JPS6348578B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はペレツト、特に比較的小さい硫黄ペレ
ツトを製造する方法並びに装置に関するものであ
る。

ペレツトは落下する粒子の上に溶融又は溶解せ
る化学薬剤を噴射することによつて生成されてお
り、又この技術によつてペレツトは硫黄で被覆さ
れた。然しながらこの方法は固体硫黄ペレツトを
生成するには使用されない。

従つて、本発明の目的は硫黄ペレツトを製造す
る改良せる方法及び装置を提供するにある。

他の目的は溶融せる化学薬剤で噴射されるとき
粒子の落下するカーテンの温度を調節するにあ
る。

又、他の目的は硫黄ダストの逸散より生ずる大
気汚染を減少するにある。

さらに、他の目的は特別の設備を要することな
しに溶融硫黄で被覆するための種核（seed
nuclei）を製造するにある。

又、他の目的は溶融せる化学薬剤で被覆される
回転する粒子の床に直接水を噴射することによつ
て生ずる問題を排除するにある。

他の目的は硫黄ペレタイジング方式のドラムに
おける落下する粒子の破壊を低減するにある。

又他の目的は空所のない即ち表面応力面積のな
い、而も予定の比較的均一なサイズを有する高密
度の比較的水分のない、ほぼ球状の硫黄ペレツト
を製造するにある。

さらに連続的に操作され、調整、保持及び調節
が容易であり、比較的安価で、汚染のない、而も
先行技術に見られる欠点を含まないペレツト製造
方法及び装置を提供するのが他の目的である。

本発明の他の目的及び利点は明細書及び特許請
求の範囲における記載より明らかであり、本発明
の範囲は特許請求の範囲に指摘する。

概略を述べると、本発明の一つの点によれば、
落下する粒子が被覆物質で噴射される帯域は若干
の粒子を異なる位置で湿潤し、それからその帯域
を降下することによつて間接的に冷却される。本
発明の他の点は偏向によつて形成される粒子の２
つの離れた、別々のカーテンを包含し、その一つ
のカーテンは溶融硫黄で噴射され、一方他のカー
テンは水で噴射される。本発明のさらに他の点は
硫黄粒子の回転床の温度を短時間、約4.4℃（40
〓）宛上昇することによつて種粒子を生成するも
のである。本発明のもう一つの他の点は粒子の落
下するカーテンの一側面にダスト粒子を濃縮し、
かつ溶融硫黄をカーテンのその側面に噴射するこ
とによつてダスト放出を減ずる。さらに本発明の
他の点は平均粒子の大きさが増加するにつれて落
下する粒子のカーテンに噴射する硫黄の量を増加
することを包含する。

添付図面は硫黄ペレタイジング方式を示してお
り、開放端を有する細長い中空、筒状の回転ドラ
ム５が入口端６より出口端７へ向つて水平に関し
僅かに（即ち2゜以下）傾斜した中心軸を有して示
されている。端６は環状リング８により、又端７
は同様のリング９により一部封鎖されている。リ
ング８はリング９より放射方向において広く、又
端６はドラム軸の傾斜のために端７より僅かに高
くなつている。固体硫黄粒子の床１０は、ドラム
が通常の手段（図示せず）で回転されるにつれて
ドラム５の底部において転がる。ドラム５が回転
するとき、床１０の一方の延長縁１１は他の延長
縁１２より高い位置となる。床１０における粒子
は粒度において顕微鏡的ダスト粒子から、本発明
の最終生成物である約２〜20mmの範囲の予定の直
径を有する実物大の、概ね球状のペレツトの範囲
にある。床１０における粒子はドラム５の回転に
つれ端６より端７へ移動し、それから小さな出口
端リング９を越えて、ドラム５より予定の大きさ
の開孔を有するスクリーン１３上に落下する。ス
クリーン１３における孔より大きい直径を有する
ペレツトはスクリーンを転がり落ち、生成物ホツ
パー又は貯蔵サイロ１４に収容される。スクリー
ン１３を通つて落下した粒子はホツパー１５によ
つて普通のコンベア手段１６に導かれ、そこでこ
れらの篩下の粒子を粒子再循環ホツパー１７に送
る。

