JPS6345524A - 差圧伝送器 - Google Patents
差圧伝送器Info
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- JPS6345524A JPS6345524A JP18757387A JP18757387A JPS6345524A JP S6345524 A JPS6345524 A JP S6345524A JP 18757387 A JP18757387 A JP 18757387A JP 18757387 A JP18757387 A JP 18757387A JP S6345524 A JPS6345524 A JP S6345524A
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Links
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Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は差圧伝送器に係り、2箇所の系内圧力が流体を
介して伝達される受圧部と、その受圧部に伝達された高
圧側と低圧倒の圧力の差を電気信号として取り出す差圧
検出部を備えた差圧伝送器に関するものである。
介して伝達される受圧部と、その受圧部に伝達された高
圧側と低圧倒の圧力の差を電気信号として取り出す差圧
検出部を備えた差圧伝送器に関するものである。
半導体差圧センサを用いる差圧伝送器において、受圧部
内にダイアフラムで仕切られた部屋を複数設け、その受
圧部から離れた場所に差圧検出部を設けである。流体系
の2つの場所から流体を介して伝達された各圧力は、各
部屋のダイアフラムを変形させる。それらダイアフラム
の受圧側の反対側に形成された室は差圧センサに連通し
ており、しかも独立に密封されている。そして、これら
の密封された封入部にはそれぞれ圧力伝達用の封入液体
が満たされている。したがって一方のダイアフラムの変
位に基づく圧力および他方のダイアプラムの変位に基づ
く圧力が差圧センサに印加される。これにより差圧セン
サは印加された封入液の差圧、すなわち伝送器に導入さ
れた液体の圧力の差に対応する量だけ変位し、その変位
に応じた電気的出力信号を発生する。
内にダイアフラムで仕切られた部屋を複数設け、その受
圧部から離れた場所に差圧検出部を設けである。流体系
の2つの場所から流体を介して伝達された各圧力は、各
部屋のダイアフラムを変形させる。それらダイアフラム
の受圧側の反対側に形成された室は差圧センサに連通し
ており、しかも独立に密封されている。そして、これら
の密封された封入部にはそれぞれ圧力伝達用の封入液体
が満たされている。したがって一方のダイアフラムの変
位に基づく圧力および他方のダイアプラムの変位に基づ
く圧力が差圧センサに印加される。これにより差圧セン
サは印加された封入液の差圧、すなわち伝送器に導入さ
れた液体の圧力の差に対応する量だけ変位し、その変位
に応じた電気的出力信号を発生する。
ところで、従来の差圧伝送器においては中央の部屋の中
央ダイアフラムが受圧部の本体に溶接により固定されて
いた。中央ダイアフラムの溶接部の周辺は熱影響により
焼なまし状態となるため、中央ダイアフラムの運動の支
点は溶接部から離れ、かつその支点は溶接条件により変
化するので、中央ダイアフラムが一方側へ変位したとき
の動作特性と、他方側へ変位したときの動作特性を同じ
にすることができず、零点変動が大きくなり、直線性が
低下し、安定した高い測定精度が得られないという問題
がある6さらに、最近は極めて高圧力下での差圧力を測
定することが要望されているので、高圧力下で差圧セン
サの片面のみに圧力が印加される場合を考慮すると、上
述の安定した高い測定精度は得られない。
央ダイアフラムが受圧部の本体に溶接により固定されて
いた。中央ダイアフラムの溶接部の周辺は熱影響により
焼なまし状態となるため、中央ダイアフラムの運動の支
点は溶接部から離れ、かつその支点は溶接条件により変
化するので、中央ダイアフラムが一方側へ変位したとき
の動作特性と、他方側へ変位したときの動作特性を同じ
にすることができず、零点変動が大きくなり、直線性が
