JPS6355850B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6355850B2 JPS6355850B2 JP57176772A JP17677282A JPS6355850B2 JP S6355850 B2 JPS6355850 B2 JP S6355850B2 JP 57176772 A JP57176772 A JP 57176772A JP 17677282 A JP17677282 A JP 17677282A JP S6355850 B2 JPS6355850 B2 JP S6355850B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistor
- film
- conductive cap
- fixed
- resistive film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000009966 trimming Methods 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Cu] YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Details Of Resistors (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、端子用キヤツプの接触によつて抵
抗皮膜の表面に線条痕が発生するのを防止した皮
膜固定抵抗器の製造方法に関する。
抗皮膜の表面に線条痕が発生するのを防止した皮
膜固定抵抗器の製造方法に関する。
第１図は、トリミング前の従来の皮膜固定抵抗
器を示す。抵抗器本体２には、円柱状の磁器基体
４が用いられ、この磁気基体４の表面にはカーボ
ン又は金皮で抵抗皮膜６が形成されている。この
抵抗器本体２の両端には、端子を成す導電性キヤ
ツプ８が被せられて強固に固定されている。
器を示す。抵抗器本体２には、円柱状の磁器基体
４が用いられ、この磁気基体４の表面にはカーボ
ン又は金皮で抵抗皮膜６が形成されている。この
抵抗器本体２の両端には、端子を成す導電性キヤ
ツプ８が被せられて強固に固定されている。
導電性キヤツプ８では、鉄板を有底筒状に成形
加工したものに銅下錫めつきが施され、その表面
層に錫層１０が形成されている。
加工したものに銅下錫めつきが施され、その表面
層に錫層１０が形成されている。
このような導電性キヤツプ８が取り付けられた
抵抗器本体２は、製造上、抵抗皮膜６のトリミン
グ前、容器に収納されて保存又は運搬される。通
常、抵抗器本体２は、形状が小さいので、大量処
理の必要から、自由移動ができる状態で容器に収
容される。このため、抵抗器本体２は容器の内部
で移動し、第２図に示すように、導電性キヤツプ
８と抵抗皮膜６とが自由に接触するとともに、振
動や衝撃等によつては強く接触することがある。
抵抗器本体２は、製造上、抵抗皮膜６のトリミン
グ前、容器に収納されて保存又は運搬される。通
常、抵抗器本体２は、形状が小さいので、大量処
理の必要から、自由移動ができる状態で容器に収
容される。このため、抵抗器本体２は容器の内部
で移動し、第２図に示すように、導電性キヤツプ
８と抵抗皮膜６とが自由に接触するとともに、振
動や衝撃等によつては強く接触することがある。
このような場合、導電性キヤツプ８の表面部に
形成された錫層１０は5.3HBの硬度を持ち、抵抗
皮膜６の硬度より低いため、抵抗皮膜６に導電性
キヤツプ８が接触すると、第３図に示すように、
抵抗皮膜６の表面に導電性キヤツプ８の接触で線
条痕１２が生じる。この線条痕１２は、導電性キ
ヤツプ８の表面の金属層である錫層１０と抵抗皮
膜６との接触により摩耗して生じ、錫層１０の一
部が抵抗皮膜６の表面部に付着したものである。
この線条痕１２を拡大して見ると、第４図に示す
ように、錫層１０の一部が付着していることを確
認することができる。
形成された錫層１０は5.3HBの硬度を持ち、抵抗
皮膜６の硬度より低いため、抵抗皮膜６に導電性
キヤツプ８が接触すると、第３図に示すように、
抵抗皮膜６の表面に導電性キヤツプ８の接触で線
条痕１２が生じる。この線条痕１２は、導電性キ
ヤツプ８の表面の金属層である錫層１０と抵抗皮
膜６との接触により摩耗して生じ、錫層１０の一
部が抵抗皮膜６の表面部に付着したものである。
この線条痕１２を拡大して見ると、第４図に示す
ように、錫層１０の一部が付着していることを確
認することができる。
近年、抵抗皮膜６のトリミングには、抵抗器本
体２が数mm以下に小型化され、しかも、抵抗値精
度を高めるため、狭小な溝幅が得られるレーザー
トリミングが採用されている。このレーザートリ
ミングでは、従来のデイスクによる切削の場合の
