JPS6349227A - 特殊材料ガスの処理方法 - Google Patents
特殊材料ガスの処理方法Info
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- JPS6349227A JPS6349227A JP61191065A JP19106586A JPS6349227A JP S6349227 A JPS6349227 A JP S6349227A JP 61191065 A JP61191065 A JP 61191065A JP 19106586 A JP19106586 A JP 19106586A JP S6349227 A JPS6349227 A JP S6349227A
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体製造工場等から排出され微量であって
も人体等に極めて有害なホスフィン、アルシン、ジボラ
ン等を含む特殊材料ガスの効率的な処理方法に関する。
も人体等に極めて有害なホスフィン、アルシン、ジボラ
ン等を含む特殊材料ガスの効率的な処理方法に関する。
半導体製造工程中に排出される特殊材料ガスは微量であ
っても人体に極めて有害なものが多くこのガスの有効な
処理技術について強く要望されてい念。
っても人体に極めて有害なものが多くこのガスの有効な
処理技術について強く要望されてい念。
特に、本発明がその対象としているホスフィン（ＰＨ３
）、アルシン（ＡｇＨｓ ）、ソゲラン（Ｂ２Ｈ６）等
が含有されるガスには、吸収液として水、ＮａＯＨ等の
アルカリ溶液、’ＫＭＬｎＯ４溶液等が使用され、就中
馳０４溶液は、高い除去率を有するものとして評価され
ていｆｃ。
）、アルシン（ＡｇＨｓ ）、ソゲラン（Ｂ２Ｈ６）等
が含有されるガスには、吸収液として水、ＮａＯＨ等の
アルカリ溶液、’ＫＭＬｎＯ４溶液等が使用され、就中
馳０４溶液は、高い除去率を有するものとして評価され
ていｆｃ。
しかし、ガスの特性からして、実質的に完全に除去され
る吸収液が必要であり従来公知の上記各処理液に代わる
さらに高い除去効果を有するものが強く要望されていた
ものである。
る吸収液が必要であり従来公知の上記各処理液に代わる
さらに高い除去効果を有するものが強く要望されていた
ものである。
本発明はかかる実状に鑑みてなされたもので、前記の要
望に答えるべく鋭意研究を進め几結果、ホスフィン、ア
ルシン、ジボランのうちの１種又は２種以上を含む特殊
材料ガスを処理するため、従来知られてい之吸収溶液の
外に他にいくつか顕著な除去効果２奏するものを発見し
、本発明を完成するに至り之るものである。
望に答えるべく鋭意研究を進め几結果、ホスフィン、ア
ルシン、ジボランのうちの１種又は２種以上を含む特殊
材料ガスを処理するため、従来知られてい之吸収溶液の
外に他にいくつか顕著な除去効果２奏するものを発見し
、本発明を完成するに至り之るものである。
本発明は、
ａ、ホスフィン、アルシン又はジボランのｌａｌ又は２
１以上を含有する特殊材料ガスを、ｂ、 Ｆａｃｔ３
・Ｎ＊ＣＩＯ・ＨＣｌの混合溶液、塩素水、ＣＩＯ□水
、さら粉溶液又はヨウ素水のうちから選ばれるいずれか
ひとつの溶液中を通過さシＣ１前記ホスフィン、アルシ
ン又はジボランを該溶液に吸収せしめて除去する ｄ、特殊材料ガスの処理方法 にその要旨を存するものである。
１以上を含有する特殊材料ガスを、ｂ、 Ｆａｃｔ３
・Ｎ＊ＣＩＯ・ＨＣｌの混合溶液、塩素水、ＣＩＯ□水
、さら粉溶液又はヨウ素水のうちから選ばれるいずれか
ひとつの溶液中を通過さシＣ１前記ホスフィン、アルシ
ン又はジボランを該溶液に吸収せしめて除去する ｄ、特殊材料ガスの処理方法 にその要旨を存するものである。
以下図面を参照し実施例に基づいて本発明を説明する。
第２図は、本発明の過程において使用された予備実験装
置の略示的説明図である。特殊材料ガスを封入するゲン
ベＡから流出する該ガスは、流量計Ｂを通過し吸収管Ｃ
に至る。ここで、前記ガス中のＰＨ３、人ｓＨ３又はＢ
２Ｈ６が除去され、洗浄されたガスが美装りに流れ採取
