JPH01266836A - アルシン及び／又はホスフィンの除去方法 - Google Patents
アルシン及び／又はホスフィンの除去方法Info
- Publication number
- JPH01266836A JPH01266836A JP63096152A JP9615288A JPH01266836A JP H01266836 A JPH01266836 A JP H01266836A JP 63096152 A JP63096152 A JP 63096152A JP 9615288 A JP9615288 A JP 9615288A JP H01266836 A JPH01266836 A JP H01266836A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silver
- gas
- absorption
- ash3
- soln
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 16
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 title claims description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 30
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 15
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 14
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 claims description 2
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Substances [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000070 arsenic hydride Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 29
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 3
- RBWNDBNSJFCLBZ-UHFFFAOYSA-N 7-methyl-5,6,7,8-tetrahydro-3h-[1]benzothiolo[2,3-d]pyrimidine-4-thione Chemical compound N1=CNC(=S)C2=C1SC1=C2CCC(C)C1 RBWNDBNSJFCLBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- 101100215641 Aeromonas salmonicida ash3 gene Proteins 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N chlorine dioxide Inorganic materials O=Cl=O OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019398 chlorine dioxide Nutrition 0.000 description 1
- QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N chlorous acid Chemical compound OCl=O QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- FJOLTQXXWSRAIX-UHFFFAOYSA-K silver phosphate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[Ag+].[O-]P([O-])([O-])=O FJOLTQXXWSRAIX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940019931 silver phosphate Drugs 0.000 description 1
- 229910000161 silver phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L silver sulfate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]S([O-])(=O)=O YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000367 silver sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体製造工場等において使用される特殊
材料ガスの中で最も毒性の高いアルシン（ＡｓＨｓ）や
ホスフィン（ＰＨ３）の除去方法に関する。
材料ガスの中で最も毒性の高いアルシン（ＡｓＨｓ）や
ホスフィン（ＰＨ３）の除去方法に関する。
