JPS6348223B2 - - Google Patents
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- JPS6348223B2 JPS6348223B2 JP59075381A JP7538184A JPS6348223B2 JP S6348223 B2 JPS6348223 B2 JP S6348223B2 JP 59075381 A JP59075381 A JP 59075381A JP 7538184 A JP7538184 A JP 7538184A JP S6348223 B2 JPS6348223 B2 JP S6348223B2
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- Fax Reproducing Arrangements (AREA)
- Facsimile Image Signal Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は画像処理装置に係り、特に画像濃度信
号に基いて画像を形成する画像処理装置に関す
る。
号に基いて画像を形成する画像処理装置に関す
る。
画像の黒白の調子を再現するのに銀塩等の記録
材料を用いる写真技術に於いては、連続的な調子
の再現、即ちハーフトーンの再現が可能である
が、しかし記録材料の種類に依つては露光量対濃
度曲線の露光量変化に対する濃度の変化が線形で
ある領域の狭いものがあり、この様な記録材料を
用いると画像の濃度変化に対して再現濃度が線形
に追従出来ない為、画像の中間調の欠けた質の悪
い画像が再現される欠点を有する。
材料を用いる写真技術に於いては、連続的な調子
の再現、即ちハーフトーンの再現が可能である
が、しかし記録材料の種類に依つては露光量対濃
度曲線の露光量変化に対する濃度の変化が線形で
ある領域の狭いものがあり、この様な記録材料を
用いると画像の濃度変化に対して再現濃度が線形
に追従出来ない為、画像の中間調の欠けた質の悪
い画像が再現される欠点を有する。
かかる記録材料の例としては、電子写真記録材
料、静電写真記録材料等を挙げる事が出来る。こ
の様な記録材料を用いた複写機が市場で実用に供
せられているが、これらの装置で中間調を再現し
ようとする場合にはオリジナル原稿を網点にした
ものを用いるが、最も効果のある方法である事は
周知の通りである。又、複写機に限らず、一般の
印刷分野でも連続階調を持つた写真等を印刷する
場合、網点方式を用いて中間調を表現している。
料、静電写真記録材料等を挙げる事が出来る。こ
の様な記録材料を用いた複写機が市場で実用に供
せられているが、これらの装置で中間調を再現し
ようとする場合にはオリジナル原稿を網点にした
ものを用いるが、最も効果のある方法である事は
周知の通りである。又、複写機に限らず、一般の
印刷分野でも連続階調を持つた写真等を印刷する
場合、網点方式を用いて中間調を表現している。
これに対して、光ビーム又は電子ビームを変調
偏向して情報記録を行うビーム走査型記録装置に
於いては、画像情報が一次元的に与えられる為、
複写機で適用されたと同様の網点を用いることは
困難である。
偏向して情報記録を行うビーム走査型記録装置に
於いては、画像情報が一次元的に与えられる為、
複写機で適用されたと同様の網点を用いることは
困難である。
第1図は、本発明の適用対象となる従来のレー
ザ・ビーム記録装置の基本的な構成を模式的に示
した概略構成図である。
ザ・ビーム記録装置の基本的な構成を模式的に示
した概略構成図である。
レーザ発振器1より発振されたレーザビーム
は、反射ミラー2を介して変調器3の入力開口に
導かれる。反射鏡2は、装置のスペースを小さく
すべく光路を屈曲させるために挿入されるもの
で、必要なければ、除去されるものである。
は、反射ミラー2を介して変調器3の入力開口に
導かれる。反射鏡2は、装置のスペースを小さく
すべく光路を屈曲させるために挿入されるもの
で、必要なければ、除去されるものである。
変調器3には、公知の音響光学効果を利用した
音響光学変調素子又は、電気光学効果を利用した
電気光学素子が用いられる。
音響光学変調素子又は、電気光学効果を利用した
電気光学素子が用いられる。
変調器3において、レーザビームは、変調器3
への入力信号に従つて、強弱の変調を受ける。ま
た、レーザ発振器が、半導体レーザの場合、ある
いは、ガスレーザ等においても電流変調が可能な
型あるいは、変調素子を発振光路中に組み込んだ
型の内部変調型のレーザを使用するにあたつて
は、変調器3は省略され直接ビームエキスパンダ
ー4に導かれる。
への入力信号に従つて、強弱の変調を受ける。ま
た、レーザ発振器が、半導体レーザの場合、ある
いは、ガスレーザ等においても電流変調が可能な
型あるいは、変調素子を発振光路中に組み込んだ
型の内部変調型のレーザを使用するにあたつて
は、変調器3は省略され直接ビームエキスパンダ
ー4に導かれる。
変調器3からのレーザビームはビームエキスパ
ンダーにより平行光のままビーム径が拡大され
る。さらに、ビーム径が拡大されたレーザビーム
は鏡面を1個ないし複数個有する多面体回転鏡5
に入射される。多面体回転鏡5は高精度の軸受
(例えば、空気軸受)に支えられた軸に取り付け
られ、定速回転(例えばヒステリシスシンクロナ
スモータ、DCサーボモータ)のモータ6により
駆動される。多面体回転鏡5により、水平に掃引
されるレーザビーム12はf―θ特性を有する結
像レンズ7により、感光ドラム8上にスポツトと
して結像される。一般の結像レンズでは、光線の
入射角θの時、像面上での結像する位置rについ
て、 r=f・tanθ―(1)(f:結像レンズの焦点距
離)なる関係があり、本実施例のように、一定の
多面体回転鏡5により、反射されるレーザビーム
12は結像レンズ7への入射角が、時間と共に一
次関数的に変化する。従つて、像面たる感光ドラ
ム8上での結像されたスポツト位置の移動速度
は、非直線的に変化し一定ではない。すなわち、
入射角が大きくなる点で移動速度が増加する。従
つて、一定時間間隔で、レーザビームをONにし
て、スポツト列を感光ドラム8上に描くと、それ
らの間隔は両端が中央部に比較して広くなる。こ
の現象を避けるため、結像レンズ7は、 r=f・θ ―(2) なる特性を有するべく設計される。
ンダーにより平行光のままビーム径が拡大され
る。さらに、ビーム径が拡大されたレーザビーム
は鏡面を1個ないし複数個有する多面体回転鏡5
に入射される。多面体回転鏡5は高精度の軸受
(例えば、空気軸受)に支えられた軸に取り付け
られ、定速回転(例えばヒステリシスシンクロナ
スモータ、DCサーボモータ)のモータ6により
駆動される。多面体回転鏡5により、水平に掃引
されるレーザビーム12はf―θ特性を有する結
像レンズ7により、感光ドラム8上にスポツトと
して結像される。一般の結像レンズでは、光線の
入射角θの時、像面上での結像する位置rについ
て、 r=f・tanθ―(1)(f:結像レンズの焦点距
離)なる関係があり、本実施例のように、一定の
多面体回転鏡5により、反射されるレーザビーム
12は結像レンズ7への入射角が、時間と共に一
次関数的に変化する。従つて、像面たる感光ドラ
ム8上での結像されたスポツト位置の移動速度
は、非直線的に変化し一定ではない。すなわち、
入射角が大きくなる点で移動速度が増加する。従
つて、一定時間間隔で、レーザビームをONにし
て、スポツト列を感光ドラム8上に描くと、それ
らの間隔は両端が中央部に比較して広くなる。こ
の現象を避けるため、結像レンズ7は、 r=f・θ ―(2) なる特性を有するべく設計される。
この様な結像レンズ7をf―θレンズと称す
る。さらに、平行光を結像レンズでスポツト状に
結像させる場合、そのスポツト最小径dminは、 dmin=εfλ/A ―(3) 但しf;結像レンズの焦点距離 λ;用いられる光の波長 A;結像レンズの入射開口又は入射ビーム
径が小さければ入射ビームの拡り ε;ビーム形状に依存する定数 で与えられ、f,λが一定の場合Aを大きくすれ
ばより小さいスポツト径dminが得られる。先に
述べたビームエキスパンダー4は、この効果を与
えるために用いられる。従つて、必要なdminが
レーザ発振器のビーム径によつて得られる場合に
はビームエキスパンダー4は省略される。
る。さらに、平行光を結像レンズでスポツト状に
結像させる場合、そのスポツト最小径dminは、 dmin=εfλ/A ―(3) 但しf;結像レンズの焦点距離 λ;用いられる光の波長 A;結像レンズの入射開口又は入射ビーム
径が小さければ入射ビームの拡り ε;ビーム形状に依存する定数 で与えられ、f,λが一定の場合Aを大きくすれ
ばより小さいスポツト径dminが得られる。先に
述べたビームエキスパンダー4は、この効果を与
えるために用いられる。従つて、必要なdminが
レーザ発振器のビーム径によつて得られる場合に
はビームエキスパンダー4は省略される。
ビーム検出器18は、小さな入射スリツトと、
応答時間の速い光電変換素子(例えばPINダイオ
ード)から成る。ビーム検出器18は、掃引され
るレーザビーム12の位置を検出し、この検出信
号をもつて、感光ドラム上に所望の光情報を与え
るための変調器3への入力信号のスタートのタイ
ミングを決定する。これにより、多面体回転鏡5
の各反射面の分割精度の誤差および、回転ムラに
よる、水平方向の信号の同期ずれを、大幅に軽減
でき、質の良い画像が得られると共に、多面体回
転鏡5及び駆動モーター6に要求される精度の許
容範囲が大きくなり、より安価に製作できるもの
である。
応答時間の速い光電変換素子(例えばPINダイオ
ード)から成る。ビーム検出器18は、掃引され
るレーザビーム12の位置を検出し、この検出信
号をもつて、感光ドラム上に所望の光情報を与え
るための変調器3への入力信号のスタートのタイ
ミングを決定する。これにより、多面体回転鏡5
の各反射面の分割精度の誤差および、回転ムラに
よる、水平方向の信号の同期ずれを、大幅に軽減
でき、質の良い画像が得られると共に、多面体回
転鏡5及び駆動モーター6に要求される精度の許
容範囲が大きくなり、より安価に製作できるもの
である。
上記のごとく、偏向、変調されたレーザビーム
12は、感光ドラム8に照射され、電子写真処理
プロセスにより顕像化された後、普通紙に転写、
定着されハードコピーとして出力される。
12は、感光ドラム8に照射され、電子写真処理
プロセスにより顕像化された後、普通紙に転写、
定着されハードコピーとして出力される。
次に印刷部20について第2図を参照しつつ説
明する。
明する。
本実施例に適用される電子写真プロセスの1例
として本出願人の特公昭42―23910号公報に記載
のごとく、導電性支持体、光導電性層および絶縁
層を基本構成体とする感光板8の絶縁層表面を、
第1のコロナ帯電器9によりあらかじめ正または
負に一様に帯電し、光導電性層と絶縁層の界面も
しくは、光導電性層内部に前記帯電極性と逆極性
の電荷を捕獲せしめ、次に前記被帯電絶縁層表面
に前記レーザー光12を照射すると同時に、交流
コロナ放電器10による交流コロナ放電を当て、
前記レーザー光12の明暗のパターンに従つて生
ずる表面電位の差によるパターンを、前記絶縁層
表面上に形成し、前記絶縁層表面全面を一様に露
光し、コントラストの高い静電像を前記絶縁層表
面上に形成し、さらには前記静電像を荷電着色粒
子を主体とする現像剤にて現像装置13により現
像して可視化したのち、紙等の転写材11に前記
可視像を内部もしくは外部電界を利用して転写
し、次に、赤外線ランプ、熱板等による定着手段
15によつて転写像を定着して電子写真プリント
像を得、一方転写が行われた後、前記絶縁層表面
をクリーニング装置16によりクリーニングして
残存する荷電粒子を除去し、前記感光板8を繰り
返し使用するものである。
として本出願人の特公昭42―23910号公報に記載
のごとく、導電性支持体、光導電性層および絶縁
層を基本構成体とする感光板8の絶縁層表面を、
第1のコロナ帯電器9によりあらかじめ正または
負に一様に帯電し、光導電性層と絶縁層の界面も
しくは、光導電性層内部に前記帯電極性と逆極性
の電荷を捕獲せしめ、次に前記被帯電絶縁層表面
に前記レーザー光12を照射すると同時に、交流
コロナ放電器10による交流コロナ放電を当て、
前記レーザー光12の明暗のパターンに従つて生
ずる表面電位の差によるパターンを、前記絶縁層
表面上に形成し、前記絶縁層表面全面を一様に露
光し、コントラストの高い静電像を前記絶縁層表
面上に形成し、さらには前記静電像を荷電着色粒
子を主体とする現像剤にて現像装置13により現
像して可視化したのち、紙等の転写材11に前記
可視像を内部もしくは外部電界を利用して転写
し、次に、赤外線ランプ、熱板等による定着手段
15によつて転写像を定着して電子写真プリント
像を得、一方転写が行われた後、前記絶縁層表面
をクリーニング装置16によりクリーニングして
残存する荷電粒子を除去し、前記感光板8を繰り
返し使用するものである。
第1図,第2図示の如き構成に於いて、画像記
録は、第3図の説明図に示す如くして行なわれる
