JPS6359100B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6359100B2
JPS6359100B2 JP56023647A JP2364781A JPS6359100B2 JP S6359100 B2 JPS6359100 B2 JP S6359100B2 JP 56023647 A JP56023647 A JP 56023647A JP 2364781 A JP2364781 A JP 2364781A JP S6359100 B2 JPS6359100 B2 JP S6359100B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
angular range
scanning
strip
light beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56023647A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS56129805A (en
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JPS56129805A publication Critical patent/JPS56129805A/ja
Publication of JPS6359100B2 publication Critical patent/JPS6359100B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/8901Optical details; Scanning details

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、走査光線によつて帯状体表面を掃引
し、その欠陥箇所を検知するための光学欠陥検出
装置に関し、特に帯状体表面における欠陥情報を
含む散乱光成分を極めて的確に検知できる帯状体
の光学欠陥検出装置に関する。
[従来の技術] 一般に、帯状体表面の欠陥箇所の検査において
は、例えば走査光線として特定周波数を有する可
干渉光のレーザー光線を用いて、帯状体表面を一
点ずつ走査する時、その表面状態によつて各々異
なる方向に散乱し円錐形の散乱光を発生する。特
に表面上の欠陥部分では、その分散範囲を増加す
るといつた現象がある。つまり、帯状体表面の異
なる点から同一角度にて反射する光ビームは、焦
面内の特定点に集束し、同一点から異なる角度に
て散乱する光ビームは、焦面内の異なる点に到達
するといつた現象がある。このような現象を利用
して、表面欠陥の情報のほとんどを含む所定角度
範囲外に存在する散乱光成分と欠陥の無い箇所で
正反射した所定角度範囲内に存在する比較的高い
光度の主光ビーム及びその近接する周辺域成分と
の両方を検出して、欠陥箇所からの光ビームの角
度識別をする光学走査装置が多く開示されてい
る。
ドイツ特許公告DE−AS 24 33 682において
は、走査面上の光線列に対して直角な面内での異
なる角度範囲の反射光ビームを識別するために、
数個の光伝導ロツドを相互に平行に配設した受光
装置を異なる受光面内に平行に配設した光学走査
装置が開示されている。
ドイツ特許公開DE−OS 21 15 979において
は、走査面からの散乱光を受光する如く配設され
た光導入面を有する光伝導ロツドが開示されてい
る。
また、ドイツ特許公告DE−AS 19 41 905にお
いては、極めて高屈折率の段状プリズム装置を有
する光伝導ロツドが開示されており、この光伝導
ロツド軸に対して直角に入射される光ビームが全
反射角度にてロツド内を複数回反射してロツドの
一端に設定された光検出器に到達する如く、段状
プリズムの個々のプリズム表面がロツド軸に対し
所定角度だけ傾斜して設定されている。
ドイツ特許公告DE−AS 25 32 603、DE−AS
27 27 927においては、走査面からの光ビームを
例えば扇状の異なつた角度にて走査面から反射し
て形成された受光面内になる角度で存在する光ビ
ームを検知するための受光装置が開示されてい
る。
更に、ドイツ特許公告DE−AS 28 00 351にお
いては、受光面における光ビームの角度識別のた
めに、光伝導ロツドの中心部に、主光ビーム及び
その近接する光ビームを遮断し、特定の受光器に
向けて偏向するための偏向鏡を配設した光学装置
が開示されている。この装置も上記した公知の光
学走査装置と同様に検知対象物である例えば織布
の全幅を覆うだけの極めて高品質で重量のある寸
法の大きな凹面鏡を用いている。
[発明が解決しようとする問題点] 従来の光学走査装置又は光ビーム反射角度検出
装置にあつては、走査対象物からの光ビームを所
定の受光装置にて受光するため、走査対象物であ
る織布等の全幅を覆うような細長い凹面鏡を介し
て受光装置に光ビームを投射していたために、こ
の凹面鏡の鏡面精度によつて、比較的低い光度を
有する散乱光を確実に受光装置に投射し、伝達す
ることは容易ではなかつた。また、極めて高精度
で重量ある寸法の大きな凹面鏡は、極めて高価で
ある。
また、受光装置として、光伝導ロツドを用いた
場合、同一の光伝導ロツドにて走査面からの光ビ
ームを受光すると、入射された光ビームのほとん
どが光伝導ロツド内を伝達し、光検知器に送り込
まれるために、入射光の角度識別をすることは不
可能である。このために、光伝導ロツドを受光装
置として使用する場合は、複数個の光伝導ロツド
を用いて入射光の角度識別をする必要がある。し
かしながら、例えば中心に主光ビームを受光する
ための光伝導ロツド、及びその両側に隣接して散
乱光を受光するための二個の光伝導ロツドを用い
た場合、極めて高い光度を有する主光ビームに影
響されて、散乱光が光伝導ロツドに十分に到達し
ないといつた問題を生じてしまい、角度識別が精
確、且つ効果的に実現できない。
更に、光伝導ロツド内に段状プリズム装置を使
用して、このロツド内に入射された入射光を光伝
導ロツド内のいずれか一端に配設した光検知器に
伝達するには、走査面表面の欠陥箇所からの比較
的低い光度の散乱光を確実に伝達できるように、
極めて高品質な段状プリズムを必要とする。
上記したように、従来の光学走査装置又は走査
面からの光ビームの角度識別装置においては、構
成要素として極めて高精度な凹面鏡、光伝導ロツ
ド等を必要とするために、高価であると共に、一
定限度の精度に限定されてしまう。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたも
のであり、全走査領域において、帯状体表面の欠
陥状報を含む散乱光が主光ビームによるクロスト
ークの影響を受けることなく、高い精度で検知で
きることを目的とする。
[問題点を解決するための手段] 上記目的を達成するために、本発明の帯状体の
光学欠陥検出装置においては、帯状体の走査面上
に光線列を形成する如く走査光線を発する送光装
置と、光線列に平行に配列された受光装置とから
なる帯状体の光学欠陥検出装置において、角度範
囲フイルター手段を受光装置に対して平行、且つ
受光装置と光線列との間に配設することによつ
て、受光面に対して所定角度範囲外の光ビームの
みが受光装置に入射されるように設定するもので
ある。
前記の角度範囲フイルター手段を帯状体の走査
面から投射された所定角度範囲内の光ビームを吸
収し、所定角度範囲外の光ビームを透過するか、
或は帯状体の走査面から投射された所定角度範囲
内の光ビームを偏向し、所定角度範囲外の光ビー
