JPS6355575A - 画像形成装置のプロセス制御装置 - Google Patents
画像形成装置のプロセス制御装置Info
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- JPS6355575A JPS6355575A JP61198056A JP19805686A JPS6355575A JP S6355575 A JPS6355575 A JP S6355575A JP 61198056 A JP61198056 A JP 61198056A JP 19805686 A JP19805686 A JP 19805686A JP S6355575 A JPS6355575 A JP S6355575A
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000004886 process control Methods 0.000 claims description 20
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000001932 seasonal effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
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- 238000005421 electrostatic potential Methods 0.000 description 1
- 238000001454 recorded image Methods 0.000 description 1
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- Control Or Security For Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、画像形成装置のプロセス制御装置に関するも
のであり、特に感光材の環境の変化あるいは性能の変化
と無関係に、安定した良好な画質の記録画像を得ること
ができるようにした画像形成装置のプロセス制御装置に
関するものである。
のであり、特に感光材の環境の変化あるいは性能の変化
と無関係に、安定した良好な画質の記録画像を得ること
ができるようにした画像形成装置のプロセス制御装置に
関するものである。
（従来の技術）
従来の複写機、レーザビームプリンタ等の画像形成装置
における感光材のプロセス制御装置について、第８図を
参照して説明する。
における感光材のプロセス制御装置について、第８図を
参照して説明する。
図において、１は感光材であり、その周辺に帯電コロト
ロン２および現像器３が配置されている。
ロン２および現像器３が配置されている。
プロセス制御装置４は制御信号Ｃ１を出力して高圧電源
５から出力される電圧ＶＣＣおよび電流Ｉｃｅを制御す
る。該高圧電源５から帯電コロトロン２に高電圧が印加
されると、該帯電コロトロン２は放電し、感光材１の表
面上に一様な電荷が帯電される。
５から出力される電圧ＶＣＣおよび電流Ｉｃｅを制御す
る。該高圧電源５から帯電コロトロン２に高電圧が印加
されると、該帯電コロトロン２は放電し、感光材１の表
面上に一様な電荷が帯電される。
この帯電量はセン与６で検出され、静電々圧変換器（Ｅ
ＳＶ）７により電圧Ｖに変換されて、プロセス制御装置
４に送られる。プロセス制御装置４は目標値保持レジス
タ８から入力されてくる目標値ｖｏと、前記静電々圧変
換器７から送られて来る電圧Ｖとを比較し、制御信号ｃ
１を出力して高圧電［５の出力電圧を制御する。この結
果、常に感光材１の表面に帯電される電荷が一定になる
ように、コロトロン電流値が制御される。
ＳＶ）７により電圧Ｖに変換されて、プロセス制御装置
４に送られる。プロセス制御装置４は目標値保持レジス
タ８から入力されてくる目標値ｖｏと、前記静電々圧変
換器７から送られて来る電圧Ｖとを比較し、制御信号ｃ
１を出力して高圧電［５の出力電圧を制御する。この結
果、常に感光材１の表面に帯電される電荷が一定になる
ように、コロトロン電流値が制御される。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら前記した従来のプロセス制御方式は、フィ
ードバック方式であるので、プロセス制御装置４の遅延
時間が精度に影響を・及ぼすという問題があった。
ードバック方式であるので、プロセス制御装置４の遅延
時間が精度に影響を・及ぼすという問題があった。
また、セン与６の位置から現像位置までに発生する表面
電位低下の変動が保障されないという問題があった。