ものである。即ち、回動している感光ドラム8
は、極めて速い速度で走査されているレーザビー
ム12の走査方向24に対して直角な矢印26の
方向にゆるやかな副走査を与えており、従つて、
変調器3に依つて黒又は白に対応する変調を受け
たレーザ・ビーム12は前記感光ドラム8上に矢
印24で示される主走査方向に極めて速い速度で
繰り返して、また矢印26で示される副走査方向
にゆるやかな速度でそれぞれ走引される飛点22
を形成する。この飛点22は、その主走査方向2
4及び副走査方向26のそれぞれの位置に応じ
て、変調器3に依る輝度変調を受け、前記感光ド
ラム8上に所望の潜像を形成するものである。ち
なみに、前記レーザ・ビーム12は輝度の大きい
方向へ変調を受けた場合、感光ドラム8に対して
黒レベルを与え、輝度の小さい方向への変調を受
けた場合該ドラム8に対して白レベルを与えるも
のである。
録は、第3図の説明図に示す如くして行なわれる
ものである。即ち、回動している感光ドラム8
は、極めて速い速度で走査されているレーザビー
ム12の走査方向24に対して直角な矢印26の
方向にゆるやかな副走査を与えており、従つて、
変調器3に依つて黒又は白に対応する変調を受け
たレーザ・ビーム12は前記感光ドラム8上に矢
印24で示される主走査方向に極めて速い速度で
繰り返して、また矢印26で示される副走査方向
にゆるやかな速度でそれぞれ走引される飛点22
を形成する。この飛点22は、その主走査方向2
4及び副走査方向26のそれぞれの位置に応じ
て、変調器3に依る輝度変調を受け、前記感光ド
ラム8上に所望の潜像を形成するものである。ち
なみに、前記レーザ・ビーム12は輝度の大きい
方向へ変調を受けた場合、感光ドラム8に対して
黒レベルを与え、輝度の小さい方向への変調を受
けた場合該ドラム8に対して白レベルを与えるも
のである。
しかし、かかる構成に依れば、一次元的な動き
をする1個の飛点22に依つて画像を構成する
為、画像に濃度変化を与える事は困難である。即
ち、先にも述べた様に、レーザビーム12に対し
て、変調器3に依つて、濃度変化に対応した、変
調を与えたとしても、感光ドラム8の性質上、良
好な中間調を得る事は難しい。
をする1個の飛点22に依つて画像を構成する
為、画像に濃度変化を与える事は困難である。即
ち、先にも述べた様に、レーザビーム12に対し
て、変調器3に依つて、濃度変化に対応した、変
調を与えたとしても、感光ドラム8の性質上、良
好な中間調を得る事は難しい。
従つて、本発明の目的は上記従来技術の欠点を
なくし、階調度の高い中間調画像の形成を簡単な
構成で可能ならしめた画像処理装置を提供するに
ある。
なくし、階調度の高い中間調画像の形成を簡単な
構成で可能ならしめた画像処理装置を提供するに
ある。
更に詳細には、本発明は変調信号に基づいて変
調されたビームにより記録媒体上を走査して画像
を記録する装置であつて、画像を構成する画素を
複数のサブ画素に分割するとともに前記サブ画素
の発生個数により中間調画像を形成する記録装置
において、1画素当りの画像濃度をパラレルな複
数ビツトのコード信号として発生する濃度コード
信号発生手段(第23図148)と、濃度画像を
再生するためにビームを発生させるか否か及びビ
ームを発生したときのビームの強度を示す複数ビ
ツトのデータを記憶したメモリ(第23図150
―1〜150―3)と、上記濃度コード信号発生
手段からの1画素当りの上記濃度コード信号によ
り上記メモリのデータを選択するべく上記メモリ
に上記濃度コード信号を入力する手段(第23図
152)と、上記メモリから出力された上記デー
タを入力して、上記データがビームを発生させか
つビーム強度を強くすることを示すデータである
ときは上記ビームを分割し複数のサブ画素を発生
させるための制御信号を出力し、上記データがビ
ーム強度を強くすることなくビームを発生させる
ことを示すデータであるときは上記ビームを分割
することなく単一のサブ画素を発生させるための
制御信号を出力する制御手段(第23図138,
140)とを有した画像処理装置を提供するもの
である。
調されたビームにより記録媒体上を走査して画像
を記録する装置であつて、画像を構成する画素を
複数のサブ画素に分割するとともに前記サブ画素
の発生個数により中間調画像を形成する記録装置
において、1画素当りの画像濃度をパラレルな複
数ビツトのコード信号として発生する濃度コード
信号発生手段(第23図148)と、濃度画像を
再生するためにビームを発生させるか否か及びビ
ームを発生したときのビームの強度を示す複数ビ
ツトのデータを記憶したメモリ(第23図150
―1〜150―3)と、上記濃度コード信号発生
手段からの1画素当りの上記濃度コード信号によ
り上記メモリのデータを選択するべく上記メモリ
に上記濃度コード信号を入力する手段(第23図
152)と、上記メモリから出力された上記デー
タを入力して、上記データがビームを発生させか
つビーム強度を強くすることを示すデータである
ときは上記ビームを分割し複数のサブ画素を発生
させるための制御信号を出力し、上記データがビ
ーム強度を強くすることなくビームを発生させる
ことを示すデータであるときは上記ビームを分割
することなく単一のサブ画素を発生させるための
制御信号を出力する制御手段(第23図138,
140)とを有した画像処理装置を提供するもの
である。
以下本発明の画像処理装置を、電子写真材料上
に変調されたレーザ・ビームを走査して所要の画
像記録を行なう第1図示の如きレーザ・ビーム記
録装置を例にとつて更に詳細に説明する。
に変調されたレーザ・ビームを走査して所要の画
像記録を行なう第1図示の如きレーザ・ビーム記
録装置を例にとつて更に詳細に説明する。
第4図は本実施例における処理装置を説明する
為の説明図であるが、第4図に於いては、画像を
構成する1つの画素28を更に細かなサブ画素3
0に分けて、1つの画素28中のサブ画素30の
黒レベルに変調されたものの個数を制御する事に
依り画素28の濃度を変化させる如き構成を採つ
ている。即ち、第5図に示す如く、画素28中の
サブ画素30の黒レベル変調された個数に依つ
て、視覚的には段階的な階調の濃度を得る事が出
来るものである。従つて、黒レベルに変調された
サブ画素30の個数を適宜制御された画素28の
組合せに依つて、中間調を含む画像記録が可能と
なるものである。
為の説明図であるが、第4図に於いては、画像を
構成する1つの画素28を更に細かなサブ画素3
0に分けて、1つの画素28中のサブ画素30の
黒レベルに変調されたものの個数を制御する事に
依り画素28の濃度を変化させる如き構成を採つ
ている。即ち、第5図に示す如く、画素28中の
サブ画素30の黒レベル変調された個数に依つ
て、視覚的には段階的な階調の濃度を得る事が出
来るものである。従つて、黒レベルに変調された
サブ画素30の個数を適宜制御された画素28の
組合せに依つて、中間調を含む画像記録が可能と
なるものである。
第4図示の如く、1つの画素28を9個のサブ
画素30に分けて構成した場合、1つの画素28
中のサブ画素30の黒変調個数に依つて、0個か
ら9個まで10段階の濃度調節が可能となる。第6
図は、かかる10段階の濃度に対する1つの画素2
8中のサブ画素30の黒レベル変調状態を例示す
るものである。
画素30に分けて構成した場合、1つの画素28
中のサブ画素30の黒変調個数に依つて、0個か
ら9個まで10段階の濃度調節が可能となる。第6
図は、かかる10段階の濃度に対する1つの画素2
8中のサブ画素30の黒レベル変調状態を例示す
るものである。
以上述べた例では、1つの画素28を3×3=
9個のサブ画像30で構成してあるが、第4図示
の如く画素28を複数個のサブ画素30に分割し
て画素の濃度を変化させる事が出来る。第6図に
示す如く、1つの画素28中のサブ画素30の数
を増減する事に依つて、第5図に示す如く、ほぼ
線型に変化する画素濃度Dを得る事が出来るもの
である。
9個のサブ画像30で構成してあるが、第4図示
の如く画素28を複数個のサブ画素30に分割し
て画素の濃度を変化させる事が出来る。第6図に
示す如く、1つの画素28中のサブ画素30の数
を増減する事に依つて、第5図に示す如く、ほぼ
線型に変化する画素濃度Dを得る事が出来るもの
である。
次に、第1図に示す如き構成を有するレーザビ
ーム記録装置に於いて、1つの画素を複数個のサ
ブ画素に分けた上で、所望の画像濃度が得られる
様に適宜個数のサブ画素に対して黒レベルの変調
を与える為の実施例について説明する。
ーム記録装置に於いて、1つの画素を複数個のサ
ブ画素に分けた上で、所望の画像濃度が得られる
様に適宜個数のサブ画素に対して黒レベルの変調
を与える為の実施例について説明する。
中間調記録のための画像処理装置は、第7図に
示す如く1つの画素を主走査方向に4列、副走査
方向に4行配列した合計16個のサブ画素で構成
し、レーザビームを4回主走査する間に、各サブ
画素に適宜黒レベル変調を与え、所望の濃度を得
ようとするものである。即ち、これは画像を構成
する各画素28―1,28―2,28―3のそれ
ぞれに対して、17段階の階調(黒レベルのサブ画
素が0個〜16個)を与えるべく、レーザビームに
対して、主走査方向と副走査方向の適宜位置で、
黒レベル変調を与え、結果的に1つの画素28中
のサブ画素30の個数を所望の数に制御しようと
するものである。かかる構成の、画像処理装置
は、その基本的な構成は第1図示の構成とは変ら
ず、変調器3の制御回路にサブ画素30の数を制
御する様な構成を適用している。
示す如く1つの画素を主走査方向に4列、副走査
方向に4行配列した合計16個のサブ画素で構成
し、レーザビームを4回主走査する間に、各サブ
画素に適宜黒レベル変調を与え、所望の濃度を得
ようとするものである。即ち、これは画像を構成
する各画素28―1,28―2,28―3のそれ
ぞれに対して、17段階の階調(黒レベルのサブ画
素が0個〜16個)を与えるべく、レーザビームに
対して、主走査方向と副走査方向の適宜位置で、
黒レベル変調を与え、結果的に1つの画素28中
のサブ画素30の個数を所望の数に制御しようと
するものである。かかる構成の、画像処理装置
は、その基本的な構成は第1図示の構成とは変ら
ず、変調器3の制御回路にサブ画素30の数を制
御する様な構成を適用している。
第8図は、画像を構成する画素28に17段階の
階調を与える為の、各サブ画素30の黒レベル変
調状態を例示するものであるが、同図1に示す如
く、黒レベル変調されたサブ画素30が1個もな
い場合、画素28の濃度は最も明るく、2〜16
に示す如く、黒レベル変調されたサブ画素30が
増加してゆくに従つて画素28の濃度は段階的に
暗くなつてゆき、17に示す如く、画素28を構
成する全てのサブ画素30が黒レベル変調された
場合、画素28の濃度は最も暗くなる。
階調を与える為の、各サブ画素30の黒レベル変
調状態を例示するものであるが、同図1に示す如
く、黒レベル変調されたサブ画素30が1個もな
い場合、画素28の濃度は最も明るく、2〜16
に示す如く、黒レベル変調されたサブ画素30が
増加してゆくに従つて画素28の濃度は段階的に
暗くなつてゆき、17に示す如く、画素28を構
成する全てのサブ画素30が黒レベル変調された
場合、画素28の濃度は最も暗くなる。
第9図は、中間調記録のための画像処理装置の
変調制御回路の回路構成図であるが、同図示構成
に於いて、一画素に対する変調制御信号は5ビツ
トのデイジタル値で与えられる。この5ビツトの
制御信号は、主走査線方向に並ぶ全ての画素に対
応して、順次信号線50を通じてシリアルイン・
パラレルアウト・シフトレジスタ52に入力され
るが、この制御信号の第1ビツト目A0は画素2
8が完全に白レベルにある時、“1”それ以外の
時には“0”となる如く設定され、また第2〜5
ビツト目までの4ビツトA1〜A4は、画素28
が黒レベル変調を受けるサブ画素30を含む場合
に、その個数を設定する為に設けられる。
変調制御回路の回路構成図であるが、同図示構成
に於いて、一画素に対する変調制御信号は5ビツ
トのデイジタル値で与えられる。この5ビツトの
制御信号は、主走査線方向に並ぶ全ての画素に対
応して、順次信号線50を通じてシリアルイン・
パラレルアウト・シフトレジスタ52に入力され
るが、この制御信号の第1ビツト目A0は画素2
8が完全に白レベルにある時、“1”それ以外の
時には“0”となる如く設定され、また第2〜5
ビツト目までの4ビツトA1〜A4は、画素28
が黒レベル変調を受けるサブ画素30を含む場合
に、その個数を設定する為に設けられる。
54―0〜54―4は前記5ビツトの制御信号
を1走査分パラレルに記憶する為のシフトレジス
タであつて、アンド・ゲート58―0〜58―
4、オア・ゲート60―0〜60―4を通じて蓄
積データの循環を行うと共に、アンド・ゲート5
6―0〜56―4を通じて、新規の蓄積データの
取り込みを行う如く構成されるものである。この
シフト・レジスタ54―0〜54―4は信号線7
4を通じてデータ読込み指令が与えられると、ア
ンド・ゲート56―0〜56―4を通じて前記シ