100μmないし300μmに比較し、形成される溝幅を
30μmないし100μmと極めて狭くすることができ
る。
体２が数mm以下に小型化され、しかも、抵抗値精
度を高めるため、狭小な溝幅が得られるレーザー
トリミングが採用されている。このレーザートリ
ミングでは、従来のデイスクによる切削の場合の
100μmないし300μmに比較し、形成される溝幅を
30μmないし100μmと極めて狭くすることができ
る。
ところで、このような線条痕１２が生じている
抵抗皮膜６に対してYAGレーザートリミング加
工を行うと、レーザー吸収の良好な抵抗皮膜６で
は、効率良く切断して溝１４を高精度に形成でき
るのに対し、金属色を持つ線条痕１２ではレーザ
ー吸収が生じにくいため、第５図および第６図に
示すように、線条痕１２による金属片がトリミン
グによる溝１４を跨いで抵抗皮膜６の表面に残留
してしまう場合がある。
抵抗皮膜６に対してYAGレーザートリミング加
工を行うと、レーザー吸収の良好な抵抗皮膜６で
は、効率良く切断して溝１４を高精度に形成でき
るのに対し、金属色を持つ線条痕１２ではレーザ
ー吸収が生じにくいため、第５図および第６図に
示すように、線条痕１２による金属片がトリミン
グによる溝１４を跨いで抵抗皮膜６の表面に残留
してしまう場合がある。
このような線条痕１２が生じた皮膜固定抵抗器
では、線条痕１２を成す残留金属によつて溝１４
間が電気的に短絡されているので、溝１４の形成
が無意味となるばかりでなく、電子機器に実装さ
れて過大な電流が流れると、線条痕１２の金属
（錫）が溶断して抵抗値変化を生じ、これが熱雑
音の原因や皮膜固定抵抗器の信頼性低下の原因に
なる。
では、線条痕１２を成す残留金属によつて溝１４
間が電気的に短絡されているので、溝１４の形成
が無意味となるばかりでなく、電子機器に実装さ
れて過大な電流が流れると、線条痕１２の金属
（錫）が溶断して抵抗値変化を生じ、これが熱雑
音の原因や皮膜固定抵抗器の信頼性低下の原因に
なる。
そこで、この発明は、抵抗器本体の抵抗皮膜に
他の抵抗器本体に固定されている導電性キヤツプ
側の金属が摩耗して付着するのを防止し、信頼性
の高い皮膜固定抵抗器の製造方法の提供を目的と
する。
他の抵抗器本体に固定されている導電性キヤツプ
側の金属が摩耗して付着するのを防止し、信頼性
の高い皮膜固定抵抗器の製造方法の提供を目的と
する。
即ち、この発明の皮膜固定抵抗器の製造方法
は、磁気基体の表面に抵抗皮膜を設置して抵抗器
本体を形成し、この抵抗器本体の端部に被せて固
定可能な形状に金属板を成形するとともに、その
表面に銅層を設置し、かつ、この銅層の表面にニ
ツケル又はニツケル銅合金からなる金属層を設置
して導電性キヤツプを形成し、この導電性キヤツ
プを前記抵抗器本体の両端部に固定し、前記導電
性キヤツプが固定された前記抵抗器本体の前記抵
抗皮膜をレーザートリミング加工によつて選択的
に除去することを内容とする。
は、磁気基体の表面に抵抗皮膜を設置して抵抗器
本体を形成し、この抵抗器本体の端部に被せて固
定可能な形状に金属板を成形するとともに、その
表面に銅層を設置し、かつ、この銅層の表面にニ
ツケル又はニツケル銅合金からなる金属層を設置
して導電性キヤツプを形成し、この導電性キヤツ
プを前記抵抗器本体の両端部に固定し、前記導電
性キヤツプが固定された前記抵抗器本体の前記抵
抗皮膜をレーザートリミング加工によつて選択的
に除去することを内容とする。
以下、この発明を図面に示した実施例を参照し
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
第７図は、この発明の皮膜固定抵抗器の製造方
法の実施例を示す。
法の実施例を示す。
抵抗器本体２には、円柱状に形成された磁気基
体４が用いられ、この磁気基体４の表面にカーボ
ン又は金皮で抵抗皮膜６が設置されている。
体４が用いられ、この磁気基体４の表面にカーボ
ン又は金皮で抵抗皮膜６が設置されている。
導電性キヤツプ８は、抵抗器本体２の端面形状
に対応して鉄板等の金属板を成形加工し、その表
面にはめつき処理によつて銅層２０を設置し、か
つ、この銅層２０の表面に抵抗皮膜６に対して耐
摩耗性を有する金属層１６を設置する。
に対応して鉄板等の金属板を成形加工し、その表
面にはめつき処理によつて銅層２０を設置し、か
つ、この銅層２０の表面に抵抗皮膜６に対して耐
摩耗性を有する金属層１６を設置する。
金属層１６は、抵抗皮膜６に対して耐摩耗性を
有するニツケル又はニツケル銅合金を用いて、銅
層２０の表面にめつき処理により形成される。
有するニツケル又はニツケル銅合金を用いて、銅
層２０の表面にめつき処理により形成される。
そして、第８図に示すように、抵抗器本体２の
両端部に導電性キヤツプ８が取り付けられた後、