ムを直進するように設定した光吸収面を有する薄
板から形成し、この光吸収面と反対の面を鏡面形
成するものとする。
また、半透明の帯状体の場合、走査面を透過す
る透過光を受光する受光装置を光線列に平行に、
帯状体に対して透過側の入射平面上に配設すれば
よい。
前記の走査光線を相互に平行な光ビームから形
成すると共に、角度範囲フイルター手段をその全
長に渡つて一定なフイルター特性を有する如く設
定するか、或は角度範囲フイルター手段を入射光
平面内で相互に異なる角度の扇状光ビームから形
成すると共に、角度範囲フイルター手段を光線列
に沿つて相互に異なる入射角の走査光線に応じ
て、その長さ方向に沿つてフイルター特性を変え
ることにより、フイルターの全長に渡つて、光ビ
ームの所定の角度範囲を識別可能とする。
また、前記の角度範囲フイルター手段を干渉格
子のホログラムから形成し、複数のホログラムを
相互に独立した干渉格子として重ね合わせ、複数
の異なる角度範囲の光ビームを相互に異なる位置
に配設した複数の検出器にて同時に検知するよう
に設定することもできる。更に、前記の薄板から
形成した角度範囲フイルター手段をホログラムか
ら形成した角度範囲フイルター手段と受光装置の
間に配設することにより、角度範囲フイルターを
組み合わせ、高精度の角度範囲フイルターとする
こともできる。
前記の走査光線を直線偏光し、且つ前記の角度
範囲フイルターをクロスド・アナライザーから形
成し、所定角度範囲内の光ビームを偏向するよう
に設定することもできる。
また、前記の光伝導装置を光線の導入面に対し
て正反対の面に段状鏡面装置を配した光伝導ロツ
ドから形成し、この段状鏡面装置を全反射角で全
ての入射光を偏向する如く光伝導ロツド内に配列
すると共に、光検出器を光伝導ロツドの少なくと
も一端に配設するものとする。更に、この角度範
囲フイルター手段を光伝導装置とその光線導入面
側に配設した凸レンズとの間に配設することも効
果的である。
[作用] 上記のように構成された帯状体の光学欠陥検出
装置の角度範囲フイルターは、受光面に対して所
定角度範囲内の主光ビーム及びその近接する周辺
域の光ビームを除去し、所定角度範囲外の散乱光
を確実に受光装置内に送り込むように働く。
前記の角度範囲フイルターを体積ホログラムの
形態を取つた干渉格子とし、特に数個のホログラ
ムを相互に独立して干渉格子の中に重ね合わせる
ことによつて、数個の異なる角度範囲の光ビーム
を同時に空間的に分離した数個の光検出器に向つ
て偏向するように働く。
また、光学欠陥検出装置の受光装置を光ビーム
導入面と正反対な面に配列した段状プリズム装置
及び光伝導装置内の少くとも一端に配設した光電
交換器から形成し、個々のプリズム表面の傾斜角
度を受光面に対して所定角度範囲内の光ビームを
透過して除去し、所定範囲外の光ビームを全反射
角度にて偏向し、光電変換器に到達するように働
く。
更に、光学欠陥検出装置の受光装置を選択的に
スイツチオンされる複数の受光器から形成し、こ
の受光器の少くとも一個が各々特定の瞬間にスイ
ツチオフされ、受光面の所定角度範囲内の光ビー
ムが投射された時にスイツチオフすると共に、こ
の所定角度範囲外の光ビームが投射された時にス
イツチオンするように設定することによつて、所
定角度範囲内に含まれる主光ビーム及びその近接
する周辺域の光ビームを検出対象から除去し、所
定角度範囲外の散乱光を含む光ビームを的確に検
出するように働く。
[実施例] 第1図乃至第3図において、鮮明な単周波数の
可干渉性レーザー走査光線37を発する走査光線
発生装置44は、第2図に示した走査面上の矢印
fの方向に沿つて、走査面を周期的に掃引する。
この走査光線発生装置44は、レーザー光源、走
査運動を起こすためのミラーホイール、及び走査
光線を平行光線に変換する凹面鏡から形成され
る。本発明に適した走査光線発生装置の例がドイ
ツ特許公開DE−24 33 682に開示されている。
第1図より明らかなように、走査光線発生装置
44を走査光線37が帯状体、例えば織布47の
表面に対して入射角αで照射される如く配設し、
走査面上に光線列をなすための走査光ビード31
を形成する。走査面を漏れなく確実に走査するた
めに、織布47を二個のローラー48の回転運動
に従つて、前記の走査方向fに対し垂直に交わる
第1図の矢印Fの方向に送り出す一定の送り速度
と走査光線37の掃引周期が同調して、織布面を
漏れなく走査するように設定する。
走査光線37の主光束は、入射角αに等しい反
射角αで受光装置32,33の方向へ反射され
る。第1図において、鏡面反射に相当する完全反
射する主光ビームを実線で示し、織布表面での大
小の散乱によつて完全反射角αから外れた散乱光
を破線で示すものとする。
第1図の参照符号34は、本発明に従つて配設
されたホログラムを示すが、仮にこのホログラム
34を取り除いた場合、織布47の走査面上で反
射した光ビームは、破線で示したように凸レンズ
32を介して光伝導ロツド33へと偏向され、こ
の光伝導ロツド33の光ビーム導入面と正反対側
に配設された段状鏡面装置46(第3図参照)の
鏡面で反射され、複数回の反射を繰り返してこの
ロツド33のいずれか一端に設置された光電変換
器49(第3図参照)に到達する。また、同様に
この光電変換器49の設定してある方向と反対方
向に進む光ビームも光伝導ロツド33の光電変換
器49と反対側に配設された鏡面50によつて反
射され、結果的には光電変換器49に到達する。
前記の凸レンズ32及び光伝導ロツド33の
各々の中心軸は、走査方向fに対して平行に設定
するものとする。
更に、第1図において、ホログラム34を取り
除いた場合、織布47表面の欠陥箇所のために、
完全反射角αで反射された主光ビームによつて形
成される受光面に対してかなり大きな角度で外れ
た所定角度範囲外の散乱光は、第1図の参照符号
33′で示した他の受光装置で受光される。逆に、
この受光面内に拡がる方向での主光ビームと散乱
光との角度識別を第3図に示した光伝導ロツド3
3にて実施しようとしても、この光伝導ロツド3
3内に入射された光ビームは主光ビームと散乱光
の区別無く光電変換器49にて検知されてしまう
ので、事実上、角度識別はできない。
本発明においては、第3図に示した受光面内で
の角度識別を実現するために、ホログラム34を
走査光ビード31と受光装置32,33との間に
配設した。
この場合、ホログラム34は、完全反射光35
(以下、主光ビーム)及びその近接する周辺域の
光ビームを第1図に示した受光面から外すように
働く。この所定の受光面から外れた主光ビーム3
5を受光する必要がある場合は、ホログラム34
による偏向方向に対する凸レンズ32″及び光伝
導ロツド33″から形成する受光装置にて受光で
きる。また、逆に第3図に示した受光面内であつ
て、織布47表面からの所定散乱角度以上の散乱
光は、ほこり等の障害物に妨げられることがなけ
れば、ホログラム34を通過して光伝導ロツド3
3に投射され、このロツド33内に設定された段
状鏡面装置46により偏向され光電交換器49に
到達する。このように、本発明によると、主光ビ
ーム及びその近接する周辺域の光ビームを所定の
受光装置へ至る受光面から除去し、その他の所定
角度範囲外の散乱光からなる光束を受光装置の光
伝導ロツド33内の光電変換器49へ到達するこ
とができる。
本発明において、ホログラム34は、第2図に
示した光源から走査面に向つて照射される走査光
線によつて形成される走査光線平面又は入射光線
平面内に拡がる平面波(参照波)と第1図に示し
た主光ビーム35の方向の平面波(物体波)との