フトレジスタ52から、それぞれ制御信号A0〜
A4の各ビツトを取り込む事となる。この時、前
記データ読み込み指令はインバータ76を通じて
前記アンド・ゲート58―0〜58―4に与えら
れ、該ゲートを規制するので、前記シフト・レジ
スタ54―0〜54―4のデータ循環は行なわれ
ない。
を1走査分パラレルに記憶する為のシフトレジス
タであつて、アンド・ゲート58―0〜58―
4、オア・ゲート60―0〜60―4を通じて蓄
積データの循環を行うと共に、アンド・ゲート5
6―0〜56―4を通じて、新規の蓄積データの
取り込みを行う如く構成されるものである。この
シフト・レジスタ54―0〜54―4は信号線7
4を通じてデータ読込み指令が与えられると、ア
ンド・ゲート56―0〜56―4を通じて前記シ
フトレジスタ52から、それぞれ制御信号A0〜
A4の各ビツトを取り込む事となる。この時、前
記データ読み込み指令はインバータ76を通じて
前記アンド・ゲート58―0〜58―4に与えら
れ、該ゲートを規制するので、前記シフト・レジ
スタ54―0〜54―4のデータ循環は行なわれ
ない。
66―1〜66―4は前記制御信号に基いて、
第8図に示す如きサブ画素30の変調信号を得る
為の信号変換器であつて、66―1は第7図示走
査線24―1に対応する変調信号の出力を行い、
66―2,66―3,66―4はそれぞれ走査線
24―2〜24―4に対応する変調信号の出力を
行う。この変換器66―1〜66―4の各出力S
1〜S4は、1つの画素28を構成するサブ画素
30のそれぞれに対応するもので、変換器66―
1の出力S1〜S4は第10図示のサブ画素S1
1〜S14に対応し、変換器66―2の出力S1
〜S4は、サブ画素S21〜S24に対応し、変
換器66―3の出力S1〜S4は、サブ画素S3
1〜S34に対応し、変換器66―4の出力S1
〜S4は、サブ画素S41〜S44に対応するも
のである。即ち、前記変換器66―1は、第7図
示の走査線24―1に対応する変調信号を、同6
6―2は、走査線24―2に対応する変調信号
を、同66―3は走査線24―3に対応する変調
信号を、同66―4を走査線24―4に対応する
変調信号をそれぞれ受け持つものである。
第8図に示す如きサブ画素30の変調信号を得る
為の信号変換器であつて、66―1は第7図示走
査線24―1に対応する変調信号の出力を行い、
66―2,66―3,66―4はそれぞれ走査線
24―2〜24―4に対応する変調信号の出力を
行う。この変換器66―1〜66―4の各出力S
1〜S4は、1つの画素28を構成するサブ画素
30のそれぞれに対応するもので、変換器66―
1の出力S1〜S4は第10図示のサブ画素S1
1〜S14に対応し、変換器66―2の出力S1
〜S4は、サブ画素S21〜S24に対応し、変
換器66―3の出力S1〜S4は、サブ画素S3
1〜S34に対応し、変換器66―4の出力S1
〜S4は、サブ画素S41〜S44に対応するも
のである。即ち、前記変換器66―1は、第7図
示の走査線24―1に対応する変調信号を、同6
6―2は、走査線24―2に対応する変調信号
を、同66―3は走査線24―3に対応する変調
信号を、同66―4を走査線24―4に対応する
変調信号をそれぞれ受け持つものである。
かかる変換器66―1〜66―4は、更に詳細
には、第11図に示す如き構成を有するものであ
る。同図中、80は4ビツトの入力信号D1〜D
4をデコードして、16ビツトの出力O0〜O15
の1つに、“1”出力を行う4ライン―16ライン
デコーダで、82は前記4ライン―16ラインデコ
ーダ80の出力に基いて、予め定められた4ビツ
トの信号R1〜R4を出力するROM、84―1
〜84―4は、前記4ビツトの信号R1〜R4を
出力線S1〜S4に導くアンド・ゲートである。
前記アンド・ゲート84―1〜84―4はアン
ド・ゲート86からも信号入力を受けているが、
このアンド・ゲート86には、ENA端子からの
信号とINH端子からインバータ88を通じて反
転された信号が入力されており、従つて、前記ア
ンド・ゲート84―1〜84―4は、INH端子
からの信号入力がなく、且つENA端子からの信
号入力がある時に、前記ROM82の出力R1〜
R4を出力線S1〜S4に出力させるものであ
る。
には、第11図に示す如き構成を有するものであ
る。同図中、80は4ビツトの入力信号D1〜D
4をデコードして、16ビツトの出力O0〜O15
の1つに、“1”出力を行う4ライン―16ライン
デコーダで、82は前記4ライン―16ラインデコ
ーダ80の出力に基いて、予め定められた4ビツ
トの信号R1〜R4を出力するROM、84―1
〜84―4は、前記4ビツトの信号R1〜R4を
出力線S1〜S4に導くアンド・ゲートである。
前記アンド・ゲート84―1〜84―4はアン
ド・ゲート86からも信号入力を受けているが、
このアンド・ゲート86には、ENA端子からの
信号とINH端子からインバータ88を通じて反
転された信号が入力されており、従つて、前記ア
ンド・ゲート84―1〜84―4は、INH端子
からの信号入力がなく、且つENA端子からの信
号入力がある時に、前記ROM82の出力R1〜
R4を出力線S1〜S4に出力させるものであ
る。
前記各変換器66―1〜66―4の各出力S1
〜S4は、S1出力がオア・ゲート68―1に、
S2出力がオア・ゲート68―2に、S3出力が
オア・ゲート68―3に、S4出力がオア・ゲー
ト68―4にそれぞれ与えられており、前記各オ
ア・ゲート68―1〜68―4の出力は、パラレ
ル―イン―シリアルアウトシフト・レジスタ70
のC1〜C4入力となる。ちなみに、このシフ
ト・レジスタ70のシリアル出力は、不図示のド
ライバを通じて、レザービームの変調器に与えら
れるものである。なお、前記オア・ゲート68―
1は第10図示のサブ画素S11,S21,S3
1,S41に対応し、同68―2はサブ画素S1
2,S22,S32,S42に対応し、同68―
3はサブ画素S13,S23,S33,S43に
対応し、同68―4はサブ画素S14,S24,
S34,S44に対応するものである。
〜S4は、S1出力がオア・ゲート68―1に、
S2出力がオア・ゲート68―2に、S3出力が
オア・ゲート68―3に、S4出力がオア・ゲー
ト68―4にそれぞれ与えられており、前記各オ
ア・ゲート68―1〜68―4の出力は、パラレ
ル―イン―シリアルアウトシフト・レジスタ70
のC1〜C4入力となる。ちなみに、このシフ
ト・レジスタ70のシリアル出力は、不図示のド
ライバを通じて、レザービームの変調器に与えら
れるものである。なお、前記オア・ゲート68―
1は第10図示のサブ画素S11,S21,S3
1,S41に対応し、同68―2はサブ画素S1
2,S22,S32,S42に対応し、同68―
3はサブ画素S13,S23,S33,S43に
対応し、同68―4はサブ画素S14,S24,
S34,S44に対応するものである。
前記変換器66―1〜66―4の各ENA端子
には、リング・カウンタ72のB1〜B4出力が
与えられる。このリング・カウンタ72は、信号
線90からの信号に依つてB1〜B4の各端子か
ら順次繰り返して信号出力を行うが、この信号線
90からは、1回の主走査毎に信号出力がなされ
るもので、前記B1〜B4の各端子出力は、第7
図示走査線24―1〜24―4の走査期間にそれ
ぞれ対応して出力されるものである。
には、リング・カウンタ72のB1〜B4出力が
与えられる。このリング・カウンタ72は、信号
線90からの信号に依つてB1〜B4の各端子か
ら順次繰り返して信号出力を行うが、この信号線
90からは、1回の主走査毎に信号出力がなされ
るもので、前記B1〜B4の各端子出力は、第7
図示走査線24―1〜24―4の走査期間にそれ
ぞれ対応して出力されるものである。
即ち、飛点22が、第1の走査線24―1上を
掃引されている時は、変換器66―1の出力に基
いて、同じく第2の走査線24―2上を掃引され
ている時は、変換器66―2の出力に基いて、同
じく第3の走査線24―3上を掃引されている時
は、変換器66―3の出力に基いて、同じく第4
の走査線24―4上を掃引されている時は、変換
器66―4の出力に基いて、それぞれ変調器の制
御が行なわれるものである。
掃引されている時は、変換器66―1の出力に基
いて、同じく第2の走査線24―2上を掃引され
ている時は、変換器66―2の出力に基いて、同
じく第3の走査線24―3上を掃引されている時
は、変換器66―3の出力に基いて、同じく第4
の走査線24―4上を掃引されている時は、変換
器66―4の出力に基いて、それぞれ変調器の制
御が行なわれるものである。
前記変換器66―1〜66―4の各入力D1〜
D4に対しては、オア・ゲート64―1〜64―
4から、濃度に対応する4ビツトパラレルの制御
信号が入力される訳であるが、このオア・ゲート
64―1〜64―4のそれぞれに対しては、アン
ド・ゲート56―1〜56―4及びアントゲ・ゲ
ート62―1〜62―4の出力が与えられてい
る。
D4に対しては、オア・ゲート64―1〜64―
4から、濃度に対応する4ビツトパラレルの制御
信号が入力される訳であるが、このオア・ゲート
64―1〜64―4のそれぞれに対しては、アン
ド・ゲート56―1〜56―4及びアントゲ・ゲ
ート62―1〜62―4の出力が与えられてい
る。
前記アンド・ゲート56―1〜56―4に対し
ては、シリアル・イン・パラレルアウトシフトレ
ジスタ52のA1〜A4出力が入力されており、
この出力は、信号線74からの取り込み信号が
“1”の時に、オア・ゲート64―1〜64―4
を通じて、前記変換器66―1〜66―4に与え
られる。即ち、飛点22が走査線24―1上を走
査している。第1回目の走査時に於いては、前記
シフト・レジスタ52を通じて、信号線52から
送られて来る制御信号をシフト・レジスタ54―
1〜54―4に蓄積すると同時に、変換器66―
1の出力に基く変調制御を行うものである。
ては、シリアル・イン・パラレルアウトシフトレ
ジスタ52のA1〜A4出力が入力されており、
この出力は、信号線74からの取り込み信号が
“1”の時に、オア・ゲート64―1〜64―4
を通じて、前記変換器66―1〜66―4に与え
られる。即ち、飛点22が走査線24―1上を走
査している。第1回目の走査時に於いては、前記
シフト・レジスタ52を通じて、信号線52から
送られて来る制御信号をシフト・レジスタ54―
1〜54―4に蓄積すると同時に、変換器66―
1の出力に基く変調制御を行うものである。
前記アンド・ゲート62―1〜62―4に対し
ては、前記各シフト・レジスタ54―1〜54―
4の出力が入力されており、この出力は、リン
グ・カウンタ72のB1出力が“1”でない時、
即ち飛点22が走査線24―1以外の走査線上を
走査している時に於いて、オア・ゲート64―1
〜64―4を通じて、前記変換器66―1〜66
―4に与えられる。即ち、飛点22が走査線24
―2〜24―4上を走査している、第2〜4回目
の走査時に於いては、前記シフト・レジスタ54
―1〜54―4に蓄積された濃度制御信号に基い
て、前記変換器66―2〜66―3の出力に応じ
た変調制御を行うものである。
ては、前記各シフト・レジスタ54―1〜54―
4の出力が入力されており、この出力は、リン
グ・カウンタ72のB1出力が“1”でない時、
即ち飛点22が走査線24―1以外の走査線上を
走査している時に於いて、オア・ゲート64―1
〜64―4を通じて、前記変換器66―1〜66
―4に与えられる。即ち、飛点22が走査線24
―2〜24―4上を走査している、第2〜4回目
の走査時に於いては、前記シフト・レジスタ54
―1〜54―4に蓄積された濃度制御信号に基い
て、前記変換器66―2〜66―3の出力に応じ
た変調制御を行うものである。
なお、前記シフト・レジスタ54―1〜54―
4の蓄積データは第2〜第4回目の各走査毎に繰
り返して用いられる為データの取り込み時以外
は、アンド・ゲート58―1〜58―4及びオ
ア・ゲート60―1〜60―4を通じて循環保持
される事となる。
4の蓄積データは第2〜第4回目の各走査毎に繰
り返して用いられる為データの取り込み時以外
は、アンド・ゲート58―1〜58―4及びオ
ア・ゲート60―1〜60―4を通じて循環保持
される事となる。
シリイルイン・パラレルアウト・シフトレジス
タ52の出力信号のうち、A0信号は、先にも述
べた様に、1つの画素28が何ら濃度制御を受け
ない場合に“1”となるもので、かかる制御信号
が入力された場合、前記変換器66―1〜66―
4の出力は全て“0”となる。これは、前記変換
器66―1〜66―4のINH端子に“1”信号
を入力する事に依つて行なわれるものであり、こ
の“1”信号はアンド・ゲート56―0及び64
―0の出力信号を入力されている。オア・ゲート
64―0から与えられる。
タ52の出力信号のうち、A0信号は、先にも述
べた様に、1つの画素28が何ら濃度制御を受け
ない場合に“1”となるもので、かかる制御信号
が入力された場合、前記変換器66―1〜66―
4の出力は全て“0”となる。これは、前記変換
器66―1〜66―4のINH端子に“1”信号
を入力する事に依つて行なわれるものであり、こ
