JPS635069A - N−(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミドの製造法 - Google Patents
N−(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミドの製造法Info
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- JPS635069A JPS635069A JP61150130A JP15013086A JPS635069A JP S635069 A JPS635069 A JP S635069A JP 61150130 A JP61150130 A JP 61150130A JP 15013086 A JP15013086 A JP 15013086A JP S635069 A JPS635069 A JP S635069A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、広い薬理作用を有するN−(4−ヒドロキシ
スチリル)ベンズアミドの装造法に関するものである。
スチリル)ベンズアミドの装造法に関するものである。
従来、N−(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミドは
他の化合物を合成する際の副生成物として得られること
が2〜3の文献で知られているに過ぎず(J、Am、C
hem、Soc、、72巻、4436頁、1950年な
ど)、N−(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミドを
目的物とした合成法は知られていない。
他の化合物を合成する際の副生成物として得られること
が2〜3の文献で知られているに過ぎず(J、Am、C
hem、Soc、、72巻、4436頁、1950年な
ど)、N−(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミドを
目的物とした合成法は知られていない。
本発明者等はN−(4−ヒドロキシスチリル)ペンスア
ミドに抗炎症、鎮痛、抗アレルギー、血小板凝集抑制、
解熱、循環器疾患治療効果などの薬理作用あるいは紫外
線吸収作用があることを見いだし、先に特許出願を行っ
た。ついで、本発明者等はこのような優れた作用を有す
るN−(4−ヒドロキシスチリル)ペンスアミドを収率
よく安価に製造する方法について鋭息研究した結果、本
発明方法を完成するに至った。
ミドに抗炎症、鎮痛、抗アレルギー、血小板凝集抑制、
解熱、循環器疾患治療効果などの薬理作用あるいは紫外
線吸収作用があることを見いだし、先に特許出願を行っ
た。ついで、本発明者等はこのような優れた作用を有す
るN−(4−ヒドロキシスチリル)ペンスアミドを収率
よく安価に製造する方法について鋭息研究した結果、本
発明方法を完成するに至った。
すなわち本発明は、4−ヒドロキシフェニルエタノール
アミンと塩化ベンゾ・イルとを反応させて衣−[2−ヒ
ドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベ
ンズアミドを得る第一工程と、得られたN−〔2−ヒド
ロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベン
ズアミド゛を無触媒または触媒の存在下で加熱してN−
(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミドを得る第二工
程とからなることを特徴とするN−(4−ヒドロキシス
チリル)ベンズアミドの製造法である。
アミンと塩化ベンゾ・イルとを反応させて衣−[2−ヒ
ドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベ
ンズアミドを得る第一工程と、得られたN−〔2−ヒド
ロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベン
ズアミド゛を無触媒または触媒の存在下で加熱してN−
(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミドを得る第二工
程とからなることを特徴とするN−(4−ヒドロキシス
チリル)ベンズアミドの製造法である。
以下、本発明の構成を詳述する。
本発明方法の反応径路は次のとおりである。
(以下余白)
第一の工程は、4−ヒドロキジフェニルエク、′−ルア
ミン塩酸塩(塩酸オクトパミン(製法は西独特許節37
3286などで知られている。市販では和光純桑から人
手可]と塩化ペン・/イルを反応させてN−〔2−ヒド
ロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベン
ズアミドを得る工程である。反応溶媒は一般的に有機ア
ミン類を用いるが、溶解性や後処理の容易さを考慮する
とピリジンが最も好ましい。また、この反応は発熱反応
であるので、冷却下で行うことが望ましい。
ミン塩酸塩(塩酸オクトパミン(製法は西独特許節37
3286などで知られている。市販では和光純桑から人
手可]と塩化ペン・/イルを反応させてN−〔2−ヒド
ロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベン
ズアミドを得る工程である。反応溶媒は一般的に有機ア
ミン類を用いるが、溶解性や後処理の容易さを考慮する
とピリジンが最も好ましい。また、この反応は発熱反応
であるので、冷却下で行うことが望ましい。
第二の工程は、上記で得られたN−〔2−ヒドロキシ−
2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンズアミド
を無触媒または触媒の存在下で加熱してN−(4−ヒド
ロキシスチリル)ベンズアミドを得る工程である。溶媒
としてはキシレン、トルエン、ピリジンなどの高沸点溶
媒が好ましい。
2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンズアミド
を無触媒または触媒の存在下で加熱してN−(4−ヒド
ロキシスチリル)ベンズアミドを得る工程である。溶媒
としてはキシレン、トルエン、ピリジンなどの高沸点溶
媒が好ましい。
触媒としては酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、酸化チ
タン、酸化トリウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウ
ム、酸化ガリウム、酸化タングステンなどの金属酸化物
や硫酸、リン酸、ポリリン酸などの鉱酸、パラトルエン
スルホン酸などの有機酸の他、全屈硫酸塩、金属リン酸
塩、ゼオライトなどが用いられる。特に好ましくは酸化
アルミニウムである。
タン、酸化トリウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウ
ム、酸化ガリウム、酸化タングステンなどの金属酸化物
や硫酸、リン酸、ポリリン酸などの鉱酸、パラトルエン
スルホン酸などの有機酸の他、全屈硫酸塩、金属リン酸
塩、ゼオライトなどが用いられる。特に好ましくは酸化
アルミニウムである。
つぎSこ、実施例によって本発明をさらに詳11旧に説
明する。
明する。
実施例1
300dの三角フラスコに塩酸オクトパミン10.0g
を入れ、ピリジン1001−を加えて溶解したのち冷却
下で攪拌しながら塩化ベイシイルア、4gを少9ずつ滴
下した。滴下終了!&30分間撹拌を続けたのち、反応
液に200−の水を加え、分液ロートを用いてクロロホ
ルム 100dで3回抽出した。クロロホルム抽出液の
溶媒を留去後回結晶法により、9.2gのN−〔2−ヒ
ドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベ
ンズアミドを得た。
を入れ、ピリジン1001−を加えて溶解したのち冷却
下で攪拌しながら塩化ベイシイルア、4gを少9ずつ滴
下した。滴下終了!&30分間撹拌を続けたのち、反応
液に200−の水を加え、分液ロートを用いてクロロホ
ルム 100dで3回抽出した。クロロホルム抽出液の
溶媒を留去後回結晶法により、9.2gのN−〔2−ヒ
ドロキシ−2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベ
ンズアミドを得た。
上記で得たN−〔2−ヒドロキシ−2−(4−ヒドロキ
シフェニル)エチル]ベンズアミド9.2gを31の三
ソロフラスコに入れキシレン1.5β、酸化アルミニウ
ム2.0gを加えて30時間口流した。
シフェニル)エチル]ベンズアミド9.2gを31の三
ソロフラスコに入れキシレン1.5β、酸化アルミニウ
ム2.0gを加えて30時間口流した。
反応生成物をろ過後溶媒を留去したのちシリカゲルを用
いたカラムクロマトグラフ法で分離し、再結晶法により
ネrJ製してシス−N−(4−ヒドロキシスチリル)ベ
ンズアミド0.5gとトランス−N−4〜ヒドロキシス
チリル)ベンズアミド3.3gとを得た。
いたカラムクロマトグラフ法で分離し、再結晶法により
ネrJ製してシス−N−(4−ヒドロキシスチリル)ベ
ンズアミド0.5gとトランス−N−4〜ヒドロキシス
チリル)ベンズアミド3.3gとを得た。
シス体の融点;182℃、赤外線吸収スペクトル(KB
r錠剤法、Cm −’ ) ; 3300.1640
、’ H−核磁気共鳴スペクトル(正アセトン)δ:
ppm;5.80 (I H1三重線) 、6.88
(2H1三重線)、7.01 (L H1三重線) 、
7.30 (2H1三重線)、7.48 (2H1三重
線) 、7.56 (L H1三重線)、7.92 (
2H1三重線) 、8.35 (1[(、−重線)、1
(、’JJ (111、〕 ロー ト な−月I!ぶ
り 。
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トランス体の融点;206°C1赤外線吸収スペクトル
(KBr錠剤法、Cm) ; 3300.1640.
945、’ l−1−核磁気共鳴スペクトル(重アセト
ン)δニーppm ; 6.41 (1f−I、二重線
) 、6.81 (211、二重線) 、7.23 (
2II、二重線) 、7.49 (2H1三重線) 、
7.56 (L H1三重線) 、7.59 (I H
1多重線) 、7.99 (2H1二重線)、8.21
(L B2−重線)、9.63(LH、ブロードな二
重線)。
(KBr錠剤法、Cm) ; 3300.1640.