重ね合わせによつて形成される。このホログラム
34により偏向された角度範囲は、ブラツグ条件
(Bragg condition)に従い、ホログラムの厚さ
によつて決定される。また、この角度範囲は、ホ
ログラムを形成するための参照波として、有効開
口部で光量を調整した参照波を用いることによつ
て調整できる。
第3a図において、前記の第1図乃至第3図の
光学走査装置に適したホログラムの形成を詳述す
る。
第3a図に示すように、レーザー発生装置57
から発せられた鮮明な光ビーム58は、レンズ系
59を介して拡大され、ビームデバイダー60に
よつて二つの光ビーム部分に分けられる。このビ
ームデバイダー60を単に通過する平面波は、一
般に参照波55と呼ばれる平面波であり、他方、
ビームデバイダー60によつて偏向された平面波
は、偏向鏡61で反射され、角度βをなして参照
波55を横切る一般に物体波(信号波)56と呼
ばれる平面波である。第3a図から明らかなよう
に、後にホログラム34を形成する感光材料を参
照波55と物体波56との交差面に配置すると、
この感光材料に記録される固定干渉場が生じる。
このようにして、感光材料に干渉潜像を記録した
後に、この感光材料に参照波55を照射すると、
この参照波55を物体波56に変換して感光材料
上にホログラムが形成されている。これは、ホロ
グラム34を通過する参照波55がこの参照波の
光路に対して角度βだけ偏向されたことに相当す
る。
本発明に従つて、ホログラム34を用いると、
参照波55は、受光面に対して所定角度範囲内の
光線列54から発せられた光ビームからなる平面
波に相当し、この光ビームが偏向されて形成され
た平面波が物体波56に相当する。
仮に、参照波55として球面波を用いると、ホ
ログラムは反射角度より大きな角度範囲で光ビー
ムを偏向することができる。
第1図にて、織布表面を特定角度で反射する反
射光を検知する帯状体の光学欠陥検出装置を示し
たが、第1a図にて、半透明の織布又は透過性箔
47を透過する透過光を検知する帯状体の光学欠
陥検出装置を示す。この場合、主光ビームは、ホ
ログラム34によつて偏向されるが、透過性箔4
7内の不均質部分で散乱された散乱光は、ほこり
等の障害物がなければ、そのまま受光装置32,
33に到達し、検知される。
第1b図は、織布47に平行に配列された蛍光
管62を光源として用いた場合を示す。この場
合、蛍光管62と走査面との間に配設された凸レ
ンズ63によつて、走査光線が集束されて、光線
列54を形成する。このように走査光線として一
連の光線列54を用いることによつて、例えばミ
ラーホイール(図示せず)のような可動要素を使
用しなくて済む。この場合も、ホログラム34を
介して受光面の所定角度範囲内の光ビームを受光
装置32,33から外し、所定角度範囲外の光ビ
ームのみを受光装置に到達させることができる。
第1c図は、同一の光線列から発せられた各々
二個の受光面64及び65内の光ビームが相互に
隣接した二個の光伝導ロツド33及び33′に
各々対応する角度範囲フイルター、特にホログラ
ム34,34′を覆う如くその前方に配設された
一個の凸レンズ32によつて分けられた状態を示
している。この場合も、ホログラム34を介して
受光面65及び64内に拡がる所定角度範囲外の
散乱光成分のみが光伝導ロツド33及び33′に
到達する。第1c図において、矢印で示したよう
に、第一のホログラム34にて偏向された受光面
65内の所定角度範囲内の主光ビーム及びその近
接する周辺域の光ビームを第一の光伝導ロツド3
3の上方に偏向し、第二のホログラム34′にて
偏向された受光面64内の所定角度範囲内の主光
ビーム及びその近接する周辺域の光ビームを第二
の光伝導ロツド33′の下方に偏向して受光装置
から除去している。
第3b図は、複数のホログラムを重ね合わせて
形成した複式角度範囲フイルター34を示したも
のであり、複数の相互に異なる干渉場がこのホロ
グラムを形成するための感光材料に記録される。
従つて、この複式角度範囲フイルター34を用い
ることによつて、同時に各々異なる角度範囲の光
ビームを各々別々の受光装置33,33′、及び
33″へ偏向することができる。
また、ホログラム34は、感光材料の中に干渉
場を記録中に、円柱波を重ね合わせることによつ
て、集合効果を同時に与えることができる。この
ホログラム34によつて、偏向された光ビーム成
分を所望しない角度範囲に存在する光ビーム成分
から分離することができる。即ち、偏向しないで
そのまま透過する光ビーム成分を所望しない角度
範囲の光ビームとしてフイルター選別するホログ
ラム34を設定すればよい。
このように、ホログラムを本発明に従つて、角
度範囲フイルターとして用いる場合、ホログラム
は、透過率、反射率、及び屈折率の正弦変化の結
果、単一次数の偏向を実行するように、用いられ
ている。このホログラムの透過率、反射率、及び
屈折率の正弦変化は、感光材料上にホログラムを
形成するための参照波と物体波の光度を調整する
ことによつて実行できる。しかしながら、感光材
料の感光特性の非線形部分の影響により生ずる二
次の回折光を除去するために、二次の回折光の理
論偏向角度を回折格子面の法線に対して90゜以上
にする必要がある。
更に、相互に所定の距離をおいて設定された少
くとも二個の反射面からなる干渉計も角度範囲フ
イルターとして使用できるが、例えばこの種の干
渉計として、二枚の鏡を組み込んだフアブリーペ
ロー干渉計を用いると、透過率が光ビームの所定
の波長に従つて変化する。
従つて、角度範囲フイルターとして干渉格子を
用いる場合は、その格子定数に適した単色光を用
いる必要がある。
第4図は、第1図の類型図であり、同一部分に
は同一の番号を用いている。第1図に示した実施
例との相違点は、走査光線37が直線偏光器51
を介して織布47表面に照射される点である。こ
の直線偏光器51の偏光方向を第4図に示した矢
印の方向に設定すると光源から発せられた光ビー
ムは、直線偏光された状態で織布の走査面に照射
される。走査面で正反射された主光ビーム35及
びその近接する周辺域の光ビームの場合は、その
まま直線偏向光線として受光装置に向かおうとす
るが、走査面上の光ビード31と受光装置32,
33との間にクロスド・アナライザー38を配設
することによつて、受光装置から外すことができ
る。逆に、走査面上の欠陥箇所により所定角度範
囲外の比較的強く散乱した散乱光は、この散乱に
起因して多少の偏光が加えられているために、ク
ロスド・アナライザー38を通過して受光装置3
2,33に到達し、受光装置内に配設された光電
変換器49にて検知される。この時、光電変換器
49によつて、受光した散乱光の光度に基づく電
気信号特性からその欠陥程度の評価をすることが
可能である。
第5図には、織布からの反射光を受光する特別
な形態の光伝導ロツド33からなる受光装置を示
す。この光伝導ロツド33は、複数の屋根状又は
鋸歯状のプリズム表面40から形成された段状プ
リズム装置39を光導入面と反対側の面に配設し
たものである。このプリズム表面40の光伝導ロ
ツド33の中心軸に対する傾斜角度を選定するこ
とによつて、本発明の意図する主光ビーム35及
びその近接する周辺域の光ビームと、欠陥箇所の
情報を含む散乱光とを識別できる。第5図に示し
た如く、主光ビーム35に対して散乱角度γで反
射する散乱光36の場合を一例に取ると、プリズ
ム表面40の所定の傾斜角度に従つて、受光面内
の所定角度範囲内の主光ビーム35及びその近接
する周辺域の光ビームは、プリズム表面40を透
過し、第二の光伝導ロツド33で受光され、この