の“1”信号はアンド・ゲート56―0及び64
―0の出力信号を入力されている。オア・ゲート
64―0から与えられる。
前記アンド・ゲート56―0に対しては、シリ
アルイン・パラレルアウト・シフトレジスタ52
のAO出力が入力されており、この出力は信号線
72からの取り込み信号が“1”の時に、オア・
ゲート、オア・64―0を通じて、前記変換器6
6―1〜66―4のINH端子に与えられる。即
ち、飛点22が走査線24―1上を走査しいる、
第1回目の走査時に於いては、前記シフトレジス
タ52を通じて、信号線52から送られて来る制
御信号のAOビツトをシフトレジスタ54―0に
蓄積すると同時に、変換器64―1〜66―4の
出力の規制制御を行うものである。前記アンド・
ゲート62―0に対しては、前記シフト・レジス
タ54―0の出力が入力されており、この出力
は、リング・カウンタ72のB1出力が“1”で
ない時、即ち、飛点22が走査線24―1以外の
走査線上を走査している時に於いて、オア・ゲー
ト64―0を通じて前記変換器66―1〜66―
4のINH端子に与えられる。即ち、飛点22が
走査線24―2〜24―4上を走査している第2
〜4回目の走査時に於いては、前記シフト・レジ
スタ54―0に蓄積された制御信号に基いて、前
記変換器66―1〜66―4の出力の規制制御を
行うものである。
アルイン・パラレルアウト・シフトレジスタ52
のAO出力が入力されており、この出力は信号線
72からの取り込み信号が“1”の時に、オア・
ゲート、オア・64―0を通じて、前記変換器6
6―1〜66―4のINH端子に与えられる。即
ち、飛点22が走査線24―1上を走査しいる、
第1回目の走査時に於いては、前記シフトレジス
タ52を通じて、信号線52から送られて来る制
御信号のAOビツトをシフトレジスタ54―0に
蓄積すると同時に、変換器64―1〜66―4の
出力の規制制御を行うものである。前記アンド・
ゲート62―0に対しては、前記シフト・レジス
タ54―0の出力が入力されており、この出力
は、リング・カウンタ72のB1出力が“1”で
ない時、即ち、飛点22が走査線24―1以外の
走査線上を走査している時に於いて、オア・ゲー
ト64―0を通じて前記変換器66―1〜66―
4のINH端子に与えられる。即ち、飛点22が
走査線24―2〜24―4上を走査している第2
〜4回目の走査時に於いては、前記シフト・レジ
スタ54―0に蓄積された制御信号に基いて、前
記変換器66―1〜66―4の出力の規制制御を
行うものである。
以上、述べた如き構成に於いて、第8図に示す
如きサブ画素の変調に依つて濃度段階を得る為に
は、A1〜A4で与える濃度信号に対して、変換
器66―1〜66―4の各ROM82は、第12
図に示す如き出力を行えばよい。
如きサブ画素の変調に依つて濃度段階を得る為に
は、A1〜A4で与える濃度信号に対して、変換
器66―1〜66―4の各ROM82は、第12
図に示す如き出力を行えばよい。
今、画素28の主走査方向への1ライン分の5
ビツト濃度情報が、信号線50を通じてレジスタ
52に入力されると、該情報は5ビツトのパラレ
ルデータA0〜A4としてアンド・ゲート56―
0〜56―4に与えられる。このデータ読み込み
時に於いては、信号線74を通じて、ハイレベル
信号の入力が行なわれている為、アンド・ゲート
58―0〜58―4に対してはインバータ76を
通じてロウレベル信号が印加され、対応するシフ
トレジスタ54―0〜54―4のデータの循環が
禁止され、同時に、前記信号線入力を受けている
アンド・ゲート56―0〜56―4は導通とな
り、前記シフトレジスタ54―0〜54―4に対
する5ビツトのパラレルデータA0〜A4の取り
込み記憶が行なわれる。前記アンド・ゲート56
―0〜56―4を通じて入力されたデータは一
方、オア・ゲート64―0〜64―4を通じて変
換器66―1〜66―4のINH端子に対してA
0ビツトが、また変換器66―1〜66―4の各
D1〜D4端子に、A1〜A4ビツトが並列に入
力される。このデータ取込み時に於いて、第7図
示の第1番目の走査線24―1上の主走査が行な
われるが、この時、カウンタ72のB1端子から
“1”出力がなされており、従つて、変換器66
―1の主力のみが生きとなり、S1〜S4端子か
らオアゲート68―1〜68―4を通じて、パラ
レルインシリアルアウトシフトレジスタ70のC
1〜C4端子に対して第1走査に対する変調信号
が与えられる。この変調信号は、走査線24―1
の一走査分について、1画素に対応する4ビツト
分ずつ順次与えられるものである。なお、もしこ
の時、シフトレジスタ54―0からオア・ゲート
64―0を通じて、サブ画素30が1個も黒レベ
ル変調を受けない事を示す“1”信号が、即ちA
0ビツトとして“1”信号が入力された場合、全
ての変換器66―1〜66―4の出力は規制され
シフトレジスタ70のC1〜C4に対しては、全
て“0”信号が与えられる事となる。一方、前記
カウンタ72のB1端子から“1”出力が出され
ている間、この“1”出力はシフトレジスタ54
―0〜54―4の出力側に設けられたアンド・ゲ
ート62―0〜62―4に対してインバータ78
を通じて“0”信号が与えられる為、前記シフ
ト・レジスタ54―0〜54―4の出力は規制さ
れる。
ビツト濃度情報が、信号線50を通じてレジスタ
52に入力されると、該情報は5ビツトのパラレ
ルデータA0〜A4としてアンド・ゲート56―
0〜56―4に与えられる。このデータ読み込み
時に於いては、信号線74を通じて、ハイレベル
信号の入力が行なわれている為、アンド・ゲート
58―0〜58―4に対してはインバータ76を
通じてロウレベル信号が印加され、対応するシフ
トレジスタ54―0〜54―4のデータの循環が
禁止され、同時に、前記信号線入力を受けている
アンド・ゲート56―0〜56―4は導通とな
り、前記シフトレジスタ54―0〜54―4に対
する5ビツトのパラレルデータA0〜A4の取り
込み記憶が行なわれる。前記アンド・ゲート56
―0〜56―4を通じて入力されたデータは一
方、オア・ゲート64―0〜64―4を通じて変
換器66―1〜66―4のINH端子に対してA
0ビツトが、また変換器66―1〜66―4の各
D1〜D4端子に、A1〜A4ビツトが並列に入
力される。このデータ取込み時に於いて、第7図
示の第1番目の走査線24―1上の主走査が行な
われるが、この時、カウンタ72のB1端子から
“1”出力がなされており、従つて、変換器66
―1の主力のみが生きとなり、S1〜S4端子か
らオアゲート68―1〜68―4を通じて、パラ
レルインシリアルアウトシフトレジスタ70のC
1〜C4端子に対して第1走査に対する変調信号
が与えられる。この変調信号は、走査線24―1
の一走査分について、1画素に対応する4ビツト
分ずつ順次与えられるものである。なお、もしこ
の時、シフトレジスタ54―0からオア・ゲート
64―0を通じて、サブ画素30が1個も黒レベ
ル変調を受けない事を示す“1”信号が、即ちA
0ビツトとして“1”信号が入力された場合、全
ての変換器66―1〜66―4の出力は規制され
シフトレジスタ70のC1〜C4に対しては、全
て“0”信号が与えられる事となる。一方、前記
カウンタ72のB1端子から“1”出力が出され
ている間、この“1”出力はシフトレジスタ54
―0〜54―4の出力側に設けられたアンド・ゲ
ート62―0〜62―4に対してインバータ78
を通じて“0”信号が与えられる為、前記シフ
ト・レジスタ54―0〜54―4の出力は規制さ
れる。
以上の動作を通じて、第1番目の走査線24―
1の主走査が終了した時点で、前記各シフトレジ
スタ54―0〜54―4に対する濃度情報の取り
込みが終了し、信号線74からのデータ読み込み
信号は、“0”となる。この時点で、アンド・ゲ
ート56―0〜56―4の入力が“0”となる
為、シフトレジスタ52からの入力は規制され、
同時にアンド・ゲート58―0〜58―4の入力
が“1”となる為、シフトレジスタ54―0〜5
4―4に取り込まれたデータはアンド・ゲート5
8―0〜58―4及びオア・ゲート60―0〜6
4―4を通じて循環させられる事となる。一方、
カウンンタ72に対しては、信号線90から走査
線が変わる事を示す信号が与えられ、その出力端
子B2の出力を“1”とする。同時に出力端子B
1の出力が“0”となる為、アンド・ゲート62
―0〜62―4は導通となり、シフトレジスタ5
4―0〜54―4の内容はアンド・ゲート62―
0〜62―4、オア・ゲート64―0〜64―4
を通じて、変換器66―1〜66―4の各D1〜
D4端子に与えられる事となる。
1の主走査が終了した時点で、前記各シフトレジ
スタ54―0〜54―4に対する濃度情報の取り
込みが終了し、信号線74からのデータ読み込み
信号は、“0”となる。この時点で、アンド・ゲ
ート56―0〜56―4の入力が“0”となる
為、シフトレジスタ52からの入力は規制され、
同時にアンド・ゲート58―0〜58―4の入力
が“1”となる為、シフトレジスタ54―0〜5
4―4に取り込まれたデータはアンド・ゲート5
8―0〜58―4及びオア・ゲート60―0〜6
4―4を通じて循環させられる事となる。一方、
カウンンタ72に対しては、信号線90から走査
線が変わる事を示す信号が与えられ、その出力端
子B2の出力を“1”とする。同時に出力端子B
1の出力が“0”となる為、アンド・ゲート62
―0〜62―4は導通となり、シフトレジスタ5
4―0〜54―4の内容はアンド・ゲート62―
0〜62―4、オア・ゲート64―0〜64―4
を通じて、変換器66―1〜66―4の各D1〜
D4端子に与えられる事となる。
この第2回目の走査時に於いては、カウンタ7
2のB2端子から変換器66―2のENA端子に
“1”信号が与えられる為、従つて該変換器66
―2の出力のみが生きとなりS1〜S4端子から
オア・ゲート68―1〜68―4を通じて、パラ
レルインン・シリアルアウトシフトレジスタ70
のC1〜C4端子に対して第2走査に対する変調
信号が与えられる。この変調信号は走査線24―
2の一走査分について、1画素に対応する4ビツ
ト分ずつ順次与えられるものである。なおこの
時、シフトレジスタ54―0かせオア・ゲート6
4―0を通じて、サブ画素30が1個も黒レベル
変調を受けない事を示す“1”信号が、即ちA0
ビツトとして“1”信号が入力された場合、全て
の変換器66―1〜66―4の出力が規制される
事については先にも述べた通りであるが、従つ
て、シフトレジスタ70のC1〜C4に対して
は、全て“0”信号が与えられる事なる。
2のB2端子から変換器66―2のENA端子に
“1”信号が与えられる為、従つて該変換器66
―2の出力のみが生きとなりS1〜S4端子から
オア・ゲート68―1〜68―4を通じて、パラ
レルインン・シリアルアウトシフトレジスタ70
のC1〜C4端子に対して第2走査に対する変調
信号が与えられる。この変調信号は走査線24―
2の一走査分について、1画素に対応する4ビツ
ト分ずつ順次与えられるものである。なおこの
時、シフトレジスタ54―0かせオア・ゲート6
4―0を通じて、サブ画素30が1個も黒レベル
変調を受けない事を示す“1”信号が、即ちA0
ビツトとして“1”信号が入力された場合、全て
の変換器66―1〜66―4の出力が規制される
事については先にも述べた通りであるが、従つ
て、シフトレジスタ70のC1〜C4に対して
は、全て“0”信号が与えられる事なる。
第2番目の走査線24―2の走査の終了は、シ
フトレジスタ54―0〜54―4の1循環の終了
に対応しており、次に第3番目の走査線24―3
の走査に入ると、シフトレジスタ54―0〜54
―5は次の循環に入る。同時に、カウンタ72は
B3端子から“1”出力を行う事となり、オア・
ゲート68―1〜68―4からは、変換器66―
3のS1〜S4の出力がシフトレジスタ70のC
1〜C4端子に与えられるものである。後は、第
2走査時と同様動作が行なわれ、シフトレジスタ
70から変調器3に対しては、第3番面の走査線
に対応する変調制御信号が与えらるものである。
フトレジスタ54―0〜54―4の1循環の終了
に対応しており、次に第3番目の走査線24―3
の走査に入ると、シフトレジスタ54―0〜54
―5は次の循環に入る。同時に、カウンタ72は
B3端子から“1”出力を行う事となり、オア・
ゲート68―1〜68―4からは、変換器66―
3のS1〜S4の出力がシフトレジスタ70のC
1〜C4端子に与えられるものである。後は、第
2走査時と同様動作が行なわれ、シフトレジスタ
70から変調器3に対しては、第3番面の走査線
に対応する変調制御信号が与えらるものである。
第4番目の走査線24―4も走査についても全
く同様に行なわれ、変換器66―4の出力に基い
て変調制御が行なわれる事となる。
く同様に行なわれ、変換器66―4の出力に基い
て変調制御が行なわれる事となる。
ちなみに、第1〜第4回目の走査に於いて、オ
ア・ゲート64―0〜64―4を通じて、各変換
器66―1〜66―4の入力端子D1〜D4のそ
れぞれ与えられるデータは、全て同じであり、カ
ウンタ72のB1〜B4出力に依つて変換器66
