動が原因でレジスト吐出口先端のレジストが乾
燥しレジスト粘度が上がって塗布特性に影響を及ぼした
り、レジスト先端部に気泡が混入しピンホールの欠陥原
因になることを究明した。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、レジスト塗
布特性の向上、ライン簡素化により保守の簡易化を図る
とともに、パターン欠陥数を低減しえるレジスト吐出・
吸引装置を提供することを目的とする。

［発明の構成］ （問題点を解決するための手段と作用）本発明は、レジ
スト吐出口の手前に設けられたレジスト滴下弁と、前記
レジスト吐出口にレジストを圧送するレジスト加圧弁と
、前記レジスト滴下弁とレジスト加圧弁間の配管に設け
られた減圧弁とからなり、前記各弁の開閉時間を独立に
制御してレジスト吐出量及び吐出後のレジスト吸引量を
制御することを特徴とする。本発明によれば、保守の簡
易化及びパターン欠陥数の低減化を図ることができる。

（実施例） 以下、本発明の一実施例を第１図を参照して説明する。

図中の１は、レジスト２を収容したレジスト容器である
。この容器１の開口部３には、エアーレギュレータ４、
後記レジスト吐出口にレジストを圧送するレジスト加圧
弁（ＳＶｌ）５を夫々介装した第１の配管６ａが連結さ
れている。また、前記容器１の開口部３には、一端が該
容器の底部近くまでに達し、かつレジスト滴下弁（ＳＶ
２　）７を介装した第２の配管６ｂが連結されている。

ここで、第２の配管６ｂの他端はレジスト吐出口（ＮＺ
）８となっており、このレジスト吐出口８の下方にスピ
ンチャック９に支持された基板１０が配置されている。

前記容器１の開口部３とレジスト加圧弁５間の第１の配
管６ａには、減圧調製用スビコン１１、減圧弁１２を介
装した第３の配管６Ｃが連結されている。

こうした構造の装置において、レジストを圧送する為の
高圧エアー（例えばＮ２　）をエアーレギュレータ４に
より１．０ＫＱ／ｃｇ２に、また真空圧を減圧ＩＩ用ス
ピンスビコン１１にて−１，０ｍｍＨＱに設定されてい
る。ここで、第２図に示すシーケンスを取る事により、
レジスト吐出吸引量の制御が実施できる。具体的には、
レジスト加圧弁５はレジスト吐出を行なう前に開放して
レジスト容器１内を十分に加圧しておく。約１秒後、レ
ジスト滴下弁７を開き、基板１０にレジストを必要量滴
下する（例えば約３秒滴下）。滴下終了は、レジスト加
圧弁５及びレジスト滴下弁７を同時に閉じる事により行
なう。滴下終了時点もしくは直後に減圧弁１２を０．５
秒開け、レジスト容器１内を大気圧もしくは減圧状態に
した後、レジスト滴下弁７を開ける。ここで、レジスト
滴下弁７を開ける事によりレジスト容器１内が大気圧の
場合はサイホンの原理で一定量吸引していく為、適正な
吸引量にてレジスト滴下弁７を閉じればよい。

なお、本実施例では、減圧弁１２を第２図のシーケンス
チャートに示す如く５秒より０．５秒間開く事によりほ
ぼ大気圧もしくは若干減圧状態になっている。次いで、
にずのタイムチャートの６秒時点にてレジスト滴下弁７
を０．５秒間開閉する事により適正なレジスト吸引が行
われる。

上記実施例によれば、レジスト滴下弁７、レジスト加圧
弁５及び減圧弁１２を適宜レジスト容器１に連結された
配管に介装した構造とし、これら合弁の開閉時間を独立
に制御してレジスト吐出量及び吐出後のレジスト吸引量
を制御しえる構造となっているため、レジスト吸引制御
を行なうにあたってレジストライン中に別途配管する必
要がない。従って、従来よりも配管が簡単で、ダスト、
気泡等の混入がなく、安定したレジスト吐出吸引制御が
できる。また、その結果、ライン保守が簡易化されるだ
けでなく、上記ダスト、気泡等が原因でのパターン欠陥
を大幅に低減できる。ここで、本発明による装置及び従
来装置に係る各々のレジスト吐出口の状態は第３図、第
４図に示す通りである。これより、本発明装置が従来装
置と比べ優れていることが確認できる。

なお、上記実施例では、第２図に示すシーケンスチャー
トを用いたが、これに限定されないことは勿論の事であ
る。

［発明の効果］ 以上詳述した如く本発明によれば、レジスト塗布特性の
向上、ライン簡素化により保守の簡易化を図り、またパ
ターン欠陥数を低減し得る高信頼性のレジスト吐出・吸
引装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係るレジスト吐出・吸引装
置の説明図、第２図は同装置の８弁の開閉制御のシーケ
ンスチャート、第３図は同装置によるレジスト吐出口の
状態の説明図、第４図は従来ｖ！を置によるレジスト吐
出口の状態の説明図である。 １・・・レジスト容器、２・・・レジスト、２′・・・
レジスト液面、４・・・エアーレギュレータ、５・・・
レジスト加圧弁、６ａ、６ｂ、６ｃ・・・配管、７・・
・レジスト滴下弁、８・・・レジスト吐出口、９・・・
スピンチャック、１０・・・基板、１１・・・減圧調製
用スビコン、１２・・・減圧弁。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）レジスト吐出口の手前に設けられたレジスト滴下
   弁と、前記レジスト吐出口にレジストを圧送するレジス
   ト加圧弁と、前記レジスト滴下弁とレジスト加圧弁間の
   配管に設けられた減圧弁とからなり、前記各弁の開閉時
   間を独立に制御してレジスト吐出量及び吐出後のレジス
   ト吸引量を制御することを特徴とするレジスト吐出・吸
   引装置。
2. （２）前記レジスト加圧弁及びレジスト滴下弁をレジス
   ト吐出終了と同時に閉じるとともに、減圧弁を開き大気
   圧もしくは一定の減圧状態に戻した後、レジスト滴下弁
   を５秒以内で開閉することを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載のレジスト吐出・吸引装置。
3. （３）前記レジスト滴下弁と減圧弁間の配管にレジスト
   容器を配置し、該レジスト容器のレジスト液面を前記レ
   ジスト吐出口より低くくしたことを特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載のレジスト吐出・吸引装置。