− 本発明は、前述の問題点を解決するためになされたもの
である。
電位低下の変動が保障されないという問題があった。
− 本発明は、前述の問題点を解決するためになされたもの
である。
（問題点を解決するための手段および作用）前記の問題
点を解決するために、本発明は、感光材表面を帯電コロ
トロンで一様に帯電させ、続いてイメージ光を照射して
静電潜像を形成し、次いで該静電潜像を現像器で現像す
るようにした画像形成装置において、該現像器の直前に
設けられた感光材の表面電位を検出するセンサと、該セ
ンサによって検出された基準光が照射された領域の電位
と該基準光が照射されない領域の電位に基づいてオフセ
ット電圧を演算する手段と、該オフセット電圧に基づい
て現像バイアスを出力する高圧電源とを具備し、現像バ
イアスのフィードフォワード制御を行なうようにした点
に特徴がある。
点を解決するために、本発明は、感光材表面を帯電コロ
トロンで一様に帯電させ、続いてイメージ光を照射して
静電潜像を形成し、次いで該静電潜像を現像器で現像す
るようにした画像形成装置において、該現像器の直前に
設けられた感光材の表面電位を検出するセンサと、該セ
ンサによって検出された基準光が照射された領域の電位
と該基準光が照射されない領域の電位に基づいてオフセ
ット電圧を演算する手段と、該オフセット電圧に基づい
て現像バイアスを出力する高圧電源とを具備し、現像バ
イアスのフィードフォワード制御を行なうようにした点
に特徴がある。
（実施例）
以下に図面を参照して、本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の一実施例のブロック図である。
図において、９は現像器３へ現像バイアス電圧を供給す
る第２の高圧電源を示し、他の符号は第゛８図と同−又
は同等物を示す。
る第２の高圧電源を示し、他の符号は第゛８図と同−又
は同等物を示す。
本実施例の動作を第２図を参照して、以下に説明する。
第２図はセンサ６によって検出される感光材１上の表面
電位の変化を示すものであり、横軸に時間（ｔ）、縦軸
に表面電位（−Ｖ）が取られている。
電位の変化を示すものであり、横軸に時間（ｔ）、縦軸
に表面電位（−Ｖ）が取られている。
時刻ｔｏにおいて、帯電コロトロン２が動作を開始する
と、所定時間後にセンサ６によって検出される表面電位
は略Ｖ ＤＤＰに上がる。次いで、感光材１上の特定の
エリアに予め、定められた強さのソリッドイメージ（ｓ
ｏｌｉｄ ｌｉａｇｅ）光すなわち基準光が照射される
。このため、このエリアの表面電位はｖＳＩまで下がる
。なお、この特定のエリアは、感光材１が矢印Ａ方向に
回動した時、センサ６と対向するエリアである。
と、所定時間後にセンサ６によって検出される表面電位
は略Ｖ ＤＤＰに上がる。次いで、感光材１上の特定の
エリアに予め、定められた強さのソリッドイメージ（ｓ
ｏｌｉｄ ｌｉａｇｅ）光すなわち基準光が照射される
。このため、このエリアの表面電位はｖＳＩまで下がる
。なお、この特定のエリアは、感光材１が矢印Ａ方向に
回動した時、センサ６と対向するエリアである。
書込みサイクルでは、センサ６は表面電位Ｖ ＤＤＰと
ｖＳＩとを検出し、該検出表面電位はプロセス制御装置
４に取込まれる。プロセス制御装置はこれらのデータに
より、次の演算を行ない、Ｖ ０ＦＰＳＥＴを求める。
ｖＳＩとを検出し、該検出表面電位はプロセス制御装置
４に取込まれる。プロセス制御装置はこれらのデータに
より、次の演算を行ない、Ｖ ０ＦＰＳＥＴを求める。
ＶＯＦＰＳＥＴ＝ （ＶＤＤＰ −ＶＳＩ） Ｘ ａ
＋ ＶＳＩ・・・・（１） ここに、αは現像システム、トナー等により定められる
定数である。
＋ ＶＳＩ・・・・（１） ここに、αは現像システム、トナー等により定められる
定数である。
プロセス制御装置４は上記（１）式の演算を行い、これ
を適当な制御信号に変換して第２の高圧電源９に送り出
す。第２の高圧電源９はプロセス制御装置４から前記制
御信号を受は取ると、前記（１）式で表わされる大きさ
の現像バイアスＶＢＩＡＳを生成し、現像器３へ供給す
る。この結果、現像器３は該ＶＢＩＡＳに従って、画像
サイクルの開動作を行なう。前記書込みサイクルにおけ
る基準光の照射および画像サイクルにおけるイメージ光
の光源としては、レーザ、発光ダイオードあるいはＬＣ
８（ｌｌｑｕｌｄ ｃｒｉｓｔａｌ ５ｈｕｔｔｅｒ）
を用いることができる。
を適当な制御信号に変換して第２の高圧電源９に送り出
す。第２の高圧電源９はプロセス制御装置４から前記制
御信号を受は取ると、前記（１）式で表わされる大きさ
の現像バイアスＶＢＩＡＳを生成し、現像器３へ供給す
る。この結果、現像器３は該ＶＢＩＡＳに従って、画像
サイクルの開動作を行なう。前記書込みサイクルにおけ
る基準光の照射および画像サイクルにおけるイメージ光