―1〜66―4を選択する事に依り、各走査線に
対応するサブ画素30の変調信号が得られるもの
である。かかる動作のタイムチヤートを第14図
に示す。
ア・ゲート64―0〜64―4を通じて、各変換
器66―1〜66―4の入力端子D1〜D4のそ
れぞれ与えられるデータは、全て同じであり、カ
ウンタ72のB1〜B4出力に依つて変換器66
―1〜66―4を選択する事に依り、各走査線に
対応するサブ画素30の変調信号が得られるもの
である。かかる動作のタイムチヤートを第14図
に示す。
尚上記実施例に於いて、特に第1図示のレーザ
ビームプリンタに適用した場合サブ画素の黒変調
形成に際しては十分な露光量を与えて感材の飽和
領域又はその近くで露光しておけば、現像時の温
度変化、現像剤の経年変化、帯電器の汚れ、感光
体の劣化、ばら付き等に依つて影響を受け難くな
り、安定した画像濃度が得られるという利点があ
る。例えば露光量があまり大きくない場合につい
て考えてみるに、第13図1に示す如く、露光量
が比較的大きなの状態と露光量が弱いの状態
を例示するに、スレツシヨルド露光量がBの状態
で一定ならば記録ドツトを得る事が出来るがスレ
ツシヨルド露光量がAの状態、即ち感光体の劣化
に依つて増加した場合、記録ドツトの面積が大幅
に減少し、露光量を弱くしたの状態では、記録
が行なわれないという現象を生じる。従つて、中
間調の表現に当つてはスレツシヨルド露光量の変
動、即ち現像条件の変動を受け易く、不安定な中
間調しか得られないという問題点がある。しか
し、第13図2に示す如く、露光量を増やして過
飽和露光を行つた場合、ドツトの大きさは、スレ
ツシヨルド露光量の変化に依つても、あまり変化
せず、従つて、安定した中間調の表現が可能であ
る。
ビームプリンタに適用した場合サブ画素の黒変調
形成に際しては十分な露光量を与えて感材の飽和
領域又はその近くで露光しておけば、現像時の温
度変化、現像剤の経年変化、帯電器の汚れ、感光
体の劣化、ばら付き等に依つて影響を受け難くな
り、安定した画像濃度が得られるという利点があ
る。例えば露光量があまり大きくない場合につい
て考えてみるに、第13図1に示す如く、露光量
が比較的大きなの状態と露光量が弱いの状態
を例示するに、スレツシヨルド露光量がBの状態
で一定ならば記録ドツトを得る事が出来るがスレ
ツシヨルド露光量がAの状態、即ち感光体の劣化
に依つて増加した場合、記録ドツトの面積が大幅
に減少し、露光量を弱くしたの状態では、記録
が行なわれないという現象を生じる。従つて、中
間調の表現に当つてはスレツシヨルド露光量の変
動、即ち現像条件の変動を受け易く、不安定な中
間調しか得られないという問題点がある。しか
し、第13図2に示す如く、露光量を増やして過
飽和露光を行つた場合、ドツトの大きさは、スレ
ツシヨルド露光量の変化に依つても、あまり変化
せず、従つて、安定した中間調の表現が可能であ
る。
以上、述べた如く、画像を構成する画素を更に
細かなサブ画素に分け、1つの画素中の黒変調さ
れた個数に依つて画素の濃度を変化させるという
構成に依れば、現像剤の経年変化、帯電器の汚
れ、感光材の劣化、ばら付きといつた種々の影響
を受け難く安定した中間調を含む画像を得る事を
可能ならしめた画像処理装置を得る事が出来るも
のである。
細かなサブ画素に分け、1つの画素中の黒変調さ
れた個数に依つて画素の濃度を変化させるという
構成に依れば、現像剤の経年変化、帯電器の汚
れ、感光材の劣化、ばら付きといつた種々の影響
を受け難く安定した中間調を含む画像を得る事を
可能ならしめた画像処理装置を得る事が出来るも
のである。
第15図は本実施例に係る画像処理装置の概略
斜視図であつて、第1図示変調器3とビームエキ
スパンダ4の間にサブ画素発生器122を介装し
た構成となつている。
斜視図であつて、第1図示変調器3とビームエキ
スパンダ4の間にサブ画素発生器122を介装し
た構成となつている。
このサブ画素発生器122は入射レーザビーム
を入力信号に応じて、走査方向と垂直な方向に複
数本に分割する機能を有する。その詳細は第16
図に示されるものであつてサブ画素発生器122
に入射したレーザビームは互いに或る角度θ⊥を
なしたレーザビームに分割され、更にビームエキ
スパンダ4に依つて、そのビーム径をWからMW
に拡大される。同時に、各レーザビームの角度は
θ⊥/Mとなる。この様にして、ビーム径MW、中 心線に対する垂直方向の拡がりθ⊥/Mとされた、 3本のビームは多面体回転鏡に入射され、水平方
向に偏向させられた上で結像レンズ7を介して、
感光ドラム8上に、垂直方向に3個の光点として
結像される事となる。このサブ画素発生器122
は、入力信号に応じて、自由にその出力光束を1
本としたり垂直方向に分割された3本としたりす
る事が出来るので、変調器3に依る断続変調を併
せれば、出力光点としては第17図に示す如く、
変調器3の動作に依つて全く光点が生じない場合
と、変調器3の動作に依つて、1個の光点のみが
生じる場合と、変調器3及びサブ画素発生器12
2の動作に依つて、垂直方向に3個の光点が並ん
で生じる場合の3通りの出力状態を得る事が出来
る。
を入力信号に応じて、走査方向と垂直な方向に複
数本に分割する機能を有する。その詳細は第16
図に示されるものであつてサブ画素発生器122
に入射したレーザビームは互いに或る角度θ⊥を
なしたレーザビームに分割され、更にビームエキ
スパンダ4に依つて、そのビーム径をWからMW
に拡大される。同時に、各レーザビームの角度は
θ⊥/Mとなる。この様にして、ビーム径MW、中 心線に対する垂直方向の拡がりθ⊥/Mとされた、 3本のビームは多面体回転鏡に入射され、水平方
向に偏向させられた上で結像レンズ7を介して、
感光ドラム8上に、垂直方向に3個の光点として
結像される事となる。このサブ画素発生器122
は、入力信号に応じて、自由にその出力光束を1
本としたり垂直方向に分割された3本としたりす
る事が出来るので、変調器3に依る断続変調を併
せれば、出力光点としては第17図に示す如く、
変調器3の動作に依つて全く光点が生じない場合
と、変調器3の動作に依つて、1個の光点のみが
生じる場合と、変調器3及びサブ画素発生器12
2の動作に依つて、垂直方向に3個の光点が並ん
で生じる場合の3通りの出力状態を得る事が出来
る。
この実施例に於いては、かかる点に着目して、
1つの画素28を第4図に示す如く、縦3個、横
3個の計9個のサブ画素30に分解して走査線方
向の1ライン上に並んだ画素28に対して、1回
の走査で網点を形成し、濃淡を表示しようとする
ものである。
1つの画素28を第4図に示す如く、縦3個、横
3個の計9個のサブ画素30に分解して走査線方
向の1ライン上に並んだ画素28に対して、1回
の走査で網点を形成し、濃淡を表示しようとする
ものである。
第17図示の3種類の光点の状態の組み合せに
依つて、網点に濃度段階を得ようとすると、第1
8図に示す如く、全部で9段階の濃度変化を得る
事が出来る。各濃度段階に対して、サブ画素30
の黒レベル変調の状態を複数個示してあるが、こ
れは考えられる組み合せを全て挙げた為で、実際
には記録媒体の特性等を考慮した方で適宜選択し
て用いられる。なお、サブ画素30が8個黒レベ
ル変調された状態について示していないが、これ
は第17図示の光点の状態の組み合せでは実現出
来ない為である。
依つて、網点に濃度段階を得ようとすると、第1
8図に示す如く、全部で9段階の濃度変化を得る
事が出来る。各濃度段階に対して、サブ画素30
の黒レベル変調の状態を複数個示してあるが、こ
れは考えられる組み合せを全て挙げた為で、実際
には記録媒体の特性等を考慮した方で適宜選択し
て用いられる。なお、サブ画素30が8個黒レベ
ル変調された状態について示していないが、これ
は第17図示の光点の状態の組み合せでは実現出
来ない為である。
従つて、第15図示の変調器3とサブ画素発生
器122を適宜制御する事に依つて、第18図に
示す如く、各画素28に対して、9段階のサブ画
素30の黒レベル変調状態、即ち9段階の濃度差
を与える事が出来るものである。
器122を適宜制御する事に依つて、第18図に
示す如く、各画素28に対して、9段階のサブ画
素30の黒レベル変調状態、即ち9段階の濃度差
を与える事が出来るものである。
なお、第19図に示す如く、今サブ画素発生器
122に同図1に示す如き強度分布を持つビーム
が入射した場合、これを3分割すると同図2に示
す如く、分割された光束毎にその強度が変わつて
来る。従つて、必要ならば減光フイルタ等に依つ
て中央のビームの強度を減少させてやると、同図
3に示す如く同一強度の3分割されたビームを得
る事が出来る訳である。これに対して、前記3分
割されたビームと同一強度の分割されないビーム
を得る為には、サブ画素発生器122に入射する
ビームは同図4に示す如く、減光フイルタ等の効
果を考慮しても同図1に示したビームよりも小さ
な強度のビームでよい。第19図5は同図4のビ
ームに依つて得られる記録位置でのビームの強度
を示すものであるが、これはフイルタ等に依つて
強度減少を受けた結果を示している。即ち、入射
ビームを3分割変調する場合は、分割しない場合
に比較して強度の大きなビームを入れてやる必要
がある。この制御は、変調器3に依つて行う事が
可能である。この事を図示したのが、第20図で
あつて、白レベル変調に対しては、同図1に示す
如く、変調器3、サブ画素発生器122共に制御
信号を入力されず、従つて出力光は光点を生じさ
せない。これに対して、通常の黒レベル変調に対
しては、同図2に示す如く、変調器3のみが黒レ
ベル変調信号が入力され、従つて出力光は1個の
光点を生じさせる。また、ビーム3分割変調に対
しては、同図3に示す如く、変調器3に対して
は、強度の強い黒レベル変調信号が入力され、同
時にサブ画素発生器122に対しては、3分割変
調制御信号が入力され、従つて出力光は、同図2
に示した黒レベル変調光点と同一強度の3個の光
点を生じさせるものである。
122に同図1に示す如き強度分布を持つビーム
が入射した場合、これを3分割すると同図2に示
す如く、分割された光束毎にその強度が変わつて
来る。従つて、必要ならば減光フイルタ等に依つ
て中央のビームの強度を減少させてやると、同図
3に示す如く同一強度の3分割されたビームを得
る事が出来る訳である。これに対して、前記3分
割されたビームと同一強度の分割されないビーム
を得る為には、サブ画素発生器122に入射する
ビームは同図4に示す如く、減光フイルタ等の効
果を考慮しても同図1に示したビームよりも小さ
な強度のビームでよい。第19図5は同図4のビ
ームに依つて得られる記録位置でのビームの強度
を示すものであるが、これはフイルタ等に依つて
強度減少を受けた結果を示している。即ち、入射
ビームを3分割変調する場合は、分割しない場合
に比較して強度の大きなビームを入れてやる必要
がある。この制御は、変調器3に依つて行う事が
可能である。この事を図示したのが、第20図で
あつて、白レベル変調に対しては、同図1に示す
如く、変調器3、サブ画素発生器122共に制御
信号を入力されず、従つて出力光は光点を生じさ
せない。これに対して、通常の黒レベル変調に対
しては、同図2に示す如く、変調器3のみが黒レ
ベル変調信号が入力され、従つて出力光は1個の
光点を生じさせる。また、ビーム3分割変調に対
しては、同図3に示す如く、変調器3に対して
は、強度の強い黒レベル変調信号が入力され、同
時にサブ画素発生器122に対しては、3分割変
調制御信号が入力され、従つて出力光は、同図2
に示した黒レベル変調光点と同一強度の3個の光
点を生じさせるものである。
第21図は、第15図示サブ画素発生器122
の詳細を示す斜視図で、変調器3よりのレーザビ
ーム124はレンズ126に依つて集光され、音
響光学素子128に達する。この音響光学素子1
28は駆動回路130に依つて素子内部に生じる
超音波の振幅を変えられる様になつている。音響
光学素子128に入射したレーザ124は超音波
に依る音響光学効果に依つて複数本のレーザビー
ム132―1,132―2,132―3に分割さ
れる。この分割の個数は超音波の振幅、素子の大
きさ、素子に入射するレーザビーム124の入射
角に依つて適宜選択可能であるが、本実施例に於
いてはラマンナス回折を用いて3本に分割した例
を示している。ちなみに、レンズ126に依つて
ビーム124を集光させるのは、駆動回路130
の駆動信号に対して、レーザビーム124の分割
速度を速くする為である。
の詳細を示す斜視図で、変調器3よりのレーザビ
ーム124はレンズ126に依つて集光され、音
響光学素子128に達する。この音響光学素子1
28は駆動回路130に依つて素子内部に生じる
超音波の振幅を変えられる様になつている。音響
光学素子128に入射したレーザ124は超音波
に依る音響光学効果に依つて複数本のレーザビー
ム132―1,132―2,132―3に分割さ
れる。この分割の個数は超音波の振幅、素子の大
きさ、素子に入射するレーザビーム124の入射
角に依つて適宜選択可能であるが、本実施例に於
いてはラマンナス回折を用いて3本に分割した例
を示している。ちなみに、レンズ126に依つて
