JPS6373199A - Ｘ線画像変換シ−ト - Google Patents
Ｘ線画像変換シ−トInfo
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- JPS6373199A JPS6373199A JP21731286A JP21731286A JPS6373199A JP S6373199 A JPS6373199 A JP S6373199A JP 21731286 A JP21731286 A JP 21731286A JP 21731286 A JP21731286 A JP 21731286A JP S6373199 A JPS6373199 A JP S6373199A
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Landscapes
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の概要〕
従来のＸ線写真法における多量のＸ線被爆量と画像の不
鮮明さとを解消し、またこれを長期間安定に実施するこ
とを可能にするために、新規な輝尽発光材料および保護
材料を使用したＸ線画像変換シートが提供される。これ
により、長期安定に低被爆量で、しかも鮮明なＸ線画像
を得ることができる。
鮮明さとを解消し、またこれを長期間安定に実施するこ
とを可能にするために、新規な輝尽発光材料および保護
材料を使用したＸ線画像変換シートが提供される。これ
により、長期安定に低被爆量で、しかも鮮明なＸ線画像
を得ることができる。
本発明は、デジタルＸ線画像変換システムに用いるＸ線
画像変換シートに関し、特にレーザダイオード（Ｌ Ｄ
）励起を可能とする螢光体層と、長期耐久性を可能にす
る保護層を設けた、Ｘ線画像変換シートに関する。
画像変換シートに関し、特にレーザダイオード（Ｌ Ｄ
）励起を可能とする螢光体層と、長期耐久性を可能にす
る保護層を設けた、Ｘ線画像変換シートに関する。
従来のｘ′！ａ画像変換スクリーンは、基板、螢光体層
および透明保護膜から構成されている。基板材料として
カーボンブラックまたは二酸化チタンを含むプラスチッ
クが用いられ、螢光体層中の螢光体として輝尽励起スペ
クトルにおける輝尽発光強度ピークを５００〜７００ｎ
１１１の範囲に有するＢａＦＢｒ：Ｅｕ”等が用いられ
ており、このとき結合剤としてニトロセルロース、綿状
ポリエステル、ポリアルキル（メタ）アクリレート、ニ
トロセルロースとポリアルキル（メタ）アクリレートと
の混合物等の有機系樹脂が用いられている。また、特開
昭６０−８４３８２によれば、透明保護膜は、例えば、
酢酸セルロース、ニトロセルロース等のセルロース誘導
体、あるいはポリメチルメタクリレート、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、
ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニルコポリマー等
の合成高分子物質のような透明な高分子物質を適当な溶
剤に溶解して調製した溶液を螢光体層の表面に塗布する
方法により形成することができる。あるいは、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリアミド等から別に形成した透明な薄膜を螢光体
層の表面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方法に
よっても形成することができる。このようにして形成す
る透明保護膜の膜厚は、約０．１〜２０μｍとするのが
望ましい。
および透明保護膜から構成されている。基板材料として
カーボンブラックまたは二酸化チタンを含むプラスチッ
クが用いられ、螢光体層中の螢光体として輝尽励起スペ
クトルにおける輝尽発光強度ピークを５００〜７００ｎ
１１１の範囲に有するＢａＦＢｒ：Ｅｕ”等が用いられ
ており、このとき結合剤としてニトロセルロース、綿状
ポリエステル、ポリアルキル（メタ）アクリレート、ニ
トロセルロースとポリアルキル（メタ）アクリレートと
の混合物等の有機系樹脂が用いられている。また、特開
昭６０−８４３８２によれば、透明保護膜は、例えば、
酢酸セルロース、ニトロセルロース等のセルロース誘導
体、あるいはポリメチルメタクリレート、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、
ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニルコポリマー等
の合成高分子物質のような透明な高分子物質を適当な溶
剤に溶解して調製した溶液を螢光体層の表面に塗布する
方法により形成することができる。あるいは、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリアミド等から別に形成した透明な薄膜を螢光体
