JPS6351339A - α−アミノ酸アミドの製造方法 - Google Patents

α−アミノ酸アミドの製造方法

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JPS6351339A
JPS6351339A JP61192968A JP19296886A JPS6351339A JP S6351339 A JPS6351339 A JP S6351339A JP 61192968 A JP61192968 A JP 61192968A JP 19296886 A JP19296886 A JP 19296886A JP S6351339 A JPS6351339 A JP S6351339A
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JP
Japan
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group
amino acid
general formula
imidazolidinone
lower alkyl
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JP61192968A
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English (en)
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Masaharu Dotani
正晴 銅谷
Toshio Kondo
俊夫 近藤
Hideo Igarashi
秀雄 五十嵐
Takako Uchiyama
隆子 内山
Kazuo Kimura
和夫 木村
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はイミダゾリジノン−4類から対応するα−アミ
ノ酸アミドを製造する方法に関し、さらに詳細には、触
媒としてケトン類および強塩基性物質を使用してα−ア
ミノニ) IJルの加水分解反応によりα−アミノ酸ア
ミドを製造する際に副生ずるイミダゾリジノン−4類を
α−アミノ酸アミドに変化させて回収するに好適なα−
アミノ酸アミドの製造方法に係わる。
しかして、α−アミノ酸アミドは、各at工業薬品など
の中間体ならびに飼料添加物、食品添加物および医薬品
として重要なα−アミノ酸の製造原料として極めて有用
な物質である。
〔従来の技術、発明が解決しようとする問題点〕触媒と
してケトン類および強塩基性物質を使用してα−アミノ
ニトリルよりα−アミノ酸アミドを製造する方法は既に
知られている。(たとえば特公昭43−107515、
特開昭52−25701、特開昭53−82707、特
公昭これらの方法の中、特公昭5B−17741号公報
記載の方法は、少量の強塩基性物質を使用し、ケトン類
の共存下で反応液を14を越えるpHに保ちつつα−ア
ミノニ) IJルの加水分解反応を行う方法で、α−ア
ミノ酸アミドの収率が実質的に10096であることが
ら厘めて優れた方法である。
さらにこのようKして得られたα−アミf酸アミドから
、選択的にL−α−アミノ酸またはD−α−アミノ酸が
得られる。
しかしながら、これらの方法によって得られたアミド化
反応生成液を長時間保存し、もしくはこのアミド化反応
生成液から触媒として使用したケトン類の回収蒸留を行
うときに、大量のイミダゾリジノン−4類が副生され、
この副生物はこれ自体では利用価値が低く、これらの方
法を工業化するうえで大きな障害となっている。
従ってこれらのイミダゾリジノン−4類を効率よくα−
アミノ酸アミドに変化させて回収することができれば、
この方法の工業化は容易となるが、イミダゾリジノン−
4類からのα−アミノ酸アミドの製造方法は、未だ知ら
れていない。
〔問題を解決するための手段〕
本発明者らは、α−アミノ酸アミドの工業化に際して大
きな障害となっている大量の副生イミダゾリジノン−4
類の処理法について鋭意研究を重ねた結果、イミダゾリ
ジノン−4類を対応するα−アミノ酸アミドに容AK変
化させる方法を発見し、この発見に基づいて本発明に到
達した。
すなわち、本発明は下記の一般式Iで示されるイミダゾ
リジノン−4類を水溶液中で80〜150°で加熱して
、副生きれたケトン類を逐次反応系外へ抜き出しつゝ、
該イミダゾリジノン−4類を加水分解して、対応する下
記の一般弐Bで示されるα−アミノ酸アミドを得ること
を特徴とするα−アミノ酸アミドの製造方法一般式エ 
    一般式■ 几 R (ただし、一般式Iおよび一般弐Hのそれぞれにおいて
、RおよびRはそれぞれ同一または異って、水素原子、
低級アルキル基、置換低級アルキル基、シクロヘキシル
基、フェニル基、置換フェニル基、フリル基、ピリジル
基、チアゾリル基、イミダゾリル基もしくはインドリル
基を示す。一般式IにおいてR3およびRはそれぞれ同
一または異って、低級アルキル基、もしくは5〜6員環
を形成する低級アルキレン基を示す。) である。
本発明の一般式Iおよび一般式HのそれぞれにおけるR
 およびRの低級アルキル基には特に制限はないが、た
とえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチルおよび5ec−ブチルなどのC1〜C
4の直鎖ならびく分枝した低級アルキル基である。置換
低級アルキル基、置換フェニル基のそれぞれに含まれる
置換基は、たとえばヒドロキシ、メトキシ、メルカプト
、メチルメルカプト、アミノ、グアニル、カルボフサミ
ド、ハロゲン、フェニル、ヒドロキシフェニル、イミダ
ゾリルおよびインドリルなどである。また、本発明の一
般弐÷におけるR3 およびR4の低級アルキル基には
特に制限はないが、たとえば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチルおよび5ec−
ブチルなどのC1〜C4の直鎖ならびに分枝した低級ア
ルキル基であシ、低級アルキレン基は、たとえばテトラ
メチレン、ペンタメチレンなどである。
本発明の一般式Iで示されるイミダゾリジノン−4類か
ら得られるα−アミノ酸アミドは一般式■で示され、そ
の代表例としては、アラニンアミド、バリンアミド、ロ
イシンアミド、インロイシンアミド、セリンアミド、ス
レオニンアミド、システィンアミド、シスチンアミド、
メチオニンアミド、リジンアミド、アルギニンアミド、
アスパラギンアミド、グルタミンアミド、フェニルグリ
シンアミド、チロシンアミド、トリプトファンアミドお
よびヒスチジンアミドなどがある。
本発明で副生されるケトン類は、一般式■れぞれ前記の
一般式IKおけるR3 およびR4と同じである) で示され、その代表例としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、ジエチルケトン、メチルイソプロピルケトン
、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノンおよびシ
クロヘキサノンなどがある。
本発明の原料であるイミダゾリジノン−4類はα−アミ
ノ酸アミドから副生されたものが好適ではあるが、これ
に限定されるわけではなく、製法および品質などには特
に制限はない。
本発明の方法は、通常、ケトン類および強塩基性物質を
使用したα−アミノニ) IJルの加水分解反応により
得られるアミド化反応生成液の長時間保存あるいはケト
ン回収蒸留後のα−アミノ酸アミド水溶液に含有されて
いるイミダブリジノン−4類に適用するのに好適である
本発明においてイミダゾリジノン−4類は水溶液として
反応に供されるが、この水溶液のイミダゾリジノン−4
類の濃度は、通常は、50重i%以下、好ましくは0.
1〜25重金%とされる。イミダゾリジノン−4の濃度
が50重量%よりも高いと水が相対的に少なくなるため
に加水分解反応の完結までに長時間を要し、このために
過剰加水分解反応によυ利用価値の低いり、L−α−ア
ミノ酸の副生量が多くなる。
また、この水溶液中にはα−アミノ酸アミドが含有され
ていてもよいが、このときにはα−アミノ酸アミドの量
はイミダゾリジノン−4類の量の100重量倍程度以下
ならばよく、好ましくは50重量%以下である。
反応温度は通常は80〜150℃とされるが、反応温度
が80°よシも低いと反応速度が遅くて実用的ではなく
、また150°よシも高いと反応が進みすぎて利用価値
の低いり、L−α−アミノ酸の副生量が多くなる。好適
には90〜110℃である。
反応時間は、イミダゾリジノン−4類の種類および濃度
、反応温度、生成するケトン類の分離速度など(よって
異り、−概に特定しえないが、通常は10分〜10時間
である。
反応は通常、常圧下で行なわれるが、減圧下または加圧
下で行なうこともできる。
反応系からのケトン類の分離法としては、通常は蒸留に
よシ分離する方法が用いられる。
本発明の方法によれば、イミダゾリジノン−4類から高
い収率で高品位のα−アミノ酸アミドを容易に製造する
ことができる。
また、本発明方法によシ得られた反応生成液は、光学活
性α−アミノ酸生成反応の原料として、そのまま酵素反
応に使用することができる。
〔実施例〕
以下に本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが
、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
実施例 1 ^ 攪拌機および温度計を付した5を三ツロフラスコに
、1−イソプロピルアミノアセトニトリル 981.5
5’、水 901?、アセトン 581?および20w
t%苛性ソーダ水溶液 20Fを加え、20℃で8時間
攪拌した。反応終了後の反応生成液の液体クロマトグラ
フィーでの分析結果から、バリンアミド収率100モル
%であった。
(B)  前記(3)で得られた反応生成液゛を50°
Cに加熱し、減圧蒸留によりアセトンの除去を行い、1
7609のバリンアミド含有水溶液を得た。
このアセトン除去液を液体クロマトグラフィーで分析し
、その結果から、最初の仕込1−イソブロビルアミノア
セトニトリルに対するバリンアミドの収率は83モルチ
であり、2゜2−ジメチル−5−イソプロピル−イミダ
ゾリジノン−4 CH3CH3 が17モルチ副生されていた。
fcl  前記(B)で得られたアセトン除去後の2,
