JPS6372621A - 新規な日焼け止め剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は日焼止め剤として有用な新規発色団化合物に関
する。これらの発色団化合物はＵＶＡ及びＵＶ８両波長
範囲において強く日光を吸収する能力を有する。本発明
は更に皮膚を日光のＵＶＡ及びＵＶＢの両波長放射成分
から護るのに有効である新規皮膚保護組成物に関する。

最後に、本発明は又日焼は及び皮膚の太陽−誘発老化な
どのＵＶＡ及びＵＶＢ波長放射線の影響から皮膚を護る
方法に関する。

日光の皮膚に及ぼす損傷効果はよく文献に記されている
。これにも拘らず、人々は彼等の職業のために長時間日
光内にあることを強制される。その他のものは、彼等の
レジャ一時間活動及び／又は日焼けした外観を有したい
ために長時間日光を浴びる。

日光への長時間曝露の主たる短期間の危険は浮ｒｇｉ（
即ち、日焼け）である。化粧品業界によりｒＵＶＢＪ波
長領域であると称されている２９０〜３２０ナノメータ
波長の紫外線放射領域は浮腫を生成するための最も効果
的なＵＶ放射のタイプである。化粧品業界により［Ｕ　
Ｖ　ＡＪ波長領域であると称されている３２０〜４００
ナノメータの波長紫外線放射範囲も又浮腫を発生する。

ＵＶＡ及びＵＶ８日光により引起こされる短期間の浮腫
の危険に加えて、このＵＶ放射曝露に伴う長期間の危険
もある。これらの長期間危険の一つは皮膚表面における
悪性変化である。数多くの疫学的研究が行われ、それら
の結果は日光曝露とヒト皮膚癌との間の強い相関関係を
示している。

もう一つの紫外線放射の長期間の危険は皮膚の早期老化
である。この状態は皮膚のしわ及び資化、並びにその他
の物理的変化例えば亀裂、毛細管拡張症（くも血管）、
太陽角化症（成長）、斑状出血（皮下出血病巣）、及び
弾力性の喪失などにより特徴づけられる。ＵＶＡ及びｔ
ＪＶＢ波長放射への曝露に伴う悪影響はより十分にデシ
モン（ＤｅＳ　ｉｍｏｎｅ）、［日焼は止め及び日焼は
生成物（Ｓｕｎｓｃｒｅｅｎ　ａｎｄ　５ａｎｔａｎ　
Ｐｒｏｄｕｃｔｓ　）　ｊ　）ｌａｎｄｂｏｏｋｏｆ　
Ｎｏｎｐｒｅｓｃｒｔｐｕｏｎ　Ｄｒｕｇｓｓ第７版、
２６章、４９９−５１１頁（アメリカ薬学会、ワシント
ン、Ｄ、Ｃ，１９８２）　、グローブ及びフォーブス（
Ｇｒｏｖｅ　ａｎｄ　Ｆｏｂｅｓ　）、ｒＵＶ−Ａ放射
による日焼は止め剤の光保護作用の評価方法（Ａ　Ｍｅ
ｔｈｏｄｆｏｒ　Ｅｖａｌｕａｔｉｎｇ　ｔｈｅ　Ｐｈ
ｏｔｏｐｒｏｔｅｃｔｌｖｅ　Ａｃｔｉｏｎ　ｏｒＳｕ
ｎｓｃｒｅｅｎ　Ａｇｅｎｔｓ　Ａｇａｌｎｓｔ　ＩＪ
Ｖ−Ａ　Ｒａｄｌａｔｌｏｎ　）　Ｊ、Ｉｎｔｅｒｎａ
ｔｉｏｎａｌ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｒ　Ｃｏｓｍｅｔｉ
ｃ　５ｃ１ｅｎｃｅ　４．１５〜２４頁（１９８２）、
及び米国特許第４．３８７，０８９号明細書（１９８３
年、６月７日発行）により十分に記載されており、これ
らの文献の開示内容は全て本発明において準用する。

よって、紫外線放射の直接の効果は化粧品上及び社会的
に満足できるものであるが、長期間の効果は累積的であ
り、且つ潜在的に深刻である。

異ったＵＶ波長において吸収し、及びそれにより皮膚を
保護する分子の混合物を含んでなる日焼は止め組成物は
公知である。例えば、米国特許第４．２６４．５８１号
（１９８１年４月２８日発行）は２−エチルヘキシルジ
メチル−バラ−アミノベンゾエート及び２−ヒドロキシ
−４−メトキシ−ベンゾフェノンの混合物を含有する。

日焼は止め組成物を開示し、米国特許第 ３．７５１，５６３号（１９７３年８月７日発行）は２
−エトキシエチルバラ−メトキシシンナメート、アミル
バラ−ジメチルアミノベンゾエート、ホモメンチルサリ
チレート及び２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノンの混合物を含有する日焼は止め組成物を開示し、及
び米国特許第３．６３６，０７７号（１９７２年１月１
８日）は５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキ
シベンゼンスルホン酸の塩及び４−アミノ安息香酸或い
はエステルを含有する日焼は止め組成物を開示する。

前記開発にも拘らず、ＵＶＡ及びＵＶＢの両方の放射範
囲における紫外線放射から皮膚を保護するために有用な
新しい化合物及び組成物をつきとめる必要性が継続して
存在する。従って、本発明の目的はＵＶＡ及びＵＶＢ放
射の両方に対して有効な日焼止め剤である新規発色団化
合物並びにこれらの発色団化合物を含有する日焼止め組
成物を提供することである。本発明の更に目的はヒト或
いは下等動物の皮膚を本発明の日焼止め化合物及び組成
物を用いることによりＵＶＡ及びＵＶＢ波長放射への曝
露の効果から保護する方法を提供することである。

本発明のもう一つの目的は、ＵｖＡ及びＵＶＢ放射範囲
の両者を通じて広範且つ強い吸収スペクトルを有する新
規発色団化合物を提供することである。本発明の更にも
う一つの目的は、皮膚により容易に吸収されず、増大し
た日焼止め保護及び使用から生ずるアレルギー、炎症或
いは毒性問題に対する減少した機会を有し、及び擦り落
ちに対する耐性を有する日焼止め剤及び組成物を提供す
ることである。更に本発明の目的はＵＶＡ及びＵＶＢ両
者の放射に対して一定且つ均一な保護を与え、化粧品と
して許容可能であり、且つ容易に日焼止め組成物に配合
することのできる日焼止め剤及び組成物を提供すること
である。

これら及びその他の目的は以下の詳細な説明から容易に
明らかとなるであろう。

発明の概要 本発明はＵＶＡ及びＶＵＢ両波長範囲において、紫外線
放射を吸収するのに有効である日焼止め剤として有用な
新規発色団−含有日焼は止め化合物に関する。これらの
新しい化合物は選ばれたＵＶＡ−吸収発色団部分及び選
ばれたＵＶＢ−吸収発色団部分を一緒に同一分子内に共
有的に結合することにより形成される。これらの発色団
部分は発色団部分の電子系がこの共有結合を介して直接
にカップリングされて新しい発色団−含有化合物を形成
するように結合される。

本発明は更に日焼止め組成物に関する。これらの組成物
は薬学的に許容可能な日焼は止め担体及び一般的にＵＶ
Ａ−吸収発色団部分及びＵＶＢ−吸収発色団部分の両者
を有することにより特徴付けられる発色団化合物を含ん
でなる。ここでも又、これらの発色団部分はこれらの部
分の電子系が共有結合を介して直接にカップリングされ
ているように共有的に結合されている。

最後に、本発明は又、日焼は及び日光−誘発皮膚の老化
などのＵＶＡ及びＵＶＢ波長放射の効果からヒト或いは
下等動物の皮膚を保護する方法にも関する。その様な方
法は、本発明において有用な日焼止め剤の有効な被覆を
ヒト或いは下等動物に局所的に適用することよりなる。

発明の詳細な説明 日焼止め剤 本発明において有用な日焼止め剤は異った紫外線放射吸
収スペクトルを有する二つの発色団から誘導された新規
発色団−含有化合物である。特に、発色団部分の一方は
主としてＵＶＢ放射範囲において吸収し、及び他方は強
＜ＵＶＡ放射範四において吸収する。更に、これらの分
子は分子内において共有結合により発色団部分を結合し
て有し、この共有結合は発色団部分の電子系を結合を介
して直接カップリングさせて新しい発色団を形成する。

