JPS6353848A - イオンポンプの活性化方法 - Google Patents

イオンポンプの活性化方法

Info

Publication number
JPS6353848A
JPS6353848A JP19686686A JP19686686A JPS6353848A JP S6353848 A JPS6353848 A JP S6353848A JP 19686686 A JP19686686 A JP 19686686A JP 19686686 A JP19686686 A JP 19686686A JP S6353848 A JPS6353848 A JP S6353848A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion pump
pump
ion
argon gas
torr
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19686686A
Other languages
English (en)
Inventor
Haruo Hirano
平野 治男
Nagamitsu Yoshimura
吉村 長光
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP19686686A priority Critical patent/JPS6353848A/ja
Publication of JPS6353848A publication Critical patent/JPS6353848A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は電子顕微鏡等の真空排気装置として使用される
イオンポンプの活性化方法に関する。
[従来技術] 一般に電子顕微鏡等では、超高真空あるいは油蒸気汚染
のない清浄真空に欠くことのできない排気装置としてイ
オンポンプが使用されている。
イオンポンプを低真空空間に化較的長期間晒した場合に
は、第4図に示すようにイオンポンプ1を構成するアノ
ードセル1aやカソード1b等が充分に脱ガス処理され
ていない状態で該ポンプを動作させると、電子、イオン
衝撃によりアノードセル1aやカソード1b等から大組
のガスが放出されたり、又、スパッタイールド(カソー
ドのチタンをスパッタする効率)が低下するため、ポン
プ性能が低下する。そのため、電子顕微鏡等の真空排気
用のイオンポンプにおいては、磁石1Cを取り外しイオ
ンポンプにヒータを巻いて加熱づる真空焼き出し処理が
行なわれる。しかしながら、イオンポンプの中枢部を成
すアノードセルとカソードは、これらを覆うポンプ外壁
とは間隙をもって配置され密着されない構造であるため
、真空焼き出し処理を行なってもアノードセルやカソー
ド部分は充分に加熱されず、従って充分な脱ガス処理を
行なうことはできない。そのため、従来は真空焼き出し
の最終段階で、前記アノードセルとカソードの間に例え
ばA0300V程度を印加すると共に、ポンプ内が0.
3Torr程度のアルゴンガスで満たされるようにこの
ガスを導入してグロー放電を発生させ、アノードセルや
カソード等をイオン及び電子衝撃により脱ガスするよう
にしている。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、従来のイオンポンプ活性化方法では前記
グロー放電を行なわせるため、アノードとカソード間に
AC300V程度を印加丈るための交流電源がイオンポ
ンプ電源(直流電源)とは別に必要となるため、ポンプ
の製造コストが高くなると共に、グローtlI電による
活性化モードを行なうための操作が必要になり、作業が
繁雑になる欠点があった。
本発明は以上の点に鑑みなされたもので、特別な前記グ
ロー放電用の交流電源を必要とせず、イオンポンプ活性
化を簡単に行ない得るイオンポンプの活性化方法を提供
することを目的としている。
[問題点を解決するための手段] 以上の目的を達成するため本発明は、イオンポンプを加
熱手段により加熱した状態でイオンポンプのカソードと
7ノ一ド間に高電圧を印加して稼働状態にすると共に、
該イ芽ンボンブ内の真空度が10″′5TOrr〜1O
−7Torrオーダとなるようにアルゴンガスを一定時
間該ボンブ内に流入させるようにしたことを特徴として
いる。
[実施例] 以下本発明を図面を用いて詳述する。
第1図は本発明の方法を実施するための一実施例装置を
示すもので、この図においては、イオンポンプ1内の構
成は従来装置と同様であるため省略する。第1図におい
て、1は真空室2を排気するイオンポンプ、3はイオン
ポンプ1を加熱するためのヒータ、4はヒータ用電源、
5はアルゴンガスが封入されたボンベ、6はバルブ、7
はバルブ駆動機構、8は制御回路、9は真空計、10は
タイマー、11はターボ分子ポンプ(以下TMPと略す
る)、12は油回転ポンプで13はバルブである。
このように構成された装置では、先ず、制御回路8に図
示しない操作卓等よりスタート信号が入力されると、T
MPllが動作し、バルブ13が開状態となり粗引が開
始される。イオンポンプ1内及び真空室1内が十分高真
空になると、真空計9よりの信号によって、fil制御
回路8はヒータ電源4に加熱開始信号を出力する。この
加熱開始信号によって、ヒータ電源4はイオンポンプ1
に巻回されたヒータ3に加熱電流を供給して、該イオン
ポンプを例えば100℃になるように加熱する。
一方、制御回路8はアノードセル1aとカソード1bの
間に図示しないイオンポンプの直流電源より例えば7K
Vの直流高電圧を印加してイオンポンプ1を稼働状態に
する。このヒータ3によるイオンポンプ1の加熱とイオ
ンポンプ1の稼動によりイオンポンプ1内の真空疾は徐
々に上昇するが、イオンポンプ1内が例えば107To
rrになると真空計9より検出信号が制御回路8に入力
される。該制御回路8は真空計9よりの信号によって、
TMPIIを停止すると共にバルブ13を開状態にして