低下し、安定した高い測定精度が得られないという問題
がある6さらに、最近は極めて高圧力下での差圧力を測
定することが要望されているので、高圧力下で差圧セン
サの片面のみに圧力が印加される場合を考慮すると、上
述の安定した高い測定精度は得られない。
本発明の目的は、中央ダイアフラムの支点部分を明確に
規定できる構造とし、零点変動がなく、直線性の優れた
差圧伝送器を提供することにある。
規定できる構造とし、零点変動がなく、直線性の優れた
差圧伝送器を提供することにある。
このため本発明は、受圧部を第1の部屋を有する第1本
体部および第2の部屋を有する第2本体部で構成し、前
記各部屋をシールダイアフラムで仕切り、前記第1の本
体部と第2の本体部とによって中央の部屋を構成すると
ともに中央の部屋を中央ダイアフラムで仕切り、中央ダ
イアフラムの端縁部付近を、第1本体部に溶接により固
定し、かつ溶接部の内側を第2本体部に設けた突出部に
より押しつけるように構成したものである。
体部および第2の部屋を有する第2本体部で構成し、前
記各部屋をシールダイアフラムで仕切り、前記第1の本
体部と第2の本体部とによって中央の部屋を構成すると
ともに中央の部屋を中央ダイアフラムで仕切り、中央ダ
イアフラムの端縁部付近を、第1本体部に溶接により固
定し、かつ溶接部の内側を第2本体部に設けた突出部に
より押しつけるように構成したものである。
以下本発明に基づ〈実施例を説明する。
第1図は本発明の一実施例の構成を示す断面図である。
第1図の差圧伝送器は、半導体差圧センサ10が内蔵さ
れた差圧検出部1と、高圧側シールダイアフラム20.
低圧側シールダイアフラム30、および中央ダイアフラ
ム4oが内蔵された受圧部2を備えている。
れた差圧検出部1と、高圧側シールダイアフラム20.
低圧側シールダイアフラム30、および中央ダイアフラ
ム4oが内蔵された受圧部2を備えている。
半導体差圧センサ10は円板上に形成された単結晶シリ
コンからなり、拡散技術により抵抗が形成されている。
コンからなり、拡散技術により抵抗が形成されている。
差圧センサ10の裏面側は中心付近が突出した円形凹部
を有しており、その裏面の外周囲付近が、薄いガラスを
介して支持体12に接合されている。この差圧センサ1
0および支持体12は、シール金具55内に納められ、
連結金具50、シール金具55.プレート57で囲まれ
るように配置されている。差圧センサ1oの外側を取り
巻くドーナツ状のセラミックプリント基板15は、差圧
センサ1oとほぼ同一平面となるように配置され、それ
を被うようにセラミック基板用保護カバー16が設けら
れている。差圧センサ10上のブリッジ抵抗と基板15
とは導体によって接続され、さらにハーメチックシール
されたリード線61を介してプリント回路62に接続さ
れている。プリント回路62は温度補償用サーミスタ等
を有する補償基板60を介してコネクタ65に接続され
ている。連結金具50とシール金具55とは溶接接合さ
れ、シール金具55とプレート57も溶接接合されてい
る。差圧センサ10の表面側はセラミック基板15と保
護カバー16との間隙が、連結金具50の導圧路52に
通じており、これらの通路に封入液が満たされている6
差圧センサ1oの裏面側は支持体12に形成された孔を
通って導圧路54に通じており、これらの通路には封入
液が満たされている。補償基板6oの周囲はコネクター
カバー63で被われ、シール金具55の外周囲には保護
カバー56が配置される。
を有しており、その裏面の外周囲付近が、薄いガラスを
介して支持体12に接合されている。この差圧センサ1
0および支持体12は、シール金具55内に納められ、
連結金具50、シール金具55.プレート57で囲まれ
るように配置されている。差圧センサ1oの外側を取り
巻くドーナツ状のセラミックプリント基板15は、差圧
センサ1oとほぼ同一平面となるように配置され、それ
を被うようにセラミック基板用保護カバー16が設けら
れている。差圧センサ10上のブリッジ抵抗と基板15
とは導体によって接続され、さらにハーメチックシール
されたリード線61を介してプリント回路62に接続さ
れている。プリント回路62は温度補償用サーミスタ等
を有する補償基板60を介してコネクタ65に接続され
ている。連結金具50とシール金具55とは溶接接合さ
