JPS6367819A - プログラマブルロジツクアレイ - Google Patents
プログラマブルロジツクアレイInfo
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- JPS6367819A JPS6367819A JP61213141A JP21314186A JPS6367819A JP S6367819 A JPS6367819 A JP S6367819A JP 61213141 A JP61213141 A JP 61213141A JP 21314186 A JP21314186 A JP 21314186A JP S6367819 A JPS6367819 A JP S6367819A
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- JP
- Japan
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- mosfet
- array
- load element
- pla
- polysilicon
- Prior art date
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- Granted
Links
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 abstract description 18
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000007115 recruitment Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B20/00—Read-only memory [ROM] devices
Landscapes
- Logic Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
り産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積回路に関する。
従来、半導体集積回路で用いられるプログラマプルロジ
ックアレイ(以下PLAと略す)の構造は第4図に示す
ようにANDマトリクス46とORマトリクス48のそ
れぞれの入力と出力(45゜47)、(47,49)の
方向が直交していた。
ックアレイ(以下PLAと略す)の構造は第4図に示す
ようにANDマトリクス46とORマトリクス48のそ
れぞれの入力と出力(45゜47)、(47,49)の
方向が直交していた。
上述した従来のPLAは、入力数C1積項数d。
出力数e等によって回路の規模が変わるとその形状が二
次元方向に変化する。この結果、複数のPLAをチ、グ
上にレイアクトする場合、すぎ間ができやすく、高密度
化が困難となったり、入出力の信号線や電源線の配線が
複雑になるという欠点がある。
次元方向に変化する。この結果、複数のPLAをチ、グ
上にレイアクトする場合、すぎ間ができやすく、高密度
化が困難となったり、入出力の信号線や電源線の配線が
複雑になるという欠点がある。
本発明によれば、共通接続されたゲート電極を有する直
暇伏に配置された複数の\10 b P ETから成る
第一のMOSFET列とスて−の負荷素子と第−のhi
0sFET列と同様の構造を有する第二のM OS F
B T列と第二の負荷素子とを順に縦方向に一列に並
べたものを単位列とし、これを横方向に複数列並べたこ
とを特徴とするPLAが得られる。
暇伏に配置された複数の\10 b P ETから成る
第一のMOSFET列とスて−の負荷素子と第−のhi
0sFET列と同様の構造を有する第二のM OS F
B T列と第二の負荷素子とを順に縦方向に一列に並
べたものを単位列とし、これを横方向に複数列並べたこ
とを特徴とするPLAが得られる。
次に本発明について図面を参照して説明する0第1図は
本発明の一実施例のうち単位列を示す図で(a))言平
面図、(b)は等価回路図である0図において1は第一
のMOSFET列を示し、2はポリシリコンによる共通
ゲート電極、3と4はコンタクト穴、5は拡散層から成
る共通ソース電極、6は〜108FET列を構成する一
個のM O8F E Tのドレイン電極を示すの7は第
一の負荷素子を示し、8は共通ソース電極、9はM O
8F E Tのドレイン1!極、】0はポリシリコンに
よる共通ゲート電極を示す。11は第二のM OS F
E T列を示し、】2はポリシリコンによる共通ゲー
ト電極、13は共通ソース電極、14はMOSFET列
を構成−t−ルーiのMOSFETのドレイン電憧を示
す〇】5は第二の負荷素子な示し、16は共通ソース電
極、17はMOSFETのドレイン電極、】8はポリシ
リコンによる共通ゲート電極を示す。第1図(a)の平
面図では、集積回路の構造のうち、MOSFETの部分
までを示し、金属による配線部分は含まない。ただし拡
散層と金属、及びポリシリコンと金属との接続のための
コンタクト穴はすべての可能な場所に描いである。ここ
で示した単位列を用いてPLAを構成した例を第2図に
示す。第2図は第1図に示した単位列を3組横方向に並
べ、各素子間の配線を行なって1つのPLA回路を構成
したものである。第2図において19はPLAのAND
マトリクス部分、20は第一の負荷素子、2】はORマ
トリクス、22は第二の負荷素子を示す023は入力の
ポリシリコン線。