粗引を停止する。更に、バルブ駆動機構7を介してバル
ブ6を開状態にすると共にタイマー10にスタート信号
を出力する。この制御によって、ボンベ5よりのアルゴ
ンガスがイオンポンプ1内に導入されると共にタイマー
10による計時が開始される。尚、タイマー10にはア
ルゴンガスを供給する時間が設定されている。このアル
ゴンガスの供給時間は、イオンポンプの容■、加熱・・
温度等によって決定されるが、上記実施例では、7時間
に設定されており、7時間経過後にボンベ6が閉状態と
なるように制御される。ここで、イオンポンプが可動状
態になっているときに、イオンポンプ1内にアルゴンガ
スが供給されると、イオンポンプ1内に導入されたアル
ゴンガスはイオン化されカーソド1bに衝突する。この
アルゴンガスによるイオンは比較的スパッタイールドが
大きいため、カソード1bよりチタン(Ti)が大量に
スパッタされ、ポンプ内壁やアノードセル1aの表面が
チタン(カソードがタンタル(Ta)の場合はタンタル
)で覆われ、イオンポンプ1内の内壁やアノードセルに
フレッシュなゲッター面が形成されポンプが活性化され
る。
第2図は本発明方法を実施した場合の排気時間と真空度
との関係を示したものである。第2図に示す実線aは本
発明方法を実施した装「lの特性であり、点線すはイオ
ンポンプの焼き出し処理のみを行った場合の特性が示さ
れている。、第2図において、t1時点まではイオンポ
ンプ1を加熱すると共に、イオンポンプ1内を分子ポン
プ11と油回転ポンプ12により粗引しtI時点でイオ
ンポンプ1を起動する。この場合、実$!Jaで示す本
発明の方法による活性化を並行して実施した装置では、
ポンプ内壁やアノードセル1aの表面がチタンで覆われ
フレッシュな表面が形成されているため、前記放出ガス
が発生してもゲッタ面にすみやかに吸着されてしまうた
め、−時的に僅かに真空度が低下するものの排気時間が
経過するにしたがって真空度が上昇する。一方、点線す
で示す装置においては、t1時点でイオンポンプを起動
した場合、点線すで示すように一時的に忠激に真空度が
低下する。これは、既に説明したように真空焼き出し処
理等を行なってもアノードセル1aやカソード1bまで
は充分加熱されないため充分脱ガス処理が行なわれれす
、大量のガス放出が行なわれるためである。又、10″
1lTorrに到達する時間を比較しても、本発明方法
を実施した装置ではで2時間であり、点線すで示した装
置ではt3時間となりポンプダウン特性が本発明方法を
実施した装置では大幅に改善されていることが分かる。
又、第3図はポンプ内圧力と排気速度の関係を示したグ
ラフであり、実線aで示す本発明方法による装置では点
線すで示す焼き出しのみの場合に比較して明きらかに改
善されている。
従って、従来装置のように、アノードセルとカソードの
間に交流電圧を印加し、ポンプ内にアルゴンガスを導入
してグロー放電を発生させることなくイオンポンプ内を
活性化することができるため、交流電源が不要となる。
尚、上述した実施例は例示である。上述した実施例では
、該イオンポンプ1を100℃に加熱し、イオンポンプ
1内を10−7 To r rに設定して、アルゴンガ
スの供給時間を7時間に設定して活性化を行なったが、
これに限定されるものではなく、例えば加熱温度を15
0℃、真空度を10″4TOrrオーダとし、アルゴン
ガスの供給時間を10時間等のようにイオンポンプの容
量、その他の条件を考慮して設定するようにしても良い
[発明の効果1 以上詳述したように本発明方法によれば、イオンポンプ
電源とは別個にグロー放電を発生させるための交流電源
を必要としないため、ポンプの製造コストを低減できる
と共にグロー放電による活性化モードを行なう操作が不
必要になるため、作業が簡単化されたイオンポンプの活
性化方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法を実施するための一実施例装置、第
2図及び第3図は本発明を実施した場合のポンプ特性を
説明するための図、第4図はイオンポンプの活性化につ
いて説明するための図である。 1:イオンポンプ、2:真空室、3:ヒータ、4:ヒー
タ用電源、5:ボンベ、6:バルブ、7:バルブ駆動機
構、8:制御回路、9:真空計、10:タイマー、11
:ターボ分子ポンプ、12:油回転ポンプ、13:バル
ブ。 出願人    日本電子株式会社 IO 第2図 1Yγ 第3図 ホ・シフ曇yト序、カ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)イオンポンプを加熱手段により加熱した状態でイ
    オンポンプのカソードとアノード間に高電圧を印加して
    稼働状態にすると共に、該イオンポンプ内の真空度が1
    0^−^6Torr〜10^−^7Torrオーダとな
    るようにアルゴンガスを一定時間該ポンプ内に流入させ
    るようにしたことを特徴とするイオンポンプの活性化方
    法。
  2. (2)前記イオンポンプの加熱温度を100℃〜150
    ℃に保持する特許請求の範囲第1項記載のイオンポンプ
    の活性化方法。
JP19686686A 1986-08-22 1986-08-22 イオンポンプの活性化方法 Pending JPS6353848A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19686686A JPS6353848A (ja) 1986-08-22 1986-08-22 イオンポンプの活性化方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19686686A JPS6353848A (ja) 1986-08-22 1986-08-22 イオンポンプの活性化方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6353848A true JPS6353848A (ja) 1988-03-08