されるようになっている。
置の略示的説明図である。特殊材料ガスを封入するゲン
ベＡから流出する該ガスは、流量計Ｂを通過し吸収管Ｃ
に至る。ここで、前記ガス中のＰＨ３、人ｓＨ３又はＢ
２Ｈ６が除去され、洗浄されたガスが美装りに流れ採取
されるようになっている。
吸収管入口近傍にガス濃度計Ｅが設置され臭袋り内のガ
スはガスクロマトグラフ法又は検知器により分析され友
。
スはガスクロマトグラフ法又は検知器により分析され友
。
？ンベＡに封入されるガスは、ＰＨ３、Ａｓ Ｎ５又は
Ｂ２Ｈ６が夫々的１ ｐｐｍのＮ２ペースのものであり
。
Ｂ２Ｈ６が夫々的１ ｐｐｍのＮ２ペースのものであり
。
吸収管Ｃには下記の如き各種の洗浄液が適用され之。
以下の第１表には、ＰＨ，’ｉ含む特殊材料ガスについ
て行われた結果が示されている。
て行われた結果が示されている。
上記の如く、本発明に係る
（１） ＦｅＣｌ２・ＮＩＬＣＩＯ−ＨＣ１溶液（Ａ
１５）（ｉｉ） ｃｔ２水（４１９） （ｉｉｉ） ｃｔｏ２水（屋１８） （ｉ■） さらし粉溶液（４２４） Ｍ ヨウ素溶液（墓２１） は、騒ずれも除−Ｔ：率が１００係であって、従来量も
好ましいとされてｂ之ＩＣＭｉｎＯ４溶液（Ａ８ 、９
。
１５）（ｉｉ） ｃｔ２水（４１９） （ｉｉｉ） ｃｔｏ２水（屋１８） （ｉ■） さらし粉溶液（４２４） Ｍ ヨウ素溶液（墓２１） は、騒ずれも除−Ｔ：率が１００係であって、従来量も
好ましいとされてｂ之ＩＣＭｉｎＯ４溶液（Ａ８ 、９
。
１０）よりさらに優位を示し九。
さらに、上記の各吸収ｇは、そのｐＨ値の相異Ａ１゜
に工って、除去本名変動し。
ａ、 Ｆｅ Ｃ１ｓ ・Ｎａ Ｃｌ０−ＨＣＩ溶液は
、ｐＴ（８，０で除去率が１００％であるが％９．Ｏｆ
は９９．８％。
、ｐＴ（８，０で除去率が１００％であるが％９．Ｏｆ
は９９．８％。
１２．６％では３３．３％と急激に減少する。
ｂ、これに対し、Ｃ１２水ではｐＨ１，９〜８．０の広
い範囲で、除去率ｌＯＯ％であり几。
い範囲で、除去率ｌＯＯ％であり几。
Ｃ１さらに、Ｉ２水（ついては、ｐＨ７，４〜１２．０
の範囲で除去率１００％であるが、ｐＨ１３以上又はｐ
Ｈ３以下では除去率が低下する。
の範囲で除去率１００％であるが、ｐＨ１３以上又はｐ
Ｈ３以下では除去率が低下する。
ｄ、 ＣＩＯ□水及びさらし粉溶液はｐＨ９において
除去率１００チとＡる。
除去率１００チとＡる。
という事実が判明した。
次に、上記各吸収液におけるＰＨ３等特殊材料ガスの吸
収時の態様について説明する。
収時の態様について説明する。
まず、Ｆｅ Ｃ１５・ＮａＣｊＯ・）（Ｃ）混合溶液は
酸性液である念め効果的であって、Ｆ’ｅ ＣＪ ｓ・
ＮａＣｊＯ−ＮａｏＨの如く、アルカリ性液の場合は、
ガスの除去率が２０〜４５％程度と低い。
酸性液である念め効果的であって、Ｆ’ｅ ＣＪ ｓ・
ＮａＣｊＯ−ＮａｏＨの如く、アルカリ性液の場合は、
ガスの除去率が２０〜４５％程度と低い。
Ｎ＊ＣＩＯ単独でも、５％水溶ｇ、原液のｐＨ１２，６
の場合は除去率は３０チ前後であるが、 ｐＨが９，０
となると９９％以上となり、さらに、ｐＨ８程度である
と１００＊近い除去率を有し発生する塩素臭も僅かであ
る。
の場合は除去率は３０チ前後であるが、 ｐＨが９，０
となると９９％以上となり、さらに、ｐＨ８程度である
と１００＊近い除去率を有し発生する塩素臭も僅かであ
る。
次に、Ｃ１２水の場合には、前述の如く、効果は極めて
大であるが、強い塩素臭が発生するのが欠点である０例
えばＰＨ３とＣ１２水との反応は次式によシ行われるも
のと推定される。
大であるが、強い塩素臭が発生するのが欠点である０例
えばＰＨ３とＣ１２水との反応は次式によシ行われるも
のと推定される。
ＰＨ，＋ ３ Ｃ１２＋ ３ Ｈ２０＝Ｈ，ＰＯ３＋
６ ＦＩＣＩ吸収液では、Ｈ３ＰＯ４は殆んど生成せず
、Ｈ，ＰＯ。
６ ＦＩＣＩ吸収液では、Ｈ３ＰＯ４は殆んど生成せず
、Ｈ，ＰＯ。
の生成が大部分となっている。
さらに、工２水の場合は、ｐＨ３〜１２において、除去
率は実質的に１００％で、ｐＨ１２では工２臭も発生し