より詳しくは、発色団部分の一方はその発色団部分が独
立の分子に単離された際に、ＵＶＡ範囲における放射を
強く吸収するのに有効であると特徴付けられる。他方の
発色団部分はその発色団部分が独立の分子内に単離され
た際に主としてＵＶＢ範囲において放射を吸収するのに
有効であるとして特徴付けられる。これらの二つの発色
団部分は、これらの発色団部分の電子系が直接にカップ
リングされて本発明の新しい発色団−含有化合物を形成
するように共有的に結合されている。

即ち、本発明において有用な日焼止め剤は下記一般構造
を有する化合物であるニ −Ｂ−Ｚ この一般構造において、Ｘ基は置換された、カルボニル
−含有、芳香族環−含有部分であるＵＶＡ−吸収発色団
である。このＵＶＡ−吸収部分は独立の発色団として単
離された際に、約３２０〜約４００ｎｍの波長範囲内に
おいて、少なくとも一つの最大吸収（籠においてλ　　
としＩａＸ て表わされ、以下において、より十分に説明される）を
示す。この最大吸収は少なくとも約９．０００、好まし
くは少なくとも約 ２０．０００及び最も好ましくは少なくとも約３０．０
００のモル吸収率値（姪において“ε”として表わされ
、以下に説明されるように計算される）を示す。

上記一般構造における２基は置換された、カルボニル−
含有、芳香族環−含有部分であるＵＶＢ−吸収発色団で
ある。ＵＶＢ−吸収部分は独立の発色団として単離され
た際に、約２９０〜約３２０ｎｍの範囲内の少な（とも
一つの波長に対して少なくとも約４，０００、好ましく
は少なくとも約１５，０００及び最も好ましくは少なく
とも約２５．０００のモル吸収率値を示す。好ましくは
、以下に規定する分子内における単一発色団として存在
する場合には、Ｚ基は約２９０〜約３２０ｎｍの範囲内
において、少なくとも一つの最大吸収λ　　を示す。こ
の最大吸収は好ましくａＸ は少なくとも約４，０００より好ましくは少なくとも約
１５．０００及び最も好ましくは少なくとも約２５，０
００のモル吸収率値を有するのが好ましい。最後に、以
下に規定される分子内に単一発色団として存在する場合
には、Ｚ基は更に約３２０ｎｍを越える如何なる波長に
対しても約９．０００より大きいεを有するλ　　を示
すべ■ａｘ きでない。

最後に、上記一般構造において、Ｂ基は二つのＸ及び２
発色団部分をこれらの発色団の電子系が直接にカップリ
ングされるように、即ち電子が共有されるように共有的
に結合する化学的結合或いは結合部分である。好ましく
はＢは単−結合或いは両方の発色団部分から共有される
自由電子を有する原子或いは原子団、例えば−〇−及び
−ＮＲ−（但し、ＲはＨ，１〜約２０個の炭素原子を有
する直鎖或いは分岐鎖アルキル、（ＣＨ２ＣＨ２０）ｍ
−Ｈ或いは （ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）０）ｍ−Ｈ，％ｍは１〜約８の
整数、好ましくはｍ−１〜約３）である。最も好ましく
は、Ｂが−ＮＨ−及び特に−〇−である。

本発明の日焼止め剤は好ましくは可視波長範囲における
光（即ち約４００ｎｍを越える）を僅かにのみ吸収する
か或いは全く吸収しない。従って、これらの化合物は僅
かに軽度に着色しているか（例えば、軽費色或いはクリ
ーム色）或いは本質的に白色である。これは化粧品上の
理由から望ましい。この様に、これらの日焼止め剤は約
４００ｎｍを越える如何なる波長に対しても約５００よ
り大きいεを有さず、最も好ましくは約４００ｎｍを越
える如何なる波長に対してもεが本質的に０であるのが
よい。

本発明の化合物は低分子量化合物、好ましくは約２．５
００未満、最も好ましくは約１，０００未満の分子量を
有することが更に好ましい。更に、これらの化合物は約
１０℃を越える温度において液体であるのが好ましい。

具体的には、本発明の日焼止め化合物に有用な適当なＸ
発色団部分のテ１としては、下記のものが挙げられる： （ｉｉｌ） （１ｖ） 全ての前記式において、各ＡはＲ，−ＯＲ。

−ＮＲ或いは−５Ｏ３Ｈよりなる群から独立に選ばれる
置換基或いはその薬学的に許容可能な塩或いはエステル
であり、各Ａ２は独立に−ＯＨ或ＯＨであり、各人　及
びＡ５は独立にＲ或いはＯＲであり、及び更にＡ　或い
はＡ４のいづれかはＯＨでなければならず、各Ａ６は独
立にＨ或いは−５Ｏ３Ｈ或いはその薬学的に許容可能な
塩或いはエステルであり、各Ｒは独立にＨ１約１〜約２
０個の炭素原子を有する直鎖或いは分岐鎖アルキル、（
ＣＨ２ＣＨ２０）　ｍ−Ｈ，或いは（ＣＨＣＨ（ＣＨ３
）０）　ｍ−Ｈであり、ｍは１〜約８の整数、好ましく
はｍ−１〜約３である。

Ｘ発色団部分として好ましいのは、 及び特に である。好ましくはＡ３或いはＡ４のいづれはＯＨであ
り、他の基はＨであり、Ａ５はＲであり、及びＡ　はＨ
である。最も好ましくはＡ３がＯＨであり、及び入４、
Ａ５及びＡ６がＨである。Ａは好ましくはＲであり、最
も好ましくはＡはＨである。

又、本発明の日焼止め化合物において有用なＺ発色団部
分の具体例としては下記のものが挙げられる： （ｉｌｌ） （ｉｖ） （Ｖ） いは−Ｃ０２Ｒであり、各Ａ　は独立に一０ＲＡ３（前
記Ｘ基について説明されたもの）の両者は共に−ＯＨで
あることはなく、各Ｒ１は独立に約１〜約２０個の炭素
原子を有する直鎖或いは分岐鎖アルキルであり、及びＡ
２及びＲは置換Ｘ基について、前述した如き置換基であ
る。

Ｚ発色団部分として好ましいものは ルキル基であってよい。特に好ましいのは、一方のＲ１
基が約２よりも多い炭素原子を有しく特に、分岐鎖アル
キル基、例えば２−エチル−ヘキシル）を有し、他方の
Ｒ１基がメチル或いはエチル、特にメチルであるもので
ある。或いは又、Ｒ′基の両方は同一のアルキル基、好
ましくは２−エチルヘキシルである。又、Ａ２が−ＯＲ
或いは−ＮＲ（好ましくは−ＮＲ２が前記の如く、−Ｎ
Ｒ２）であるのが好ましい。最も好ましいのはＡ　が−
ＯＣＨ−ｏＣＨ２ＣＨ３、ＯＨ。

３ゝ 或いは−ＮＲである（但し、一方のＲ１基は約２個の炭
素原子よりも多い炭素原子を有し、特に分岐鎖アルキル
基であり、特に他方のＲ１基はメチル或いはエチル、特
にメチルである）。

本発明の好ましい日焼止め剤は次の一般式を有する。

Ａ６ 及び 特に好ましいのは最後の二つの構造であり、最後の構造
が最も好ましい。これらの構造上のＢ基及び置換基は好
ましくは前記の通りである。

本発明の具体的日焼止め剤としては、例えば４−ヒドロ
キシベンゾイルメタンとの４−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ
安息香酸エステル（「化合物４−ヒドロキシジベンゾイ
ルメタンとの４−メトキシ桂皮酸エステル（「化合物２
」）；４−ヒドロキシ−４′　−メトキシジベンゾイル
メタンとの４−メトキシ桂皮酸エステル（「化合物４−
ヒドロキシジベンゾイルメタンとの４−Ｎ。

Ｎ−（２−エチルヘキシル）メチルアミノ安息香酸エス
テル（「化合物４」）；及び ２．４−ジヒドロキシベンゾフェノンとの４−Ｎ。

Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エステル（「化合物５」）
： ４−ヒドロキシジベンゾイルエタンとのＮ、Ｎ−ジ（２
−エチルヘキシル）−４−アミノ安息香酸エステル（「
化合物６」）；及び 　Ｈ３ ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンとの４−Ｎ。