ホツパー１７における粒子は粒度で顕微鏡的ダ
ストからスクリーン１３における孔を辛じて通過
する殆んどペレツト―サイズの粒子にわたつて変
化している。粒子はホツパー１７から端６で入口
孔に延びている終末端１９を有する供給シユート
又はコンベア１８へと供給される。ホツパー１７
からの粒子は端１９に落下し、床１０まで延びる
粒子の落下カーテン又はシヤワーを形成する。コ
ンベア１８へ供給された粒子はコンベアを下つて
ドラム５の内部に進行するにつれて、付与されて
いる撹拌及び振動は粒子を粒度について分級す
る、即ち斯る分級は公知の手段でコンベア１８を
振動することによつて達成される。最も大きい粒
子はコンベア１８を下つて移動する粒子の層の上
部に上昇し、一方ダストは底部に落下する。斯し
くて、粒子がコンベアの端１９を落下するにつ
れ、殆んどのダスト粒子はドラム５の外側に面す
る落下カーテンの表面で濃縮される。方式からの
ダストの放出を減ずるために、数個のノズル２１
を有する横の管寄せ２０が濃縮したダストを含有
する落下粒子のカーテンの側で端１９の近くでコ
ンベア１８の下に配置されている。溶融硫黄はノ
ズル２１より粒子のカーテンへ噴射される。ダス
トは噴射ノズルに最も近いところにある粒子の落
下カーテンの側で濃縮されるので、殆んどのダス
トは溶融硫黄によつて捨い上げられる。ダストの
放出をさらに減ずるために落下粒子のカーテンの
他の側に噴射ノズルの追加のセツトを設けること
も又可能である。殆んどのダストに硫黄噴射を当
てることを可能ならしめるために、この粒子のカ
ーテンは比較的薄く（例えば約１インチ）すべき
である。

ドラム５は第２〜４図において時計の針と反対
の方向に回転する。一連の実質的に同一の粒子上
昇受け板２２がドラム５の内側表面の周囲に等間
隔で配置され、ゆるやかにドラムの中心に向つて
突出している。受け板２２はドラム５の長さの約
80〜90％の間縦方向に延びている。受け板２２が
床１０を通つて移動するときは粒子を床からすく
いあげ、粒子をドラムの上方部分に上昇する。受
け板２２は短かい、純角のチツプ２３を有して平
坦であるので、各受け板は受け板がドラムの最高
点を過ぎて僅かの距離を移動する時までには運ば
れている粒子の殆んど全部を落下する。これは第
３図で見ることができるように、ドラム５の垂直
の中心線近くの左手の四分円に落下する非常に少
数の粒子と共にドラム５の右手の四分円に、落下
粒子の濃縮せるシヤワーを形成する。

ドラム５は落下粒子のシヤワーを間隔をおいた
位置で床１０に落下する２つの分離された別個の
ほぼ連続しているカーテン２４，２５に偏向する
ためのその内部に配置された手段をもつている。
ドラム５の長さ方向に延びている第一の細長い偏
向板２７は、最も高く上昇した受け板２２を含む
ドラムの軸に垂直な面で見たとき、ドラムの上部
の四分円に配置されている板２７の少くとも主部
分と共にドラムの中心の上に配置されている。斯
くして粒子は床の中心と上昇する縁１１との間で
床１０に落下する粒子の比較的厚い（例えば９〜
12インチ）第一のカーテン２４に板２７によつて
偏向される。ドラム５の全長に対して延びている
第二の細長い偏向板２８は下降する受け板２２を
含むドラムの軸に対し垂直の面で見たとき、ドラ
ムの四分円に配置されている板２８の少くとも主
部分と共にドラムの中心近くに配置される。板２
８はドラムの回転方向において板２７を越えて落
下する殆んど全部の粒子によつて当てられるのに
充分なだけの広さを有すべきである。斯くして粒
子は床の中心と下方の縁との間で床１０に落下す
る粒子の比較的薄い〔例えば25.4mm（１インチ）〕
第二のカーテン２５に板２８によつて偏向され
る。これにより、板２８はドラム５の底部近くの
受け板２２の露出されているチツプ２３に突き当
ることから粒子を防止することによつて落下する
粒子の破壊を減じている。板２７及び２８はドラ
ムの回転方向に対し少くとも35゜の角度で逆に傾
斜されているべきである。