本発明の一実施例のうち単位列を示す図で(a))言平
面図、(b)は等価回路図である0図において1は第一
のMOSFET列を示し、2はポリシリコンによる共通
ゲート電極、3と4はコンタクト穴、5は拡散層から成
る共通ソース電極、6は〜108FET列を構成する一
個のM O8F E Tのドレイン電極を示すの7は第
一の負荷素子を示し、8は共通ソース電極、9はM O
8F E Tのドレイン1!極、】0はポリシリコンに
よる共通ゲート電極を示す。11は第二のM OS F
E T列を示し、】2はポリシリコンによる共通ゲー
ト電極、13は共通ソース電極、14はMOSFET列
を構成−t−ルーiのMOSFETのドレイン電憧を示
す〇】5は第二の負荷素子な示し、16は共通ソース電
極、17はMOSFETのドレイン電極、】8はポリシ
リコンによる共通ゲート電極を示す。第1図(a)の平
面図では、集積回路の構造のうち、MOSFETの部分
までを示し、金属による配線部分は含まない。ただし拡
散層と金属、及びポリシリコンと金属との接続のための
コンタクト穴はすべての可能な場所に描いである。ここ
で示した単位列を用いてPLAを構成した例を第2図に
示す。第2図は第1図に示した単位列を3組横方向に並
べ、各素子間の配線を行なって1つのPLA回路を構成
したものである。第2図において19はPLAのAND
マトリクス部分、20は第一の負荷素子、2】はORマ
トリクス、22は第二の負荷素子を示す023は入力の
ポリシリコン線。
24はANDマトリクス内で論理回路を構成するNMO
8FET、25は各NMO8FETのドレイン電極を接
続する一層目のアルミによる積項線。
8FET、25は各NMO8FETのドレイン電極を接
続する一層目のアルミによる積項線。
26は一層目のアルミと二層目のアルミを接続するため
のスルーホール、27は二層目のアルミによる積項線、
28は電源端子、291″!PM08FETによるゲー
トの接地された負荷素子、30は積項線27からORマ
トリクスの入力ポリシリコン線31への接続点、32は
ORマトリクス内で論理回路を構成するNh10SF’
ET、33は各NMO8FETのドレイン電極を接続す
る一層目のアルミによる出力線、34は二層目のアルミ
による出力線35と一層目アルミとを接続するスルーホ
ールを示す。なお、第2図は電気的な接続関係を示すの
を目的としたものであり、信号の経路から離れたMOS
F E Tや一部のコンタクト、スルーホールは省略
しである。
のスルーホール、27は二層目のアルミによる積項線、
28は電源端子、291″!PM08FETによるゲー
トの接地された負荷素子、30は積項線27からORマ
トリクスの入力ポリシリコン線31への接続点、32は
ORマトリクス内で論理回路を構成するNh10SF’
ET、33は各NMO8FETのドレイン電極を接続す
る一層目のアルミによる出力線、34は二層目のアルミ
による出力線35と一層目アルミとを接続するスルーホ
ールを示す。なお、第2図は電気的な接続関係を示すの
を目的としたものであり、信号の経路から離れたMOS
F E Tや一部のコンタクト、スルーホールは省略
しである。
第3図は複数のPLAの配置例を示す図であり、36は
入力線37〜39はANDマトリクス、40は積項線、
41〜43はORマトリクス、44は出力線を示す。図
では3組のPLAを瞬接して並べてあり、これらは第1
図に示した単位列を横方向に並べたものの上に二層のア
ルミ配線を施こすこと(でよって実現される。
入力線37〜39はANDマトリクス、40は積項線、
41〜43はORマトリクス、44は出力線を示す。図
では3組のPLAを瞬接して並べてあり、これらは第1
図に示した単位列を横方向に並べたものの上に二層のア
ルミ配線を施こすこと(でよって実現される。
以上の例ではAND及びORマトリクス部分をNMOS
、負荷素子をPMO8とした擬示N MO8回路とし
て説明したが、全回路をNMO8またはPMO8だ汁で
構成することも可能であり、また負荷素子のゲートにク
ロ、り信号を接続したダイナミック形式の回路構成とす
ることも可能である。
、負荷素子をPMO8とした擬示N MO8回路とし
て説明したが、全回路をNMO8またはPMO8だ汁で
構成することも可能であり、また負荷素子のゲートにク
ロ、り信号を接続したダイナミック形式の回路構成とす
ることも可能である。
以上説明したように本発明はMOSFET列を*7j向
に並べた単位列を横方向に兼べてPLAを構成すること
によシ高さの揃ったPLAが実現できるので、多数のP
LAを使ってLSIを設計する場合、配置が単純化され
て、設計期間が短縮される。またPLA間のすき間の問
題も第3図に示すように、各PLAの入力数f、i、1
.積項線数g、j、m、及び出力数り、に、nがそれぞ
れ異なっていても、はとんどすき間なしに並べることが
でき集積回路チップ上の占有面積を節約できる。更に電
源線やクロック線の位置も標準化されるので各PLA間
の配線も容易になる0また集積回路チップの開発に尚っ
ては本発明による単位列をあらかじめ並べたものを作っ
ておぎ、回路機能に応じて必賛な部分にアルミで配線し
て行くというマスタースライス方式を用いることもでき
、開発期間短縮の効果も期待できる。
に並べた単位列を横方向に兼べてPLAを構成すること
によシ高さの揃ったPLAが実現できるので、多数のP
LAを使ってLSIを設計する場合、配置が単純化され
て、設計期間が短縮される。またPLA間のすき間の問
題も第3図に示すように、各PLAの入力数f、i、1