〔従来の技術］
ＡｓＨ３及びＰＨ，は、従来から半導体の材料ガスとし
て使用されており、その使用量は半導体の生産量の増加
及び多用化に伴って年々増加している。
て使用されており、その使用量は半導体の生産量の増加
及び多用化に伴って年々増加している。
ＡｓＨ，及びＰＨｆｆガスは特殊材料ガスの中でも非常
に毒性が強く、極めて微量でも人体にとって有害である
ため、生産工程の排ガス中にＡｓＨ，及びＰＨ。
に毒性が強く、極めて微量でも人体にとって有害である
ため、生産工程の排ガス中にＡｓＨ，及びＰＨ。
が含まれる場合、その除去が必要である。
ＡｓＨ３及びＰＨ３の除去方法としては、従来固体吸着
剤を使用し化学反応を伴う固相吸着法や、ＮａＯＨ等の
アルカリ液又は酸化剤を使用する湿式吸収法が用いられ
ていた。
剤を使用し化学反応を伴う固相吸着法や、ＮａＯＨ等の
アルカリ液又は酸化剤を使用する湿式吸収法が用いられ
ていた。
しかし、固相吸着法は小規模の処理では高い除去率が期
待できるが大規模な処理にはコストが高く不適当であり
、湿式吸収法は大規模な処理に適するものの除去率が低
く吸収液の寿命が短い。そこで、広い範囲の処理ガス量
に対応することができ吸収剤の寿命を長くできるＡ ｓ
ｔｌ ３及びＰＨ３の除去方法として、硝酸銀溶液を
吸収液とし、吸収反応で生成した銀を酸化させた後硝酸
水溶液で溶解して再利用する方法（特願昭６２−４４８
６４号）が提案されている。
待できるが大規模な処理にはコストが高く不適当であり
、湿式吸収法は大規模な処理に適するものの除去率が低
く吸収液の寿命が短い。そこで、広い範囲の処理ガス量
に対応することができ吸収剤の寿命を長くできるＡ ｓ
ｔｌ ３及びＰＨ３の除去方法として、硝酸銀溶液を
吸収液とし、吸収反応で生成した銀を酸化させた後硝酸
水溶液で溶解して再利用する方法（特願昭６２−４４８
６４号）が提案されている。
しかし、上記の硝酸銀を用いた除去方法では、排ガス中
のＡｓＨ３ガスやＰＨ，ガスの濃度が１ 、 ＯＯＯｐ
ｐｍ以上になると銀の再生反応で生ずる窒素酸化物が酸
化しきれず、排ガス中に数ｐｐｍの窒素酸化物が検出さ
れる。特殊材料ガスを扱っている半導体工場等で使用さ
れている特殊ガス検知器の中には数ｐｐｍの窒素酸化物
で誤作動するものがあり、従って、このようなガス検知
器を多数使用している所では安全管理上前記硝酸銀を用
いた除去方法は使用できないという問題がある。
のＡｓＨ３ガスやＰＨ，ガスの濃度が１ 、 ＯＯＯｐ
ｐｍ以上になると銀の再生反応で生ずる窒素酸化物が酸
化しきれず、排ガス中に数ｐｐｍの窒素酸化物が検出さ
れる。特殊材料ガスを扱っている半導体工場等で使用さ
れている特殊ガス検知器の中には数ｐｐｍの窒素酸化物
で誤作動するものがあり、従って、このようなガス検知
器を多数使用している所では安全管理上前記硝酸銀を用
いた除去方法は使用できないという問題がある。
この発明は上記課題を解決するものであって、広い範囲
の処理ガス量に対応することができ、吸収剤の寿命が長
く、窒素酸化物を生じることがなく除去率の高いアルシ
ン及び／又はホスフィンの除去方決を提供することを目
的とする。
の処理ガス量に対応することができ、吸収剤の寿命が長
く、窒素酸化物を生じることがなく除去率の高いアルシ
ン及び／又はホスフィンの除去方決を提供することを目
的とする。
［課題を解決するための手段］
上記課題を解決するため、この発明のアルシン及び／又
はホスフィンの除去方法では、過塩素酸銀、燐酸銀、硫
酸銀等の硝酸銀を除く銀化合物又は銀と過酸化水素とを
添加した酸溶液を吸収液としてアルシン及び／又はホス
フィンを吸収させ、吸収反応で生成した銀は吸収液で酸
化させて溶解し再利用する。
はホスフィンの除去方法では、過塩素酸銀、燐酸銀、硫
酸銀等の硝酸銀を除く銀化合物又は銀と過酸化水素とを
添加した酸溶液を吸収液としてアルシン及び／又はホス
フィンを吸収させ、吸収反応で生成した銀は吸収液で酸
化させて溶解し再利用する。
この発明の除去方法は、第１図に示すような構成の装置
を使用して実施される。第１図において、生産工程から
排出されるＡｓＨ３及び／又はＰＨ３を含む排ガスは、
導管２を通り吸収塔３へ導かれる。
を使用して実施される。第１図において、生産工程から
排出されるＡｓＨ３及び／又はＰＨ３を含む排ガスは、
導管２を通り吸収塔３へ導かれる。
吸収塔３には充填剤が充填された充填層５が設けられて
いる。タンク８内には吸収液が貯留されており、この吸
収液が循環ポンプ９で揚液され、導管１１を通り吸収塔
３の上部から充填層５上に散布される。排ガスは充填層
５を通過するとき吸収液と接触し、ＡｓＨ，、ＰＨ，が
吸収除去された後、導管４を通り排気ブロワ７により大
気中に排出される。
いる。タンク８内には吸収液が貯留されており、この吸
収液が循環ポンプ９で揚液され、導管１１を通り吸収塔
３の上部から充填層５上に散布される。排ガスは充填層
５を通過するとき吸収液と接触し、ＡｓＨ，、ＰＨ，が
吸収除去された後、導管４を通り排気ブロワ７により大
気中に排出される。
吸収液は導管１０を通りタンク８に戻る。なお、Ｓ、は
吸収前ガス濃度検出口＋ＳＺは吸収後ガス濃度検出口で
ある。
吸収前ガス濃度検出口＋ＳＺは吸収後ガス濃度検出口で
ある。
吸収塔３内では、充填Ｎ５上に散布された吸収液と排ガ