ロツド33内に配設した光電交換器によつて電気
信号に変換され検知される。また、受光面内の所
定角度範囲外の散乱光36は、プリズム表面40
で全反射し、ロツド内で複数回反射を繰り返した
後、光電交換器49へ到達する。このようにし
て、比較的低い光度の散乱光36は、主光ビーム
35によるクロストークの影響もなく、光電変換
器49に到達することができる。しかしながら、
この装置の場合、プリズム表面40の傾斜角度を
選定することにより決定される入射光の全反射す
るための限界角度を下回る角度範囲内に入射され
た主光ビーム及びその近接する周辺域の光ビーム
ばかりでなく、僅かにその範囲内に入射された散
乱光成分をも透過し、損失してしまうが、装置全
体としての検知精度に対しては、無視できる程度
である。
第6図においては、第1図乃至第3図に記載し
た光伝導ロツドと同一のものを再び記述し、凸レ
ンズ32を図の簡略化のために省略してある。
第6図より明らかなように、薄板42から形成
された格子41を走査面上の走査光ビード31と
光伝導ロツド33との間に、薄板42の配列が相
互に平行に傾斜する如く設置する。この時、薄板
42の相互の間隔、長さ、及び傾斜角度を主光ビ
ーム35及びその近接する周辺域の光ビームがこ
の薄板格子41を通過せず、散乱光36がこの格
子41を通過するように設定するものとする。
このような薄板格子44を用いた構造の場合、
走査動作の実行中に、光束の周期的変調を来す。
この変調の強さは、薄板の相互の間隔と散乱光を
生ずる面から薄板格子までの距離に依存するが、
散乱光を生ずる面から薄板格子までの距離に比べ
て薄板相互の間隔が極端に小さければ、一般的に
この変調は無視できる。例えば、散乱光を生ずる
面から薄板格子までの距離を20cm、薄板相互の間
隔を1cmに設定するのが好ましい。
また、薄板42に限らず、チユーブ状、円錐
状、又は格子状の幾何学的遮光手段を用いること
によつて、主光ビームを除去することもできる。
第7図は、前記の格子41を形成する薄板42
の表面処理状態を示しており、光ビームの衝突面
には光吸収層42aを設け、その反対面には鏡面
反射層42bを設けるものとする。これにより、
主光ビーム35及びその近接する周辺域の光ビー
ムを効果的に吸収すると共に、主光ビーム35に
比べて極端に大きな散乱角の反射光36′(第6
図参照)をも効果的に光伝導ロツド33に向けて
投射することができる。このように薄板格子を設
定すると、より広い範囲の散乱光成分を的確に光
伝導ロツド内に送り込むことができる。
第6a図には、第2図の破線で示した扇状の走
査運動を実行するための走査光線発生装置44′
を用いて、走査面上を掃引する実施例を示す。
走査光線発生装置44′から発する扇状の走査
光線37′が走査面上に形成する走査光ビードが
走査方向を掃引することにより形成される光線列
54に対する入射光平面内において、走査光線3
7′は、凹面鏡を使用して走査光線を平行光線に
変換する従来技術の光学走査装置の場合と相違し
て、個々に連続的な異なる角度で照射されるため
に、織布表面で反射された主光ビームもまた各々
連続的な異なる角度で受光平面内に投射される。
従つて、この場合においても、確実に主光ビーム
を偏向して受光装置への入射光から除去するため
に、薄板格子41を第6a図に示すような薄板4
2の配列にすることによつて、各薄板42が異な
るフイルター特性を有する如く設定できる。この
ような薄板格子41を用いると、扇状の走査光線
37′の走査面上で反射された連続的な異なる角
度の各々の主光ビームに対して一様なフイルター
作用を施すことができる。
上記した如く、第6a図のような扇状に走査運
動を実行する走査光線発生装置44′を用いるこ
とによつて、従来技術の光学走査装置に使用され
ている寸法の大きな重量のある凹面鏡を使用しな
いで済む。
また、前記の連続的な異なるフイルター特性を
有する薄板格子42に代わつて、第3a図に記述
したホログラム34を形成する参照波に球面波を
用いることによつて、扇状に照射される走査光線
37′の走査面上にて反射された連続的な異なる
角度の主光ビームに対して一定の偏向作用を施す
ことができる。しかしながら、このホログラム3
4は、90%に達する特有の偏向効率を有するため
に、偏向すべき主光ビームの一部を常時透過して
しまう。従つて、第1図に示したホログラム34
と第6図及び第7図に示した薄板格子41を組み
合わせることによつて、より高い確率で主光ビー
ムを偏向でき、散乱光が受光装置へ入射する光路
に主光ビームが混入することによつて生ずるクロ
ストークを回避することができるために、織布表
面の欠陥情報を含む散乱光を極めて高い精度で検
知できる。
第8図は、複数の光電変換器1〜30を走査光
ビード31が織布表面を掃引する走査方向に平
行、且つ織布47表面の走査線の長さに相当する
長さで、受光面内に連続的に配列した光電変換器
群から形成された受光装置を示す。各々の光電変
換器は、欠陥の有無を表示する表示器52と結線
された電子回路装置45と各々の接続線を介して
結線されている。第8図において、光ビード31
を点と仮定すると、主光ビーム35及びその近接
する周辺域の光ビームは、内側に設定された光電
変換器14〜17にて受光され、逆に所定角度範
囲外の散乱光36は、光電変換器1〜13及び1
8〜30にて受光される。この時、光電変換器群
1〜30が正常に作動していると、主光ビーム3
5及びその近接する周辺域の光ビームを受光した
瞬間に、光電変換器14〜17をスイツチオフ
し、不感領域とする如く電子回路装置45が機能
する。従つて、電子回路装置45の表示器52
は、散乱光36成分のみに反応する。
しかしながら、実際に走査光線が走査方向fに
沿つて、走査面上を周期的に掃引する場合、走査
光ビード31は、連続的に一定周期で走査面上を
移動するために、光ビード31から発せられた主
光ビーム35も同様な周期で受光面内を移動す
る。このために、走査光線発生装置44と電子回
路装置45とを制御ライン53を介して接続する
ことによつて、主光ビーム35の移動と同調して
光電変換器の不感領域も一定周期で移動するよう
に設定できる。主光ビーム35及びその近接する
周辺域の光ビームによつて形成される所定角度範
囲は、一連の不感領域を形成する光電変換器の数
を適当に選定することによつて微妙に変化でき
る。例えば、第8図に示した不感領域を形成して
いる4個の光電変換器群14〜17に更に連続す
る光電変換器13及び18を接続することによ
り、6個の光電変換器群13〜18を不感領域に
設定できる。逆に、不感領域を狭めて、2個の連
続する光電変換器とすることもできる。不感領域
の最小単位としては、1個の光電変換器を不感領
域とした場合である。また、光電変換器群に代わ
つて、複数の光伝導ロツドを連続的に配列して受
光装置として用いることも同様に可能である。
また、第6図、第6a図、及び第7図に示した
薄板格子41を用いた実施例においては、光電変
換器49からの電気出力信号に変調周波数が含ま
れているが、この変調周波数は、各薄板42間の
間隔を各々適当に変更し、選定することによつ
て、走査速度が一定でない場合でも容易に一定変
調周波数とすることができ、適当なフイルターを
用いることにより、出力信号から容易に除去でき
る。
[発明の効果] 本発明は、以上のように構成されているので、
以下に記載されるような効果を奏する。
本発明による帯状体の光学欠陥検出装置の場
合、受光装置に走査面からの反射光である主光ビ
ーム及びその近接する周辺域の光ビームと、欠陥
情報を含む散乱光とが入射する前に、角度範囲フ