れ、シール金具55とプレート57も溶接接合されてい
る。差圧センサ10の表面側はセラミック基板15と保
護カバー16との間隙が、連結金具50の導圧路52に
通じており、これらの通路に封入液が満たされている6
差圧センサ1oの裏面側は支持体12に形成された孔を
通って導圧路54に通じており、これらの通路には封入
液が満たされている。補償基板6oの周囲はコネクター
カバー63で被われ、シール金具55の外周囲には保護
カバー56が配置される。
差圧検出部1は、増幅部本体ケース66に固定ねじ75
,76等により固定される。この場合、〇−リング58
により気密が保たれる。
,76等により固定される。この場合、〇−リング58
により気密が保たれる。
受圧部2は、フランジ27および37、本体28および
38を、ボルト71.73等および締付ナツト72.7
4等によってパツキン77゜78を介在して締付けて耐
圧性と気密性を得ている。フランジ27.37にはそれ
ぞれ凹部が形成されており、フランジ27の凹部には系
内高圧流体導圧口24が開口し、フランジ37の凹部に
は系内低圧流体導圧口34が開口している。各導圧口2
4,34はプロセス内の異なった場所、例えば流体の上
流側と下流側に連通しており、各凹部にはプロセス流体
が導入されている。フランジ27.37および本体28
,38はステンレス鋼で形成されている。円柱状の本体
28の円柱上面と下面にはそれぞれ凹部が形成される。
38を、ボルト71.73等および締付ナツト72.7
4等によってパツキン77゜78を介在して締付けて耐
圧性と気密性を得ている。フランジ27.37にはそれ
ぞれ凹部が形成されており、フランジ27の凹部には系
内高圧流体導圧口24が開口し、フランジ37の凹部に
は系内低圧流体導圧口34が開口している。各導圧口2
4,34はプロセス内の異なった場所、例えば流体の上
流側と下流側に連通しており、各凹部にはプロセス流体
が導入されている。フランジ27.37および本体28
,38はステンレス鋼で形成されている。円柱状の本体
28の円柱上面と下面にはそれぞれ凹部が形成される。
一方の凹部は底部が波形に形成されており、その底部波
形に応じた波形が形成された高圧側シールダイアフラム
20が、底部に近接して配置するように、ダイアフラム
の端縁部付近を本体28に電子ビーム溶接で接合してい
る。
形に応じた波形が形成された高圧側シールダイアフラム
20が、底部に近接して配置するように、ダイアフラム
の端縁部付近を本体28に電子ビーム溶接で接合してい
る。
フランジ27の凹部と本体28の一方の凹部とによって
第1の部屋が形成されるが、この第1の部屋は高圧側シ
ールダイアフラム20により、高圧側流体室21と高圧
側受圧室22とに隔離される0本体28の他方の凹部の
底も波形に形成されており、その波形に沿った波形に形
成された中央ダイアフラム40が配置される。他方の凹
部と中央ダイアフラム40とは過負荷保護室42を形成
するように近接して配置されている。中央ダイアフラム
40の端縁部周囲付近は、電子ビーム溶接により本体2
8に接合されている。導圧路25およびダンパ29は高
圧側受圧室22と過負荷保護室42とを連通している。
第1の部屋が形成されるが、この第1の部屋は高圧側シ
ールダイアフラム20により、高圧側流体室21と高圧
側受圧室22とに隔離される0本体28の他方の凹部の
底も波形に形成されており、その波形に沿った波形に形
成された中央ダイアフラム40が配置される。他方の凹
部と中央ダイアフラム40とは過負荷保護室42を形成
するように近接して配置されている。中央ダイアフラム
40の端縁部周囲付近は、電子ビーム溶接により本体2
8に接合されている。導圧路25およびダンパ29は高
圧側受圧室22と過負荷保護室42とを連通している。
本体28と連結金具50とは溶接接合されている。
円板状の本体38の上面と下面にもそれぞれ凹部が形成
される。一方の凹部の底は中央ダイアフラム40の波形
に沿った波形に形成されている。
される。一方の凹部の底は中央ダイアフラム40の波形
に沿った波形に形成されている。
他方の凹部の底も波形に形成されており、その底部に沿
って波形形成された低圧側シールダイアフラム30が近
接して配置される。低圧側シールダイアフラム30の端