.積項線数g、j、m、及び出力数り、に、nがそれぞ
れ異なっていても、はとんどすき間なしに並べることが
でき集積回路チップ上の占有面積を節約できる。更に電
源線やクロック線の位置も標準化されるので各PLA間
の配線も容易になる0また集積回路チップの開発に尚っ
ては本発明による単位列をあらかじめ並べたものを作っ
ておぎ、回路機能に応じて必賛な部分にアルミで配線し
て行くというマスタースライス方式を用いることもでき
、開発期間短縮の効果も期待できる。
第1図は本発明の実施例の単位列を示す図で(a)は平
面図、(b)は等価回路図である。第2図は本発明の実
施例のPLA回路例、第3図は複数のPLAを並べた実
施例、第4図は従来のPLAを示す図である0 1・・・・・・第一のMOSFET列、2.10.12
゜18・・・・・・ポリシリコンによる共通ゲート電極
、5゜13・・・・・・MOSFET列の共通ソース電
極、6゜14・・・・・・MOSFET列のドレイン電
極、7・・・・・・第一の負荷素子、8.16・・・・
・・負荷素子の共通ソース電極、9.17・・・・・・
負荷素子ドレイン電極、】】・・・・・・第二のMOS
FET列、】5・・・・・・第二の負荷素子、19・・
・・・・ANDマトリクス、20.22・・・・・・負
荷素子、21・・・・・・ORマトリクス、36・・・
・・・入力線、37〜39・・・・・・ANDマトリク
ス、40・・・・・積項線、41〜43・・・・・OR
マトリクス、44・・・・・・出力線、45・・・・・
・入力線、46・・・・・ANDマトリクス、47・・
・・・積項線、48・川・・ORマトリクス、49・・
・・・・出力線。 募 2 回 $ 3 呵 グ 4 図
面図、(b)は等価回路図である。第2図は本発明の実
施例のPLA回路例、第3図は複数のPLAを並べた実
施例、第4図は従来のPLAを示す図である0 1・・・・・・第一のMOSFET列、2.10.12
゜18・・・・・・ポリシリコンによる共通ゲート電極
、5゜13・・・・・・MOSFET列の共通ソース電
極、6゜14・・・・・・MOSFET列のドレイン電
極、7・・・・・・第一の負荷素子、8.16・・・・
・・負荷素子の共通ソース電極、9.17・・・・・・
負荷素子ドレイン電極、】】・・・・・・第二のMOS
FET列、】5・・・・・・第二の負荷素子、19・・
・・・・ANDマトリクス、20.22・・・・・・負
荷素子、21・・・・・・ORマトリクス、36・・・
・・・入力線、37〜39・・・・・・ANDマトリク
ス、40・・・・・積項線、41〜43・・・・・OR
マトリクス、44・・・・・・出力線、45・・・・・
・入力線、46・・・・・ANDマトリクス、47・・
・・・積項線、48・川・・ORマトリクス、49・・
・・・・出力線。 募 2 回 $ 3 呵 グ 4 図
Claims (2)
- (1)共通接続されたゲート電極を有する、直線状に配
置された複数のMOSFETから成る第一のMOSFE
T列と、第一の負荷素子と第一のMOSFET列と同様
の構造を有する第二のMOSFET列と第二の負荷素子
とを順に縦方向に一列に並べたものを単位列とし、これ
を横方向に複数列並べたことを特徴とするプログラマブ
ルロジックアレイ。 - (2)MOSFET列は2本のポリシリコン線を各々の
ゲート電極とし、ソース電極を共通接続したものである
ことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載のプロ
グラマブルロジックアレイ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61213141A JPH063876B2 (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | プログラマブルロジツクアレイ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61213141A JPH063876B2 (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | プログラマブルロジツクアレイ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6367819A true JPS6367819A (ja) | 1988-03-26 |
JPH063876B2 JPH063876B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=16634254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61213141A Expired - Lifetime JPH063876B2 (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | プログラマブルロジツクアレイ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH063876B2 (ja) |
-
1986
- 1986-09-09 JP JP61213141A patent/JPH063876B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH063876B2 (ja) | 1994-01-12 |
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