Ｎ−（２−エチルヘキシル）メチルアミノ安息香酸（「
化合物７」）。

本発明の日焼止め剤は市販の、発色団・含有分子から調
製することができる。典型的には、これら日焼止め剤の
合成はエステル化或いはアミド化反応により達成される
。本発明の日焼止め剤の合成に一般的に適用可能な合成
技術は例えば米国特許第４，００２，７３３号（１９７
７年１月１１日発行）、及び米国特許第４．１１５，５
４７号（１９７８年９月１９日発行）に教えられており
、これらの両特許の開示内容は本発明において準用する
。本発明の日焼止め剤の代表的合成方法は以下の具体例
において与えられる。

本発明において用いられる「薬学的に許容可能な塩及び
エステル」という用語は毒性の見地から許容可能である
日焼止め剤のエステル及び塩形態を意味する。薬学的に
可能な塩としてはアルキル金属（例、ナトリウム及びカ
リウム）、アルカリ土類金属（例、カルシウム及びマグ
ネシウム）、非−毒性重金属（例、スズ及びインジウム
）、及びアンモニウム及び低分子量置換アンモニウム（
例、メチル及び／又はエチルにより置換されたモノ−、
ジー、トリー及びテトラ−置換アミン）塩類である。好
ましくはナトリウム、カリウム及びアンモニウム塩であ
る。薬学的に許容可能な利用可能なエステル類としては
１〜約２０個の炭素原子を有する直鎖或いは分岐鎖アル
キルエステル、好ましくはメチル或いはエチルエステル
が挙げられる。

本発明において用いられる「独立の発色団」という用語
はＸ−Ｂ−Ｚ化合物内のＢ結合部分に結合されている発
色団部分よりもむしろそれが−０−ＲＣＭにＲ２は短鎖
アルキル基、例えばメチル或いはエチル、好ましくはメ
チルを表わす）に結合した場合の発色団部分（即ちＸ或
いはＺのいづれか）を意味する。例えば、前記化合物５
の独立の発色団は４−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸
のエチルエステル及び２−ヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノンである。又、−例として、前記化合物４の
独立の発色団は４−Ｎ、Ｎ−（２−エチルヘキシル）メ
チルアミノ安息香酸のメチルエステル及び４−メトキシ
−ジベンゾイルメタンである。

本発明において用いられる「モル吸収率値」という用語
はある分子が特定波長において紫外線を吸収する能力の
定量的目安である。このモル吸収率値は光の特別の波長
において次の式から計算されるモル吸収率係数（在に１
１モル０の単位で表わされる“ε”により表わされる）
として表わされる： 〔蘇にに“ビは光が通過する吸収媒体の路長（ＣＩＩ＋
）であり、“Ｃ”は発色団分子の濃度（ｇ当りモル数）
であり、及び、“Ａ”は「吸光度」である〕。吸光度は
発色団−分子−含有吸収媒体を通して通過及び後の特別
の波長の光の強さにおける観察された相違から計算され
る。即ち、吸光度は次の式より計算される： 〔個々に、“Ｉ　”は特別の波長の吸収路上の入耐放射
線の強度であり、“ｌ”は吸収路を通過した同一の特別
の波長の透過放射線の強度である〕。

特別の波長の光に対するモル吸収率値の計算は周知であ
り、より詳しくはアトラス会オブ・スペクトル・データ
・アンド書フィジカル争コンスタンツ・フォφオーガニ
ック・コンパウンズ（Ａｔｌａｓｏｆ　５ｐｅｃｔｒａ
ｌ　Ｄａｔａ　ａｎｄ　Ｐｈｙｓｌｃａｌ　Ｃｏｎ５ｔ
ａｎｔｓ　ｆｏｒＯｒｇａａｎｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄ
ｓ）　、第２版、Ｖｏｌ、　ｌ　３９９−４０８頁（Ｇ
ｒａｓｓｅｌ　ｌ　１及びＲ１ｔｃｈｅｙ編、ＣＲＣＰ
ｒｅｓｓ社、クリーブランド、オハイオ州、１９７５年
〕に教えられており、その開示内容は本発明において準
用する。モル吸収率値の計算のための強度測定を行うた
めに有用な機器も又周知である（例、Ｖａｒｉｏｎ　Ｄ
ＮＳ−１００及びＢｅｃｋｍａｎ　Ｄυ−７）。本発明
の代表的化合物に対するモル吸収率値は以下の具体例に
おいて与えられる。

本発明において用いられる「最大吸収率」という用語は
発色団−含有分子がその最大吸収率波長の直ぐ上及び下
の波長に対して最大のモル吸収率値を有する放射の波長
を意味する。即ち、ＵＶ−放射吸収の典型的スペクトル
において、最大吸収はＵＶ吸収を測定する機器により発
生されるスペクトルのグラフにおけるピークとして容易
に確認される。最大吸収（藍においてλ　　と表わされ
ａＸ る）は本発明の代表的日焼止め化合物に対して以下の具
体例において与えられる。

本発明において有用な日焼止め剤はＵＶＡ−吸収分子と
してＵＶＢ−吸収分子の単なる混合物と比較して幾つか
の望ましい性質を有する。特に有益であるのは、本発明
の新規発色団の大きい値及び広い吸収スペクトルである
。これは本発明の日焼止め剤を分子の混合物に比較して
より低い量で用いて同一量の日焼止め保護を達成するこ
とを可能にする。更に、全ＵＶＡ及びＵＶＢ放射範囲を
通じてよりよい日焼止め保護に導く。

本発明からの付加的利益は皮膚の同一箇所においてＵＶ
Ａ及びＵＶＢ両者の保護を与える確実性である。分子の
混合物は、皮膚を通しての一つのタイプの分子による皮
膚表面上への非−均一分布及び／又は選択的侵入に対し
て他のタイプの分子によるこの均一性に欠けるものであ
る。関連した利益は本発明の日焼止め剤はＵＶＡ対ＵＶ
Ｂ保護の一定の相対的保護を与えることである。発色団
分子の混合物は一つの発色団分子が他の発色団よりも皮
膚からより容易に失われる（例えばより高割合の擦り落
ち或いは皮膚浸透）であるので、一定の相対的ＵＶＡ対
ＵＶＢ保護の比率を維持しない。もう一つの利益は、本
発明の日焼止め剤は独立の発色団の混合物よりも皮膚に
よりよりゆっくり吸収されることである。これは皮膚の
保護のより長い期間に導き、皮膚の吸収により生ずる皮
膚の炎症がより少なくなる。本発明の日焼止め化合物及
び独立の発色団の混合物のＵＶ放射を吸収する能力は一
般的に公知のＩｎ　ＶｉｔｒＯの方法、例えばセイヤー
等（Ｓａｙｅｒ　ｅｔ　ａｔ、）　　ｒｉｎ　ｖｌｖｏ
及び１ｎｖｉｔｒｏの日焼止め配合物の試験の比較（Ａ
Ｃｏｍｐａｒｉｓｏｎ　ｏｆ　ｉｎ　ｖｌｖｏ及びｉｎ
　ｖｔｔｒｏ　ＴｅｓｔｌｎｇｏｒＳｕｎｓｃｒｅｅｎ
ｌｎｇ　ＦｏｒＩｌｕｌａｓ）　Ｊフォトケミカル０フ
ォトバイオロジー（Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ、　Ｐｈｏｔｏ
ｂｉｏｌ、　）２９：　５５９−５８６（１９７９）に
より教えられている方法により測定され、その開示内容
は本発明において準用する。本発明の化合物のいくつか
は汗或いは水泳からの水による洗落ちに対してもより耐
性を有する。

本発明の日焼止め剤は典型的には約０．１％〜約９９．
９％の本発明の日焼止め組成物を含んでなり、好ましく
は約１％〜約２０％、最も好ましくは約５％〜約１５％
を含んでなる。