層の表面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方法に
よっても形成することができる。このようにして形成す
る透明保護膜の膜厚は、約０．１〜２０μｍとするのが
望ましい。
従来のＸ線画像変換シートでは、特開昭５５−１２１４
５ 、特開昭６０−８４３８２に用いられている螢光体
、ＢａＦＢｒ ： Ｅｕ”およびＢａＣｌＢｒ ： Ｅ
ｕ”、の輝尽励起スペクトルにおける輝尽発光強度のピ
ーク波長は５００〜７００ｎｍにあり、Ｘ線画像の信号
となる輝尽宛先は約４００ｎｍにあるが、両者の波長間
隔が近いために、ｘｂｉ画像の信号に、この信号を読み
出すために用いた光源からの光がノイズとして入り込み
やすくなる。そのため、必然的にノイズカット用のフィ
ルタを用いることになるので、結果的に信号強度の低下
を招き、感度低下につながるといった問題があった。
５ 、特開昭６０−８４３８２に用いられている螢光体
、ＢａＦＢｒ ： Ｅｕ”およびＢａＣｌＢｒ ： Ｅ
ｕ”、の輝尽励起スペクトルにおける輝尽発光強度のピ
ーク波長は５００〜７００ｎｍにあり、Ｘ線画像の信号
となる輝尽宛先は約４００ｎｍにあるが、両者の波長間
隔が近いために、ｘｂｉ画像の信号に、この信号を読み
出すために用いた光源からの光がノイズとして入り込み
やすくなる。そのため、必然的にノイズカット用のフィ
ルタを用いることになるので、結果的に信号強度の低下
を招き、感度低下につながるといった問題があった。
また、従来の螢光体、ＢａＦＢｒ ： Ｅｕ”＋および
ＢａＣｌＢｒ ： Ｅｕ” 、は湿気に弱く、そのため
特開昭６０−８４３８２においては、保護層としてプラ
スチックフィルムを使用しているが、プラスチックフィ
ルムは透湿性が高いために、長期的な耐久性に乏しいと
いう問題があった。
ＢａＣｌＢｒ ： Ｅｕ” 、は湿気に弱く、そのため
特開昭６０−８４３８２においては、保護層としてプラ
スチックフィルムを使用しているが、プラスチックフィ
ルムは透湿性が高いために、長期的な耐久性に乏しいと
いう問題があった。
本発明は、従って、従来の技術における上述の如き問題
点を解消しようとするものである。
点を解消しようとするものである。
本発明によれば、即ち、螢光体層の上面または両面に、
Ｓｉｎｇ、Ｔｉ０ｚ、Ｉｎ５ｎＯ、ＳｎＯ，等の酸化物
、Ａ７２Ｆ、、ＡｇＦ ５ＣａＦｚ、ＣｄＦ３、ＣｏＦ
、、ＴｉＦ３、ＴｉＦｂ、ＰｂＦ、、ｐｂｐｚ、ＢｉＦ
３、ＢｉＦ、 ＭｇＦ２、ＭｎＦ、等のフッ化物および
ＺｎＳ等の硫化物から選ばれる少なくとも１種からなる
蒸着膜を備えることを特徴とするＸ線画像変換シートが
提供される。
Ｓｉｎｇ、Ｔｉ０ｚ、Ｉｎ５ｎＯ、ＳｎＯ，等の酸化物
、Ａ７２Ｆ、、ＡｇＦ ５ＣａＦｚ、ＣｄＦ３、ＣｏＦ
、、ＴｉＦ３、ＴｉＦｂ、ＰｂＦ、、ｐｂｐｚ、ＢｉＦ
３、ＢｉＦ、 ＭｇＦ２、ＭｎＦ、等のフッ化物および
ＺｎＳ等の硫化物から選ばれる少なくとも１種からなる
蒸着膜を備えることを特徴とするＸ線画像変換シートが
提供される。
上記の蒸着膜は、螢光体層の上面または両面に直接に施
すことによって適用されてもよく、あるいは蒸着をプラ
スチックフィルム上に施して得られる蒸着膜担持フィル
ムを螢光体層の上面または両面に貼付することによって
通用されてもよい。
すことによって適用されてもよく、あるいは蒸着をプラ
スチックフィルム上に施して得られる蒸着膜担持フィル
ムを螢光体層の上面または両面に貼付することによって
通用されてもよい。
後者の場合には、フィルムの蒸着膜側を螢光体層に対面
せしめて貼付するのがよい。
せしめて貼付するのがよい。
本発明のＸ線画像変換シートにおいては、螢光体層とし
て、一般式ＭＸａＸ ’ ｚ−ａ ： １Ｏ−３Ｅｕ２
′″ （式中ＭはＣａ ｓ ＳｒおよびＢａから選ばれ
る少なくとも１種を表し、ＸおよびＸ′はそれぞれＣ１
、Ｂｒおよび■から選ばれる少なくとも１種をあらわし
、ＸとＸ′とは同一ではないものとし、ａは０．５≦ａ
≦１．８の数を表す）で示され、輝尽励起スペクトルに
おける輝尽発光強度のピークが８００〜１１０００ｎの
範囲にある螢光体からなる層を用いるのが好ましい。ま
た、前記蒸着膜の上面に有機ポリマーからなる保護コー
トまたは保護フィルムを有していてもよい。かかる保護
膜は、例えば、酢酸セルロース、ニトロセルロース等の
セルロース誘導体、あるいはポリメチルメタクリレート
、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリ
カーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニ
ルコポリマー等の合成高分子物質のような透明な高分子
物質を適当な溶剤に溶解して調製した溶液を蒸着膜の表
面に塗布する方法により形成することができる。あるい