縁部周囲付近は、本体38に電子ビーム溶接により接合
されている。円板状の本体38は1本体28内に嵌合さ
れる。第2図に示すように本体38の尖頭部39は、本
体28に溶接接合された中央ダイアフラム40の溶接接
合部より内側を、高負荷力で押し付る。中央ダイアフラ
ム40を有する中央の部屋は、中央ダイアフラム40に
よって過負荷保護室42と44とに隔離される。また、
フランジ37の凹部と本体38の凹部によって形成され
る第2の部屋は、低圧側シールダイアフラム30によっ
て、低圧側流体室31と低圧側受圧室32とに隔離され
る。導圧路35は、低圧側流体室31と低圧側受圧室3
2とを連通している。
って波形形成された低圧側シールダイアフラム30が近
接して配置される。低圧側シールダイアフラム30の端
縁部周囲付近は、本体38に電子ビーム溶接により接合
されている。円板状の本体38は1本体28内に嵌合さ
れる。第2図に示すように本体38の尖頭部39は、本
体28に溶接接合された中央ダイアフラム40の溶接接
合部より内側を、高負荷力で押し付る。中央ダイアフラ
ム40を有する中央の部屋は、中央ダイアフラム40に
よって過負荷保護室42と44とに隔離される。また、
フランジ37の凹部と本体38の凹部によって形成され
る第2の部屋は、低圧側シールダイアフラム30によっ
て、低圧側流体室31と低圧側受圧室32とに隔離され
る。導圧路35は、低圧側流体室31と低圧側受圧室3
2とを連通している。
過負荷保護室42.44の容積は受圧室22゜32の容
積よりも大きい。これにより一方のシールダイアフラム
に過大圧が加わり、そのシールダイアフラムが本体に着
座しても、中央ダイアフラム40は着座動作しない。過
負荷保護室42は、本体28に形成された導圧路および
連結金具50の導圧路52を介して半導体センサ10の
表面側に連結しており、これら導圧路25.高圧側受圧
室22を含めて第1封入部を成している。この独立した
第1封入部には非圧縮性の液体であるシリコンオイルが
満たされている。過負荷保護室44は、本体38および
本体28に形成された導圧路および連結金具5oの導圧
路54を介して差圧センサ10の裏面側に連通しており
、これらおよび導圧路35.低圧側受圧室32を含めて
第2封入部を成している。この独立した第2封入部にも
シリコンオイルが満たされている。
積よりも大きい。これにより一方のシールダイアフラム
に過大圧が加わり、そのシールダイアフラムが本体に着
座しても、中央ダイアフラム40は着座動作しない。過
負荷保護室42は、本体28に形成された導圧路および
連結金具50の導圧路52を介して半導体センサ10の
表面側に連結しており、これら導圧路25.高圧側受圧
室22を含めて第1封入部を成している。この独立した
第1封入部には非圧縮性の液体であるシリコンオイルが
満たされている。過負荷保護室44は、本体38および
本体28に形成された導圧路および連結金具5oの導圧
路54を介して差圧センサ10の裏面側に連通しており
、これらおよび導圧路35.低圧側受圧室32を含めて
第2封入部を成している。この独立した第2封入部にも
シリコンオイルが満たされている。
このような構成の差圧伝送器において、図示されていな
い系の流路中のオリフィスの高圧側から取り出されたプ
ロセス流体の圧力は、導圧口24から高圧側流体室21
に伝達されてシールダイアフラム20を押圧する。この
高圧流体に圧力変化が発生すると、その変化は第1封入
部の封入液により中央ダイアフラム40の一方の面に伝
達されるとともに、導圧路52を介して差圧センサ1゜
の表面に伝達される。同時にオリフィスの低圧側から取
り出されたプロセス流体の圧力は、導圧口34から低圧
側流体室31に伝達されてシールダイアフラム30を押
圧する。この低圧流体に圧力が発生すると、その変化は
第2封入部の封入液により中央ダイアフラム40の他方
の面に伝達されるとともに、導圧路54を介して差圧セ
ンサ10の裏面に伝達される。
い系の流路中のオリフィスの高圧側から取り出されたプ
ロセス流体の圧力は、導圧口24から高圧側流体室21
に伝達されてシールダイアフラム20を押圧する。この
高圧流体に圧力変化が発生すると、その変化は第1封入
部の封入液により中央ダイアフラム40の一方の面に伝