イルターを介して、受光面に対する所定角度範囲
に基づき、その範囲内に含まれる主光ビーム及び
その近接する周辺域の光ビームを偏向又は吸収す
ることにより、検知対象から容易に除去すること
ができる。従つて、主光ビームの散乱光に対する
クロストークの影響を回避でき、高い精度の欠陥
箇所の検知が可能となる。また、角度範囲フイル
ターとして、ホログラム及び薄板格子の両方を結
合して用いると、ホログラムでは除去できなかつ
た主光ビーム成分の一部を薄板格子によつて更に
除去でき、極めて高い精度の欠陥箇所の検知が可
能となる。更に、受光装置として、しばしば用い
られる極めて高い屈折率の透明物質を使用した高
価な光伝導ロツドを必ずしも必要としない。
扇状の走査運動をする走査光線発生装置を本発
明の帯状体の光学欠陥検出装置に使用した場合
は、平行走査光線に変換するために、走査線の長
さに相当する寸法の大きな重い極めて精度の高い
凹面鏡を必要とせず、その代わりに角度範囲フイ
ルターとして機能する薄板格子を形成している各
薄板の設定角度を個々に選定するか、或は角度範
囲フイルターとして機能するホログラムを形成す
る参照波として球面波を用いることによつて、扇
状の走査光線で欠陥検知ができ、従来の走査線の
長さに相当する走査光線発生装置や、掃引運動を
実行するための回転ミラーホイールや、前記した
凹面鏡を必要としない。このように、本発明の光
学欠陥検出装置は、コンパクトであり、且つ帯状
体の欠陥箇所を極めて高い精度で検知できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に従つてホログラムを角度範
囲フイルターに用いた帯状体の光学欠陥検出装置
の走査方向に対して直角な概略側面図であり、第
1a図は、光透過性の織布からの透過光を検知す
るホログラムを角度範囲フイルターに用いた帯状
体の光学欠陥検出装置の概略側面図であり、第1
b図は、前述の実施例に示した点光源ではなく、
連続する光線列、例えば光源として蛍光管を用い
た実施例の側面図であり、第1c図は、相互に平
行に配列した二個の角度範囲フイルターを用いた
実施例の側面図であり、第1c図は、相互に平行
に配列した二個の角度範囲フイルターを用いた実
施例の側面図であり、第2図は、第1図及び第1
a図の−断面図であり、第3図は、第1図及
び第1a図の−断面図であり、第3a図は、
本発明による角度範囲フイルターとして用いるホ
ログラムを形成するための好ましい光路を示した
図であり、第3b図は、同時に種々の角度範囲に
対応するように調整されたホログラムを用いた実
施例を示した図であり、第4図は、第1図に示し
たホログラムに代わつて偏光フイルターを角度範
囲フイルターとして用いた第1図の類型図であ
り、第5図は、第3図の段状鏡面装置に代わつて
非鏡面の段状プリズム装置を有する光伝導ロツド
を用いた第3図の類型図であり、第6図は、第3
図のホログラムに代わつて薄板格子を角度範囲フ
イルターとして用いた第3図の類型図であり、第
6a図は、扇状の走査光線に適応するように、第
6図に示した一定のフイルター特性を有する薄板
格子に代わつて走査方向に沿い異なるフイルター
特性を有する薄板格子を用いた実施例を示した図
であり、第7図は、第6図で示した薄板格子を形
成している薄板の拡大側面図であり、第8図は、
第3図の角度範囲フイルター及び光伝導ロツドに
代わつて連続して配列され、周期的にスイツチオ
ン/オフ動作可能な複数の受光器から形成された
受光装置を示した図である。 (符号の簡単な説明)、31……光走査ビード、
32,33……受光装置、34……ホログラム、
35……主光ビーム、36……散乱光、37……
走査光線、38……クロスド・アナライザー、4
1……薄板格子、44……走査光線発生装置、4
6……段状鏡面装置、47……織布、48……ロ
ーラー、49……光電変換器、50……鏡面、5
1……直角偏光子、54……光線列、55……参
照波、56……物体波。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 帯状体の走査面上に光線列を形成する如く走
    査光線を発する送光装置と、光線列に平行に配列
    された受光装置とからなる帯状体の光学欠陥検出
    装置において、角度範囲フイルター手段を受光装
    置に対して平行、且つ受光装置と光線列との間に
    配設することによつて、受光面に対して所定角度
    範囲外の光ビームのみが受光装置に入射されるよ
    うに設定したことを特徴とする帯状体の光学欠陥
    検出装置。 2 前記の角度範囲フイルター手段が帯状体の走
    査面から投射された所定角度範囲内の光ビームを
    吸収し、所定角度範囲外の光ビームを透過するよ
    うに設定したことを特徴とする特許請求の範囲第
    1項に記載の帯状体の光学欠陥検出装置。 3 前記の角度範囲フイルター手段が帯状体の走
    査面から投射された所定角度範囲内の光ビームを
    偏向し、所定角度範囲外の光ビームを直進するよ
    うに設定したことを特徴とする特許請求の範囲第
    1項に記載の帯状体の光学欠陥検出装置。 4 前記の帯状体の走査面を透過する透過光を受
    光する受光装置を光線列に平行に、帯状体に対し
    て透過側の入射平面上に配設したことを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項乃至第3項に記載の帯状
    体の光学欠陥検出装置。 5 前記の走査光線を相互に平行な光ビームから
    形成すると共に、角度範囲フイルター手段をその
    全長に渡つて一定なフイルター特性を有する如く
    設定したことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    乃至第4項に記載の帯状体の光学欠陥検出装置。 6 前記の光ビームを入射光平面内で相互に異な
    る角度の扇状の光ビームから形成すると共に、角
    度範囲フイルター手段を光線列に沿つて相互に異
    なる入射角の走査光線に応じて、その長さ方向に
    沿つてフイルター特性を変えることにより、フイ
    ルターの全長に渡つて、光ビームの所定の角度範
    囲を識別可能としたことを特徴とする特許請求の
    範囲第1項乃至第5項に記載の帯状体の光学欠陥
    検出装置。 7 前記の角度範囲フイルター手段を干渉格子の
    ホログラムから形成したことを特徴とする特許請
    求の範囲第1項乃至第6項に記載の帯状体の光学
    欠陥検出装置。 8 複数のホログラムを相互に独立した干渉格子
    として重ね合わせ、複数の異なる角度範囲の光ビ
    ームを相互に異なる位置に配設した複数の検出器
    にて同時に検知するように設定したことを特徴と
    する特許請求の範囲第7項に記載の帯状体の光学
    欠陥検出装置。 9 前記の角度範囲フイルター手段を光吸収面を
    有する薄板から形成したことを特徴とする特許請
    求の範囲第1項乃至第6項に記載の帯状体の光学
    欠陥検出装置。 10 前記の薄板の光吸収面と反対の面が鏡面形
    成されたことを特徴とする特許請求の範囲第9項
    に記載の帯状体の光学欠陥検出装置。 11 前記の薄板から形成した角度範囲フイルタ
    ー手段をホログラムから形成した角度範囲フイル
    ター手段と受光装置の間に配設することにより、
    角度範囲フイルターを組み合わせたことを特徴と
    する特許請求の範囲第10項に記載の帯状体の光