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
塩化ビニリデン、ポリアミド等から別に形成した透明な
１膜を蒸着膜の表面に適当な接着剤を用いて接着するな
どの方法によっても形成することができる。このように
して形成する透明保護膜の膜厚は、約０．１〜２０μｍ
とするのが望ましい。
て、一般式ＭＸａＸ ’ ｚ−ａ ： １Ｏ−３Ｅｕ２
′″ （式中ＭはＣａ ｓ ＳｒおよびＢａから選ばれ
る少なくとも１種を表し、ＸおよびＸ′はそれぞれＣ１
、Ｂｒおよび■から選ばれる少なくとも１種をあらわし
、ＸとＸ′とは同一ではないものとし、ａは０．５≦ａ
≦１．８の数を表す）で示され、輝尽励起スペクトルに
おける輝尽発光強度のピークが８００〜１１０００ｎの
範囲にある螢光体からなる層を用いるのが好ましい。ま
た、前記蒸着膜の上面に有機ポリマーからなる保護コー
トまたは保護フィルムを有していてもよい。かかる保護
膜は、例えば、酢酸セルロース、ニトロセルロース等の
セルロース誘導体、あるいはポリメチルメタクリレート
、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリ
カーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニ
ルコポリマー等の合成高分子物質のような透明な高分子
物質を適当な溶剤に溶解して調製した溶液を蒸着膜の表
面に塗布する方法により形成することができる。あるい
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
塩化ビニリデン、ポリアミド等から別に形成した透明な
１膜を蒸着膜の表面に適当な接着剤を用いて接着するな
どの方法によっても形成することができる。このように
して形成する透明保護膜の膜厚は、約０．１〜２０μｍ
とするのが望ましい。
基板材料としては、カーボンブラックまたは二酸化チタ
ンを含むプラスチックを用いることができる。このとき
、螢光体層を基板に接合させるために、結合剤としてニ
トロセルロース、綿状ポリエステル、ポリアルキル（メ
タ）アクリレート、ニトロセルロースとポリアルキル（
メタ）アクリレートとの混合物等の有機系樹脂を用いる
のがよい。
ンを含むプラスチックを用いることができる。このとき
、螢光体層を基板に接合させるために、結合剤としてニ
トロセルロース、綿状ポリエステル、ポリアルキル（メ
タ）アクリレート、ニトロセルロースとポリアルキル（
メタ）アクリレートとの混合物等の有機系樹脂を用いる
のがよい。
本発明のＸ線画像変換シート中に存在する蒸着膜は、密
度が高く、通気性および透湿性が極めて小さい。従って
、本発明のＸ線画像変換シートは酸素ガスや水蒸気の遮
蔽に優れ、耐久性に優れたものとなる。
度が高く、通気性および透湿性が極めて小さい。従って
、本発明のＸ線画像変換シートは酸素ガスや水蒸気の遮
蔽に優れ、耐久性に優れたものとなる。
以下、実施例により本発明をさらに説明する。
実施例１
輝尽励起スペクトルのピークが８００〜１１０００ｎに
あるＢａＣｌＢｒ ： １０−３Ｅｕ２＋ １００ｇに
、バインダとしてエポキシ樹脂５０ｇを加え、ボールミ
ルで一昼夜混合して、粘度３０ｐｓの塗布液を調製した
。
あるＢａＣｌＢｒ ： １０−３Ｅｕ２＋ １００ｇに
、バインダとしてエポキシ樹脂５０ｇを加え、ボールミ
ルで一昼夜混合して、粘度３０ｐｓの塗布液を調製した
。
前記塗布液をバーコータを用いて厚さ０．１μｍのＳｉ
ｎｇを蒸着したポリエチレンテレフタレートフィルムに
塗布して、３００μｍの螢光体層を形成させた。
ｎｇを蒸着したポリエチレンテレフタレートフィルムに
塗布して、３００μｍの螢光体層を形成させた。
さらに、前記螢光体層の上面に、イオンスパ・ツタ装置
を用いて、ＳｉＯ□蒸着膜を０．１μｍの厚さで適用し
て保護層を形成させ、Ｘ線画像変換シートを作製した。
を用いて、ＳｉＯ□蒸着膜を０．１μｍの厚さで適用し
て保護層を形成させ、Ｘ線画像変換シートを作製した。
実施例２
Ｓｉｎｇを蒸着させて保護層を形成せしめるがわりに、
５ｉｏｔを０．１ｎｒａの厚さで蒸着したポリエチレン
テレフタレートフィルムを保護層として適用した以外は
、実施例１と同じ条件を用いることにより、Ｘ線画像変
換シートを作製した。
５ｉｏｔを０．１ｎｒａの厚さで蒸着したポリエチレン
テレフタレートフィルムを保護層として適用した以外は
、実施例１と同じ条件を用いることにより、Ｘ線画像変
換シートを作製した。
実施例３
ＳｉＯ□のかわりにＺｎＳを用いた以外は実施例２と全
く同様にして、Ｘ線画像変換シートを作製した。
く同様にして、Ｘ線画像変換シートを作製した。
実施例４
ＳｉＯ□のかわりにＭｇＦ２を用いた以外は実施例２と
全く同様にして、Ｘ線画像変換シートを作製した。
全く同様にして、Ｘ線画像変換シートを作製した。