抵抗皮膜６の表面にレーザートリミング加工を施
して溝１４をスパイラル状に形成して抵抗皮膜６
を選択的に除去した後、導電性キヤツプ８の端面
に電気溶接等の固着手段でリードワイヤ２２を接
続する。
両端部に導電性キヤツプ８が取り付けられた後、
抵抗皮膜６の表面にレーザートリミング加工を施
して溝１４をスパイラル状に形成して抵抗皮膜６
を選択的に除去した後、導電性キヤツプ８の端面
に電気溶接等の固着手段でリードワイヤ２２を接
続する。
このリードワイヤ２２の一部とともに抵抗器本
体２の表面部には絶縁性塗料２４が塗布される。
体２の表面部には絶縁性塗料２４が塗布される。
このようにすれば、導電性キヤツプ８の表面層
がニツケル銅合金からなる金属層１６で形成され
るので、金属層１６が抵抗皮膜６に対して耐摩耗
性を持ち、製造途上で導電性キヤツプ８が抵抗皮
膜６に接触しても、抵抗皮膜６の表面に従来のよ
うな線条痕が生じることはない。この結果、抵抗
器としての信頼性の向上とともに、歩留りの向上
が図られ、高精密級の抵抗器が容易に得られる。
特に、レーザートリミングで抵抗皮膜６の表面に
溝１４を高精度に形成でき、従来、困難とされて
いた30μmないし、100μmの幅の溝１４を生産規
模で形成することができる。
がニツケル銅合金からなる金属層１６で形成され
るので、金属層１６が抵抗皮膜６に対して耐摩耗
性を持ち、製造途上で導電性キヤツプ８が抵抗皮
膜６に接触しても、抵抗皮膜６の表面に従来のよ
うな線条痕が生じることはない。この結果、抵抗
器としての信頼性の向上とともに、歩留りの向上
が図られ、高精密級の抵抗器が容易に得られる。
特に、レーザートリミングで抵抗皮膜６の表面に
溝１４を高精度に形成でき、従来、困難とされて
いた30μmないし、100μmの幅の溝１４を生産規
模で形成することができる。
また、金属層１６がニツケルで形成された場
合、ニツケルの硬度が143HBで、従来使用してい
る錫の硬度に比較して十分高く、抵抗皮膜６に対
して耐摩耗性を持つ上、電気伝導度が高く、しか
も酸化しにくく、導電性キヤツプ８の基礎素材で
ある鉄板１８の融点に近いために、導電性キヤツ
プ８に対しリードワイヤ２２が電気溶接で容易に
接続でき、良好な接続状態が得られる。
合、ニツケルの硬度が143HBで、従来使用してい
る錫の硬度に比較して十分高く、抵抗皮膜６に対
して耐摩耗性を持つ上、電気伝導度が高く、しか
も酸化しにくく、導電性キヤツプ８の基礎素材で
ある鉄板１８の融点に近いために、導電性キヤツ
プ８に対しリードワイヤ２２が電気溶接で容易に
接続でき、良好な接続状態が得られる。
また、このような導電性キヤツプ８によれば、
機械的強度が向上し、４Kgないし５Kgの従来の強
度に比較し、６Kgないし７Kgに向上させることが
でき、端子脱落等の不都合を防止することができ
る。
機械的強度が向上し、４Kgないし５Kgの従来の強
度に比較し、６Kgないし７Kgに向上させることが
でき、端子脱落等の不都合を防止することができ
る。
そして、金属層１６にニツケル銅合金を使用し
た場合にも、抵抗皮膜６に対して十分な耐摩耗性
が得られ、十分に電気伝導度が高く、且つ酸化し
にくく、しかも鉄の融点に近い金属をめつきして
も同様の効果が期待できる。ニツケル銅合金は、
150ないし160HBの硬度を持ち、ニツケル同様に
抵抗皮膜６に対して十分な耐摩耗性を有する。
た場合にも、抵抗皮膜６に対して十分な耐摩耗性
が得られ、十分に電気伝導度が高く、且つ酸化し
にくく、しかも鉄の融点に近い金属をめつきして
も同様の効果が期待できる。ニツケル銅合金は、
150ないし160HBの硬度を持ち、ニツケル同様に
抵抗皮膜６に対して十分な耐摩耗性を有する。
さらに、酸化防止のために、抵抗皮膜６に対し
て耐摩耗性を損なわない範囲で導電性キヤツプ８
の表面に極薄い金めつき層を形成しても同様の効
果が期待できる。
て耐摩耗性を損なわない範囲で導電性キヤツプ８
の表面に極薄い金めつき層を形成しても同様の効
果が期待できる。
以上説明したように、この発明によれば、抵抗
皮膜に対して耐摩耗性を持つニツケル又はニツケ
ル銅合金からなる金属層を表面層に、導電性キヤ
ツプを抵抗器本体に固定するので、製造途上で導
電性キヤツプと他の抵抗器本体側の抵抗皮膜とが
接触しても、抵抗皮膜の表面の金属残留を防止で
き、抵抗皮膜に対するレーザートリミング加工に
おける加工精度の低下を防止できるとともに歩留
りの向上を図ることができ、残留金属が生じない
ため、レーザートリミング加工後の溝間の残留金
属による電気的な短絡を生じることがなく、信頼
性が高く、抵抗値精度の高い皮膜固定抵抗器を製
造することができる。
皮膜に対して耐摩耗性を持つニツケル又はニツケ
ル銅合金からなる金属層を表面層に、導電性キヤ
ツプを抵抗器本体に固定するので、製造途上で導