薬学的に許容可能な日焼止め担体 前記日焼止め剤に加えて、本発明の日焼止め組成物は本
質的に薬学的に許容可能な日焼止め担体を含有する。本
発明において用いられる「薬学的に許容可能な日焼止め
担体」としてはヒト或いは下等動物の皮膚に対する局所
的適用に適した１以上の実質に非−炎症性の適合性充填
剤希釈剤である。本発明において用いられる「適合性」
という用語は担体の成分が日焼止め剤並びに相互に皮膚
をＵＶＡ及びＵＶＢ波長の放射から保護するために使用
する際に組成物の効果を実質的に減少させる相互作用が
ないように混合わせることのできることを意味する。薬
学的に許容可能な日焼止め担体は勿論それらをヒト或い
は低級動物の局所投与に適するようにするために十分に
高い純度及び十分に低い毒性でなければならない。

本発明の日焼止め組成物は所望の配合に対して適当であ
るように選ばれた薬学的に許容可能な日焼止め担体を含
有する。例えば、本発明の日焼止め組成物を有機溶媒溶
液、水性エマルジョン、ゲル、或いはエアロゾール配合
の形態で調製することが可能である。好ましいのは水性
エマルジョンとして配合された本発明の日焼止め組成物
である。

本発明の組成物において有用な薬学的に許容可能な日焼
止め担体としては、例えば、水、油、脂肪、ワックス、
合成重合体、乳化剤、界面活性剤、香料、染料、保恒剤
、人工なめし剤（Ｎ、ジヒドロキシアセトン）、及び通
常の日焼止め剤（例、オクチル−Ｎ、Ｎ−ジメチル−パ
ラ−アミノベンゾエート、２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン）などが挙げられる。

水は本発明の日焼止め組成物の主たる成分である。一般
的に、水は組成物の約５０重量％〜約９９重量％、好ま
しくは約７０％〜約９６％、最も好ましくは約９５％〜
約８５％の割合で存在する。

乳化剤は本発明の日焼止め組成物に含まれることが好ま
しく、好ましくは組成物の約１．５〜約１０重量％、最
も好ましくは約２％〜約５％を占める。好ましい乳化剤
はアニオン系或いはノニオン系のものであるが、その他
のタイプも使用されてよい。適当な乳化剤は例えば米国
特許第３．７５５，５６０号（１９７３年８月２８日発
行）、米国特許第４，４２１．７６９号（１９８３年１
２月２０日発行）及びマツ力ッチョン（Ｍｅ　Ｃｕｔｃ
ｈｅｏｎ　）の洗剤及び乳化剤（Ｄｅｔｅｒ−ｇｅｎｔ
ｓ　ａｎｄ　Ｅｍｕｌｓｌｆｉｅｒｓ　）　、Ｎｏｒｔ
ｈ　Ａｍｅｒｉｃａｎ版、に開示されており、これらの
文献の開示内容は本発明において準用する。

本発明の日焼止め組成物において有用な乳化剤の種類と
しては、エトキシ化脂肪酸、エトキシ化エステル、エト
キシ化エーテル、エトキシ化アルコール、リン化エステ
ル、ポリオキシエチレン脂肪エーテルホスフェート、脂
肪酸アミド、アシルラクチレート、石けん及びそれらの
混合物である。

セチル及びステアリールアルコールなどの脂肪アルコー
ル及びステアリールアルコールも又本発明の目的のため
の乳化剤とみなされる。

その様な乳化剤の具体例としては、ポリオキシエチレン
（８）ステアレート、ミリスチルエトキシ（６）ミリス
テート、ポリオキシエチレン（１００）モノステアレー
ト、ラウリックジエタノールアミド、ステアリツクモノ
エタノールアミド、水素添加植物グリセリド類、ナトリ
ウムステロイル−２−ラクチレート及びカルシウムステ
アロイル−２−ラクチレートなどが挙げられる。石けん
も又許容可能な乳化剤である。石けんは組成物の加工に
際してＩｎ　ｓｏｕで配合され、好ましくは長鎖脂肪酸
のアルカリ金属或いはトリエタノールアミン塩である。

その様な石けんとしてはステアリン酸ナトリウム、トリ
エタノールアミンステアレート及びラノリン脂肪酸の同
様な塩が挙げられる。

又、本発明の組成物において、使用するのが好ましいエ
チレンとアクリル酸の共重合体である。

これらの単量体： エチレン：　ＣＨ２−ＣＨ２ アクリル酸：　Ｃ１（２−ＣＨ Ｏ２Ｈ は次の様な重合体形態で存在する： ０２Ｈ （姓に、Ｘ対ｙの比は約１＝２４〜約１：９である）。

重量平均分子量は約３，５００〜約４．５００、このま
しくは約４，０００〜約４．３００である。

本発明の組成物は上記成分に加えて、広範囲のその他の
油溶性材料及び／又は水溶性材料を含有してもよい。

油溶性材料の中には２５℃において約１０〜約１００．
０００の範囲の粘度を有するポリジメチルシロキサン類
などの非−揮発性シリコーン流体がある。これらのシロ
キサン類はＤｏｖ　Ｃｏｒｎｌｎｇ２００シリーズとし
てＤｏｖ　Ｃｏｒｎｉｎｇ社から市販されている。

その他の油溶性材料としてはセチルアルコール及びステ
アリルリアルコールなどの脂肪酸アルコール類、セテア
リールパルミテート、ラウリルミリステート及びイソプ
ロピルパルミテートなどのエステル類、ひまし油、ハホ
ウバ油、綿実油、落花生油及びゴマ油などの油、ワセリ
ン、セレシンワックス、カルナウバワックス、蜜蝋ワッ
クス、及びひまし油ワックスなどのワックス類、ラノリ
ン、その誘導体及び成分例えばアセチル化ラノリン、ラ
ノリンアルコール、及びラノリン脂肪酸などがあげられ
る。コレステロール及びファイトステロールなども又本
発明において有用である。

これらの任意の油相材料は個々に全日焼止め組成物の約
２０重量％まで、好ましくは約１０％までを占めてよい
。

本発明の組成物には又追加の水溶性材料が存在してもよ
い。例えばグリセリン、ソルビトール、プロピレングリ
コール、アルコキシル化グルコース及びヘキサントリオ
ール、チロシンなどの湿潤剤、カルボキシビニル重合体
（Ｃａｒｂｏｐｏｌｓ　Ｒ−Ｂ、Ｐ。

Ｇｏｏｄ　ｒ　ｌｅｈ社より提供されるその様な重合体
は詳細に米国特許第２．７９８．０５３号（１９５７年
７月２日発行）に説明されており、これは本発明におい
て準用する〕、エチルセルロース、ポリビニルアルコー
ル、カルボキシルメチルセルロース、植物ガム及びクレ
ー例えばＶｅｅｇｕｍＲ（マグネシウムアルミニウムシ
リケート、Ｒ，Ｔ、　Ｖａｎｄｅｒ−ｂｌｌｔ社）、な
どの増粘剤、タンパク質及びポリペプチド、ヒドロキシ
安息香酸のメチル、エチル、プロピル及びブチルエステ
ル類（パラベン−Ｍａｌｌｉｎｃｋｒｏｄｔ　Ｃｈｅｍ
ｉｃａ１社）　、ＥＤＴＡ、メチルイソチアゾリノン及
びイミダソリジニル尿素（Ｇｅｒｓａｌｌ　１１５−３
ｕｔｔｏｎ　Ｌａｂｏｒａｔｏｒｌｅｓ　）などの保恒
剤、及び所望に応じて存在する脂肪酸或いは増粘剤を中
和させるための水酸化ナトリウム或いは水酸化カリウム
などのアルカリ剤などが挙げられる。

これらの水相材料は個々に全日焼止め組成物の約２０重
量％、好ましくは約１０％までを示してよい。

本発明の組成物は又香料及び／又は染料などの審美的目
的に適した試剤を含有してもよい。

本発明における日焼止め組成物のｐＨは好ましくは約４
．５〜約９の範囲である。

本発明の水性エマルジョン日焼止め組成物のためには、
水相中に分散される油相材料（例、日焼止め剤、重合体
、香料など）の平均粒径は約５〜約１０μの範囲であり
、粒子の約７５９６を越えるものが約１２μ未満である
。

薬学的に許容可能な日焼止め担体は合計で典型的には本
発明の日焼止め組成物の約０．１〜約９９．９重量％を
占め、好ましくは約８０％〜約９９％、最も好ましくは
約８５％〜約９５％を占める。