実施例２〜４で得られたＸ線画像変換シートについて、
耐久性加速試験を６０ｔ、９０％ＲＨで行った。また、
同様に、８５℃、９ｏ％ＲＨにおいて相対吸湿量を測定
した。これらの結果を第１図および第２図に示す。尚、
これらの図に示す数字ｌシ実施例番号に対応し、５は蒸
着保護層を有していないコントロールに対する結果であ
る。
耐久性加速試験を６０ｔ、９０％ＲＨで行った。また、
同様に、８５℃、９ｏ％ＲＨにおいて相対吸湿量を測定
した。これらの結果を第１図および第２図に示す。尚、
これらの図に示す数字ｌシ実施例番号に対応し、５は蒸
着保護層を有していないコントロールに対する結果であ
る。
（発明の効果〕
本発明によれば、保護層としての無機質蒸着膜を用いる
ことにより、長期間にわたり安定に、低被爆量で高鮮明
なＸ＆５ｉ画像を与えることのできるＸ線画像変換シー
トを提供することができる。
ことにより、長期間にわたり安定に、低被爆量で高鮮明
なＸ＆５ｉ画像を与えることのできるＸ線画像変換シー
トを提供することができる。
第１図は耐久性加速試験において得られた相対輝尽発光
強度を示すグラフであり、第２図は相対吸湿量を示すグ
ラフである。
強度を示すグラフであり、第２図は相対吸湿量を示すグ
ラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 螢光体層の上面または両面に、ＳｉＯ＿２、Ｔｉ
Ｏ＿２、ＩｎＳｎＯ、ＳｎＯ＿２等の酸化物、ＡｌＦ＿
３、ＡｇＦ、ＣａＦ＿２、ＣｄＦ＿３、ＣｏＦ＿３、Ｔ
ｉＦ＿３、ＴｉＦ＿６、ＰｂＦ＿６、ＰｂＦ＿２、Ｂｉ
Ｆ＿３、ＢｉＦ＿４、ＭｇＦ＿２、ＭｎＦ＿２等のフッ
化物およびＺｎＳ等の硫化物から選ばれる少なくとも１
種からなる蒸着膜を備えることを特徴とするＸ線画像変
換シート。 ２、 螢光体層として、一般式ＭＸａＸ′＿２＿−＿ａ
：１０＾−＾３Ｅｕ＾２＾＋（式中ＭはＣａ、Ｓｒおよ
びＢａから選ばれる少なくとも１種を表し、ＸおよびＸ
′はそれぞれＣｌ、ＢｒおよびＩから選ばれる少なくと
も１種をあらわし、ＸとＸ′とは同一ではないものとし
、ａは０．５≦ａ≦１．８の数を表す）で示され、輝尽
励起スペクトルにおける輝尽発光強度のピークが８００
〜１０００ｎｍの範囲にある螢光体からなる層を含む、
特許請求の範囲第１項記載のＸ線画像変換シート。 ３、 前記蒸着膜の上面に有機ポリマーからなる保護コ
ートまたは保護フィルムを有する、特許請求の範囲第１
項記載のＸ線画像変換シート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21731286A JPS6373199A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | Ｘ線画像変換シ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21731286A JPS6373199A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | Ｘ線画像変換シ−ト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6373199A true JPS6373199A (ja) | 1988-04-02 |
Family
ID=16702184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21731286A Pending JPS6373199A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | Ｘ線画像変換シ−ト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6373199A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6727591B2 (en) | 2001-03-26 | 2004-04-27 | Ibiden Co., Ltd. | Multi-piece substrate and method of manufacturing the substrate |
-
1986
- 1986-09-17 JP JP21731286A patent/JPS6373199A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6727591B2 (en) | 2001-03-26 | 2004-04-27 | Ibiden Co., Ltd. | Multi-piece substrate and method of manufacturing the substrate |
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