達されるとともに、導圧路52を介して差圧センサ1゜
の表面に伝達される。同時にオリフィスの低圧側から取
り出されたプロセス流体の圧力は、導圧口34から低圧
側流体室31に伝達されてシールダイアフラム30を押
圧する。この低圧流体に圧力が発生すると、その変化は
第2封入部の封入液により中央ダイアフラム40の他方
の面に伝達されるとともに、導圧路54を介して差圧セ
ンサ10の裏面に伝達される。
中央ダイアフラム40の存在は、高圧側流体室21また
は低圧側流体室31のいずれかに過負荷が加わったとき
に、その過負荷流体圧がそのまま差圧センサ1oに伝達
されるのを阻止する。
は低圧側流体室31のいずれかに過負荷が加わったとき
に、その過負荷流体圧がそのまま差圧センサ1oに伝達
されるのを阻止する。
シールダイアフラム20,30および中央ダイアフラム
4oは、差圧伝送器としての動作圧力範囲に応じて大き
さが決められている。
4oは、差圧伝送器としての動作圧力範囲に応じて大き
さが決められている。
中央ダイアフラム4oを、本体28に電子ビ−ム溶接に
より接合し、さらに本体38の尖頭部39により溶接点
の内周部を強力に押し付けることにより、一方の流体室
に過負荷が加わった場合、過負荷の印加前と印加後とで
は、零点が変動しなかった。さらにノンリニアリティの
著しい改善ができた。すなわち中央゛ダイアフラム40
の動作の支点は溶接部分ではなく、本体38の尖頭部3
9であるため、溶接の際に生じる熱影響は皆無であり、
さらに溶接条件に左右されることはない。それゆえに中
央ダイアフラム40が一方側へ変位したときと他方側へ
変位したときに、中央ダイアフラム40の運動の支点は
固く機械的に固定されているので、動作特性を一致させ
ることができるからである。
より接合し、さらに本体38の尖頭部39により溶接点
の内周部を強力に押し付けることにより、一方の流体室
に過負荷が加わった場合、過負荷の印加前と印加後とで
は、零点が変動しなかった。さらにノンリニアリティの
著しい改善ができた。すなわち中央゛ダイアフラム40
の動作の支点は溶接部分ではなく、本体38の尖頭部3
9であるため、溶接の際に生じる熱影響は皆無であり、
さらに溶接条件に左右されることはない。それゆえに中
央ダイアフラム40が一方側へ変位したときと他方側へ
変位したときに、中央ダイアフラム40の運動の支点は
固く機械的に固定されているので、動作特性を一致させ
ることができるからである。
第3図は、本発明の他の実施例を説明する図であり、第
1図と異なるのは中央ダイアフラム40を本体38に組
み込まれたウニイブ輸49で押し付けた点にある。ウニ
イブ輪29は本体38に溶接されている。この構造によ
れば、中央ダイアフラム40の支点部はウニイブ輸29
により常に一定の圧力で押えるようになる。すなわち本
体28に本体38を嵌合して溶接する際、本体38に印
加させる負荷力を小さくできるとともに、溶接の条件に
よる影響を皆無にすることができる。それゆえ中央ダイ
アフラム40の運動支点は、−右側へ変位したときと他
方側へ変位したときに一致するので1両方向の特性が一
致した差圧伝送器が得られ、零点変動がなく、ノンリニ
アリティの著しい改善ができる。
1図と異なるのは中央ダイアフラム40を本体38に組
み込まれたウニイブ輸49で押し付けた点にある。ウニ
イブ輪29は本体38に溶接されている。この構造によ
れば、中央ダイアフラム40の支点部はウニイブ輸29
により常に一定の圧力で押えるようになる。すなわち本
体28に本体38を嵌合して溶接する際、本体38に印
加させる負荷力を小さくできるとともに、溶接の条件に
よる影響を皆無にすることができる。それゆえ中央ダイ
アフラム40の運動支点は、−右側へ変位したときと他
方側へ変位したときに一致するので1両方向の特性が一
致した差圧伝送器が得られ、零点変動がなく、ノンリニ
アリティの著しい改善ができる。
以上説明したように、本発明によれば、長期安定して測
定精度のすぐれた差圧伝送器を得ることができるので、
その効果は甚大である。
定精度のすぐれた差圧伝送器を得ることができるので、
その効果は甚大である。
第1図は本発明の一実施例の構成を示す断面図、第2図
は第1図の要部の詳細を示す断面図、第3図は本発明の
他の実施例の要部を示す断面図である。 1・・・差圧検出部、2・・・受圧部、10・・・半導
体差圧センサ、20,30・・・シールダイアフラム、
21゜31・・・流体室、22,32・・・受圧室、2
4,34・・・流体導圧口、27.37・・・フランジ
、28゜38・・・本体、39・・・尖頭部、40・・
・中央ダイアフラム、49・・・ウニイブ輪、50・・
・連結金具、52゜54・・・導圧路、55・・・シー
ル金具。 早 1 口
は第1図の要部の詳細を示す断面図、第3図は本発明の
他の実施例の要部を示す断面図である。 1・・・差圧検出部、2・・・受圧部、10・・・半導
体差圧センサ、20,30・・・シールダイアフラム、
21゜31・・・流体室、22,32・・・受圧室、2
4,34・・・流体導圧口、27.37・・・フランジ
、28゜38・・・本体、39・・・尖頭部、40・・
・中央ダイアフラム、49・・・ウニイブ輪、50・・
・連結金具、52゜54・・・導圧路、55・・・シー
ル金具。 早 1 口
Claims (1)
- 1、系内の2つの場所における圧力が流体を介して伝達
される受圧部と、この受圧部に伝達された圧力の差を電
気信号として取り出すの差圧センサを有する差圧検出部
とを備えた差圧伝送器において、前記受圧部を第1の部
屋を有する第1本体部および第2の部屋を有する第2本
体部で構成し、前記各部屋をシールダイアフラムで仕切
り、前記第1の本体部と第2の本体部とによつて中央の
部屋を構成するとともに前記中央の部屋を中央ダイアフ
ラムで仕切り、前記中央ダイアフラムの端縁部付近を前
記第1本体部に溶接により固定し、かつ溶接部の内側を
前記第2本体部に設けた突出部により押しつけるように
構成したことを特徴とする差圧伝送器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18757387A JPS6345524A (ja) | 1987-07-29 | 1987-07-29 | 差圧伝送器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18757387A JPS6345524A (ja) | 1987-07-29 | 1987-07-29 | 差圧伝送器 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12460480A Division JPS5749829A (en) | 1980-09-10 | 1980-09-10 | Transmitting device for pressure difference |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6345524A true JPS6345524A (ja) | 1988-02-26 |
Family
ID=16208464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18757387A Pending JPS6345524A (ja) | 1987-07-29 | 1987-07-29 | 差圧伝送器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6345524A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5749829A (en) * | 1980-09-10 | 1982-03-24 | Hitachi Ltd | Transmitting device for pressure difference |
-
1987
- 1987-07-29 JP JP18757387A patent/JPS6345524A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5749829A (en) * | 1980-09-10 | 1982-03-24 | Hitachi Ltd | Transmitting device for pressure difference |
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