JPS6356353A - 半田フラツクス残渣の除去法 - Google Patents

半田フラツクス残渣の除去法

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JPS6356353A
JPS6356353A JP19974186A JP19974186A JPS6356353A JP S6356353 A JPS6356353 A JP S6356353A JP 19974186 A JP19974186 A JP 19974186A JP 19974186 A JP19974186 A JP 19974186A JP S6356353 A JPS6356353 A JP S6356353A
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JP
Japan
Prior art keywords
abietic acid
residue
acid
flux
solder
Prior art date
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Pending
Application number
JP19974186A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuo Isagawa
去来川 光男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、半田付は時に用いられるロジン系フラック
スの残渣を半田付は後に取り除く半田フラックス残渣の
除去法に関する。
〔背景技術〕
ロジン系フラックスは、半田付は時に多用されている半
田フラックスであるが、半田付は後、コネクタや精密接
点表面にフラックス自体やフラックスと処理面の金属と
の反応生成物からなるフラックス残渣が残存する。この
残渣は、電気絶縁性が高いため、半田付は部で導通不良
になりやすい。したがって、このフラックス残渣を完全
に除去してしまう必要がある。
通常、ロジン系フラックスの主成分は、アビエチン酸で
ある。このアビエチ酸は、ある種のフン化炭化水素でほ
とんど除去できるのであるが、半田付は時や、洗浄工程
に行くまでに加熱工程(乾燥工程等)を行った場合など
、加熱された部分において、アビエチン酸がフラックス
残渣に含まれている金属イオン、あるいは、下地金属と
反応してアビエチン酸の金属塩を形成する。この金属塩
は、フン化炭化水素のみでは除去できず、その除去法の
開発が望まれている。
〔発明の目的〕
この発明は、制御機器、コネクタ、ICなどを配線基板
に半田によって電気的に接続するときに用いられるロジ
ン系フラックスの残渣を1−「1付は後に確実に除去で
きる半田フラックス残渣の除去法を提供することを目的
としている。
〔発明の開示〕
この発明は、このような目的を達成するために、半田付
は時に用いられたロジン系フラックスの残渣を半田処理
面から除去するにあたり、前記半田処理面を、前記ロジ
ン系フラックスの主成分たるアビエチン酸よりも強い酸
性を有する水溶液で洗浄したのち、フッ化炭化水素で洗
浄することを特徴とする半田フラックス残渣の除去法を
要旨としている。
以下に、この発明の詳細な説明する。
アビエチン酸の金属塩は、アビエチン酸より強い酸性を
有する水溶液と接触すると、アビエチン酸に戻り、金属
イオンは、酸性水溶液の中に溶解する。したがって、半
田付は処理後に、まず、半田処理面をアビエチン酸より
強い酸性を有する水溶液で洗浄し、アビエチン酸金属塩
をアビエチン酸にしたのち、通常用いられているフッ化
炭化水素で洗浄するようにすれば、アビエチン酸は、フ
ッ化炭化水素で除去が可能であるので、ロジン系フラッ
クスの残渣は、半田処理面から完全に除去することがで
きるのである。
アビエチン酸より強い酸性を有する水溶液としては、0
.001〜O,]、N(7)塩酸、0、Oo1〜0、l
Nの硝酸などの希薄酸性水溶液が挙げられる。酸性水溶
液としては、アビエチン酸より強く金属塩を分解できれ
ば、できるだけ希薄なものが好ましい。
フッ化炭化水素としては、1,1.2クロロ−2,2,
1フロロエチレン(デュポン社の商品名「フレオン」)
などが用いられる。
第1図は、この発明にかかる半田フラックスの除去法を
応用した洗浄装置の1実施例をあられず。図にみるよう
に、この洗浄装置は、洗浄槽1と被洗浄物質を運搬する
コンヘヤヘルト2をそなえている。洗浄槽1は、仕切り
3,4によって第1部分5.第2部分6.第3部分7の
3つの部分に分かれている。一方の仕切り3は、第1部
分5と第2部分6との間に形成されていて、洗浄槽1の
上端から底部にむかって約3分の2ぐらいのところまで
形成されている。そのため、第1部分5と第2部分6が
洗浄槽1の底部において連通しているのである。他方の
仕切り4は、第2部分6と第3部分7との間に形成され
ていて、洗浄槽1の底から上端に向かって洗浄槽の約3
分の2の高さまで立ち上がるように形成されている。第
1部分5、第2部分6には、仕切り4の上端までフッ化
炭化水素8が入れられる。第1部分5のフッ化炭化水素
8の上にさらに酸性水溶液9が入れられる。
酸性水溶液9はフッ化炭化水素8より比重が小さいため
フッ化炭化水素8上に浮いた形で保持されるようになっ
ている。第3部分7には、第2部分6から仕切り4を越
えてオーバーフローしたフッ化炭化水素8が入るように
なっている。第3部分7には、第3部分7に溜まったフ
ン化炭化水素8をフッ化炭化水素の蒸留器に送る配管1
1が設けられ”でいて、溜まったフッ化炭化水素8が一
定レベルになると、蒸留器へ送ることができるようにな
っている。蒸留器へ送られたフッ化炭化水素8は、蒸留
され不純物が取り除かれ、配管10を通って第2部分6
に戻されるようになっている。コンベアベルト2には、
かご(図示せず)取りつけられていて、半田処理後の被
洗浄物をこのかごに入れ、第1部分5.第2部分6.第