本発明の組成物は以下の具体例に説明される方法を用い
て調製される。

日焼防止方法 本発明は更にヒト或いは下等動物の皮膚を日焼は及び皮
膚の早期老化などのＵＶＡ及びＵＶＢ波長放射の効果か
ら保護する方法に関する。その様な方法は、ヒト或いは
下等動物に本発明の日焼止め剤或いは好ましくは本発明
の日焼止め組成物の有効な被膜を局所的に適用すること
よりなる。本発明において用いる「効果的被膜」という
用語は皮膚表面に到達するＵＶＡ及びＵＶＢ波長光の量
を実質的に減少させるのに十分な日焼止め剤の膜を意味
する。典型的には、皮膚の効果的複膜は約０．５■ｇの
本発明の日焼止め／　ｃｄ皮皮膚的約５ｍｇ本発明の日
焼止め材／Ｃ−皮膚である。

以下の具体例は本発明の範囲内の好ましい実施態様を更
に説明し、示すものである。これらの具体例は例示の目
的でのみ与えられるものであり、その趣旨及び範囲から
離れることな多くの変化が可能であるので本発明を限定
するものではない。

例１ 化合物４の合成 （ａ）４−Ｎ、Ｎ−（２−エチルヘキシル）メチルアミ
ノ安息香酸の合成ニ オーバーヘッド撹拌機、滴下漏斗及び還流凝縮器のつい
た１０１００Ｏの三首丸底フラスコに４−Ｎ−メチルア
ミノ安息香酸（２５，０ｇ。

０．１６５モル、Ａｌｄｒｌｃｈ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　
Ｃｏ、ミルウォーキー、ウィスコンシン州）、１３０ｍ
１のトルエン、氷酢酸（４０，ＣＬｇ）　、及び亜鉛粉
末（４２，５ｇ、０．６５ｇ原子）を入れた。この混合
物を攪拌しながら加熱還流させ、その時点で２−エチル
ヘキサノール（８４，６ｇ、０．６６モル）の添加を開
始した。添加が終了後反応液を１６時間還流させた。Ｔ
ＬＣ分析（シリカゲル、５０１５０ヘキサン／アセトン
）は全ての酸は反応しなかったことを示した。追加の７
．０．の亜鉛粉末及び２ｍｌの氷酢酸を添加した。更に
２時間還流後、ＴＬＣ分析は出発酸が消費されたことを
示した。この熱い溶液を中程度に焼結したガラスロート
上のＣｅ１ｌｔＪ”フィルターケーキを通してｔ濾過し
、１００ｍ１の熱トルエンで洗浄した。炉液を２００ｍ
１の水及び５００ｍ１のクロロホルムを含有する分離ロ
ート中に注いだ。この混合物を濃塩酸で約１のｐＨにし
た。緊密に振盪後、クロロホルム層を抜出し、水層をク
ロロホルムで抽出した（３Ｘ１５０ｍｌ）。合一したク
ロロホルム抽出液を１５０ｍ１の塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。濾過及び溶媒をロータリエバ
ポレーションにより除去後（０，１Ｔｏｒｒ、　１００
’Ｃ水浴）、４０．４ｇの明褐色ワックス状固体を得た
。

この物質を１２０ｍ１の９０％エタノールから再結晶し
て３０．２ｇのふわふわした白色固体を得た。

融点５５．５〜５７．５℃。

元素分析計算値（ＣｔｅＨ２５０２Ｎとして）：Ｃ，７
２，９６；Ｈ，９，５７； ０．１２．１５；Ｎ、５．３２゜ 実測値：　Ｃ，７３，１１；Ｈ，９，６２；０．１２．
２８；Ｎ、５．２３゜ 或いは又、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−Ｎ−メチル−
４−アミノ安息香酸は次の方法によっても調製すること
ができる。４−アミノ安息香酸エチルエステルを２−エ
チルヘキサナールと共に１＝１酢酸／エタノール中に溶
解した。次いで炭素担持１０％Ｐｄ（２ｋｇ安息安息香
酸エステルラフ５媒）を添加した。この混合物を窒素下
に室温で１時間おいた。反応を次いでＴＬＣにより終了
したことを測定した。過剰の４０％ホルムアルデヒド水
溶液を添加し、反応を再び水素下に３０〜３５℃で１時
間置いた。反応はＴＬＣにより完了した。

反応液を次いでＣｅ１ｉｔｅを通して濾過し、溶媒を除
去した。得られた物質を水と塩化メチレンの間に分配し
た。塩化メチレン層を次いで飽和重炭酸ナトリウムで洗
浄した。得られた塩化メチレン層を次いで硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、揮発性物質を濾過後除去して目的生成
物をエチルエステルとして得た。この物質をエチルエス
テルのｆｆｉ量当り、１２容のエタノール／水（６５：
３５）中においた。２モル当量の水酸化ナトリウムを添
加し、混合物を２時間還流させた。反応は次いでＴＬＣ
により完了した。殆んどのエタノールを除去し、更に水
を添加した後塩酸を添加した。得られた目的カルボン酸
が次いで沈澱した。全プロセスはほぼ定量的であった。

生成物の再結晶は４．５ｇのエタノール当り２ｋｇの酸
中で行った。約７０％の物質の回収率が観察された。

（ｂ）４−ヒドロキシジベンゾイルメタンの合成オーバ
ーヘッド撹拌機、滴下漏斗及び還流凝縮器を備えた１０
１００Ｏの三首丸底フラスコに２回ヘキサンで洗浄した
水素化ナトリウム８０％油分散体（１２，０ｇ、０．４
０モル）を入れた。次いで、２００ｍ１の新たに蒸留し
たグライムを添加し、スラリーを攪拌しながら加熱還流
した。

１００ｍ１のグライム中に溶解した４−ヒドロキシアセ
トフェノン（１３，６２ｇ、０．１０モル）を滴加した
。反応液を添加後４５分間還流させた。

次いで１００ｍ１のグライム中に溶解したメチルベンゾ
エート（１３，６２ｇ、０．１０モル）の溶液を滴加し
た。反応液を１６時間還流させた後、殆んどのグライム
はアスピレータ圧力において留去された。ボット残渣を
水浴中で冷却し、３００ｍ１のエーテルを添加後２００
ｍ１の水を注意深く添加した。この混合物を分離漏斗に
注ぎ、近密に振盪し、水層を除去した。エーテル層を冷
水（２Ｘ２００ｍｌ）で洗浄後１００ｍ１の冷１％Ｎａ
ＯＨ水溶液で洗浄した。合一した水相を注意深＜４００
ｇの氷プラス９０ｍ１の濃ＨＣＩの混合物上に注いだ。

沈澱した黄緑色固体を吸入濾過により集め、少しの冷水
で洗浄した。この物質を９５％エタノールから再結晶し
て１３．１ｇの黄色固体を得た。

融点１５３〜１５６℃。

元素分析計算値（Ｃ１５Ｈ１□ｏ３として）：Ｃ，７４
，９９；Ｈ，５，０３。

０．１９．９８； 実測値：　Ｃ，７４，７２、Ｈ，５，０２；０．１９．
　８０ （ｃ）化合物４の合成 磁石撹拌棒を備えた５０ｍ１の丸底フラスコに４−Ｎ、
Ｎ−（２−エチルヘキシル）メチルアミノ安息香酸（１
，２２ｇ、４．６２ｍモル）、４−ヒドロキシジベンゾ
イルメタン（１，ｌ１ｇ。

４．６２ｍモル）及び１０ｍ１のＤＭＦを入れた。

この金色の溶液に９．２ｍｌのポリホスフェートエステ
ル及び追加の１０ｍ１のＤＭＦを添加した。反応混合物
を８５℃に４０時間加熱した。深赤色反応混合物を２５
ｍ１の冷水中に注ぎ、黄色沈澱を得、これを吸入ン濾過
により集めて少量の水で洗浄した。

この物質をエタノールから再結晶して１．４５にの明黄
色固体を得た。融点９０〜９１．５℃。元素分析計算値
（Ｃ３□Ｈ３，０４Ｎとして）：Ｃ，７６，６８、Ｈ，
７，２６。

０．１３．　１８．Ｎ、２．８８ 実測値：Ｃ，７６，１３；Ｈ，７，５０；０．１３．５
９　、Ｎ、２．８４゜ 化合物４のＵＶスペクトル（イソプロパツール溶液）は
λ　　−３３８ｎｍ　（ε−５１，３５０）ａＸ を示す。