945、’ l−1−核磁気共鳴スペクトル(重アセト
ン)δニーppm ; 6.41 (1f−I、二重線
) 、6.81 (211、二重線) 、7.23 (
2II、二重線) 、7.49 (2H1三重線) 、
7.56 (L H1三重線) 、7.59 (I H
1多重線) 、7.99 (2H1二重線)、8.21
(L B2−重線)、9.63(LH、ブロードな二
重線)。
実施例2
実施例1で得たN−〔2−ヒドロキシ−2−(4−ヒド
ロキシフェニル)エチル〕ベンズアミド10.0gを3
1の三角フラスコに入れ、トルエン1.57!、酸化ア
ルミニウム3.0gを加えて40時間還流した。反応生
成物を口過後溶媒を留去したのちシリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフ法で分離し、再結晶法により精製し
てシス−N−(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミド
4.8gとトランス−N−4−ヒドロキシスチリル)ベ
ンズアミド0.6gとを得た。
ロキシフェニル)エチル〕ベンズアミド10.0gを3
1の三角フラスコに入れ、トルエン1.57!、酸化ア
ルミニウム3.0gを加えて40時間還流した。反応生
成物を口過後溶媒を留去したのちシリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフ法で分離し、再結晶法により精製し
てシス−N−(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミド
4.8gとトランス−N−4−ヒドロキシスチリル)ベ
ンズアミド0.6gとを得た。
実施例3
実施例1で得たN−〔2−ヒドロキシ−2−(4−ヒド
ロキシフェニル)エチル〕ベンズアミドB 5.Og
を50+Jの三角フラスコにとり、ピリジン5gを加え
攪拌しなから 130°Cで3時間加熱した。反応生成
物に水30−を加え、分液ロートを用いてクロロホルム
30Jで3回抽出した。クロロホルム抽出液の溶媒を留
去1麦シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ法で分
離し、再結晶法により精製してシス−N−(4−ヒドロ
キシスチリル)ベンズアミド0.1gとトランス−N−
4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミド 1.4gとを
得た。
ロキシフェニル)エチル〕ベンズアミドB 5.Og
を50+Jの三角フラスコにとり、ピリジン5gを加え
攪拌しなから 130°Cで3時間加熱した。反応生成
物に水30−を加え、分液ロートを用いてクロロホルム
30Jで3回抽出した。クロロホルム抽出液の溶媒を留
去1麦シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ法で分
離し、再結晶法により精製してシス−N−(4−ヒドロ
キシスチリル)ベンズアミド0.1gとトランス−N−
4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミド 1.4gとを
得た。
本発明によれば、N−(4−ヒドロキシスチリル)ベン
ズアミドを容易にして安価に得ることができる。また、
従来得られていないシス体も同時に得ることができる。
ズアミドを容易にして安価に得ることができる。また、
従来得られていないシス体も同時に得ることができる。
特許出願人 株式会社 資 生 堂
手続ネili正書(自発) と:。
昭和61年7月31日 (特許庁長官用田
明雄殿 口 ヒ 昭和61年特許顎第150130号
B2、 発明の名称
まN−(=t−ヒドロキンスチリル
)ベンズアミド (の製造法
−3、補正をする者
N事件との関係
特許出願人 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 fi+ 明8Ill書第2頁第15行目「ベンズアミ
ド」とあるを、し 「ブロード」と補正します。
明雄殿 口 ヒ 昭和61年特許顎第150130号
B2、 発明の名称
まN−(=t−ヒドロキンスチリル
)ベンズアミド (の製造法
−3、補正をする者
N事件との関係
特許出願人 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 fi+ 明8Ill書第2頁第15行目「ベンズアミ
ド」とあるを、し 「ブロード」と補正します。
(4) 明細書第6頁第17行目r cmJとあるを
、rc+a”Jj甫正します。
、rc+a”Jj甫正します。
5)明細書第7頁第13行目「トランス−N−4−ヒト
午ジスチリル)」とあるを、「トランス−N−(4−ド
ロキシスチリル)」と補正します。
午ジスチリル)」とあるを、「トランス−N−(4−ド
ロキシスチリル)」と補正します。
6)明細書第7頁第17頁〜同第18行目[ベンズアミ
ド5.0g Jとあるを、「ベンズアミF5.OgJと
補正しす。
ド5.0g Jとあるを、「ベンズアミF5.OgJと
補正しす。
7)明II書第8頁第5頁〜同第6行目「トランス−B
4−ヒドロキンスチリル)」とあるを、「トランスー−
(4−ヒドロキソスチリル)」と補正します。
4−ヒドロキンスチリル)」とあるを、「トランスー−
(4−ヒドロキソスチリル)」と補正します。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 4−ヒドロキシフェニルエタノールアミンと塩化ベ
ンゾイルとを反応させてN−〔2−ヒドロキシ−2−(
4−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンズアミドを得る
第一工程と、得られたN−〔2−ヒドロキシ−2−(4
−ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンズアミドを無触媒
または触媒の存在下で加熱してN−(4−ヒドロキシス
チリル)ベンズアミドを得る第二工程とからなることを
特徴とするN−(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミ
ドの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61150130A JPS635069A (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | N−(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミドの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61150130A JPS635069A (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | N−(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミドの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS635069A true JPS635069A (ja) | 1988-01-11 |
Family
ID=15490135
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61150130A Pending JPS635069A (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | N−(4−ヒドロキシスチリル)ベンズアミドの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS635069A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5821965A (en) * | 1995-02-21 | 1998-10-13 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Ink supply unit and recorder |
US6007191A (en) * | 1993-08-19 | 1999-12-28 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Ink supply unit |
-
1986
- 1986-06-26 JP JP61150130A patent/JPS635069A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6007191A (en) * | 1993-08-19 | 1999-12-28 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Ink supply unit |
US5821965A (en) * | 1995-02-21 | 1998-10-13 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Ink supply unit and recorder |
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