2−ジメチル−5−イソプロピル−イミダゾリジノン−
4含有バリンアミド水溶液へ水 11を加え、100℃
で加熱し、2.2−ジメチル−5−イソプロピル−イミ
ダゾリジノン−4の加水分解で生成したアセトンを還流
水と共に逐次抜き出しながら5時間攪拌した。
反応終了後、反応生成液を冷却し、反応生成液を液体ク
ロマトグラフィーで分析し、その結果から最初の仕込1
−イソプロピルアミノアセトニトリルに対するバリンア
ミドの収率)298.5モル%であり、また2、2−ジ
メチル−5−イソプロピル−イミダゾリジノン−4から
バリンアミドへの収率は91.2モル%であった。
比較例 実施例1Ωの2,2−ジメチル−5−イソプロピル−イ
ミダゾリジノン−4の加水分解反応を反応で生成したア
セトンを反応系外へ抜き出さずに全還流下で行った。反
応終了後、反応生成液を冷却し、反応生成液を液体クロ
マトグラフィーで分析し、その結果、最初の仕込1−イ
ソプロピルアミノアセトニトリルに対するバリンアミド
収率は89.5モル%であり、2.2−ジメチル−5−
イソプロピル−イミダゾリジノン−4からバリンアミド
への収率は43.3モル%であった。
また、この反応生成液を室温で放置したところ、バリン
アミド濃度は逐次減少し、2,2−ジメチル−5−イン
プロピル−イミダゾリジノン−4?度は逐次増加した。
実施例 2 (8)攪拌機および温度計を付した5を三ツロフラスコ
に、1−ベンジルアミノアセトニトリル 1462f、
水 j462f、メチルエチルケトン 1462Fおよ
び20 wt% 苛性ソーダ水溶液 201を加え、2
0℃で2時間攪拌した。反応終了後の反応生成液の液体
クロマトグラフィーでの分析結果から、フェニルアラニ
ンアミド収率 100モル%であった。
G3)  (イ)で得られた反応生成液を室温で一週間
保存後、液体クロマトグラフィーで再分析したところ、
2−メチル、2−エチル−5−ベンジル−イミダゾリジ
ノン−4 CH3C2H5 カ12 モ/l/%Ulll、、フェニルアラニンアミ
ド収率は88モル%へ低下していた。
0 @で得られた一週間保存後の7工ニルアラニンアミ
ド合成反応生成液を加熱し、常圧蒸留によりメチルエチ
ルケトンを除去した後、水 5tを加え、100℃に加
熱し、2−メチル、2−エチル−5−ペンジルーイミタ
ソリジノン−4の加水分解で生成したメチルエチルケト
ンを還流水と共に逐次抜き出しながら3時間攪拌した。
反応終了後、反応生成液を冷却し、反応生成液を液体ク
ロマトグラフィーで分析し、その結果から、最初の仕込
1−ベンジルアミノアセトニトリルに対するフェニルア
ラニンアミドの収率は99.1モル%であり、2−メチ
ル、2−エチル−5−ベンジルからフェニルアラニンア
ミドへの収率は92.5モル%であった。
実施例 3 2.2−ジメチル−5−イソプロピル−イミダゾリジノ
ン−440rK水 3602を加え、120℃で加熱し
、イミダゾリジノン−4の加水分解で生成したアセトン
を還流水と共に逐次抜き出しながら2時間攪拌した。反
応終了後、反応生成液を冷却し、反応生成液を液体クロ
マトグラフィーで分析し、その結果、仕込2゜2−ジメ
チル−5−イソプロピル−イミダゾリジノン−4からバ
リンアミドへの収率は95モル%であった。
実施例 4〜10 仕込イミダゾリジノン−4の種類、反応温度および反応
時間を変えた以外は実施例3と同様にして反応を行った
。結果を第1表に示す。
(発明の効果〕 本発明の方法によって、イミダゾリジノン−4類から工
業的に有利(α−アミノ酸アミドをf−] r;j造することができ、以って、光学活性α−ア″−
1 l −1iノ酸製造原料としてのα−アミノ酸アミドを容易
に且つ高収率で製造することが可能となった。
特許比H人 三菱瓦斯化学株式会社 代表者 長野和吉

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記の一般式 I で示されるイミダゾリジノン−4類を
    水溶液中で80〜150°で加熱して、副生されたケト
    ン類を逐次反応系外へ抜き出しつゝ、該イミダゾリジノ
    ン−4類を加水分解して対応する下記の一般式IIで示さ
    れるα−アミノ酸アミドを得ることを特徴とするα−ア
    ミノ酸アミドの製造方法 一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式II ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、一般式 I および一般式IIのそれぞれにおい
    て、R^1およびR^2はそれぞれ同一または異つて、
    水素原子、低級アルキル基、置換低級アルキル基、シク
    ロヘキシル基、フェニル基、置換フェニル基、フリル基
    、ピリジル基、チアゾリル基、イミダゾリル基もしくは
    インドリル基を示す。また一般式 I においてR^3お
    よびR^4はそれぞれ同一または異つて、低級アルキル
    基、もしくは5〜6員環を形成する低級アルキレン基を
    示す。)
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