例２ 前記例１で説明したのと同様な方法により化合物５を４
−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸及び２．４−ジヒド
ロキシベンゾフェノン（共にＡｒｄｒｉｃｈ　Ｃｈｅｍ
ｉｃａ１社、ミルウォーキー、ライスコンシン州からの
もの）から合成した。化合物５のＵＶスペクトル（イソ
プロパツール溶液）はλ　　−３２１，５（ε−４２，
４９０）を示しＩａＸ た。

例３ 化合物１の合成 前記例１において説明したと同様な方法により、化合物
１を４−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸（Ａｒｄｒｉ
ｃｈ　Ｃｈｅｍｉｃａ１社、ミルウォーキー　ライスコ
ンシン州）及び４−ヒドロキシジベンゾイルメタン（例
１（ｂ）において説明したのと同様にして調製された）
から合成した。融点−１９５〜１９７℃。化合物１のＵ
Ｖスペクトル（イソプロパツール溶液）はλ　　−３３
６（ε−■ａｘ ’　　　４４，９２０）を示す。

例４ 成 磁石撹拌棒、還流凝縮器、滴下漏斗及びアルゴン入口を
備えた１０１００Ｏの丸底フラスコに３０．０ｇ　（０
，１７モル）の４−メトキシ桂皮酸及び５００ｍ１のベ
ンゼンを入れた。次いで４０．５ｍｌ　（６６，１ｇ、
０．５６モル）の塩化チオニルを滴加した。滴加終了後
反応混合物を５時間加熱還流した。加熱を中止し、混合
物を一晩攪拌させた。ベンゼンをロータリーエバポレー
ションで除去して３３．６ｇ　（０，１７モル、１００
％）のベージュ色固体を得た。プロトンＮＭＲ及びＩＲ
は提案された構造と一致した。この物質を更に精製する
ことなく用いた。

（ｂ）化合物２の合成 磁石撹拌棒及び還流凝縮器を備えた５０ｍ１の丸底フラ
スコに４−メトキシシンナモイルクロライド（１，０ｇ
、５．０ｍモル）及び２５ｍ１の新たに蒸留したＴＨＦ
を入れた。この混合物を次いで水塩浴中で冷却した。次
いで３ｍｌの乾燥ピリジン及び５ｍｌのＴＨＦの混合物
に溶解した４−ヒドロキシベンゾイルメタン（１，０ｇ
、４．０ｍモル：例１（ｂ）と同様にして調製された）
の溶液を反応フラスコに滴加した。反応混合物を次いで
１時間加熱攪拌し、その後反応混合物を冷却し、２０ｇ
の氷及び３ｍｌの濃塩酸の混合物中に注いだ。沈澱した
微細白色固体を吸入濾過により集めた。融点−１４９〜
１５１℃。

元素分析計算値（Ｃ２５Ｈ２ｏＯ５として）：Ｃ，７４
，９９；Ｈ，５，０３； ０．１９．　８８、 実ＡＪｊ値：　Ｃ，７４，７７、Ｈ，５，０３；０．２
０．　１２゜ 化合物２のＵＶスペクトル（イソプロパツール溶液）は
λ　　−３３８（ξ−４７，２００）を示１１８Ｘ した。

例５ 化合物３の合成 （ａ）４−ヒドロキシ−４′　−メトキシジベンゾイル
メタンの合成 この化合物は４−ヒドロキシジベンゾイルメタンを調製
するのに用いた方法と同様の方法により、但し、例１（
ｂ）において用いたメチルベンゾエートの代りにメチル
４−メトキシベンゾエートを用いて調製した。融点−１
８０〜１８２℃。

元素分析計算値（Ｃ１６Ｈ１４０４として）：Ｃ，７１
，１０；Ｈ，５，２２； ０．２３．６．８、 実測値：Ｃ，７１゜１５；Ｈ，５，５４；０．２３．４
７゜ （ｂ）化合物３の合成 前記例４において説明したのと実質的に同様な方法によ
り化合物３を４−メトキシシンナモイル　　゛クロライ
ド（例４（ａ）と同様にして調製）及び４−ヒドロキシ
−４′　−メトキシジベンゾイルメタンから合成した。

粗製物質をアセトンから再結晶して明黄色固体を得た。

融点−１４７，５〜１４９℃。化合物３のＵＶスペクト
ル（イソプロパツール溶液）はλ　　−３５１（ε−１
８Ｘ ４５．０００）を示した。

例６ 化合物６の合成 磁石撹拌棒、凝縮器及び正圧の窒素を備えた１００ｍ１
の丸底フラスコにＮ、　Ｎ−ジー　（２−エチルヘキシ
ル）−４−アミノ安息香酸（５，０ｇ、０．０１３８モ
ル、Ｆ、Ｗ、３６１）を入れた。

これに４−ヒドロキシジ−ベンゾイルメタン（３，３２
ｇ、０．０１３８モル、Ｆ、　Ｗ。

２４０）を添加した後３０ｍ１のポリホスフェート試薬
（例えば１６１ｇ　（１，１４モル）の五酸化リン、１
５１　ｍｌの無水エーテル及び３２２ｍ１のクロロホル
ムの混合物を１６時間還流させて作製）を添加した。こ
の溶液を磁石で攪拌し、８０℃において油浴中で１６時
間加熱した。

この反応混合物を次いで冷却させ、１００ｍ１の無水ジ
エチルエーテルを添加した。得られた二つの相を分離し
た。エーテル層を５０ｍ１の飽和重炭酸ナトリウムで洗
浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。この混合物
を次いで濾過し、ロト蒸発させて５．６４ｆの檀色油を
得た。（目的化合物の理論酸ｆｆ１８．０４ｇ）。ＴＬ
Ｃ（７０／３０ヘキサン／アセトン）は殆んど生成物ｒ
、　　ｆ。

０．７５を示す。

この物質を更にＨＰＬＣにより精製してＴＬＣにより純
粋である物質を得、及びＨ−ＮＭＲＳＣ−１３ＮＭＲ％
　ＩＲ及び質量スペクトルはこの構造及び純度と一致し
た。Ｈ−ＮＮＩＲ：ＤＣＣ１３／ＴＭＳ　：　０．６−
２．　０　　（ｍ）　、３．　３　　（ｄ）　、６．５
−６．８　　（ｍ）　、７．　１−７．６　　（ｍ）　
、７．８−８２　　（ｍ）、Ｃ−１３ＮＭＲ；ＤＣＣ１
３／ＴＭＳ　：　１ｇ５．２６．１６４．８８．１５４
．９２．１５２．２１．１３５．４５．１３２．４０．
１３２．０５．１２８．６６．１２７．　１０．１２２
．２１．１１４．２６．９３．０１．５６．２１．３６
．８６．３０．　５８．２８．　６８．２３、　９０．
２３．１５．１４．　０６．１０．７１、ＩＲ塩盤：　
２９５７　ｍ　ｓ　２９１２　ｍ　５２８６３ｍ、１７
１５ｍ、１６００ｓ、１５２０ｗ、１４６０ｗ、１２７
１ｍ、１２１０ｍ。

１１８０ｓ、１１６３ｓ、１０６０ｍ、１０５０ｍ　ｓ
　　１０１５　ｓ　ｓ　　１００７　ｓ　ｓ　　７３５
　Ｓ　％　　６５０ｍ、質量スペクトル親イオン−５８
３゜化合物６のＵＶスペクトル （ＣＩＣＨ２ＣＨ２Ｃ１溶液）はλｌｌ１ａｘ　−Ｆ、
４２．１ｎｍ　（ε−３１，０００）を示す。

例７ 化合物７の合成 次の試薬を磁性撹拌機及び乾燥管を備えた５０ｍ１フラ
スコに入れた： Ｎ−（２−エチルヘキシル）−Ｎ−メチル−４−アミノ
ベンゾエート及び５．０ｍｌのポリホスフェートエステ
ル（２０４ｇの五塩化リン、２００ｍ１の無水ジエチル
エーテル及び４２５ｍ１のクロロホルムを１６時間還流
させた結果均質溶液を得て調製）。この混合物を次いで
８０℃で４時間加熱した。この均質反応溶液を次いで冷
却させたところ、ＴＬＣ（シリカゲルＧ上堰化メチレン
／メタノール　９９／１）は殆んどの出発材料はなくな
っており、より大きいｒ、ｆ、値における二つの新して
スポットが存在することを示した。この反応溶液を５０
ｍ１の塩化メチレン中に注ぎ２５ｍ１の飽和重炭酸ナト
リウム及び１０ｍ１の水で洗浄した。