ビーム124を集光させるのは、駆動回路130
の駆動信号に対して、レーザビーム124の分割
速度を速くする為である。
今、音響光学素子128の原理について説明す
るに、ビーム124が垂直入射した場合、ラマン
ナス回折が起りm次回折光の強度Imは Im=Jm2(V)(m=0,±1,±2…) となる。但し、V=2π△n1/λである。ここでJmは m次ベツセル関数、△mは素子内起音波伝播で生
じる屈折率変化、λは使用レーザ光の波長、1は
結晶の厚みである。強度Imは高次になる程減少
する。依つて±2次以上を無視して、0次、±1
次のみを考えると、結果的に+1次のレーザ光1
32―1、0次のレーザ光132―2、−1次の
レーザ光132―3に分割された3本のレーザ光
を得る事が出来るものである。この3本のレーザ
光は、レンズ134に依つて互いに或る角度を持
つように制御され、フイルタ136に入射する。
このフイルタ136に依つて0次のレーザ光13
2―2の強度は低下させられ、結局、3分割レー
ザ光の全てが同一強度を有する様に変換させられ
る。このフイルタ136としては、濃度フイルタ
を用いるのがよい。第21図1,2はフイルター
136の入射側、出射側に於ける分割レーザ光の
光量分布を示すものである。
るに、ビーム124が垂直入射した場合、ラマン
ナス回折が起りm次回折光の強度Imは Im=Jm2(V)(m=0,±1,±2…) となる。但し、V=2π△n1/λである。ここでJmは m次ベツセル関数、△mは素子内起音波伝播で生
じる屈折率変化、λは使用レーザ光の波長、1は
結晶の厚みである。強度Imは高次になる程減少
する。依つて±2次以上を無視して、0次、±1
次のみを考えると、結果的に+1次のレーザ光1
32―1、0次のレーザ光132―2、−1次の
レーザ光132―3に分割された3本のレーザ光
を得る事が出来るものである。この3本のレーザ
光は、レンズ134に依つて互いに或る角度を持
つように制御され、フイルタ136に入射する。
このフイルタ136に依つて0次のレーザ光13
2―2の強度は低下させられ、結局、3分割レー
ザ光の全てが同一強度を有する様に変換させられ
る。このフイルタ136としては、濃度フイルタ
を用いるのがよい。第21図1,2はフイルター
136の入射側、出射側に於ける分割レーザ光の
光量分布を示すものである。
駆動回路130に依つて生じる超音波振幅が
“0”になると、音響光学素子128の出力光は
0次光132―2のみとなる。この光強度は、3
本に分割した場合の各光強度よりも大である為
に、光変調器3に依つてその出力光を低下させ、
3本に分割した場合のフイルタ136の出力光と
0次のみがフイルタ136を通過した場合の出力
光の強度が同じである様に制御する必要がある。
この事については既に第19図を用いて説明した
通りである。
“0”になると、音響光学素子128の出力光は
0次光132―2のみとなる。この光強度は、3
本に分割した場合の各光強度よりも大である為
に、光変調器3に依つてその出力光を低下させ、
3本に分割した場合のフイルタ136の出力光と
0次のみがフイルタ136を通過した場合の出力
光の強度が同じである様に制御する必要がある。
この事については既に第19図を用いて説明した
通りである。
以上の構成について、具体的に示したが第22
図の斜視図である。同図中、138は変調器3の
制御回路、140はサブ画素発生器122の制御
回路をそれぞれ示すもので、信号線144からは
黒レベル又は白レベルを指定する信号入力がなさ
れ、信号線142からはビームの分割又は非分割
を指定する信号入力がなされる。なお、制御回路
140からは、ビームを分割するか分割しないか
を示す信号が信号線146を通じて変調器制御回
路138に与えられる。その結果、変調器3及
び、サブ画素発生器122に対しては、第20図
に示した様な制御信号が与えられる事となり、そ
の結果、白レベル変調、黒レベル変調、3分割変
調の3つの光点の状態を得る事が出来るものであ
る。第22図1は黒レベル変調時のビームの光量
分布、同図2は3分割変調時のビームの光量分布
を示すものであり、点線はフイルタ136に入射
する前の各々の光量分布である。
図の斜視図である。同図中、138は変調器3の
制御回路、140はサブ画素発生器122の制御
回路をそれぞれ示すもので、信号線144からは
黒レベル又は白レベルを指定する信号入力がなさ
れ、信号線142からはビームの分割又は非分割
を指定する信号入力がなされる。なお、制御回路
140からは、ビームを分割するか分割しないか
を示す信号が信号線146を通じて変調器制御回
路138に与えられる。その結果、変調器3及
び、サブ画素発生器122に対しては、第20図
に示した様な制御信号が与えられる事となり、そ
の結果、白レベル変調、黒レベル変調、3分割変
調の3つの光点の状態を得る事が出来るものであ
る。第22図1は黒レベル変調時のビームの光量
分布、同図2は3分割変調時のビームの光量分布
を示すものであり、点線はフイルタ136に入射
する前の各々の光量分布である。
なお、黒レベル変調時及び3分割変調時に得ら
れる光点の光量分布を一定にするのは、感光ドラ
ム8上の記録ドツト径を同じにする為のものであ
る。しかし、1次光の回折の大きい素子を用いた
場合やガンマ値の高い記録媒体を用いる場合に
は、記録媒体上の光点の光強度が十分に大きけれ
ば、即ち十分に飽和した形で記録するならば、光
強度の多少の変化に対して記録ドツト径はほとん
ど変化しない。依つて、ガンマ値の高い記録媒体
を過飽和で用いる限りに於いて、フイルタ136
を設けたり、光変調器3を普通の黒レベル変調時
と3分割割変調時で異なる様に制御する必要がな
くなる。
れる光点の光量分布を一定にするのは、感光ドラ
ム8上の記録ドツト径を同じにする為のものであ
る。しかし、1次光の回折の大きい素子を用いた
場合やガンマ値の高い記録媒体を用いる場合に
は、記録媒体上の光点の光強度が十分に大きけれ
ば、即ち十分に飽和した形で記録するならば、光
強度の多少の変化に対して記録ドツト径はほとん
ど変化しない。依つて、ガンマ値の高い記録媒体
を過飽和で用いる限りに於いて、フイルタ136
を設けたり、光変調器3を普通の黒レベル変調時
と3分割割変調時で異なる様に制御する必要がな
くなる。
次に、第15図示構成を有する画像処理装置に
於いて1つの画素28を構成するサブ画素30に
段階的な黒レベル変調を与えて網点を得る為の詳
細について説明する。
於いて1つの画素28を構成するサブ画素30に
段階的な黒レベル変調を与えて網点を得る為の詳
細について説明する。
第23図は第15図示プリンタに適用される網
点形成の為の制御回路で、同図中148は1走査
分ないしは1頁分の濃度情報を蓄積したメモリ、
150―1〜150―3は前記メモリ148から
クロツクCLKに同期して出力される各画素毎の
パラレル濃度情報θ0〜θ3に基いて、それぞれ
サブ画素30の第1コラム、第2コラム、第3コ
ラムの黒レベル変調ないしは分割変調状態を指示
する信号出力を行うROM、152はクロツクパ
ルスCPに同期してS1,S2,S3は出力端子
から順次“1”出力を行い、各出力を前記ROM
150―1〜150―3の各チツプセレクト端子
CSに与えると共にS1出力の立上りに同期した
クロツクCLKを前記メモリ148に与える為の
コラム選択回路をそれぞれ示すものである。
点形成の為の制御回路で、同図中148は1走査
分ないしは1頁分の濃度情報を蓄積したメモリ、
150―1〜150―3は前記メモリ148から
クロツクCLKに同期して出力される各画素毎の
パラレル濃度情報θ0〜θ3に基いて、それぞれ
サブ画素30の第1コラム、第2コラム、第3コ
ラムの黒レベル変調ないしは分割変調状態を指示
する信号出力を行うROM、152はクロツクパ
ルスCPに同期してS1,S2,S3は出力端子
から順次“1”出力を行い、各出力を前記ROM
150―1〜150―3の各チツプセレクト端子
CSに与えると共にS1出力の立上りに同期した
クロツクCLKを前記メモリ148に与える為の
コラム選択回路をそれぞれ示すものである。
なお、4ビツトの濃度情報Q0〜Q3は、1つ
の画素28を構成するサブ画素30の黒レベル変
調状態に対して、第24図示の如きコードで与え
られる。
の画素28を構成するサブ画素30の黒レベル変
調状態に対して、第24図示の如きコードで与え
られる。
前記各ROM150―1〜150―3のMO出
力は、サブ画素発生器122の制御回路140に
与えられ、M1出力は変調器3の制御回路138
に与えられる。また、前記各ROM150―1〜
150―3はCS端子入力が“1”の時、その出
力端子M0,M1から所定の出力をに行うもので
ある。
力は、サブ画素発生器122の制御回路140に
与えられ、M1出力は変調器3の制御回路138
に与えられる。また、前記各ROM150―1〜
150―3はCS端子入力が“1”の時、その出
力端子M0,M1から所定の出力をに行うもので
ある。
従つて、第24図示の如き、濃度段階を得る為
の黒レベル変調、分割変調を実現する為には、前
記各ROM150―1〜150―3は、その入力
D0〜D3に対して、出力M0,M1は第25図
に示す如き形で与えられる必要がある。
の黒レベル変調、分割変調を実現する為には、前
記各ROM150―1〜150―3は、その入力
D0〜D3に対して、出力M0,M1は第25図
に示す如き形で与えられる必要がある。
なお、ROM150―1〜150―3のM0端
子から信号線142を通じて分割変調を指示する
信号を受け取つたサブ画素発生器制御回路140
からは、変調器制御回路138に対して、変調強
度変換信号が信号線146を通じて与えられる
が、該変換信号を受け取つた制御回路138は変
調器3に対して、通常の黒レベル変調時の出力ビ
ーム強度よりも更に強いビーム出力を指令する事
となる。
子から信号線142を通じて分割変調を指示する
信号を受け取つたサブ画素発生器制御回路140
からは、変調器制御回路138に対して、変調強
度変換信号が信号線146を通じて与えられる
が、該変換信号を受け取つた制御回路138は変
調器3に対して、通常の黒レベル変調時の出力ビ
ーム強度よりも更に強いビーム出力を指令する事
となる。
第23図示回路の動作は、第26図示のタイム
チヤートから更に明らかとなろうが、メモリ14
8のQ0〜Q3端子から1つの画素に対応して4
ビツトパラレルで出力された濃度情報をD0〜D
3端子に入力されたROM150―1〜150―
3は、第1〜第3の各コラムに対応する黒レベル
変調信号をM1端子から、分割変調信号をM0端
子から出力出来る状態となる。同時にコラム選択
回路152からはクロツクパルスCPに同期して
S1,S2,S3の各端子から順次“1”出力を
行う為、前記ROM150―1〜150―3の出
力M0,M1は、クロツクパルスCPに同期して、
順次読み出され、各ROMのM0出力は信号線1
42を通じてサブ画素発生器制御回路140へ、
M1出力は信号線144を通じて変調器制御回路
138に当えられる。
チヤートから更に明らかとなろうが、メモリ14
8のQ0〜Q3端子から1つの画素に対応して4
ビツトパラレルで出力された濃度情報をD0〜D
3端子に入力されたROM150―1〜150―
3は、第1〜第3の各コラムに対応する黒レベル
変調信号をM1端子から、分割変調信号をM0端
子から出力出来る状態となる。同時にコラム選択
回路152からはクロツクパルスCPに同期して
S1,S2,S3の各端子から順次“1”出力を
行う為、前記ROM150―1〜150―3の出
力M0,M1は、クロツクパルスCPに同期して、
順次読み出され、各ROMのM0出力は信号線1
42を通じてサブ画素発生器制御回路140へ、
M1出力は信号線144を通じて変調器制御回路
138に当えられる。
コラム選択回路の出力S3の立下がりと同時に
クロツクCLKが出力され、メモリ148に与え
られる為、メモリ148からは次の画素に対応す
る4ビツト濃度情報がQ0〜Q3端子から出力さ
れて、同様動作を繰り返す事となる。第26図の
タイムチヤートは9段階の濃度情報を順次出力し
ていつた場合の各部の動作を示すものである。ち
なみに、信号線142からの分割変調制御信号を
受け取つた制御回路140はサブ画素発生器12
2に対してビームを3分割させる如き制御信号を
与え、同時に変調器制御回路138に黒レベル変
調時の強度変更信号を与える。一方、信号線14
4から黒レベル変調信号を受け取つた制御回路1
38は変調器3に対して、ビームを黒レベル変調
させる如き制御信号を与え、更に信号線146か
ら強度変更信号を受け取つた場合、変調器3に対
して黒レベル変調の強度を更に強くさせる如き制
御信号を与えるものである。
クロツクCLKが出力され、メモリ148に与え
られる為、メモリ148からは次の画素に対応す
る4ビツト濃度情報がQ0〜Q3端子から出力さ
れて、同様動作を繰り返す事となる。第26図の
タイムチヤートは9段階の濃度情報を順次出力し
ていつた場合の各部の動作を示すものである。ち
なみに、信号線142からの分割変調制御信号を
受け取つた制御回路140はサブ画素発生器12