の光源としては、レーザ、発光ダイオードあるいはＬＣ
８（ｌｌｑｕｌｄ ｃｒｉｓｔａｌ ５ｈｕｔｔｅｒ）
を用いることができる。
本実施例によれば、現像器の直前で、基準光の照射され
た感光材１の表面電位と、基準光の照射されないエリア
の表面電位とを測定しその測定値の差に基づいて現像器
に印加する現像バイアスを決めて該現像器をフィード
フォワード制御しているので、感光材１の環境あるいは
性能の変化により感光材１の表面電位に変化が生じても
、現像器の現像バイアスは適正な値に補正される。
た感光材１の表面電位と、基準光の照射されないエリア
の表面電位とを測定しその測定値の差に基づいて現像器
に印加する現像バイアスを決めて該現像器をフィード
フォワード制御しているので、感光材１の環境あるいは
性能の変化により感光材１の表面電位に変化が生じても
、現像器の現像バイアスは適正な値に補正される。
このため、前記感光材１の環境あるいは性能の変化とは
無関係に安定した良質の画像を得ることができる。
無関係に安定した良質の画像を得ることができる。
第３図は多数枚のプリントを連続して行った時、表面電
位が低下する性能を有する感光材を示すものである。こ
のような感光材の場合、従来技術では現像器の現像バイ
アスが一定のため、プリントされた画像のコントラスト
の低下をきたすという問題があったが、本実施例によれ
ば、感光材の表面電位が下っても、該表面電位Ｖ ＤＤ
Ｐと基準光が ”あたったエリアの表面電位ＶＳ
Ｉとの差は一定、すなわち ＶＤＤＰＩ−ＶＳＩＩ −ＶＤＤＰ２− ＶＳＩ２−
ＶＤＤＰ３− ＶＳＩ３ であるので、現像器の現像バイアスは感光材の表面電位
の変化に従って変化し、従来装置のようにコントラスト
の低下を生ずることはない。
位が低下する性能を有する感光材を示すものである。こ
のような感光材の場合、従来技術では現像器の現像バイ
アスが一定のため、プリントされた画像のコントラスト
の低下をきたすという問題があったが、本実施例によれ
ば、感光材の表面電位が下っても、該表面電位Ｖ ＤＤ
Ｐと基準光が ”あたったエリアの表面電位ＶＳ
Ｉとの差は一定、すなわち ＶＤＤＰＩ−ＶＳＩＩ −ＶＤＤＰ２− ＶＳＩ２−
ＶＤＤＰ３− ＶＳＩ３ であるので、現像器の現像バイアスは感光材の表面電位
の変化に従って変化し、従来装置のようにコントラスト
の低下を生ずることはない。
また、感光材によっては、第４図に示すように、季節環
境によりその性能が変化するものがある。
境によりその性能が変化するものがある。
例えば、同図（ａ）に示すように、季節ＡとＢにおいて
、帯電コロトロンによって帯電される表面電位Ｖ ＤＤ
Ｐは変化するが、Ｖ ＤＤＰとＶＳＩとの差は一定であ
るという性質を有するもの、あるいは同図（ｂ）に示す
ように、季節ＡとＣにおいて、帯電コロトロンによって
帯電される表面電位Ｖ ＤＤＰは変化しないがＶ ＤＤ
ＰとｖＳＩとの差が変化す°るもの、あるいは表面電位
Ｖ ＤＤＰとＶＳＩの両方が変化するものがある。
、帯電コロトロンによって帯電される表面電位Ｖ ＤＤ
Ｐは変化するが、Ｖ ＤＤＰとＶＳＩとの差は一定であ
るという性質を有するもの、あるいは同図（ｂ）に示す
ように、季節ＡとＣにおいて、帯電コロトロンによって
帯電される表面電位Ｖ ＤＤＰは変化しないがＶ ＤＤ
ＰとｖＳＩとの差が変化す°るもの、あるいは表面電位
Ｖ ＤＤＰとＶＳＩの両方が変化するものがある。
しかしながら、本実施例によれば、前記（１）式の右辺
の第１項に、該季節環境に対応する係数を乗算して、現
像バイアスを補正することにより、プリントされる画像
の質を改善することができる。
の第１項に、該季節環境に対応する係数を乗算して、現
像バイアスを補正することにより、プリントされる画像
の質を改善することができる。
第５図は本発明の第２実施例を示す。この実施例は現像
器のバイアスとしてＡＣ電源が必要とされる場合のもの
である。本実施例は第２の高圧電源にＡＣ電圧ＶＡＣを
供給し、Ｖ ０ＦＦＳＥＴにより補正された直流電圧に
該ＡＣ電圧ＶＡＣを重畳し、電圧ＶＢＩＡＳを現像器に
供給した点に特徴がある。
器のバイアスとしてＡＣ電源が必要とされる場合のもの
である。本実施例は第２の高圧電源にＡＣ電圧ＶＡＣを
供給し、Ｖ ０ＦＦＳＥＴにより補正された直流電圧に
該ＡＣ電圧ＶＡＣを重畳し、電圧ＶＢＩＡＳを現像器に
供給した点に特徴がある。
第６図は本発明の第３実施例をボす。図において、１０
は温湿度センサであり、他の符号は第５図と同−物又は
同等物を示す。
は温湿度センサであり、他の符号は第５図と同−物又は
同等物を示す。
本実施例において、感光材の近辺に温湿度センサ１０を
設け、該温湿度センサ１０によって検知された温度およ
び湿度に基づいて、プロセス制御装置４から第２の高圧