得られた塩化メチレン層を次いで硫酸マグネシウム上で
乾燥した。混合物を濾過し、揮発物質をロト蒸発により
除去して１．２ｇの油を得た。この油を次いでＨＰＬＣ
により精製して二つの異性体を得た。質量スペクトル及
びＮＭＲデータはこれらの化合物の構造を確認した。

化合物７のＵＶスペクトルはλ。ａｘ−３３１，１ｎｍ
　（ε−２６，４８０）を示す。

例８〜１４ 以下の日焼止め組成物は本発明の代表的なものである： 日焼止め組成物： ＃（１）　　　　　　　　　　　　１０　　　　　　−
＃　（２）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
３＃　（３）　　　　　　　　　　　　　−−＃　（４
）　　　　　　　　　　　　　−−＃　（５）　　　　
　　　　　　　　　−−エチレン／アクリレート共重合
体１０．７５　　　０．２５グリセリン　　　　　　　
　　　　３．５０　　６．００ペトロラタム　　　　　
　　　　　　　１．５０　　　２．５０Ｄｉｍｅｔｈｉ
ｃｏｎ２０．３０　　０．５０Ｓｔｅａｒｅｔｈ−１０
００，４８０，４８グリセロールモノステアレー）　　
　　　０．３２　　　０．３２セチルアルコール　　　
　　　　　　　１゜２０　　　１．２ステアリン酸　　
　　　　　　　　　　０．５２　　　０．５２Ｃａｒｂ
ｏｐｏｌ　９３４３０．０８　　０．０８Ｃａｒｂｏｐ
ＯＩ　９４１３０．０６　　０．０６メチルパラベン’
　　　　　　　　　　　　０．２０　　　０．２重　　
量　　％ −−−７，５− ６４，９ −１０２，１ −−７，５１０− ０，４５０，７５０，７５１，２５０，５５，５０４，
００３，５０２，００５，０２，００−１，５００，５
０２，０ ０，３００，４００，３００，２００，４００，７０，
３０，３７５０，９００，７００，８０，７０，８７５
０，８００，３０１，０１，０１，０１，５０１，２０ ０，５２０，５２０，５２０，５２０，５２０，１５０
，０９０，１８０，２００，１００，０８０，０９０，
０５０，０５０，１００，２０，２０，２００，２０，
２０ 上記組成物は次の成分を説明した如く添加することによ
り作ることができる： パート　　　　　物　　　　質 Ｉ水 Ｃａｒｂｏｐｏｌ　９３４ Ｃａｒｂｏｐｏｌ　９４１ メチルパラベン プロピルパラベン グリセリン ■　　　　日焼止め剤 セチルアルコール グリセロールステアレート ５ｔｅａｒｔｈ−１００ ステアリン酸 Ｄｉｍｅｔｈｉｃｏｎ ワセリン エチレン／アクリレート共重合体 ■　　　　四ナトリウムＥＤＴＡ 水酸化カリウム 二酸化チタン ■　　　　チロシン イミダゾリジニル尿素 ６料 組成物は水相（パートＩ）材料を７１〜９９℃において
邪魔板及び攪拌機を付したスケール−取付は混合タンク
内において混合することによって作られた。油相（パー
ト■）は撹拌機を備えた別の混合タンク内において７１
〜１１０℃で混合された。パートＩ及びパートｎの両方
を均質な相が得られるまで混合した。

水相（パー）１）を次いで油相（パー）ＩＩ）の６０〜
１１０％に等しい量で油相（パート■）にポンプ送りし
た。この油／水子備混合物を約７１〜９９℃の温度に保
持し、均質混合物が得られるまで攪拌した。この油／水
子備混合物を次いで残りの水相（パートｌ）にポンプ送
りし、約７１〜９９℃の温度に保持した。パート■の成
分を次いで攪拌を維持し、温度を７１〜９９℃に保ちな
がら添加した。この組成物を次いで超音波探針を備えた
閉じられた容器を０．５〜６．　５ｋｇ／分の流速で通
過させた。超音波周波数は１５〜４０ｋＨｚの範囲であ
る。この組成物を更に熱交換器及び／又はジャケットを
通して処理して７１〜９９℃の温度に冷却した。パート
■の成分を次いで攪拌を維持しながら均質な混合物が得
られるまで添加した。

この組成物を次いで熱交換によりポンプ送りして２１〜
３２℃に冷却した。定常状態操作に到達するまで待ちな
がら、組成物は混合タンクに再循環されてよい。この組
成物を次いでガラス瓶中に包装した。

例１１の日焼止め組成物をＵＶＡ及びＵＶＢ波長放射か
らの保護を必要とするヒトの皮膚に塗込んだ。この日焼
＋ｈめ組成物の薄層を放射に曝される皮膚に塗布した。

この日焼！Ｌめ組成物は皮膚に容易に塗布され、及び日
焼１にめ剤は皮膚により容易に吸収されず或いは容易に
擦り落されなかった。

更に、それはＵＶＡ及びＵＶＢの両放射に対して一定且
つ均一の保護を与える。

例）５ 本発明の日焼止め剤による皮膚浸透 皮膚浸透はすりガラス拡散セルに取付けられたヒト腹部
皮膚（Ｓｈｒ’１ｎｅｒ’ｓ　Ｂｕｒｎｓ　Ｉｎ５ｔｉ
ｔｕｔｅ　）を用いて行われた。曝露された皮膚表面積
は０．７８５ｅｄであった。日焼止め剤はビヒクル（エ
タノール或いはジメチルイソソルバイト）中の溶液（１
００μｇ）として塗布された。受取り貯蔵器は４゜５ｍ
ｌのビヒクルのものであった。貯蔵器を攪拌し、３７℃
に維持した。浸透度は貯蔵器のＵ■吸光度を読取ること
により求めた。アッセイは３回行われた。

本発明の日焼止め剤対普通用いられる日焼止め剤の浸透
度 ２−エチルヘキシル４−Ｎ、Ｎ− ジメチルアミノベンゾエート（エ タノールビヒクル　　　　　　　　　　　７０２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベ ンゾフェノン（ジメチルイソソル バイトビヒクル）２１ 化合物４（エタノールビヒクル）　　浸透なし本発明に
おいて有用な日焼止め剤の定量の皮膚浸透はＵＶＡ及び
ＵＶＢ放射の両者に対して皮膚のための均一な保護層を
与えた。このＵＶＡ及びＵＶＢ放射に対する保護は異っ
た速度で吸収及び／又は擦り落される分子を含有する混
合物を用いる場合におきるように時間と共に変化しない
。又、本発明の日焼止め剤については相対的ＵＶＡ対Ｕ
ＶＢ保護は時間と共に変化しない。更に、本発明の日焼
止め剤による保護はそれが皮膚を介しての吸収により容
易に失われないので長時間持続する。最後にこの低い量
の皮膚浸透のために本発明の日焼１ヒめ剤については毒
性（典型的には皮膚炎症の形態）に対する可能性が少な
い。

出願人代理人　　佐　　藤　　−雄 手続補正書防式） ％式％ １、事件の表示 昭和６２年　特許願第１６０８０６号 ２、発明の名称 新規発色団、日焼は止め組成物及び日焼は防止方法３、
補正をする者 事件との関係　　特許出願人 ザ、ブロクター、エンド、ギャンブル、カンパニー ４、代　理　人　（郵便番号１００） 昭和６２年８月５日 （発送日　昭和６２年８月２５日） ６、補正の対象

