JPS6372740A

JPS6372740A - 紫外線硬化型樹脂組成物

Info

Publication number: JPS6372740A
Application number: JP21587486A
Authority: JP
Inventors: Yoshinobu Ohashi; 義暢大橋; Hideo Watanabe; 渡邊　英雄; Kunio Kageyama; 邦夫影山; Shuichi Takeyama; 秀一武山; Masayuki Nishimoto; 西本　征幸; Shuji Okagawa; 岡川　周司; Masao Nishimura; 西村　真雄
Original assignee: Furukawa Electric Co Ltd; Yokohama Rubber Co Ltd
Current assignee: Furukawa Electric Co Ltd; Yokohama Rubber Co Ltd
Priority date: 1986-09-16
Filing date: 1986-09-16
Publication date: 1988-04-02

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕本発明は、水素ガスの発生を抑制した紫外線硬化型樹脂
組成物に関する。

〔従来技術〕

従来、−ａに石英ガラスから成る光ファイバは、その外
周にガラスファイバの外傷防止や外力によるマイクロベ
ンドの防止を目的に紫外線硬化型樹脂組成物などにより
被覆される。

この種の被覆光ファイバの伝送損失はその初期には極め
て優れたものであるが、経時的には被覆材から発生する
水素ガスが光フアイバ中へ拡散し、水素分子の吸収と考
えられる１、２４μｍ、５ｉＯＨの吸収と考えられる１
、３９　ｐ　ｍ　、　ＧｅＯＨの吸収と考えられる１、
４１μｍなどの波長帯に大きな吸収を生ずる問題があっ
た。

水素ガスの影響を解消するために、特開昭６０−１５１
２５５号のように水素添加用触媒を用いる方法があるが
、これは熱処理等を必要とする欠点があった。

〔発明の目的〕

本発明は、被覆光ファイバの伝送損失特性を改善するた
めになされたものであって、水素ガスの発生量を減少さ
せた、光ファイバの被覆に用いる紫外線硬化型樹脂組成
物を提供することを目的とする。

〔発明の構成〕

このため、本発明は、樹脂組成物１００重量部に対し、
リン系化合物を０．１〜３．０重量部添加してなる紫外
線硬化型樹脂組成物を要旨とするものである。

以下、本発明の構成につき詳しく説明する。

（１１樹脂組成物。

通常の紫外線硬化型のものであればよく、特に限定され
るものではない。

例えば、高分子鎖の末端に重合性炭素−炭素二重結合を
存するオリゴマーと、１分子中に少なくとも１個の重合
性炭素−炭素二重結合を有する化合物とからなるもので
よい。

上記オリゴマーは、例えば、ウレタン（メタ）アクリレ
ート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（
メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレー
ト、ボ、リプタジエン（メタ）アクリレート等である。

また、１分子中に少なくとも１個の重合性炭素−炭素二
重結合を有する化合物としては、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペン
テニル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、トリメチルプロパントリ　（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ　（メタ）アクリレー
ト等が挙げられる。

光重合開始剤（例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベン
ジルジメチルケタール、アントラキノン、２．２−ジェ
トキシアセトフェノン、２−メチルチオキサントン、１
−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン等）も含ま
れる。さらに、必要に応じて、重合促進剤、老化防止剤
、レベリング剤、消泡剤等を用いることもできる。

（２）　　リン系化合物。

例えば、ホスファイト系化合物である。具体的にはトリ
フェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファ
イト、フェニルイソジデシルホスファイト、トリイソデ
シルホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイ
ト、フェニルジイソオクチルホスファイト、トリイソオ
クチルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスフ
ァイト、ジ（ノニルフェニル）ジノニルフェニルホスフ
ァイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファ
イト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイ
ト、ポリ　（ジプロピレングリコール）フェニルホスフ
ァイト、３．４，５．６−ジベンゾ−１，２−オキサホ
スフエン２−オキサイド、テトラキス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）−４，４−ビフェニルホスファイト
、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファ
イトなどである。

本発明では、上記樹脂組成物１００重量部に対し上記リ
ン系化合物を０．１〜３．０重量部、好ましくは０．５
〜１．５重量部添加する。添加量は、第１図に示すよう
に、０．１重量部未満では効果が少なくなり、３．０重
量部を越えて添加しても効果は向上しないからである。

なお、第１図は、ジフェニルイソデシルホスファイト（
ＤＰＤＰ）の添加量と水素発生量との関係を示す。

以下に実施例および比較例を示す。

実施例、比較例（ａ）　　実施例１〜７゜攪拌機、温度計、冷却器を備えた３１の四つロフラスコ
に、ポリエーテルポリオール（ＰＰＴＧ−４０００、採
土ケ谷化学工業■製）０．５モルにトリエンジイソシア
ネート１．０２モルおよびこれら２成分に対して１００
重ｆｔｐｐｍのジブチルチンジラウレートを加え、６０
〜８０℃で反応を行ないウレタンプレポリマーを合成し
た。この反応はＮＧＯが２．０〜２．３％で一定になる
まで行った。さらに、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト１．０２モルを加え、６０〜８０℃で反応を行ない、
ウレタンアクリレートを合成した。この反応はＮＣ０％
が０、２％以下になるまで行った。また、赤外線吸収ス
ペクトルによって、イソシアネート基の特性吸収帯が消
失していることを確認した。

上記ウレタンアクリレ−）　１００重量部に１−ヒドロ
キシシクロへキシルフェニルケトン５重量部、各種リン
系化合物０．１〜３重量部を溶解混合して、この発明の
紫外線硬化型樹脂組成物を得た。

伽）　比較例１゜実施例１〜７で合成したウレタンアクリレート１００重
量部に１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン５
重量部を溶解混合し、比較のための紫外線硬化型樹脂組
成物を得た。

くサンプル作製〉上記樹脂組成物をガラス板上に厚さ２００〜２５０μｍ
に塗布し、次いでこの塗膜にメタルハライドランプ（８
０ｗ／ａｍ）で４００ｍＪ／　ｃシの光照射を行なった
。

く水素ガス発生試験〉上記条件で作製したサンプル１〜２ｇを精秤し、容器既
知のバイアルビンに入れ、１００℃乾燥器中で２４分間
放置した後、バイアルビンのヘッドスペースをガスタイ
トシリンジによりガスクロマトグラフィに導入し、絶対
検量線法により定量を行なった。結果を下記表１に示す
。

（本頁以下余白）表１から、比較例１では水素ガス発生量が２０．５μｍ
７ｇと大きいが、実施例１〜７のようにリン系化合物を
添加することにより水素ガス発生量を減少できることが
判る。

第１図に示すように、リン系化合物の添加量が０．１重
量部であると、水素ガス発生量が大きくなり、添加量０
．１重量部未満では効果が少ない、リン系化合物の添加
量を３．０重量部としても水素ガス発生量の減少は添加
量１．５重量部のときと同程度である。

〔発明の効果〕

以上説明したように、リン系化合物を樹脂組成物１００
重量部に０．１〜３．０重量部添加した紫外線硬化型樹
脂組成物の硬化物からは水素ガスの発生が少なくなった
ので、発生水素による光ファイバの伝送損失の増加を減
少させる利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、ジフェニルイソデシルホスファイトの添加量
と水素発生量との関係図である。第１図

Claims

【特許請求の範囲】

樹脂組成物１００重量部に対し、リン系化合物を０．１
〜３．０重量部添加してなる紫外線硬化型樹脂組成物。