    学欠陥検出装置。 12 前記の走査光線を直線偏光し、且つ前記の
    角度範囲フイルターをクロスド・アナライザーか
    ら形成し、所定角度範囲内の光ビームを偏向する
    ように設定したことを特徴とする特許請求の範囲
    第1項乃至第6項に記載の帯状体の光学欠陥検出
    装置。 13 前記の光伝導装置を光線の導入面に対して
    正反対の面に段状鏡面装置を配した光伝導ロツド
    から形成し、この段状鏡面装置を全反射角で全て
    の入射光を偏向する如く光伝導ロツド内に配列す
    ると共に、光検出器を光伝導ロツドの少なくとも
    一端に配設したことを特徴とする特許請求の範囲
    第1項乃至第12項に記載の帯状体の光学検出装
    置。 14 前記の角度範囲フイルター手段を光伝導装
    置とその光線導入面側に配設した凸レンズとの間
    に配設したことを特徴とする特許請求の範囲第1
    3項に記載の帯状体の光学欠陥検出装置。
JP2364781A 1980-02-19 1981-02-19 Defect detector for woven cloth Granted JPS56129805A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3006072A DE3006072C2 (de) 1980-02-19 1980-02-19 Fehlstellenermittlungsvorrichtung für Materialbahnen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS56129805A JPS56129805A (en) 1981-10-12
JPS6359100B2 true JPS6359100B2 (ja) 1988-11-17

Family

ID=6094931

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2364781A Granted JPS56129805A (en) 1980-02-19 1981-02-19 Defect detector for woven cloth

Country Status (5)

Country Link
US (3) US4450359A (ja)
JP (1) JPS56129805A (ja)
DE (1) DE3006072C2 (ja)
FR (1) FR2476313B1 (ja)
GB (3) GB2073876B (ja)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2117897B (en) * 1982-03-03 1986-04-16 Sira Ltd Detecting surface defects
DE3208040C2 (de) * 1982-03-05 1984-02-16 Feldmühle AG, 4000 Düsseldorf Vorrichtung zum Prüfen von Flachglasbahnen
DE3411934C2 (de) * 1983-04-22 1986-04-24 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Fehlerfeststellungsvorrichtung
DE3318345A1 (de) * 1983-05-20 1984-11-22 Harald 2800 Bremen Sikora Vorrichtung zur pruefung der oberflaeche von kabeln oder laenglichen gegenstaenden
FI67448C (fi) * 1983-06-28 1985-03-11 Enso Gutzeit Oy Foerfarande och anordning foer detektering av strimmor i maskinriktningen hos papper
DE3331248A1 (de) * 1983-08-30 1985-03-14 Polygram Gmbh, 2000 Hamburg Optische einrichtung zur fertigungspruefung von optisch auslesbaren plattenfoermigen informationstraegern
JPS6117050A (ja) * 1984-05-14 1986-01-25 テンコ−ル・インスツルメンツ 欠陥検知装置
US4662757A (en) * 1984-05-18 1987-05-05 Rca Corporation Motion tracking system and method
US4662756A (en) * 1984-05-18 1987-05-05 Rca Corporation Motion tracking device
DE3534019A1 (de) * 1985-09-24 1987-04-02 Sick Optik Elektronik Erwin Optische bahnueberwachungsvorrichtung
US4754148A (en) * 1986-12-10 1988-06-28 Allegheny Ludlum Corporation Adjustably positioned apparatus maintaining a fixed perpendicular distance for evaluating a curved surface
US4857747A (en) * 1988-02-24 1989-08-15 Albany International Corporation Method and apparatus for analyzing the formation of a web of material via generating a formation index
US4943734A (en) * 1989-06-30 1990-07-24 Qc Optics, Inc. Inspection apparatus and method for detecting flaws on a diffractive surface
US5164603A (en) * 1991-07-16 1992-11-17 Reynolds Metals Company Modular surface inspection method and apparatus using optical fibers
US5274243A (en) * 1992-05-29 1993-12-28 Eastman Kodak Company Cylindrical allumination system for inspection of sheet material
DE19526943C2 (de) * 1995-07-24 1998-12-10 Mittenzwey Klaus Henrik Dr Mehrfachreflexionsvorrichtung zur Erzeugung und Messung von konventionellen Signalen und Sättigungssignalen der Fluoreszenz und der Streuung
DE19613082C2 (de) * 1996-04-02 1999-10-21 Koenig & Bauer Ag Verfahren und Vorrichtung zur qualitativen Beurteilung von bearbeitetem Material