2に対してビームを3分割させる如き制御信号を
与え、同時に変調器制御回路138に黒レベル変
調時の強度変更信号を与える。一方、信号線14
4から黒レベル変調信号を受け取つた制御回路1
38は変調器3に対して、ビームを黒レベル変調
させる如き制御信号を与え、更に信号線146か
ら強度変更信号を受け取つた場合、変調器3に対
して黒レベル変調の強度を更に強くさせる如き制
御信号を与えるものである。
以上述べた動作を通じて、各画素毎に黒レベル
変調させるサブ画素の数を変化させる事に依り、
9段階の濃度制御を行う事が可能である。但し、
1画素28中の9個のサブ画素30のうち8個を
黒レベル変調する事は第15図示構成では困難で
ある事については前にも述べたが、この段階に設
定されるべき濃度レベルは7個のサブ画素30を
黒レベル変調するレベルか又は全てのサブ画素3
0を黒レベル変調するレベルかのいずれかで補償
してやる必要がある。
変調させるサブ画素の数を変化させる事に依り、
9段階の濃度制御を行う事が可能である。但し、
1画素28中の9個のサブ画素30のうち8個を
黒レベル変調する事は第15図示構成では困難で
ある事については前にも述べたが、この段階に設
定されるべき濃度レベルは7個のサブ画素30を
黒レベル変調するレベルか又は全てのサブ画素3
0を黒レベル変調するレベルかのいずれかで補償
してやる必要がある。
今、サブ画素発生器122の動作について、再
び第16図を参照しながら説明するが、このサブ
画素発生器22は制御回路140に“0”信号入
力があつた時はビーム分割はなされず、“1”信
号入力があつた時ビームの3分割が行なわれる。
このビーム分割は第16図に示す如く、ビームの
走査方向に対して垂直な方向になされる。このサ
ブ画素発生器122からの3分割ビームはビーム
エキスパンダ4を通じてビーム径を拡大され多面
体回転鏡5に依つて走査方向に偏向させられ、f
―θレンズ7を通じて感光ドラム8上に結像させ
られる。
び第16図を参照しながら説明するが、このサブ
画素発生器22は制御回路140に“0”信号入
力があつた時はビーム分割はなされず、“1”信
号入力があつた時ビームの3分割が行なわれる。
このビーム分割は第16図に示す如く、ビームの
走査方向に対して垂直な方向になされる。このサ
ブ画素発生器122からの3分割ビームはビーム
エキスパンダ4を通じてビーム径を拡大され多面
体回転鏡5に依つて走査方向に偏向させられ、f
―θレンズ7を通じて感光ドラム8上に結像させ
られる。
このビームエキスパンダ4から出力された複数
本のビームのうち132―1及び132―3は走
査方向に垂直な方向に或る角度±θ⊥/Mを有して いるが、f―θレンズ7の作用に依つて感光ドラ
ム8上の走査線に対して垂直方向から結像する。
本のビームのうち132―1及び132―3は走
査方向に垂直な方向に或る角度±θ⊥/Mを有して いるが、f―θレンズ7の作用に依つて感光ドラ
ム8上の走査線に対して垂直方向から結像する。
即ち、第27図に示す如く、焦点距離fを有す
るf―θレンズ7に対して、中心線とθの角度を
なる入射ビームは結像面上で中心線からfθの位置
に結像する訳であるが、従つて中心線に対して、
走査線と垂直方向に±θ⊥/Mの角度でf―θレン ズ7に入射した分割ビーム132―1,132―
3は感光ドラム8上の走査線から、それぞれ±
fθ⊥/Mだけ離れた位置に結像する事となる。一方、 この分割ビームは、f―θレンズ7に入射する時
そのビーム径をビームエキスパンダ4に依つて
MWに拡大されている事については既に述べた
が、このMWのビーム径に依れば、f―θレンズ
7に依つて感光ドラム8上に結像された光点の径
はελf/MWとなる。ここで、λはビームの波長で ある。
るf―θレンズ7に対して、中心線とθの角度を
なる入射ビームは結像面上で中心線からfθの位置
に結像する訳であるが、従つて中心線に対して、
走査線と垂直方向に±θ⊥/Mの角度でf―θレン ズ7に入射した分割ビーム132―1,132―
3は感光ドラム8上の走査線から、それぞれ±
fθ⊥/Mだけ離れた位置に結像する事となる。一方、 この分割ビームは、f―θレンズ7に入射する時
そのビーム径をビームエキスパンダ4に依つて
MWに拡大されている事については既に述べた
が、このMWのビーム径に依れば、f―θレンズ
7に依つて感光ドラム8上に結像された光点の径
はελf/MWとなる。ここで、λはビームの波長で ある。
従つて、3つに分割されたビームが第28図に
示す如く、光点が密に並ぶ如く結像する様にする
為にはελf/MW=fθ⊥/Mとなる如く、各因子を設定 すれば良い。
示す如く、光点が密に並ぶ如く結像する様にする
為にはελf/MW=fθ⊥/Mとなる如く、各因子を設定 すれば良い。
なお、サブ画素発生器122は、必ずしも第2
1図に示す如き構成のものとする必要はなく、任
意に、ビームを走査方向と垂直な方向に複数個に
分割出来る如き構成のものないしは、複数個に分
割されたビームを個別に変調なし得る構成のもの
であれば如何なるものであつても適用可能であ
る。
1図に示す如き構成のものとする必要はなく、任
意に、ビームを走査方向と垂直な方向に複数個に
分割出来る如き構成のものないしは、複数個に分
割されたビームを個別に変調なし得る構成のもの
であれば如何なるものであつても適用可能であ
る。
例えば、第29図はサブ画素発生器22の他の
例を示す説明図であるが、入射レーザービーム2
4をハーフミラー150,152及びミラー15
4で三分割し、各分割されたレーザ・ビーム毎に
電気光学効果ないしは音響光学効果を利用した光
変調器156―1,156―2,156―3を設
け、前記光変調器156―1,156―2,15
6―3の出力ビームをミラー158,160,1
62及びレンズ164に依つて互いにある角度を
有する3本のレーザ光132―1,132―2,
132―3に変調する如き構成を採つている。か
かる構成に於いて、各変調器156―1,156
―2156―3は互いに個別に変調が可能である
ので、9つのサブ画素30の黒レベル変調を自由
に配置出来るばかりでなく、第15図示変調器3
の役目を光変調器156―2に負わせる事が出来
る。従つて1つの画素28中のサブ画素30の黒
レベル変調を自由にレイアウト出来るという特徴
を有する。この構成に第23図示の制御回路を適
用しようとする場合、制御回路138の出力で、
変調器156―2を、また制御回路140の出力
で変調器156―1,156―3を制御すればよ
い。
例を示す説明図であるが、入射レーザービーム2
4をハーフミラー150,152及びミラー15
4で三分割し、各分割されたレーザ・ビーム毎に
電気光学効果ないしは音響光学効果を利用した光
変調器156―1,156―2,156―3を設
け、前記光変調器156―1,156―2,15
6―3の出力ビームをミラー158,160,1
62及びレンズ164に依つて互いにある角度を
有する3本のレーザ光132―1,132―2,
132―3に変調する如き構成を採つている。か
かる構成に於いて、各変調器156―1,156
―2156―3は互いに個別に変調が可能である
ので、9つのサブ画素30の黒レベル変調を自由
に配置出来るばかりでなく、第15図示変調器3
の役目を光変調器156―2に負わせる事が出来
る。従つて1つの画素28中のサブ画素30の黒
レベル変調を自由にレイアウト出来るという特徴
を有する。この構成に第23図示の制御回路を適
用しようとする場合、制御回路138の出力で、
変調器156―2を、また制御回路140の出力
で変調器156―1,156―3を制御すればよ
い。
第30図はサブ画素発生器122の別の例を示
す説明図で、ビーム分割の為に、音響光学素子1
66を反射型で用いたもので、入射ビーム124
を該素子166で3分割した後、ミラー168、
レンズ170用いて互いにある角度を持つた3つ
のビーム132―1,132―2,132―3を
得ようとするものである。ちなみに、この音響光
学素子166は第31図に示す如く、素子172
表面上にトランスデユーサ174とアブソーバ1
76を設けて成り、トランスデユーサ174から
アブソーバ176に向つて進行する表面波178
に依つて、入射レーザ光を複数のビームに回折す
る如き作用を有するものである。
す説明図で、ビーム分割の為に、音響光学素子1
66を反射型で用いたもので、入射ビーム124
を該素子166で3分割した後、ミラー168、
レンズ170用いて互いにある角度を持つた3つ
のビーム132―1,132―2,132―3を
得ようとするものである。ちなみに、この音響光
学素子166は第31図に示す如く、素子172
表面上にトランスデユーサ174とアブソーバ1
76を設けて成り、トランスデユーサ174から
アブソーバ176に向つて進行する表面波178
に依つて、入射レーザ光を複数のビームに回折す
る如き作用を有するものである。
第32図はサブ画素発生器122の更に他の例
を示す説明図で、音響光学素子180―1,18
0―2に依るブラツグ回折を用いたものを例示す
るものである。音響光学素子180―1又は18
0―2に依れば、第33図に示す如くブラツグ回
折に依り、入射光を直進する0次光と角度を持つ
て出射する1次光に分割する事が出来る。この0
次光と1次光の強度比は、音響光学素子180―
1,180―2内の超音波の強さに依つて変わ
り、また0次光と1次光のなす角度は超音波の周
波数に依つて変わるが、超音波の強さと周波数の
適宜選択に依つて、強度比と角度の制御が可能で
ある。
を示す説明図で、音響光学素子180―1,18
0―2に依るブラツグ回折を用いたものを例示す
るものである。音響光学素子180―1又は18
0―2に依れば、第33図に示す如くブラツグ回
折に依り、入射光を直進する0次光と角度を持つ
て出射する1次光に分割する事が出来る。この0
次光と1次光の強度比は、音響光学素子180―
1,180―2内の超音波の強さに依つて変わ
り、また0次光と1次光のなす角度は超音波の周
波数に依つて変わるが、超音波の強さと周波数の
適宜選択に依つて、強度比と角度の制御が可能で
ある。
第32図示構成に於いては、入射光124は音
響光学素子180―1のブラツグ回折に依つて、
0次光b、1次光aの2つに分離され、レンズ1
82に依つ平行光にされる。0次光bはレンズ1
84に依つて、そのレンズ焦点位置にある音響光
学素子180―2に入射させられる。この0次光
はブラツグ回折に依つて更に0次光dと1次光c
に分離され、レンズ186に依つて平行光に変換
させられる。上述の如くして得られた3つの平行
光束a,c,dはレンズ188に依つて互いにあ
る角度を持つた3つのビーム132―1,132
―2,132―3に変換させられる。今、音響光
学素子180―1に依つて分割されたビームの0
次光bと1次光aの強度比を2:1とし、更に音
響光学素子180―2に依つて分割された0次光
dと1次光cの強度比を1:1とするとすれば、
最終的に3分割されたビーム132―1,132
―2,132―3の強度比は1:1:1となる。
次に、音響光学素子180―1に依る0次光bと
1次光aの強度比を1:0とし、更に音響光学素
子180―2に依つて分割された0次光dと1次
光cの強度比を1:0ないしは、1:1とする
と、最終的に3分割されたビーム132―1,1
32―2,132―3の強度比は0:0:1ない
しは0:1:1となる。従つて、音響光学素子1
80―1,180―2を適宜制御する事に依つ
て、ブラツグ回折に依る複数本のビーム得る事が
出来る。第32図示構成に於いては、ビーム12
4が入射している限り、ビーム132―1,13
2―2,32―3の少なくとも1つは出力されて
いる為、黒レベル変調出力を必要しない場合は、
光変調器3の制御を行う必要がある。また、分割
され出力されるビームの数に関係なく全てのビー
ムの強度を一定とする為には、変調器3を分割ビ
ーム数に応じて制御してやる必要がある事は言う
までもない。また、第32図示構成に於いて得ら
れる各濃度レベルに対応する黒レベル変調画素の
配列は、無変調の時、全てのビームがOFF、1
個だけで黒レベル変調する必要のある時はビーム
132―1がON、2個を黒レベル変調する必要
のある時はビーム132―1,132―2が
ON、3個を黒レベル変調する必要のある時は、
ビーム132―1,132―2,132―3共に
ONとする事に依つて得られ、上記4つのモード
を適宜組合せてサブ画素の黒レベル変調個数を0
〜9までの10段階に制御する事が出来るものであ
る。なお、第32図示構成を基本として音響光学
素子180―1,180―2を適宜増減する事に
依つて、1画素中のサブ画素の数を自由に設定な
し得るものである。
響光学素子180―1のブラツグ回折に依つて、
0次光b、1次光aの2つに分離され、レンズ1
82に依つ平行光にされる。0次光bはレンズ1
84に依つて、そのレンズ焦点位置にある音響光
学素子180―2に入射させられる。この0次光
はブラツグ回折に依つて更に0次光dと1次光c
に分離され、レンズ186に依つて平行光に変換
させられる。上述の如くして得られた3つの平行
光束a,c,dはレンズ188に依つて互いにあ