スが接触し、排ガス中のＡＳＨ３及び／又はＰＨ，が吸
収液に吸収される。過塩素酸銀溶液を用いた場合のＡｓ
）１３及びＰＨｆｆの吸収反応は次式の通りである。
スが接触し、排ガス中のＡＳＨ３及び／又はＰＨ，が吸
収液に吸収される。過塩素酸銀溶液を用いた場合のＡｓ
）１３及びＰＨｆｆの吸収反応は次式の通りである。
八ｓＨ３＋ ５八ｇＣ１０４＋３１ｂＯ−６Ａｇ＋Ｈ
：＋Ａｓ０３＋６ＨＣ１０゜ＰＩ＋３ ＋ ６ＡｇＣＩ
Ｏｎ ＋ ３ＨｚＯ→６Ａｇ ＋ Ｈ３ＰＯ３＋ ６Ｈ
Ｃ１０４一方、吸収液中には過酸化水素が添加されてお
り次の反応が生じ銀を酸化させ再溶解する。
：＋Ａｓ０３＋６ＨＣ１０゜ＰＩ＋３ ＋ ６ＡｇＣＩ
Ｏｎ ＋ ３ＨｚＯ→６Ａｇ ＋ Ｈ３ＰＯ３＋ ６Ｈ
Ｃ１０４一方、吸収液中には過酸化水素が添加されてお
り次の反応が生じ銀を酸化させ再溶解する。
２八ｇ＋Ｈ，ｏ□ → Ａｇ、ｏ ＋ Ｈ！
０八ｇへＯ＋ ２ｔ（ＣｌＯ２→ ２ＡｇＣ１０ｔ＋
ＩＩ□ＯＨ３八ＳＯ３±ＨｚＯｚ ４ Ｈｚ
Ａｓ０４＋ Ｔｏ。
０八ｇへＯ＋ ２ｔ（ＣｌＯ２→ ２ＡｇＣ１０ｔ＋
ＩＩ□ＯＨ３八ＳＯ３±ＨｚＯｚ ４ Ｈｚ
Ａｓ０４＋ Ｔｏ。
ＴｏＰＯｚ ＋１（２０□ → Ｈ３ＰＯ４＋ ｌＩｚ
。
。
この反応において窒素酸化物は発生しない。
他の銀溶液も同様の反応によりＡｓＨ３ガス、ＰＩ＋３
ガスを吸収除去する。
ガスを吸収除去する。
〔実施例］
第１図に示す構成の除去装置を用いてこの発明を実施し
、排ガスを吸収前ガス濃度検出口Ｓ、及び吸収後ガス濃
度検出口Ｓ２で採取して処理前後の排ガス中のＡ ｓ
１１３ガス、ＰＨ，ガス、及び処理後の窒素酸化物の濃
度を測定した。また、吸収液中の処理前後のＡｇ濃度及
び処理後のＡｓ濃度を測定した。
、排ガスを吸収前ガス濃度検出口Ｓ、及び吸収後ガス濃
度検出口Ｓ２で採取して処理前後の排ガス中のＡ ｓ
１１３ガス、ＰＨ，ガス、及び処理後の窒素酸化物の濃
度を測定した。また、吸収液中の処理前後のＡｇ濃度及
び処理後のＡｓ濃度を測定した。
結果は第１表の通りである。
なお、測定時のガス通過ガス量は９４〜１８８１ ／ｍ
ｉｎ。
ｉｎ。
吸収塔内のガス速度は２０〜４０ｃｍ／ｓ 、運転時間
は５０Ｑｍｉｎであり、過酸化水素は反応に従って消費
されるため随時添加した。
は５０Ｑｍｉｎであり、過酸化水素は反応に従って消費
されるため随時添加した。
〔発明の効果］
この発明のアルシン及び／又はホスフィンの除去方法は
上記の通りであるので、除去率が高く広い範囲の処理ガ
ス量に対応することができ、銀を再利用できるため吸収
剤の寿命が長く低コストであり、また、窒素酸化物を生
じることがないため特殊ガス検知器の誤作動を生ずる虞
れがない。
上記の通りであるので、除去率が高く広い範囲の処理ガ
ス量に対応することができ、銀を再利用できるため吸収
剤の寿命が長く低コストであり、また、窒素酸化物を生
じることがないため特殊ガス検知器の誤作動を生ずる虞
れがない。
第１図は、この発明の除去方法を実施するための装置の
構成を示す図である。 図中、３は吸収塔、５は充填層、８はタンク、９は循環
ポンプである。 タン２
構成を示す図である。 図中、３は吸収塔、５は充填層、８はタンク、９は循環
ポンプである。 タン２
Claims (1)
- （１）硝酸銀を除く銀化合物又は銀と過酸化水素とを添
加した酸溶液を吸収液として、アルシン及び／又はホス
フィンを吸収させ、吸収反応で生成した銀は吸収液で酸
化させて溶解し再利用することを特徴とするアルシン及
び／又はホスフィンの除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63096152A JP2549415B2 (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 | アルシン及び／又はホスフィンの除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63096152A JP2549415B2 (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 | アルシン及び／又はホスフィンの除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01266836A true JPH01266836A (ja) | 1989-10-24 |
| JP2549415B2 JP2549415B2 (ja) | 1996-10-30 |
Family
ID=14157400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63096152A Expired - Lifetime JP2549415B2 (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 | アルシン及び／又はホスフィンの除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2549415B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5527517A (en) * | 1994-11-23 | 1996-06-18 | Philip Morris Incorporated | Liquid scrubbing of gas-phase contaminants |