US5880828A (en) * 1996-07-26 1999-03-09 Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. Surface defect inspection device and shading correction method therefor
DE19745910C2 (de) * 1997-10-17 1999-11-18 Stn Atlas Elektronik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Überprüfen von Hartholzoberflächen auf Risse
US6791099B2 (en) * 2001-02-14 2004-09-14 Applied Materials, Inc. Laser scanning wafer inspection using nonlinear optical phenomena
US6612172B2 (en) * 2001-03-05 2003-09-02 Lucent Technologies Inc. Sol-gel tube crack detection apparatus and method
US7505619B2 (en) * 2002-09-27 2009-03-17 Kla-Tencor Technologies Corporation System and method for conducting adaptive fourier filtering to detect defects in dense logic areas of an inspection surface
US7106432B1 (en) 2002-09-27 2006-09-12 Kla-Tencor Technologies Corporation Surface inspection system and method for using photo detector array to detect defects in inspection surface
US7061598B1 (en) * 2002-09-27 2006-06-13 Kla-Tencor Technologies Corporation Darkfield inspection system having photodetector array
JP5161238B2 (ja) * 2007-01-11 2013-03-13 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ウェブ長手方向位置センサ
CN101680780A (zh) * 2007-06-19 2010-03-24 3M创新有限公司 全内反射位移刻度尺
KR101493115B1 (ko) * 2007-06-19 2015-02-12 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 웨브의 위치를 나타내는 시스템 및 방법
WO2008157588A2 (en) * 2007-06-19 2008-12-24 3M Innovative Properties Company Systems and methods for fabricating displacement scales
JP4869308B2 (ja) * 2008-09-03 2012-02-08 株式会社神鋼環境ソリューション 揚砂装置
KR101667071B1 (ko) 2008-12-29 2016-10-17 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 웨브 기점을 사용한 위상-고정된 웨브 위치 신호
KR101578259B1 (ko) 2008-12-30 2015-12-16 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 기점을 기재 상에 형성하기 위한 장치 및 방법
SG184034A1 (en) * 2010-04-01 2012-10-30 3M Innovative Properties Co Precision control of web material having micro-replicated lens array
DE102015222296A1 (de) * 2015-11-12 2017-05-18 Robert Bosch Gmbh Projektionssystem für einen Projektor und/oder ein Fahrzeuglicht

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1573496A1 (de) * 1965-11-20 1970-04-16 Feldmuehle Ag Vorrichtung zur Pruefung und Sortierung von bahn- oder blattfoermigen Erzeugnissen
US3478218A (en) * 1965-12-15 1969-11-11 Itt Apparatus and method for detecting flaws in articles of glass and the like
US3556664A (en) * 1969-04-01 1971-01-19 Eastman Kodak Co Methods and apparatus for inspecting photographic materials
DE2043876A1 (de) * 1970-09-04 1972-03-09 Licentia Gmbh Anordnung zur Erfassung von Fehlern in durchsichtigen Bahnen
SE345905B (ja) * 1970-10-21 1972-06-12 Nordstjernan Rederi Ab
DE2156638A1 (de) * 1971-04-23 1972-11-16 Nippon K ok an K.K., Tokio Verfahren zur Feststellung von Oberflächenfehlern eines durchlaufenden Materials
JPS495274A (ja) * 1972-04-28 1974-01-17
US3843890A (en) * 1973-07-27 1974-10-22 Du Pont Optical-electrical web inspection system
JPS51873A (ja) * 1974-06-20 1976-01-07 Matsushita Electronics Corp Magunetoron
DE2532603C3 (de) * 1975-07-21 1978-12-14 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Optische Vorrichtung zur Bestimmung des Lichtaustrittswinkels
GB1540066A (en) * 1975-07-25 1979-02-07 Nash P Optical inspection systems