Family

ID=16364949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19686686A Pending JPS6353848A (ja) 1986-08-22 1986-08-22 イオンポンプの活性化方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6353848A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05245348A (ja) * 1991-12-31 1993-09-24 Hoechst Celanese Corp 一体式乱流プロモーターを有する渦巻き形中空繊維膜織物カートリッジ及びモジュール

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6011423A (ja) * 1983-05-19 1985-01-21 フリ−ド・クルツプ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 抗生物質を単離し、精製する方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6011423A (ja) * 1983-05-19 1985-01-21 フリ−ド・クルツプ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 抗生物質を単離し、精製する方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05245348A (ja) * 1991-12-31 1993-09-24 Hoechst Celanese Corp 一体式乱流プロモーターを有する渦巻き形中空繊維膜織物カートリッジ及びモジュール

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4580943B2 (ja) インシトゥーゲッターポンプ装置及び方法
JPS6353848A (ja) イオンポンプの活性化方法
WO2015025823A1 (ja) スパッタリング成膜装置及びスパッタリング成膜方法
JP5433786B2 (ja) スパッタリング装置の生産復帰方法
JPH11200031A (ja) スパッタリング装置及びその高速真空排気方法
JPH0633231A (ja) イオンスパッタリング装置
JPH0239427A (ja) プラズマ処理方法および装置
GB2323855A (en) Depositing a coating on a conductive substrate using positive bias and electron bombardment
JPS61231172A (ja) スパツタ方法及び装置
JPS6133265Y2 (ja)
JP2004504495A5 (ja)
US3159332A (en) Methods and apparatus for enhanced sputter-ion pump operation
JP2006028562A (ja) 成膜装置および逆スパッタリング方法
JP3949304B2 (ja) スパッタリング処理方法と装置
JPH1047280A (ja) 圧縮機内部の乾燥方法及びその装置
JPS61179049A (ja) スパツタイオンポンプ
GB2261226A (en) Deposition of non-conductive material using D.C. biased, thermionically enhanced, plasma assisted PVD
JPH04143275A (ja) スパッタリング装置
JPS62186085A (ja) 真空装置
JPS6070174A (ja) スパッタリング装置
JP2021123749A (ja) 反応性スパッタ装置
RU2060298C1 (ru) Установка для вакуумно-плазменной обработки изделий в среде рабочего газа
JP3500786B2 (ja) 質量分析装置
JP2972277B2 (ja) スパツタイオンポンプの自動起動方法
JPS6011423B2 (ja) カソ−ド面清浄化手段を有するスパツタイオンポンプ