| CN104941422A (zh) * | 2015-05-15 | 2015-09-30 | 山东省计量科学研究院 | 一种磷化氢气体的处理方法 |
| CN107224863A (zh) * | 2017-07-14 | 2017-10-03 | 浙江工商大学 | 一种电化学辅助化学吸收磷化氢气体的方法及装置 |
-
1988
- 1988-04-19 JP JP63096152A patent/JP2549415B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5527517A (en) * | 1994-11-23 | 1996-06-18 | Philip Morris Incorporated | Liquid scrubbing of gas-phase contaminants |
| US5651917A (en) * | 1994-11-23 | 1997-07-29 | Philip Morris Incorporated | Liquid scrubbing of gas-phase contaminants |
| CN104941422A (zh) * | 2015-05-15 | 2015-09-30 | 山东省计量科学研究院 | 一种磷化氢气体的处理方法 |
| CN107224863A (zh) * | 2017-07-14 | 2017-10-03 | 浙江工商大学 | 一种电化学辅助化学吸收磷化氢气体的方法及装置 |
| CN107224863B (zh) * | 2017-07-14 | 2023-03-10 | 浙江工商大学 | 一种电化学辅助化学吸收磷化氢气体的方法及装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2549415B2 (ja) | 1996-10-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101094672B1 (ko) | 오존과 촉매 하이브리드 시스템을 이용한 질소산화물의 처리방법 및 처리장치 | |
| EP1511555B1 (en) | PROCESS FOR REDUCING THE LEVEL OF NOXx IN WASTE GAS STREAMS USING SODIUM CHLORITE | |
| US4081509A (en) | Method for removing nitrogen oxides from flue gas by absorption | |
| JPS6351732B2 (ja) | ||
| US5651917A (en) | Liquid scrubbing of gas-phase contaminants | |
| JPH01266836A (ja) | アルシン及び／又はホスフィンの除去方法 | |
| CN106345246A (zh) | 一种脱除氮氧化物的方法及其应用 | |
| JP4191486B2 (ja) | 固体ヨウ素フィルタの除染方法 | |
| JPH06102133B2 (ja) | アルシン及びホスフインの除去方法 | |
| KR102201771B1 (ko) | 화력발전소 scr 반응기에서 금속수은 산화 촉진을 위한 염화암모늄 주입장치 및 이를 이용한 주입방법 | |
| JPS5933410B2 (ja) | オゾンの除去方法 | |
| JPS61133125A (ja) | 紫外線脱硝法 | |
| JPH067637A (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| JPH0871368A (ja) | 排ガス中ヨウ素の除去方法 | |
| JPS629367B2 (ja) | ||
| JP2781518B2 (ja) | Ｎｏ除去剤 | |
| JPH06154535A (ja) | 有害ガスの浄化方法 | |
| JPH08117555A (ja) | 水銀蒸気の処理とそのシステム | |
| Suzuki et al. | Radiation Treatment of Exhaust Gases,(XI) NO Removal in NO-H2O-O2-N2Mixtures Containing SO2 | |
| JPS5834174B2 (ja) | チツソサンカブツノジヨキヨホウホウ | |
| JPS63162025A (ja) | アルシン及びホスフインの除去方法 | |
| KR101628965B1 (ko) | 산화성의 방사분해 기체를 포함하는 공기의 정화 방법 및 이를 수행하기 위한 공기 정화 시스템 | |
| JPH0649133B2 (ja) | 排ガス中の窒素酸化物除去方法 | |
| JPS6388024A (ja) | 排ガス中の水銀除去方法 | |
| JPS6349227A (ja) | 特殊材料ガスの処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808 Year of fee payment: 12 |