JPS6358832A - ドライエツチング装置 - Google Patents
ドライエツチング装置Info
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- JPS6358832A JPS6358832A JP20173886A JP20173886A JPS6358832A JP S6358832 A JPS6358832 A JP S6358832A JP 20173886 A JP20173886 A JP 20173886A JP 20173886 A JP20173886 A JP 20173886A JP S6358832 A JPS6358832 A JP S6358832A
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- JP
- Japan
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- exhaust
- discharge tube
- ozone
- waveguide
- dry etching
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- Granted
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- 238000001312 dry etching Methods 0.000 title claims description 12
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
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- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 description 1
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Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
′fJLL″の9分野)
本発明はドライエツチング装置に関し、特に放電管の外
側で発生するオゾンの排気に改良を施したドライエツチ
ング装置に係わる。
側で発生するオゾンの排気に改良を施したドライエツチ
ング装置に係わる。
(従来の技術)
従来、ドライエツチング装置としては、例えば第2図に
示すものが知られている。
示すものが知られている。
図中の1は真空容器である。この真空容器1の内部には
、被処理物2を載置する載置台3が配設され、上記真空
容器1の上面にはエツチングガスを真空容器内に均一に
導入するためのガス分散管4が取り付けられている。こ
のガス分散管4には、ガス導入管5が接続されている。
、被処理物2を載置する載置台3が配設され、上記真空
容器1の上面にはエツチングガスを真空容器内に均一に
導入するためのガス分散管4が取り付けられている。こ
のガス分散管4には、ガス導入管5が接続されている。
このガス導入管5の中途部には、石英管からなる放電管
6か設けられており、この放電管6に導波管、7を介し
て高周波出力8を印加することによりプラズマを発生さ
せるようになっている。また、上記真空容器1の下面に
は、図示しないが真空ポンプに接続されるガス排出管9
がマニホールド10を介して接続されている。
6か設けられており、この放電管6に導波管、7を介し
て高周波出力8を印加することによりプラズマを発生さ
せるようになっている。また、上記真空容器1の下面に
は、図示しないが真空ポンプに接続されるガス排出管9
がマニホールド10を介して接続されている。
上記装置においては、載置台3の上面に被処理物2を′
Nc置し、ガス排出管9を介して真空容器1の真空排気
を行なう。その後、ガス導入管5によリCF4.02等
の不活性ガスを送り、真空容器1内を所定圧力のガス雰
囲気とし、放電管6の外側にマイクロ波発生器11によ
りマイクロ波(μ波)を照射することによりガスプラズ
マを発生させる。そして、このガスプラズマの発生によ
りエツチングガスとしてのフッ素ラジカルが生成され、
真空容器1内の被処理物2のエツチングを行なうように
なっている。また、プラズマが放たれると、紫外線が放
電管6の周辺の酸素と反応してオゾンが大量に発生する
。
Nc置し、ガス排出管9を介して真空容器1の真空排気
を行なう。その後、ガス導入管5によリCF4.02等
の不活性ガスを送り、真空容器1内を所定圧力のガス雰
囲気とし、放電管6の外側にマイクロ波発生器11によ
りマイクロ波(μ波)を照射することによりガスプラズ
マを発生させる。そして、このガスプラズマの発生によ
りエツチングガスとしてのフッ素ラジカルが生成され、
真空容器1内の被処理物2のエツチングを行なうように
なっている。また、プラズマが放たれると、紫外線が放
電管6の周辺の酸素と反応してオゾンが大量に発生する
。
そこで、従来は、第3図に示すように導波管12より窒
素(N2)を導入し、酸素と買換することによりオゾン
発生を防いでいる。
素(N2)を導入し、酸素と買換することによりオゾン
発生を防いでいる。
しかし、従来技術によれば、N2を大量に使用するので
不経済であるとともに、換気の悪い小さな部屋では酸欠
状態となり作業者が危険である。
不経済であるとともに、換気の悪い小さな部屋では酸欠
状態となり作業者が危険である。
また、例えば操作ミス、使用中にN2ボンベが空になる
等の理由でN2が導入されなかった場合、放電管6の周
辺に02が入り込み、プラズマ放電の紫外線と反応して
大量のオゾンが発生し部屋中に充満し、危険である。
等の理由でN2が導入されなかった場合、放電管6の周
辺に02が入り込み、プラズマ放電の紫外線と反応して
大量のオゾンが発生し部屋中に充満し、危険である。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、放電管の外
側で発生したオゾンが作業部屋内に広がることを防止で
きるドライエツチング装置を提供することを目的とする
。
側で発生したオゾンが作業部屋内に広がることを防止で
きるドライエツチング装置を提供することを目的とする
。
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段と作用)本発明は、導波
管に排気用ファン又は排気ガイドを接続し、放電管の外
側で発生したオゾンを排気することにより、オゾンが作
業部屋に広がることを防止でき、作業者の安全を確保で
きる。