一連の硫黄噴射ノズル３１を間隔をおいて有し
ている水蒸気―外套付溶融硫黄管寄せ３０はドラ
ム５の縦方向に板２７の下に延びている。ノズル
３１は粒子の第一カーテン２４が通過して落下し
ている帯域３２に、約14.1〜35.2Kg／cm²（200〜
500psi）の範囲の圧力及び926.6℃（260〓）以上
の温度でアトマイズされた溶融硫黄を噴射する。
床１０における粒子は入口端６から出口端７へ移
動するにつれて平均粒度を増加するので、カーテ
ン２４へ噴射される硫黄の量は粒子移動の方向で
増加されるべきである。これはノズル３１におい
て、入口端６から出口端７へ圧力を増加すること
によつて、又は第１図に示すように、ノズル３１
の大きさをドラム５の入口端から出口端へ増加す
ることによつて達成することができる。追加の管
寄せ及び一連の間隔をおいたノズルをこゝに示さ
れたのと平行して一列に並べることができる。ド
ラム５内に配置された装置の固定部分はドラムの
外側に延びている手段（図示せず）によつて通常
の手段で支持されるべきである。

粒子が通過して落下する帯域３２の温度はノズ
ル３１によつて噴射される高温硫黄に拘らず約
71.1〜93.3℃（160〜200〓）の範囲に低下され
る。この帯域における、或は床１０への水の直接
噴射は表面欠陥及び空所を有する低品質の不均一
なペレツトを生ずる。それ故、水は例えば少数の
粒子を床１０より除き、除いた粒子を湿潤し、そ
して湿潤粒子を帯域３２を通つて落下するような
間接方法によつて帯域３２にもたらさなければな
らない。粒子よりの水の蒸発は帯域３２を通つて
落下するにつれて帯域の温度を所要範囲に低下す
る。

床１０より除かれる間の粒子の湿潤は、ノズル
３４が床１０の上で第二のカーテン２５に液体を
噴射することのできる中心近くで、ドラム５の下
方部分で第二の板２８の下に一連の縦に間隔をお
いた増湿ノズル３４を配置することによつて達成
することができる。水管寄せ３７及び圧搾空気寄
せ３４はノズル３４へ導かれ、アトマイズされた
水は第二のカーテン２５において落下する粒子の
表面に噴射される。湿つた粒子が床１０に落下し
た後、それらは湿潤されていない粒子と混合さ
れ、その水分の若干は高い周囲の温度のために蒸
発される；これは床１０を所要の品質のペレツト
を生成するのに必要な約48.9〜82.2℃（120〜180
〓）の範囲の温度に保持する。ドラム５が回転す
ると、湿潤した粒子及びその他の粒子の混合物は
受け板２２によつて帯域３２の上に揚げられ、板
２７の上に落下される。多くの湿潤せる粒子は第
一カーテン２４へ偏向され、そこで残りの水分は
蒸発によつて周囲の空気に放出される。これは帯
域３２の温度を低下する。ノズル３４よりの噴射
は又増湿しかつドラム５を向流して流れる空の温
度を低下する。

ドラム５の出口端７は粒子の温度を約48.9〜
71.1℃（120〜160〓）の範囲に冷却する冷却区域
４０を有している。これはペレツトが室温に達す
るとき屡々形成される粘着性及びダストを除去す
ることによつて最終ペレツトの取扱いを容易にす
る。区域４０における上昇する受け板４１の形状
は残りのドラム５における受け板２２のそれと異
なるものである。受け板４１は、粒子が板２８に
あたり、受け板の露出チツプより偏向される処を
除いて、落下する粒子を冷却区域４０を通じて概
して均一に分布せしめるほぼＣ―型又は半円状の
断面を有している。外部の空気は端７に引張ら
れ、普通の手段でドラム５及び外端６に強制的に
送られる。これはドラム５における平均操作温度
より低い温度に、縁９を超えてスクリーン１３に
落下する粒子を冷却する。

スクリーン１３を通過しない実物大の硫黄ペレ
ツトはドラム５に戻されず、又それらは方式を連
続的に操作するのを続けるために種又は核粒子で
置換されなければならない。これらの小さい粒子
は床１０の温度を断続的に短時間少くとも約4.4
℃（40〓）づゝ上昇することによつてドラム５で
生成することができる。床１０の温度が約71.1〜
104.4℃（160〜220〓）の範囲に上昇されるとき、
帯域３２において落下する粒子に噴射される液体
硫黄はすぐには完全に固化しない。噴射された硫
黄被覆は粒子の表面で僅かに軟かいか又は可塑性
のまゝになつている。この可塑性被覆を有する粒
子は床１０で転落するにつれ、他の粒子の摩耗作
用は約0.1〜1.0mmのサイズ範囲の直径を有するこ
の軟かい被覆の小さい粒子に摩擦又は分裂する。
分裂した小片は固化後、方式の種核となる。床１
０の温度は方式を連続的に操作せしめるに充分な
種核を生成するために時間の僅か約２％の間上昇
する必要がある。例えば20英トン／時の硫黄ペレ
ツトを生成する設備では、床１０の温度はドラム
操作時間の８時間毎に約10分間約4.4℃（40〓）
あげられると充分な種核が生成される。