ない。
率は実質的に１００％で、ｐＨ１２では工２臭も発生し
ない。
ＰＨ，は工２と次式のように反応して除去される。
ＰＨ３＋ ３１２＋ ３ Ｈ２０＝Ｈ３ＰＯ３＋ ６
Ｔ（Ｉ又は ＰＨ３＋ ４ Ｉ２＋ ４ Ｈ２０＝Ｈ３ＰＯ４＋ ８
ＨＩま之、Ａｓ ）（３の場合は、 ＡｓＨ３＋ ３ Ｉ２＋ ３ Ｈ２０＝Ｈ，Ａｓ０５
＋ ８ Ｔ（Ｉ又は ＡｓＨ３＋ ４ Ｉ２＋ ４ Ｈ２０＝Ｈ３Ａｔ０４
＋ ８ ＨＩとなる。
Ｔ（Ｉ又は ＰＨ３＋ ４ Ｉ２＋ ４ Ｈ２０＝Ｈ３ＰＯ４＋ ８
ＨＩま之、Ａｓ ）（３の場合は、 ＡｓＨ３＋ ３ Ｉ２＋ ３ Ｈ２０＝Ｈ，Ａｓ０５
＋ ８ Ｔ（Ｉ又は ＡｓＨ３＋ ４ Ｉ２＋ ４ Ｈ２０＝Ｈ３Ａｔ０４
＋ ８ ＨＩとなる。
ＡｓＨ及びＢ２Ｈ６の除去については１本発明に係る処
理溶液のうち前記ヨウ素水塩素水ＣｌＯ２水及びきらし
粉溶液が効果的であり念。被処理材料がスはＮ２主体で
ＡｓＨ３又はＢ２Ｈ６が７〜１０ｐｐｍのものであった
。
理溶液のうち前記ヨウ素水塩素水ＣｌＯ２水及びきらし
粉溶液が効果的であり念。被処理材料がスはＮ２主体で
ＡｓＨ３又はＢ２Ｈ６が７〜１０ｐｐｍのものであった
。
次に、本発明を実施するための処理装置についで説明す
る。
る。
第１図は、その装置の略示的説明図である。がスゴンベ
１から流出する特殊材料がス（ＰＨ３又はＡｓ Ｉ３或
いはＢ２Ｈ６を含む）は、濃度測定装置Ｓ、を通過して
その含有量が計測され念のちスプレー塔２の下側部から
該塔を上昇して、吸収液と向流接触し、さらに、濃度測
定装！Ｓ２でスプレーにより減少したガス濃度が計測さ
れる。ついで、ラヒシリングを充填した充填塔３を上昇
して、更に減少したガス濃度が濃度測定装置Ｓ３で計測
され、吸着材が充填される吸着塔４を上昇して実質的に
ＰＨ３等の材料ガスが１００％除去され之クリヤガスが
排風機５により適宜外部に放出されることとなる。
１から流出する特殊材料がス（ＰＨ３又はＡｓ Ｉ３或
いはＢ２Ｈ６を含む）は、濃度測定装置Ｓ、を通過して
その含有量が計測され念のちスプレー塔２の下側部から
該塔を上昇して、吸収液と向流接触し、さらに、濃度測
定装！Ｓ２でスプレーにより減少したガス濃度が計測さ
れる。ついで、ラヒシリングを充填した充填塔３を上昇
して、更に減少したガス濃度が濃度測定装置Ｓ３で計測
され、吸着材が充填される吸着塔４を上昇して実質的に
ＰＨ３等の材料ガスが１００％除去され之クリヤガスが
排風機５により適宜外部に放出されることとなる。
以上の装置ｔ’ｔ−使用して１本発明に係るＦｅＣノ、
・Ｎａ（ＪＯ−ＨＣｌ混合溶液、塩素水、ＣｌＯ２水、
さらし粉溶液又はヨウ素水を使用し、特殊材料ガス（Ｐ
Ｉ（３、ＡＩＩＨｓ及びＢ２Ｈ６）金含む特殊材料ガス
全処理した結果、いずれもその１００％が除去され極め
て良好な収積が得られた。特に、上記の装置においては
充填塔による除去効果が優れていｔｏ〔発明の効果〕 本発明は以上の構成に基づくものであって、微量であっ
ても極めて有害である之め、その除去が実質的に１００
％であることを必要とする吸収液を提供し得るもので、
特殊材料ガス中、最も発生頻度の高いＰＨ３、Ａａ Ｈ
３及びＢ２Ｈ６について、共通して、好結果が得られる
信頼性の高い除去効果を奏しうるものであり、極めて有
用なる発明である。
・Ｎａ（ＪＯ−ＨＣｌ混合溶液、塩素水、ＣｌＯ２水、
さらし粉溶液又はヨウ素水を使用し、特殊材料ガス（Ｐ
Ｉ（３、ＡＩＩＨｓ及びＢ２Ｈ６）金含む特殊材料ガス
全処理した結果、いずれもその１００％が除去され極め
て良好な収積が得られた。特に、上記の装置においては
充填塔による除去効果が優れていｔｏ〔発明の効果〕 本発明は以上の構成に基づくものであって、微量であっ
ても極めて有害である之め、その除去が実質的に１００
％であることを必要とする吸収液を提供し得るもので、
特殊材料ガス中、最も発生頻度の高いＰＨ３、Ａａ Ｈ
３及びＢ２Ｈ６について、共通して、好結果が得られる
信頼性の高い除去効果を奏しうるものであり、極めて有
用なる発明である。
第１図は本発明方法が適用される処理装置の一例を示す