電性キヤツプと他の抵抗器本体側の抵抗皮膜とが
接触しても、抵抗皮膜の表面の金属残留を防止で
き、抵抗皮膜に対するレーザートリミング加工に
おける加工精度の低下を防止できるとともに歩留
りの向上を図ることができ、残留金属が生じない
ため、レーザートリミング加工後の溝間の残留金
属による電気的な短絡を生じることがなく、信頼
性が高く、抵抗値精度の高い皮膜固定抵抗器を製
造することができる。
第１図は従来の皮膜固定抵抗器を示す一部断面
図、第２図は線条痕の発生を示す説明図、第３図
は線条痕が発生した皮膜固定抵抗器を示す説明
図、第４図は第３図の線条痕部分を示す断面図、
第５図はレーザートリミングを施した皮膜固定抵
抗器を示す説明図、第６図は第５図の線条痕部分
を示す断面図、第７図はこの発明の皮膜固定抵抗
器の製造方法の実施例であるレーザートリミング
前の抵抗器の一部断面図、第８図はこの発明の皮
膜固定抵抗器の製造方法によつて製造された皮膜
固定抵抗器を示す一部断面図である。 ２……抵抗器本体、６……抵抗皮膜、８……導
電性キヤツプ、１６……金属層。
図、第２図は線条痕の発生を示す説明図、第３図
は線条痕が発生した皮膜固定抵抗器を示す説明
図、第４図は第３図の線条痕部分を示す断面図、
第５図はレーザートリミングを施した皮膜固定抵
抗器を示す説明図、第６図は第５図の線条痕部分
を示す断面図、第７図はこの発明の皮膜固定抵抗
器の製造方法の実施例であるレーザートリミング
前の抵抗器の一部断面図、第８図はこの発明の皮
膜固定抵抗器の製造方法によつて製造された皮膜
固定抵抗器を示す一部断面図である。 ２……抵抗器本体、６……抵抗皮膜、８……導
電性キヤツプ、１６……金属層。
Claims (1)
- １ 磁気基体の表面に抵抗皮膜を設置して抵抗器
本体を形成し、この抵抗器本体の端部に被せて固
定可能な形状に金属板を成形するとともに、その
表面に銅層を設置し、かつ、この銅層の表面にニ
ツケル又はニツケル銅合金からなる金属層を設置
して導電性キヤツプを形成し、この導電性キヤツ
プを前記抵抗器本体の両端部に固定し、前記導電
性キヤツプが固定された前記抵抗器本体の前記抵
抗皮膜をレーザートリミング加工によつて選択的
に除去することを特徴とする皮膜固定抵抗器の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57176772A JPS5966101A (ja) | 1982-10-07 | 1982-10-07 | 皮膜固定抵抗器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57176772A JPS5966101A (ja) | 1982-10-07 | 1982-10-07 | 皮膜固定抵抗器の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5966101A JPS5966101A (ja) | 1984-04-14 |
| JPS6355850B2 true JPS6355850B2 (ja) | 1988-11-04 |
Family
ID=16019554
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57176772A Granted JPS5966101A (ja) | 1982-10-07 | 1982-10-07 | 皮膜固定抵抗器の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5966101A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0238701U (ja) * | 1988-09-08 | 1990-03-15 | ||
| JP2816848B2 (ja) * | 1988-09-08 | 1998-10-27 | ローム株式会社 | 炭素皮膜固定抵抗器の製造方法 |
| JPH0817121B2 (ja) * | 1990-02-16 | 1996-02-21 | ローム株式会社 | チップ部品におけるキャップ端子装置 |
| JP2007103797A (ja) * | 2005-10-06 | 2007-04-19 | Koa Corp | リード付き抵抗器およびその製造方法 |
| JP5209260B2 (ja) * | 2007-09-25 | 2013-06-12 | コーア株式会社 | 抵抗器の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS544236A (en) * | 1977-06-10 | 1979-01-12 | Sumitomo Metal Ind | Mold for continuous steel casting |