斯くして、本発明の実施に当つては固体の硫黄
ペレツトが粒子の回転床１０より上昇させられる
落下粒子のカーテン２４へ溶融硫黄を噴射するこ
とによつて連続的に生成することができる。床及
び落下粒子のカーテンの温度は床又は落下カーテ
ンに直接水を噴射することなしで良質のペレツト
を生ずる温度範囲に低下される。その代り水は第
一カーテン２４より間隔をおいた位置で落下粒子
の別の異なつたカーテン２５に噴射される。これ
は水噴射を噴射された粒子の表面を溶融硫黄被覆
の粘着又は形状で妨げられることを防止する。粒
子の破壊は板２８によつて減ぜられる。ダスト放
出は入口端６において粒子返還流の一側面にダス
ト粒子を分級し、それから流れのその側面を溶融
硫黄で噴射することによつて調節される。これは
硫黄で被覆することによつてダスト粒子の大きさ
を非常に大きくする。種核は床１０の温度を新し
く噴射された粒子の上で被覆を短時間だけ可塑性
に保つ水準に断続的に上昇することによつて最終
ペレツトの品質を低下することなしで経済的に生
成される。これは床１０において転落する粒子間
の摩耗で種核に固化する硫黄の小片に擦り落すよ
うにしている。

本発明は特定の実例について記述しているが、
総ての均等の形式又はその分派をこゝに説明する
ことは意図しない。又使用している語は制限より
寧ろ記述の語で、種々の変化が本発明の精神又は
範囲を離れずに示される。特許請求の範囲は本発
明の真の精神及び範囲内で斯る変化を包含してい
る。