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記一般構造を有する発色団−含有日焼け止め化合
   物： Ｘ−Ｂ−Ｚ 〔式中、 （ａ）Ｘは別の分子における独立の発色団部分として約
   ３２０〜約４００ｎｍの範囲内において少なくとも約９
   ，０００のモル吸収値を有する少なくとも一つの最大吸
   収を示す置換された、カルボニル−含有、芳香族環−含
   有発色団部分であり、 （ｂ）Ｚは別の分子における独立の発色団部分として約
   ２９０〜約３２０ｎｍの範囲内において少なくとも一つ
   の波長に対して少なくとも約４，０００のモル吸収値を
   示し、及び更に別の分子における独立の発色団部分とし
   て約３２０ｎｍを越える任意の波長に対して約９，００
   ０より大きいモル吸収値を有する最大吸収率を示さない
   置換された、カルボニル−含有、芳香族環−含有発色団
   部分であり、及び （ｃ）Ｂは共有的にＸ及びＺ発色団部分をこれらの発色
   団の電子系が直接にカップリングされるように結合する
   化学結合或いは結合部分である〕。 ２、（ａ）Ｘが別の分子内における独立の発色団部分と
   して約３２０〜約４００ｎｍの範囲内において少なくと
   も約２０，０００のモル吸収率値を有する少なくとも一
   つの最大吸収率を示す置換された、カルボニル−含有、
   芳香族環含有発色団部分であり、及び （ｂ）Ｚが別の分子における独立の発色団部分として約
   ２９０〜約３２０ｎｍの範囲内において少なくとも１５
   ，０００のモル吸収率値を有する少なくとも一つの最大
   吸収率を示し、及び更に別の分子における独立の発色団
   部分として約３２０ｎｍを越える任意の波長に対して約
   ９，０００を越えるモル吸収率を有する最大吸収率を示
   さない置換された、カルボニル−含有、芳香族環−含有
   発色団部分である 特許請求の範囲第１項記載の発色団−含有日焼け止め化
   合物。 ３、下記一般構造を有する発色団−含有日焼け止め化合
   物： Ｘ−Ｂ−Ｚ 〔式中、 （ａ）Ｘは次のものよりなる群から選ばれたＵＶＡ−吸
   収部分である： （ｉ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｉｉ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｉｉｉ） ▲数式、化学式、表等があります▼或いは （ｉｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｂ）Ｚは次のものよりなる群から選ばれたＵＶＢ−吸
   収部分である： （ｉ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｉｉ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｉｉｉ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｉｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼、或いは （ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （茲に、前記全ての式において、各ＡはＲ、−ＯＲ、−
   ＮＲ＿２或いは−ＳＯ＿３Ｈ、或いはその薬学的に許容
   可能な塩或いはエステルよりなる群から独立に選ばれた
   置換基であり、各Ａ＾１は独立に−ＣＮ或いは−ＣＯ＿
   ２Ｒ＾１であり、各Ａ＾２は独立に−ＯＲ或いは−ＮＲ
   ＿２であり、各Ａ＾３は独立にＨ或いはＯＨであり、各
   Ａ＾４及びＡ＾５は独立にＲ或いはＯＲであり、及び更
   にＡ＾３或いはＡ＾４のいづれかはＯＨでなければなら
   ず、各Ａ＾６は独立にＨ或いは−ＳＯ＿３Ｈ、或いはそ
   の薬学的に許容可能な塩或いはエステルであり、各Ａ＾
   ７は独立に−ＯＲ或いは−Ｏ＿２Ｃ−Ｒ＾１であり、但
   し、Ａ＾７及びＡ＾３が共にＯＨであることはなく、各
   Ｒは独立にＨ、約１〜約２０個の炭素数を有する直鎖或
   いは分岐鎖アルキル、（ＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏ）ｍ−Ｈ、
   或いは（ＣＨ＿２ＣＨ（ＣＨ＿３）Ｏ）＿ｍ−Ｈであり
   、ｍは１〜約８の整数であり、及び各Ｒ＾１は独立に約
   １〜約２０個の炭素原子を有する直鎖或いは分岐鎖アル
   キルである）、及び （ｃ）ＢはＸ及びＺ発色団部分をこれらの発色団部分の
   電子系統が直接にカップリングされるように共有的に結
   合する単一化学結合或いは結合基である。 ４、（ａ）ＸＵＶＡ−吸収部分が ▲数式、化学式、表等があります▼或いは ▲数式、化学式、表等があります▼、 よりなる群から選ばれ、及び （ｂ）ＺＵＶＢ−吸収部分が ▲数式、化学式、表等があります▼或いは ▲数式、化学式、表等があります▼ よりなる群から選ばれる 特許請求の範囲第３項記載の発色団−含有日焼け止め化
   合物。 ５、下記一般式を有する特許請求の範囲第４項記載の発
   色団−含有日焼け止め化合物： ▲数式、化学式、表等があります▼ 或いは ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｂは単一結合或いは−Ｏ−、及び −ＮＲ−から選ばれた結合部分基であり、及び更にＲは
   Ｈ、或いは１〜約２０個の炭素数を有する直鎖又は分岐
   鎖アルキルである。）。 ６、ＡがＲ基であり、Ａ＾２が−ＯＲ或いは−ＮＲ＿２
   から選ばれ及びＢが−ＮＲ−或いは−Ｏ−である特許請
   求の範囲第５項記載の発色団−含有日焼け止め化合物。 ７、Ｂが−Ｏ−であり、ＡがＨであり、Ａ＾２が−ＯＣ
   Ｈ＿３、−ＯＣＨ＿２ＣＨ＿３、−ＯＨ或いは−ＮＲ＾
   １＿２であり、及び−ＮＲ＿２が−ＮＲ＾１＿２であり
   、更に−ＮＲ＿２基が２個より多い炭素原子を有する一
   つのＲ＾１基を有し、他方のＲ＾１がメチル或いはエチ
   ルである特許請求の範囲第５項記載の発色団−含有日焼
   け止め化合物。 ８、Ｂが−Ｏ−であり、ＡがＨであり、Ａ＾２が−ＯＣ
   Ｈ＿３、−ＯＣＨ＿２ＣＨ＿３、−ＯＨ、或いは−ＮＲ
   ＾１＿２であり、及び−ＮＲ＿２が−ＮＲ＾１＿２であ
   り、更に両方のＲ＾１基が２−エチル−ヘキシルである
   特許請求の範囲第５項記載の発色団−含有日焼け止め化
   合物。 ９、４−ヒドロキシベンゾイルメタンとの４−Ｎ，Ｎ−
   ジメチルアミノ安息香酸エステル、４−ヒドロキシベン
   ゾイルメタンとの４−メトキシ桂皮酸エステル、４−ヒ
   ドロキシ−４′−メトキシジベンゾイルメタンとの４−
   メトキシ桂皮酸エステル、４−ヒドロキシジベンゾイル
   メタンとの４−Ｎ，Ｎ−（２−エチルヘキシル）メチル
   アミノ安息香酸エステル、２，４−ジヒドロキシベンゾ
   フェノンとの４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エス
   テル、４−ヒドロキシジベンゾイルメタンとのＮ，Ｎ−
   ジ−（２−エチルヘキシル）−４−アミノ安息香酸エス
   テル、及び２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンと４−
   Ｎ，Ｎ−（２−エチルヘキシル）メチルアミノ安息香酸
   エステルよりなる群から選ばれる特許請求の範囲第１項
   記載の日焼け止め化合物。 １０、（ａ）特許請求の範囲第１項記載の化合物、及び （ｂ）薬学的に許容可能な日焼け止め担体、を含んでな
   ることを特徴とする日焼け止め組成物。 １１、（ａ）特許請求の範囲第３項記載の化合物及び （ｂ）薬学的に許容可能な日焼け止め担体 を含んでなることを特徴とする日焼け止め組成物。 １２、（ａ）特許請求の範囲第４項記載の化合物、及び （ｂ）薬学的に許容可能な日焼け止め担体 を含んでなることを特徴とする日焼け止め組成物。 １３、（ａ）特許請求の範囲第６項記載の化合物、及び （ｂ）薬学的に許容可能な日焼け止め担体 を含んでなることを特徴とする日焼け止め組成物。 １４、（ａ）特許請求の範囲第７項記載の化合物、及び （ｂ）薬学的に許容可能な日焼け止め担体 を含んでなることを特徴とする日焼け止め組成物。 １５、（ａ）特許請求の範囲第８項記載の化合物、及び （ｂ）薬学的に許容可能な日焼け止め担体 を含んでなることを特徴とする日焼け止め組成物。 １６、（ａ）特許請求の範囲第９項記載の化合物、及び （ｂ）薬学的に許容可能な日焼け止め担体 を含んでなることを特徴とする日焼け止め組成物。