電源９に出力するＶ ０ＰＰＳＥＴを補償するようにし
ている。該Ｖ ０ＦＰＳＥＴは下記の式により求められ
る。
設け、該温湿度センサ１０によって検知された温度およ
び湿度に基づいて、プロセス制御装置４から第２の高圧
電源９に出力するＶ ０ＰＰＳＥＴを補償するようにし
ている。該Ｖ ０ＦＰＳＥＴは下記の式により求められ
る。
ＶＯＰＦＳＥＴ” （ＶＤＤＰ −ＶＳＩ） Ｘ ａ
ｘ ／３ ＋ ＶＳ［・・・・（′２Ｊ ここに、βは温湿度によって決まる補正係数である。
ｘ ／３ ＋ ＶＳ［・・・・（′２Ｊ ここに、βは温湿度によって決まる補正係数である。
また、本実施例においては、第７図に示されているよう
に、帯電コロトロン２によって感光材１、上に形成され
る表面電位Ｖ ＤＤＰが所定の電位より低下してＶＤＤ
ＰＩになった時に、高圧電源５に信号を送って高圧電源
５の出力電圧を上げ、該表面電位が初期の大きさになる
ように補正することができる。
に、帯電コロトロン２によって感光材１、上に形成され
る表面電位Ｖ ＤＤＰが所定の電位より低下してＶＤＤ
ＰＩになった時に、高圧電源５に信号を送って高圧電源
５の出力電圧を上げ、該表面電位が初期の大きさになる
ように補正することができる。
したがって、本実施例によれば、温湿度が変化しても良
好な画質の画像を得ることができる。また、感光材１の
表面電位が所定値以下に下がった時には表面電位を上げ
ることができ、前記（２）式で求められるＶ ０ＦＦＳ
ＥＴの許容量を大きく保持できる。
好な画質の画像を得ることができる。また、感光材１の
表面電位が所定値以下に下がった時には表面電位を上げ
ることができ、前記（２）式で求められるＶ ０ＦＦＳ
ＥＴの許容量を大きく保持できる。
換言すれば、前記表面電位Ｖ ＤＤＰが前記所定の電位
より低下すると、（ＶＤＤＰ−ＶＳＩ）の大きさは小さ
くなる。このため、前記（２）式で得られるＶ ＯＦＩ
”５ＩＥＴの許容量は小さくなり、設計上の制約が大き
くなるが、本実施例によれば、このような制約を除去す
ることができる。
より低下すると、（ＶＤＤＰ−ＶＳＩ）の大きさは小さ
くなる。このため、前記（２）式で得られるＶ ＯＦＩ
”５ＩＥＴの許容量は小さくなり、設計上の制約が大き
くなるが、本実施例によれば、このような制約を除去す
ることができる。
なお、上記の各実施例においては、時間の経過と共に感
光材の表面電位が下がる場合につき説明したが、本発明
はこれに限定されず、時間の経過と共に表面電位が上る
感光材についても適用でき、画質の改善を図ることがで
きる。
光材の表面電位が下がる場合につき説明したが、本発明
はこれに限定されず、時間の経過と共に表面電位が上る
感光材についても適用でき、画質の改善を図ることがで
きる。
（発明の効果）
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、つぎ
のような効果が達成される。
のような効果が達成される。
（１）現像器の直前で、基準光の照射された感光材の表
面電位と、基準光の照射されないエリアの表面電位とを
測定し、その測定値に差に基づいて現像器に印加する現
像バイアスを決めているので、すなわち現像器をフィー
ド フォワード制御しているので、感光材の環境あるい
は性能が変化しても、良質のプリント画像を得ることが
できるという効果がある。
面電位と、基準光の照射されないエリアの表面電位とを
測定し、その測定値に差に基づいて現像器に印加する現
像バイアスを決めているので、すなわち現像器をフィー
ド フォワード制御しているので、感光材の環境あるい
は性能が変化しても、良質のプリント画像を得ることが
できるという効果がある。
（２）季節環境、温湿度の変化に対しても、適切なプロ
セス制御を行うことができる。
セス制御を行うことができる。
第１図は本発明の第１実施例のブロック図、第２図はセ
ンサによって検出される感光材上の表面電位の変化を示
す図、第３図は多数枚のプリントを連続して行った時の
感光材の表面電位の変化を示す図、第４図は感光材の表
面電位の季節変化を示す図、第５図および第６図は、そ
れぞれ本発明の第２および第３実施例を示すブロック図
、第７図は感光材の表面電位が所定値以下に低下した時
に、これを初期の表面電位に補正することを示す図、第
８図は従来装置のブロック図である。 １・・・・感光材、２・・・・帯電コロトロン、３・・
・・現像器、４・・・・プロセス制御装置、５・・・・
高圧電源、６・・・・センサ、９・・・・第２の高圧電
源、１０・・・・温湿度センサ 代理人 弁理士 平木道人 外１名 第１図 第 ８ 図 第 ２ ２ 害 第 ３ 図 時間（１） Ｗ、４図 Ｍ７図
ンサによって検出される感光材上の表面電位の変化を示
す図、第３図は多数枚のプリントを連続して行った時の