【図面の簡単な説明】

添付図面において、第１図は本発明による硫黄
ペレタイジング方式の一部縦断概略側面図、第２
図は第１図の２―２線に沿う断面図、第３図は第
１図の３―３線に沿う拡大断面図、第４図は第１
図の４―４線に沿う拡大断面図を示す。 図中、５……ドラム、６……入口端、７……出
口端、１０……床、２２……粒子上昇受け板、２
４，２５……カーテン、２７，２８……偏向板、
３１……硫黄噴射ノズル、３４……増湿ノズル、
４０……冷却区域。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 固体粒子が２つの別々の落下するカーテンと
   して床（ベツド）に達するように降下される床
   （ベツド）上の帯域に、細長い床（ベツド）から
   前記固体粒子が連続的に運ばれ、こゝにおいて落
   下する粒子はその表面に固着する物質で噴射さ
   れ、それによつてペレツトが形成され、予定のサ
   イズに達している形成されたペレツトは床（ベツ
   ド）より除去されるペレツトの製造方法におい
   て、 固体粒子は硫黄粒子であり、かつ第１カーテン
   は溶融硫黄でだけ噴射され、第２カーテンは水で
   噴射されることを特徴とするペレツトの製造方
   法。 ２ 第１カーテンにおいて、降下する粒子は床の
   入口端から出口端へ向つて増加する量の固着物質
   で噴射される特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 細長い床の一方の縁は、細長い床の他方の縁
   より上に位置し、粒子が固着物質で噴射される第
   １カーテンは床の中心と床のより高い位置の細長
   い縁との間の位置で降下され、また粒子が湿潤さ
   れる他のカーテンは床の中心と床のより低い細長
   い縁との間の位置で降下される特許請求の範囲第
   １項及び第２項の何れか１項記載の方法。 ４ ペレツトは２〜20mmの範囲の直径に達したと
   き床から除かれる特許請求の範囲第１項乃至第３
   項の何れか１項記載の方法。 ５ 第２カーテンを水で噴射することによつて床
   の温度は49〜82℃の範囲に保たれる特許請求の範
   囲第１項乃至第４項の何れか１項記載の方法。 ６ 第２カーテンを水で噴射することによつて床
   上の帯域における温度は71〜93℃の範囲に保たれ
   る特許請求の範囲第１項乃至第５項の何れか１項
   記載の方法。 ７ 粒子上に噴射され、かつそれに固着する物質
   が落下して床に戻つたとき少くとも部分的に可塑
   性を残存するように床温度を短時間上昇し、かつ
   そこから粒子は床において磨耗されて新しいペレ
   ツト核を形成する特許請求の範囲第１項乃至第６
   項の何れか１項記載の方法。 ８ 短時間に床の温度を上昇せしめるには作業時
   間の２％が消費される特許請求の範囲第７項記載
   の方法。 ９ 第２カーテンの湿潤が間歇的に断続される短
   時間に床温度を上昇する特許請求の範囲第７項及
   び第８項の何れか１項記載の方法。 １０ 固着物質で噴射される第１カーテンは23〜
   30cmの厚さとなる特許請求の範囲第１項乃至第９
   項の何れか１項記載の方法。 １１ 温潤せる第２カーテンは25mmの厚さとなる
   特許請求の範囲第１項乃至第１０項の何れか１項
   記載の方法。 １２ 粒子又はペレツトは床から除かれる前に49
   〜71℃の範囲の温度に冷却される特許請求の範囲
   第１項乃至第１１項の何れか１項記載の方法。 １３ 未だ十分なサイズに達していない床の出口
   端で除去される粒子又はペレツトは分級、特に振
   動によつて分級され、かつダスト粒子は第３カー
   テンの一側で濃縮されるように降下する粒子の第
   ３カーテンにおいて入口端で床に降下され、而も
   第３カーテンのその側で固着物質が噴射され、そ
   れによつて粒子が逸散することから防止される特
   許請求の範囲第１項乃至第１２項の何れか１項記
   載の方法。 １４ 第３カーテンの他の側も固着物質で噴射さ
   れる特許請求の範囲第１３項記載の方法。 １５ 第３カーテンは25mmの厚さとなる特許請求
   の範囲第１３項及び第１４項の何れか１項記載の
   方法。 １６ 固体粒子の床１０を収容する回転円筒状ド
   ラム５、該回転ドラム５の内周に粒子が２つの
   別々のカーテンに離れている位置で落下するよう
   にドラムの中心に向つて突出し、粒子をドラムの
   上方帯域へ運びかつ偏向手段でそれに降下するよ
   うに設けられた受け板装置２２より成り、さらに 降下する一方の硫黄粒子を第１カーテン２４へ
   偏向する静置の第１偏向手段２７、第１カーテン
   を溶融硫黄で噴射する第１偏向手段２７の下に配
   置されている第１噴射手段３０，３１、降下する
   他方の硫黄粒子を第２カーテン２５へ偏向する静
   置の第２偏向手段２８、第２カーテンを水で噴射
   する第２偏向手段２８の下に配置されている第２
   噴射手段３４より成ることを特徴とする噴射手段
   より成る、２つの別々に落下するカーテンとして
   降下する粒子をその表面に固着する物質で噴射し
   てペレツトを形成するに当り、粒子は硫黄粒子で
   あり、第１カーテンは溶融硫黄で噴射され、かつ
   第２カーテンは水で噴射されるペレツトの製造装
   置。 １７ 回転ドラム５は開放入口端６と開放出口端
   ７とを備え、入口端６から出口端７に向かつて僅
   かに傾斜しているドラム軸を有する特許請求の範
   囲第１６記載のペレツト製造装置。 １８ 第１偏向手段２７は回転ドラム５を通じて
   軸方向に伸びている偏向板を包含し、該偏向板は
   ドラムの中心より上部に配置され、かつ第２偏向
   手段２８は回転ドラム５を通じて軸方向に伸びて
   いる偏向板を包含する特許請求の範囲第１６項記
   載のペレツト製造装置。 １９ 第１偏向手段２７はドラムの軸に垂直な面
   において、受け板装置２２の最高の位置にある上
   昇受け板を含む回転ドラム５の上方四分円内に少
   くとも大部分を有して、配置されている特許請求
   の範囲第１６項乃至第１８項の何れか１項記載の
   ペレツト製造装置。 ２０ 第２偏向手段２８はドラムの軸に垂直な面
   において、受け板装置２２の下降位置にある受け
   板を含む四分円に少くとも大部分を有して配置さ
   れている特許請求の範囲第１６項乃至第１９項の
   何れか１項記載のペレツト製造装置。 ２１ 受け板装置２２はドラムの中心に向かつて
   実質的にまつすぐに突出しかつその自由内端にお
   いて純角のチツプ２３を有する多数の受け板より
   成る特許請求の範囲第１６項乃至第２０項の何れ
   か１項記載の製造装置。 ２２ 回転ドラム５はその出口端で冷却区域４０
   を有し、そしてそれは粒子をあげるのに役立つて
   いる受け板４１を備えており、該受け板は略Ｃ―
   形の断面を有しているので落下粒子は冷却区域４
   ０を通じて略均一に分布するように降下される特
   許請求の範囲第１６項乃至第２１項の何れか１項
   記載のペレツト装置。