DE2550814C3 (de) * 1975-11-12 1979-08-09 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Zeilentastvorrichtung für Materialbahnen zur Fehlstellenermittlung
CA1082811A (en) * 1976-04-05 1980-07-29 Greenwood Mills, Inc. Diffraction pattern amplitude analysis for use in fabric inspection
DE2654465C3 (de) * 1976-12-01 1981-12-03 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Mischkammer in Form eines innen verspiegelten optischen Kanals
GB1592511A (en) * 1977-05-18 1981-07-08 Ferranti Ltd Surface inspection apparatus
US4197011A (en) * 1977-09-22 1980-04-08 Rca Corporation Defect detection and plotting system
DE2800351B2 (de) * 1978-01-04 1979-11-15 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Optische Vorrichtung zur Bestimmung des Lichtaustrittswinkels bei einer mit einem Lichtfleck abgetasteten Materialbahn
DE2827705C3 (de) * 1978-06-23 1981-07-30 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Gerät zur Feststellung von Fehlern an Bahnmaterial
DE2827704C3 (de) * 1978-06-23 1981-03-19 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Optische Vorrichtung zur Bestimmung der Lichtaustrittswinkel
US4306808A (en) * 1979-12-14 1981-12-22 Ford Aerospace & Communications Corp. Glass flaw inspection system

Also Published As

Publication number Publication date
US4532430A (en) 1985-07-30
JPS56129805A (en) 1981-10-12
GB2134250B (en) 1985-02-27
GB8323267D0 (en) 1983-10-05
US4450359A (en) 1984-05-22
FR2476313B1 (fr) 1985-06-07
US4511803A (en) 1985-04-16
GB8322758D0 (en) 1983-09-28
GB2134249B (en) 1985-02-27
DE3006072C2 (de) 1984-11-29
FR2476313A1 (fr) 1981-08-21
GB2073876A (en) 1981-10-21
DE3006072A1 (de) 1981-09-03
GB2134250A (en) 1984-08-08
GB2073876B (en) 1985-01-03
GB2134249A (en) 1984-08-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6359100B2 (ja)
EP0022263B1 (en) Light curtain apparatus with provision for generating a cyclically varying scale signal
US4701049A (en) Measuring system employing a measuring method based on the triangulation principle for the non-contact measurement of a distance from the surface of a contoured object to a reference level. _
CA1259390A (en) Inspection apparatus
US4383734A (en) Real-time optical correlation system
EP0248479A1 (en) Arrangement for optically measuring a distance between a surface and a reference plane
EP0872722B1 (en) Particle measuring apparatus and its calibration method
CA2070330C (en) High resolution spectroscopy system
US4259013A (en) Optical method for inspecting spherical parts
US3982835A (en) Interferometric system
CA1323434C (en) Apparatus for measuring the thickness of a thin film
US3871773A (en) Method of and apparatus for detecting defects and the position thereof in transparent articles
JPH0331371B2 (ja)
CN1026155C (zh) 激光角速率传感器的读出设备
CN211606906U (zh) 一种深紫外波段复合灵敏度光谱仪
US3372282A (en) Color coding optical reticle
CN111093311A (zh) 一种深紫外波段复合灵敏度光谱仪
JPH0795037B2 (ja) 光学式欠陥検出装置
US4291987A (en) Hole seeking apparatus
US4273446A (en) Light spot position sensor for a wavefront sampling system
GB1574423A (en) Optical test apparatus and method for examining an object
JPS62200223A (ja) エンコ−ダ−
SU721668A1 (ru) Устройство дл измерени угловых и линейных перемещений объекта
SU1677514A1 (ru) Устройство дл измерени угловых перемещений объекта
SU798567A1 (ru) Устройство дл контрол дефектовпОВЕРХНОСТи ТЕл ВРАщЕНи