る角度を持つた3つのビーム132―1,132
―2,132―3に変換させられる。今、音響光
学素子180―1に依つて分割されたビームの0
次光bと1次光aの強度比を2:1とし、更に音
響光学素子180―2に依つて分割された0次光
dと1次光cの強度比を1:1とするとすれば、
最終的に3分割されたビーム132―1,132
―2,132―3の強度比は1:1:1となる。
次に、音響光学素子180―1に依る0次光bと
1次光aの強度比を1:0とし、更に音響光学素
子180―2に依つて分割された0次光dと1次
光cの強度比を1:0ないしは、1:1とする
と、最終的に3分割されたビーム132―1,1
32―2,132―3の強度比は0:0:1ない
しは0:1:1となる。従つて、音響光学素子1
80―1,180―2を適宜制御する事に依つ
て、ブラツグ回折に依る複数本のビーム得る事が
出来る。第32図示構成に於いては、ビーム12
4が入射している限り、ビーム132―1,13
2―2,32―3の少なくとも1つは出力されて
いる為、黒レベル変調出力を必要しない場合は、
光変調器3の制御を行う必要がある。また、分割
され出力されるビームの数に関係なく全てのビー
ムの強度を一定とする為には、変調器3を分割ビ
ーム数に応じて制御してやる必要がある事は言う
までもない。また、第32図示構成に於いて得ら
れる各濃度レベルに対応する黒レベル変調画素の
配列は、無変調の時、全てのビームがOFF、1
個だけで黒レベル変調する必要のある時はビーム
132―1がON、2個を黒レベル変調する必要
のある時はビーム132―1,132―2が
ON、3個を黒レベル変調する必要のある時は、
ビーム132―1,132―2,132―3共に
ONとする事に依つて得られ、上記4つのモード
を適宜組合せてサブ画素の黒レベル変調個数を0
〜9までの10段階に制御する事が出来るものであ
る。なお、第32図示構成を基本として音響光学
素子180―1,180―2を適宜増減する事に
依つて、1画素中のサブ画素の数を自由に設定な
し得るものである。
なお、1画素中のサブ画素を4個とし、黒レベ
ル変調されるサブ画素を0〜4までの5段階選択
可能とし、5段階の濃度を得ようとする場合、第
33図示の音響光学素子1個でよく、第33図示
構成に比較して大幅な構成の簡略化が可能であ
る。
ル変調されるサブ画素を0〜4までの5段階選択
可能とし、5段階の濃度を得ようとする場合、第
33図示の音響光学素子1個でよく、第33図示
構成に比較して大幅な構成の簡略化が可能であ
る。
また、第9図示回路構成と、第15図示のサブ
画素発生器を含む構成を組み合わせる事に依つて
も本発明は実施可能であり、例えば、第9図示回
路に2ライン分の変換器を設け、2ラインの走査
に依つて1ライン分の画素を記録する如き構成を
採用し、これに併せてサブ画素発生器122とし
て第33図示の音響光学素子に依つて1ラインの
走査で2ラインのサブ画素を記録する如き構成を
採用すれば、1画素を4×4のサブ画素で構成し
た0〜16の17段階の濃度制御が可能である。かか
る方式に依れば、1画素中のサブ画素が更に増加
しても十分に対応なし得るものである。
画素発生器を含む構成を組み合わせる事に依つて
も本発明は実施可能であり、例えば、第9図示回
路に2ライン分の変換器を設け、2ラインの走査
に依つて1ライン分の画素を記録する如き構成を
採用し、これに併せてサブ画素発生器122とし
て第33図示の音響光学素子に依つて1ラインの
走査で2ラインのサブ画素を記録する如き構成を
採用すれば、1画素を4×4のサブ画素で構成し
た0〜16の17段階の濃度制御が可能である。かか
る方式に依れば、1画素中のサブ画素が更に増加
しても十分に対応なし得るものである。
以上述べた如く本発明に依れば、階調度の高い
中間調画像の形成を簡単な構成により行うことが
できる画像処理装置を得る事が出来るものであ
る。
中間調画像の形成を簡単な構成により行うことが
できる画像処理装置を得る事が出来るものであ
る。
なお、上記各実施例は、画像記録を行う場合に
ついて例示したが、本発明はラスタスキヤンニン
グ方式ないしドツト形式に依る表示装置にも適用
なし得るものであつてその有用性極めて大なるも
のである。
ついて例示したが、本発明はラスタスキヤンニン
グ方式ないしドツト形式に依る表示装置にも適用
なし得るものであつてその有用性極めて大なるも
のである。
第1図は本発明の適用対象となる従来のレーザ
ビーム記録装置の基本的な構成を模式的に示した
概略構成図、第2図は第1図示装置の印刷部を説
明する為の断面図、第3図は第1図示記録装置の
記録原理の説明図、第4図は第5図は第6図は第
7図は第8図は中間調記録のための画像処理装置
の原理の説明図、第9図は中間調記録のための画
像処理装置の回路構成図、第10図は1つの画素
中のサブ画素の対照図、第11図は第10図示装
置の部分回路構成図、第12図は第10図示変換
器のアドレス対データの対照図、第13図はサブ
画素記録の説明図、第14図は第10図示装置の
動作を説明するタイムチヤート、第15図は本発
明実施例に係る画像処理装置の斜視図、第16図
は第17図は第15図示装置の動作説明図、第1
8図は第15図示サブ画素発生器の動作に依つて
得られる黒レベル変調サブ画素の配置例を示す説
明図、第19図は第20図は第15図示装置の動
作を説明する為の説明図、第21図は第15図示
サブ画素発生器の詳細な構成を示す斜視図、第2
2図は第15図示変調器及びサブ画素発生器に対
する制御回路を示す説明図、第23図は第15図
示装置に適用される制御回路構成図、第24図は
第15図示装置に依るサブ画素の各濃度段階に対
する黒レベル変調状態を例示する説明図、第25
図は第24図示の如きサブ画素の黒レベル変調状
態を得る為の、第23図示ROMのアドレス対デ
ータの対照図、第26図は第23図示回路の動作
を説明する為のタイムチヤート、第27図、第2
8図は第15図示装置の動作を説明する為の説明
図、第29図は第15図示サブ画素発生器の他の
例を示す構成図、第30図は第15図示サブ画素
発生器の別の例を示す構成図、第31図は第30
図示音響光学素子66の動作原理を示す説明図、
第32図は第15図示サブ画素発生器の更に別の
例を示す説明図、第33図は第32図示音響光学
素子80―1,80―2の動作原理を示す説明図
である。 3……変調器、4……ビームエキスパンダ、5
……多面体回転鏡、7……f―θレンズ、8……
感光ドラム、28……画素、30……サブ画素、
66―1,66―2,66―3,66―4……変
換器、72……カウンタ、80……4ライン―16
ラインデコーダ、82……ROM、22……サブ
画素発生器、128,166,180―1,18
0―2……音響光学素子、148……メモリ、1
50―1,150―2,150―3……ROM。
ビーム記録装置の基本的な構成を模式的に示した
概略構成図、第2図は第1図示装置の印刷部を説
明する為の断面図、第3図は第1図示記録装置の
記録原理の説明図、第4図は第5図は第6図は第
7図は第8図は中間調記録のための画像処理装置
の原理の説明図、第9図は中間調記録のための画
像処理装置の回路構成図、第10図は1つの画素
中のサブ画素の対照図、第11図は第10図示装
置の部分回路構成図、第12図は第10図示変換
器のアドレス対データの対照図、第13図はサブ
画素記録の説明図、第14図は第10図示装置の
動作を説明するタイムチヤート、第15図は本発
明実施例に係る画像処理装置の斜視図、第16図
は第17図は第15図示装置の動作説明図、第1
8図は第15図示サブ画素発生器の動作に依つて
得られる黒レベル変調サブ画素の配置例を示す説
明図、第19図は第20図は第15図示装置の動
作を説明する為の説明図、第21図は第15図示
サブ画素発生器の詳細な構成を示す斜視図、第2
2図は第15図示変調器及びサブ画素発生器に対
する制御回路を示す説明図、第23図は第15図
示装置に適用される制御回路構成図、第24図は
第15図示装置に依るサブ画素の各濃度段階に対
する黒レベル変調状態を例示する説明図、第25
図は第24図示の如きサブ画素の黒レベル変調状
態を得る為の、第23図示ROMのアドレス対デ
ータの対照図、第26図は第23図示回路の動作
を説明する為のタイムチヤート、第27図、第2
8図は第15図示装置の動作を説明する為の説明
図、第29図は第15図示サブ画素発生器の他の
例を示す構成図、第30図は第15図示サブ画素
発生器の別の例を示す構成図、第31図は第30
図示音響光学素子66の動作原理を示す説明図、
第32図は第15図示サブ画素発生器の更に別の
例を示す説明図、第33図は第32図示音響光学
素子80―1,80―2の動作原理を示す説明図
である。 3……変調器、4……ビームエキスパンダ、5
……多面体回転鏡、7……f―θレンズ、8……
感光ドラム、28……画素、30……サブ画素、
66―1,66―2,66―3,66―4……変
換器、72……カウンタ、80……4ライン―16
ラインデコーダ、82……ROM、22……サブ
画素発生器、128,166,180―1,18
0―2……音響光学素子、148……メモリ、1
50―1,150―2,150―3……ROM。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 変調信号に基づいて変調されたビームにより
記録媒体上を走査して画像を記録する装置であつ
て、画像を構成する画素を複数のサブ画素に分割
するとともに前記サブ画素の発生個数により中間
調画像を形成する記録装置において、 1画素当りの画像濃度をパラレルな複数ビツト
のコード信号として発生する濃度コード信号発生
手段と、 濃度画像を再生するためにビームを発生させる
か否か及びビームを発生したときのビームの強度
を示す複数ビツトのデータを記憶したメモリと、 上記濃度コード信号発生手段からの1画素当り
の上記濃度コード信号により上記メモリのデータ
を選択するべく上記メモリに上記濃度コード信号
を入力する手段と、 上記メモリから出力された上記データを入力し
て、上記データがビームを発生させかつビーム強
度を強くすることを示すデータであるときは上記
ビームを分割し複数のサブ画素を発生させるため
の制御信号を出力し、上記データがビーム強度を
強くすることなくビームを発生させることを示す
データであるときは上記ビームを分割することな
く単一のサブ画素を発生させるための制御信号を
出力する制御手段とを有したことを特徴とする画
像処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59075381A JPS6068775A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 画像処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59075381A JPS6068775A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 画像処理装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2349976A Division JPS52106737A (en) | 1976-03-04 | 1976-03-04 | Picture recorder |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6068775A JPS6068775A (ja) | 1985-04-19 |
JPS6348223B2 true JPS6348223B2 (ja) | 1988-09-28 |
Family
ID=13574556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59075381A Granted JPS6068775A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 画像処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6068775A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01228854A (ja) * | 1988-03-10 | 1989-09-12 | Canon Inc | 記録装置 |
JP3598124B2 (ja) | 1993-10-18 | 2004-12-08 | コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 | 階調記録方法及び装置 |
-
1984
- 1984-04-13 JP JP59075381A patent/JPS6068775A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6068775A (ja) | 1985-04-19 |
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