説明図、第２図は本発明の過程における予備実験に使用
した装置の説明図である。 １・・・ガスぎンペ、２・・・スプレー塔、３・・・充
填塔、４・・・吸着塔、５・・・排風機、Ｓｌ ＊ Ｓ
ｚ ＊ Ｓ３・・・濃度測定装置。
説明図、第２図は本発明の過程における予備実験に使用
した装置の説明図である。 １・・・ガスぎンペ、２・・・スプレー塔、３・・・充
填塔、４・・・吸着塔、５・・・排風機、Ｓｌ ＊ Ｓ
ｚ ＊ Ｓ３・・・濃度測定装置。
Claims (1)
- ホスフィン、アルシン又はジボランの１種又は２種以上
を含有する特殊材料ガスを、ＦｅＣｌ＿３・ＮａＣｌＯ
・ＨＣｌの混合溶液、塩素水、ＣｌＯ＿２水、さらし粉
溶液又はヨウ素水のうちから選ばれるいずれかひとつの
溶液中を通過させ、前記ホスフィン、アルシン又はジボ
ランを該溶液に吸収せしめて除去することを特徴とする
特殊材料ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61191065A JPS6349227A (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 特殊材料ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61191065A JPS6349227A (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 特殊材料ガスの処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6349227A true JPS6349227A (ja) | 1988-03-02 |
Family
ID=16268291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61191065A Pending JPS6349227A (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 特殊材料ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6349227A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015164724A (ja) * | 2015-04-03 | 2015-09-17 | クラリアント触媒株式会社 | 金属水素化物含有排ガスの除害剤及び除害方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60150817A (ja) * | 1983-11-24 | 1985-08-08 | ハインリツヒ−ヘルツ−インステイテユ−ト・フユ−ル・ナツハリヒテンテヒニ−ク・ベルリン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 処理排ガスからの有害物質の除去法 |
-
1986
- 1986-08-14 JP JP61191065A patent/JPS6349227A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60150817A (ja) * | 1983-11-24 | 1985-08-08 | ハインリツヒ−ヘルツ−インステイテユ−ト・フユ−ル・ナツハリヒテンテヒニ−ク・ベルリン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 処理排ガスからの有害物質の除去法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015164724A (ja) * | 2015-04-03 | 2015-09-17 | クラリアント触媒株式会社 | 金属水素化物含有排ガスの除害剤及び除害方法 |
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