| JPS566405A (en) * | 1979-06-27 | 1981-01-23 | Hokuriku Elect Ind | Method of machining resistor film with laser |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS582002Y2 (ja) * | 1978-02-25 | 1983-01-13 | 興亜電工株式会社 | 円柱型リ−ドレス皮膜固定抵抗器 |
-
1982
- 1982-10-07 JP JP57176772A patent/JPS5966101A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS544236A (en) * | 1977-06-10 | 1979-01-12 | Sumitomo Metal Ind | Mold for continuous steel casting |
| JPS566405A (en) * | 1979-06-27 | 1981-01-23 | Hokuriku Elect Ind | Method of machining resistor film with laser |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5966101A (ja) | 1984-04-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4138215B2 (ja) | チップ抵抗器の製造方法 | |
| US20040041278A1 (en) | Method of manufacturing flip chip resistor | |
| US6712625B2 (en) | Electronic component and a method of manufacturing the same | |
| US6972685B2 (en) | Liquid level sensor | |
| GB2032205A (en) | Low-current Fuse and Method of Production | |
| JPS6355850B2 (ja) | ||
| US20050030148A1 (en) | Thermal fuse and method of manufacturing fuse | |
| US3041118A (en) | Electric contact element | |
| US6189767B1 (en) | Method of securing an electric contact to a ceramic layer as well as a resistance element thus manufactured | |
| JP4189005B2 (ja) | チップ抵抗器 | |
| US6229428B1 (en) | Microcircuit resistor stack | |
| JP3118509B2 (ja) | チップ抵抗器 | |
| US3618200A (en) | Method of manufacturing chip-shaped passive electronic components | |
| JPS5846161B2 (ja) | 耐熱性絶縁体基板の導電端子 | |
| JPH10116710A (ja) | 電流検出用抵抗器 | |
| TWI719679B (zh) | 圓柱型電阻之製程及其結構 | |
| JPH076901A (ja) | 皮膜抵抗器 | |
| JPH1092601A (ja) | 表面実装型電子部品の端子電極とその製造方法 | |
| JP3838560B2 (ja) | 低い抵抗値を有するチップ抵抗器とその製造方法 | |
| US4695818A (en) | Electrical resistor with a negative temperature coefficient for incremental resistance values and method for manufacturing same | |
| JPH0231784Y2 (ja) | ||
| JPH11162721A (ja) | チップ抵抗器の製造方法 | |
| US2933589A (en) | Electrical resistors | |
| US3436821A (en) | Method of manufacturing conductive pins and pellets | |
| CA1145061A (en) | Electronic shorting device |