感光材の表面電位の変化を示す図、第４図は感光材の表
面電位の季節変化を示す図、第５図および第６図は、そ
れぞれ本発明の第２および第３実施例を示すブロック図
、第７図は感光材の表面電位が所定値以下に低下した時
に、これを初期の表面電位に補正することを示す図、第
８図は従来装置のブロック図である。 １・・・・感光材、２・・・・帯電コロトロン、３・・
・・現像器、４・・・・プロセス制御装置、５・・・・
高圧電源、６・・・・センサ、９・・・・第２の高圧電
源、１０・・・・温湿度センサ 代理人 弁理士 平木道人 外１名 第１図 第 ８ 図 第 ２ ２ 害 第 ３ 図 時間（１） Ｗ、４図 Ｍ７図
Claims (3)
- （１）感光材表面を帯電コロトロンで一様に帯電させ、
続いてイメージ光を照射して静電潜像を形成し、次いで
該静電潜像を現像器で現像するようにした画像形成装置
において、該現像器の直前に設けられた感光材の表面電
位を検出するセンサと、該センサによって検出された基
準光が照射された領域の電位と該基準光が照射されない
領域の電位に基づいてオフセット電圧を演算する手段と
、該オフセット電圧に基づいて現像バイアスを出力する
高圧電源とを具備し、現像バイアスのフィードフォワー
ド制御を行なうようにしたことを特徴とする画像形成装
置のプロセス制御装置。 - （２）前記感光材の周辺の温湿度センサを設け、該温湿
度センサによって検出された情報を加味して前記オフセ
ット電圧を演算するようにしたことを特徴とする前記特
許請求の範囲第１項記載の画像形成装置のプロセス制御
装置。 - （３）前記感光材の表面電位が所定値以下に低下した時
（又は所定値以上に上った時）、帯電コロトロンに印加
する高圧電源を上げる方向（又は下げる方向）に制御す
るようにしたことを特徴とする前記特許請求の範囲第１
項または第２項記載の画像形成装置のプロセス制御装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61198056A JPS6355575A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 画像形成装置のプロセス制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61198056A JPS6355575A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 画像形成装置のプロセス制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6355575A true JPS6355575A (ja) | 1988-03-10 |
Family
ID=16384795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61198056A Pending JPS6355575A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 画像形成装置のプロセス制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6355575A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6360914A (ja) * | 1986-08-30 | 1988-03-17 | Pentel Kk | 着色加工粉体 |
| US5155533A (en) * | 1989-08-03 | 1992-10-13 | Ricoh Company, Ltd. | Bias application control device for image forming equipment |
-
1986
- 1986-08-26 JP JP61198056A patent/JPS6355575A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6360914A (ja) * | 1986-08-30 | 1988-03-17 | Pentel Kk | 着色加工粉体 |
| JPH06104613B2 (ja) * | 1986-08-30 | 1994-12-21 | ぺんてる株式会社 | 着色加工粉体 |
| US5155533A (en) * | 1989-08-03 | 1992-10-13 | Ricoh Company, Ltd. | Bias application control device for image forming equipment |
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