3部分7の順に運搬するようになっている。このため、
被洗浄物は、まず、第1部分5の酸性水溶液9で半田処
理面に残ったフラソク残渣のアビエチン酸金属塩が分解
され、金属が酸性溶液ちゅうに溶は込みアビエチン酸だ
けが処理面に残る。そして、っぎのフッ化炭化水素8に
よってこのアビエチン酸が除去されるようになっている
つぎに、実施例を詳しく説明する。
(実施例) 銀および銅の2fi×5寵の金属板上にロジン系フラッ
クス10μlを滴下し、260’c(通常の半田付は温
度)に10秒間曝した。この金属板を各種の酸性水溶液
に10秒間浸漬した。そののち、1,1.2クロロ−2
,2,1フロロエチレン中で30秒間超音波洗浄を行っ
て、洗浄後の各金属板上のフラックス残渣量を熱分解ガ
スクロマトグラフ−質量分析法によって求めた。
その結果を酸性水溶液での洗浄を行わなかった比較例の
結果と併せて第1表に示す。
第  1  表 第1表から明らかなように、実施例のものは、フランク
ス残渣をほぼ完全に除去できる。
この発明の半田フラックス残渣の除去法は、上記実施例
に限定されない。たとえば、実施例では被処理物を酸性
水溶液およびフッ化炭化水素中に浸漬するようにして洗
浄をおこなっているが、シャワーなどで処理液を吹きつ
けるようにしても構わない。しかしながら、実施例の装
置のように酸性水溶液をフッ化炭化水素の上に浮かずよ
うにすれば、装置が1つですむので好ましい。実施例の
装置のフッ化炭化水素が入れられている槽に超音波洗浄
装置を配置するようにしても構わない。実施例では洗浄
槽1が3つの部分に分かれていたが、第3部分がなくて
も構わない。この場合には第2部分に蒸留器への配管を
設ければよい。
〔発明の効果〕
この発明の半田フランクス残渣の除去法は、以上のよう
に、半田付は時に用いられたアビエチン酸を含むフラッ
クスの残渣を半田処理面から除去するにあたり、前記半
田処理面を前記アビエチン酸より強い酸性を有する水溶
液で洗浄したのち、フン化炭化水素で洗浄するようにな
っているので、ロジン系フラックスの残渣を半田付11
後に確実に除去できる。したがって、残渣による半田イ
]け部の導通不良をなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明にかかる半田フランクス残渣の除去法
を応用した洗浄装置の1実施例をあられず側断面図であ
る。 8・・・フッ化炭化水素 9・・・酸性水溶液代理人 
弁理士  松 本 武 彦 第1図 II   /    5 零巨糸宍ネ甫正書(自発) 昭和61年10月18日 半田フランクス残渣の除去法 3、補正をする者 事件との関係     特許出願人 柱   所    大阪府門真市大字門真1048番地
名 称(583)松下電工株式会社 代表 者    代表取締役 藤 井  貞 夫4、代
理人 5、補正により増加する発明の数 な   し 6、補正の対象 明細書 7、補正の内容 (1)明細書第4頁第8行ないし第9行に「1゜1.2
クロロ−2,2,1フロロエチレン」とあるを、rl、
1.2)リクロロー2.2.1)リフルオロエタン」と
訂正する。 (2)明細書第6頁第17行にrl、1.2クロロ−2
,2,1フロロエチレン」とあるを、「1、L2トリク
ロロ−2,2,1)リフルオロエタン」と訂正する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半田付け時に用いられたロジン系フラックスの残
    渣を半田処理面から除去するにあたり、前記半田処理面
    を、前記ロジン系フラックスの主成分たるアビエチン酸
    よりも強い酸性を有する水溶液で洗浄したのち、フッ化
    炭化水素で洗浄することを特徴とする半田フラックス残
    渣の除去法。
JP19974186A 1986-08-26 1986-08-26 半田フラツクス残渣の除去法 Pending JPS6356353A (ja)

Priority Applications (1)

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JP19974186A JPS6356353A (ja) 1986-08-26 1986-08-26 半田フラツクス残渣の除去法

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Publications (1)

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JPS6356353A true JPS6356353A (ja) 1988-03-10

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ID=16412858

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JP19974186A Pending JPS6356353A (ja) 1986-08-26 1986-08-26 半田フラツクス残渣の除去法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0627500A1 (en) * 1993-06-01 1994-12-07 Fujitsu Limited Defluxing agent, cleaning method and cleaning apparatus

Cited By (3)

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US5695571A (en) * 1993-06-01 1997-12-09 Fujitsu Limited Cleaning method using a defluxing agent
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