管に排気用ファン又は排気ガイドを接続し、放電管の外
側で発生したオゾンを排気することにより、オゾンが作
業部屋に広がることを防止でき、作業者の安全を確保で
きる。
(実施例)
以下、本発明の一実施例を第1図を参照して説明する。
但し、本発明に係るドライエツチング装置は第2図(従
来装置)と略同じであるため、同部材は同符号を付して
説明を省略し、要部のみを説明する。
来装置)と略同じであるため、同部材は同符号を付して
説明を省略し、要部のみを説明する。
図中の21は導波管7の中途部に設けられた排気用ダク
トであり、このダクト21には排気用ファン22が連結
されている。このように排気用ダクト21と排気用ファ
ン22とから排気機構が構成され、これにより放電管の
外側で発生したオゾンか排気される。
トであり、このダクト21には排気用ファン22が連結
されている。このように排気用ダクト21と排気用ファ
ン22とから排気機構が構成され、これにより放電管の
外側で発生したオゾンか排気される。
上記実施例によれば、導波管7の中途部に排気用ダクト
21と排気用ファン22とからなる排気機構が設けられ
ているため、放電管6の外側でオゾンが発生しても排気
機構により排気される。従って、従来のようにN2を全
く使用する必要がなくなり、N2による作業部屋内の酸
欠や、部屋内にオゾンが充満することがなく、作業者の
安全を確保できる。
21と排気用ファン22とからなる排気機構が設けられ
ているため、放電管6の外側でオゾンが発生しても排気
機構により排気される。従って、従来のようにN2を全
く使用する必要がなくなり、N2による作業部屋内の酸
欠や、部屋内にオゾンが充満することがなく、作業者の
安全を確保できる。
なお、上記実施例では、排気機構として排気用ファンと
排気用ダクトを用いた場合について述べたが、これに限
らず、排気用ダクトだけでも放電管の外側に発生したオ
ゾンをある程度排気できる。
排気用ダクトを用いた場合について述べたが、これに限
らず、排気用ダクトだけでも放電管の外側に発生したオ
ゾンをある程度排気できる。
[発明の効果]
以上詳述した如く本発明によれば、放電管の外側で発生
したオゾンが作業部屋内に広がるのを防止し、もって作
業者の安全を確保できるドライエツチング装置を提供で
きる。
したオゾンが作業部屋内に広がるのを防止し、もって作
業者の安全を確保できるドライエツチング装置を提供で
きる。
第1図は本発明の一実施例に係るドライエ・ソチング装
置の要部の断面図、第2図は従来のドライエツチング装
置の説明図、第3図は同装置の要部の断面図である。 1・・・真空容器、2・・・被処理物、3・・・載置台
、4・・・ガス分散管、5・・・ガス導入管、6・・・
放電管、7・・・導波管、8・・・高周波出力、9・・
・ガス排出管、10・・・マニホールド、11・・・マ
イクロ波発生器、21・・・排気用ダクト、22・・・
排気用ファン。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図 第3図
置の要部の断面図、第2図は従来のドライエツチング装
置の説明図、第3図は同装置の要部の断面図である。 1・・・真空容器、2・・・被処理物、3・・・載置台
、4・・・ガス分散管、5・・・ガス導入管、6・・・
放電管、7・・・導波管、8・・・高周波出力、9・・
・ガス排出管、10・・・マニホールド、11・・・マ
イクロ波発生器、21・・・排気用ダクト、22・・・
排気用ファン。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図 第3図
Claims (2)
- (1)放電管に導波管を介して高周波出力を印加するこ
とによりプラズマを発生させ、これにより真空容器内の
被処理物のエッチングを行なうドライエッチング装置に
おいて、前記導波管に排気機構を接続し、放電管の外側
で発生したオゾンを排気することを特徴とするドライエ
ッチング装置。 - (2)前記排気機構が、排気用ファンと排気用ダクトと
から構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のドライエッチング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61201738A JPH0624185B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | ドライエツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61201738A JPH0624185B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | ドライエツチング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6358832A true JPS6358832A (ja) | 1988-03-14 |
JPH0624185B2 JPH0624185B2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=16446116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61201738A Expired - Fee Related JPH0624185B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | ドライエツチング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0624185B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59103340A (ja) * | 1983-09-21 | 1984-06-14 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
-
1986
- 1986-08-29 JP JP61201738A patent/JPH0624185B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59103340A (ja) * | 1983-09-21 | 1984-06-14 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0624185B2 (ja) | 1994-03-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |