JPS6345213A - コンディショニングシャンプ−組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、シリコーン物質およびアルキルエトキシ化リ
ン酸モノエステルを含有するコンディショニングシャン
プーに関する。

発明の背景 ヒトのヘアは、周囲の雰囲気との接触、多大に頭によっ
て分泌される皮脂との接触のため汚れるようになる。皮
脂の蓄積は、ヘアが汚れた感じおよび魅力的ではない外
観を有するようにさせる。

このことは、ヘアをしばしば規則正しく洗髪することを
必要とする。

洗髪は、過剰の汚れおよび皮脂を除去することによって
クリーニングする。しかしながら、洗髪プロセスは、ヘ
アをぬれた絡み合った一般に管理不能の状態に残す点で
不利ををする。更に、洗いたてのヘアは、とかした際、
高い静電荷を生ずる。

この高い静電荷は、「フライアウェイ（Ｆｌｙ−ａｖａ
ｙ）　Ｊヘアとして知られているものを生じさせる。即
ち、ヘアの個々のストランドが互いにはじき、維持され
ていない外観をもたらす。洗髪後の問題を軽減する各種
のアプローチが、開発されている。これらは、ヘアコン
デイショニング助剤のシャンプーへの配合からヘアコン
ディショナー、即ちヘアリンスの洗髪後の適用までの範
囲にわたる。ヘアリンスは、典型的には、陽イオン物質
または高分子物質をヘア上に付着することによって働く
。しかしながら、このような解決法は、必ずしも満足で
はなかった。まず第一に、ヘアリンスは、性状が一般に
液体であり、洗髪後に別個の工程で適用し、ヘア上に所
定時間残し、新鮮な水ですすがなければならない。この
ことは、勿論、時間がかかり、不便である。

コンディショニング助剤を含有するシャンプーは、開示
されているが、各種の理由で必ずしも満足ではなかった
。良好なりリーニング陰イオン界面活性剤と一般の陽イ
オンであるコンディショニング助剤との間には相容性上
の問題がある。この望ましくない相互作用を軽減するた
めには、他の界面活性剤、例えば非イオン界面活性剤、
両性界面活性剤および双性界面活性剤が、この分野の研
究者によって調べられた。

これらの非陰イオン界面活性剤の使用は、相容性上の問
題の多くを解決したが、依然としてすべての分野で完全
な答を与えなかった。例えば、これらのアプローチのい
ずれも、静電荷によって生ずる「フライアウェイ」ヘア
の問題を有効には解決しなかった。有効なりリーニング
とヘアコンデイショニング上の利益との両方を与えるシ
ャンプーを処方することができることは、明らかに高度
に望ましいであろう。

シャンプー組成物中のシリコーンは、多数の異なる刊行
物でコンデイショニング剤として開示されている。例え
ば、米国特許箱 ２．８２６，５５１号明細書、米国特許箱３．％９，５
００号明細書、米国特許箱４．３６４，８３７号明細書
、米国特許箱８４９．４３３号明細書参照。これらの特
許は、シリコーン含有シャンプー組成物を開示している
が、必ずしも満足な製品を与えない。１つの問題は、分
散されたシリコーン物質を懸濁状態に保ち、かつ製品全
体を商業で必要とされる長期の貯蔵期間安定に保つこと
である。各種の物質、例えばメチルセルロースが、増粘
および安定化の目的でシリコーン含有シャンプーに配合
されているが、大抵のシリコーン化合物、例えばポリジ
メチルシロキサンを含有するシャンプー組成物を安定化
するのに自゛効ではない。

リン酸エステルは、シャンプー組成物中の界面活性剤と
して開示されている。例えば、米国特許箱４．２０９．
４４９号明細書、日本特許出願昭５８−１９１５７８号
参照。１つの文献、特に米国時：１第４，４７９，８９
３号明細書は、各種のシリコーン誘導体を含有するシャ
ンプー組成物への少量のリン酸エステルの添加を開示し
ている。

しかしながら、成るシリコーン誘導体、例えばポリジメ
チルシロキサンを含有する開示のンヤンブー組代物は、
安定ではない。成る特定のリン酸エステルおよび特定の
シリコーン誘導体を−４の所定の沈殿防ＩＬ剤と併用す
る時には、安定なコンディショニングシャンプーが得ら
れることが発見された。その上、これらの同じシャンプ
ーは、予想外の優秀な帯電防止およびコンディショニン
グ上の利益を与える。

それ故、本発明の目的は、良好なヘアクリーニングおよ
び改善されたヘアケア上の利益を与えるシリコーンおよ
び非常に少量のリン酸エステルを含有する安定なコンデ
ィショニングシャンプーを提供することにある。

本発明の更に他の目的は、フライアウェイを防止するよ
うなコンディショニングシャンプーを得供することにあ
る。

特にことわらない限り、ここですべての９０および比率
は、重量基弗である。

発明の概要 本発明は、 （ａ）陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、非イ
オン界面活性剤、双性界面活性剤、両性界面活性剤、お
よびそれらの混合物からなる群から選ばれる合成界面活
性剤約５０６〜約６０％、（ｂ）ポリジメチルシロキサ
ン、ポリジフェニルシロキサン、およびそれらの混合物
からなる群から選ばれる分子瓜約３００〜約 １．０００，０００および２５℃での粘度約２〜約２０
，０００，０００センチストークを角゛する分散シリコ
ーン重合体約０．０１％〜１％〜約１（ｃ）トリデセト
ー６−ホスフニート、ラウレト−３−ホスフェート、ラ
ウレト−４−ホスフェート、ラウレト−５−ホスフェー
ト、オレト−３−ホスフェート、それらの塩およびそれ
らの混合物からなる群から選ばれるアルキルエトキシ化
リン酸モノエステル約０．１％〜約５．０％、（ｄ）キ
サンタンゴム、炭素数約１６〜約２２の脂肪酸のエチレ
ングリコールエステル、炭素数約１６〜約２２の脂肪酸
のアルカノールアミド、炭素数約１６〜約２２のアルキ
ルジメチルアミンオキシド、およびそれらの混合物から
なる群から選ばれる沈澱防止剤約０．５％〜約５％、（
ｅ）水約２９％〜約９４％ を含むことを特徴とするヘアコンデイショニングシャン
プー組成物に関する。

好ましいシリコーン重合体は、ポリジメチルシロキサン
である。好ましいリン酸エステルは、ラウレト−３−ホ
スフェート、ラウレト−４−ホスフェート、ラウレト−
５−ホスフェート、オレト−３−ホスフェートである。

好ましい沈殿防止剤は、キサンタンゴム、エチレングリ
コールジステアレートである。最も好ましい組成物は、
陰イオン界面活性剤と一緒に前記物質を包含する。

発明の詳細な説明 本発明の成分を以下に詳述する。

界面活性剤 本組成物の必須成分は、界面活性剤である。多種多様の
合成陰イオン界面活性剤、合成両性界面活性剤、合成双
性界面活性剤および合成非イオン界面活性剤のいずれか
から選択できる界面活性剤（好ましくは陰イオン界面活
性剤）は、シャンプー組成物の約５％〜約６０％、好ま
しくは約１０％〜約３０％、最も好ましくは約１０？６
〜約２２９゜の量で存在する。

本発明のシャンプーに好ましい界面活性剤は、良好なり
リーニングおよび良好な起泡品質を有する合成陰イオン
界面活性剤である。アルキルサルフェートが、最も好ま
しい。合成陰イオン界面活性剤は、それらの分子構造中
に炭素数約８〜約２２のアルキル基およびスルホン酸エ
ステル基または硫酸エステル基を有する有機硫酸反応生
成物のアルカリ金属塩によって例示できる（アルキルな
る用語には面縁アシル基のアルキル部分が包含される）
。好ましいアルキルサルフェートは、ナトリウム、アン
モニウム、カリウムまたはトリエタ７°−ルア′ミンの
アルキル硫酸塩、特に高級アルコール（０８〜Ｃ１８炭
素原子）を硫酸化することによって得られたもの、やし
油脂肪酸モノグリセリド硫酸ナトリウムおよびゃし油脂
肪酸モノグリセリドスルホン酸ナトリウム；高級詣肪ア
ルコール（例えば、タローまたはやし油アルコール）約
１モルとエチレンオキシド約１〜約１２モルとの反応生
成物の硫酸エステルのナトリウム塩またはカリウム塩；
１分子当たり約１〜約１０単位のエチレンオキシドを青
し、かつアルキル基が約８〜約１２個の炭素原子を有す
るアルキルフェノールエチレンオキシドエーテル硫酸の
ナトリウム塩またはカリウム塩、アルキルグリセリルエ
ーテルスルホン酸ナトリウム；イセチオン酸でエステル
化され水酸化ナトリウムで中和された炭素数約１０〜約
２２の脂肪酸の反応生成物：脂肪酸とサルコシンとの縮
合物の水溶性塩；および技術上既知の他のものである。

これらの陰イオン界面活性剤は、コスメティックス（Ｃ
ｏｓｍｅｔｉｃｓ）　：サイエンス・エンド会テクノロ
ジー（Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ
）、第２版、第■巻、第８８頁〜第９４頁に更に記載さ
れている。

ここで使用するのに好ましいアルキルサルフェートの特
定例としては、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウレト硫
酸アンモニウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、
ラウレト硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸モノ
エタノールアミン、ラウリル硫酸モノエタノールアミン
、ラウリル硫酸ジェタノールアミン、ラウリル硫酸ジェ
タノールアミン、ラウリン酸モノグリセリド硫酸ナトリ
ウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸カリウム
、ラウリル硫酸カリウム、ラウリル硫酸カリウム、ラウ
リルサルコシン、ココイルサルコシン、ココイル硫酸ア
ンモニウム、ココイルｆＡｆｉ＆ナトリウム、ココイル
硫酸カリウム、ココイル硫酸ジェタノールアミン、ココ
イル硫酸モノエタノールアミンが挙げられる。ラウリル
硫酸アンモニウム、ラウレト硫酸アンモニウム、ラウリ
ル硫酸トリエタノールアミンおよびラウレト硫酸トリエ
タノールアミンが、より好ましい。ラウリル硫酸アンモ
ニウムおよびラウレト硫酸アンモニウムが、最も好まし
い。

他の好適な合成陰イオン界面活性剤は、アルキル基が約
８〜約２２個の炭素原子を有するアリールアルキルスル
ホネートである。好ましいアリールアルキルスルホネー
トは、トリデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウムである。

本発明で有用な他の界面活性剤は、双性界面活性剤、両
性界面活性剤および非イオン界面活性剤である。双性界
面活性剤は、脂肪族置換基が直鎖または分枝であること
ができ、そして脂肪族置換基の１つが約８〜約１８個の
炭素原子を有し、かつ１つが陰イオン水溶化基、例えば
カルボキシ、スルホネート、サルフェート、ホスフェー
ト、またはホスホネートを含有する脂肪族第四級アンモ
ニウム、ホスホニウム、およびスルホニウム化合物の誘
導体と広く記載できる。これらの化合物の一般式は、次
の通りである： （式中、Ｒ−は炭素数約８〜約１８のアルキル、アルケ
ニル、またはヒドロキシアルキル基、０〜約１０個のエ
チレンオキシド部分および０〜約１個のグリセリル部分
を含み：Ｙは窒素、リンおよび硫黄原子からなる群から
選ばれ；Ｒ３は炭素数約１〜約３のアルキルまたはモノ
ヒドロキシアルキル基であり；ＸはＹが硫黄原子である
時には１、Ｙが窒素またはリン原子である時には２であ
り；Ｒ４は炭素数０〜約４のアルキレンまたはヒドロキ
シアルキレンであり、２はカルボキシレート、スルホネ
ート、サルフェート、ホスホネート、およびホスフェー
ト基からなる群から選ばれる基である） 好ましい双性界面活性剤としては、４−［Ｎ。

Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−オクタデシルア
ンモニオ）　−ブタン−１−カルボキシレート、５−（
Ｓ−３−ヒドロキシプロピル−８−ヘキサデシルスルホ
ニオ〕　−３−ヒドロキシペンタン−１−サルフェート
、３−　　［Ｐ、Ｐ−エチル−Ｐ−３，６，９−トリオ
キサテトラデキソシルホスホニオ〕　−２−ヒドロキシ
プロパン−１−ホスフェート、３−（Ｎ、Ｎ−ジプロピ
ル−Ｎ−３〜ドデコキシー２−ヒドロキシプロピルアン
モニオ〕〜プロパン−１−ホスホネート、３−　　（Ｎ
、　Ｎ　−ジメチル−Ｎ−ヘキサデシルアンモニオ）プ
ロパン−１−スルホネート、３−Ｎ−［Ｎ、Ｎ−ジメチ
ル−Ｎ−ヘキサデシルアンモニオ］　−２−ヒドロキシ
プロパン−１−スルホネート、４−（Ｎ。

Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（２−ヒドロキ
シドデシル）アンモニオ〕　−ブタン−１−カルボキシ
レート、３−　〔Ｓ−エチル−３−（３−ドデコキンー
２−ヒドロキシプロピル）スルホニオ〕−プロパンー１
−ホスフェート、３−［Ｐ。

Ｐ−ジメチル−Ｐ−ドデシルホスホニオ］　−プロパン
−１−ホスホネート、５−（Ｎ、Ｎ−ジ（３−ヒドロキ
シプロピル）−Ｎ−ヘキサデシルアンモニオ〕　−２−
ヒドロキシペンクン−１−サルフェートが挙げられる。

他の双性界面活性剤、例えばベタインも、本発明で有用
である。ここで有用なベタインの例としては、ココジメ
チルカルボキシメチルベタイン、ラウリルジメチルカル
ボキシメチルベタイン、ラウリルジメチルα−カルボキ
シエチルベタイン、セチルジメチルカルボキシメチルベ
タイン、ラウリルビス−（２−ヒドロキシエチル）カル
ボキシメチルベタイン、ステアリルビス−（２−ヒドロ
キシプロピル）カルボキシメチルベタイン、オレイルジ
メチルγ−カルボキシエチルベタイン、ラウリルビス−
（２−ヒドロキシプロピル）α−カルボキシエチルベタ
インなどの高扱アルキルベタインが挙げられる。スルホ
ベタインは、ココジメチルスルホプロピルベタイン、ス
テアリルジメチルスルホプロピルベタイン、ラウリルジ
メチルスルホエチルベタインおよびラウリルビス−（２
−ヒドロキシエチル）スルホプロピルベタインによって
代表される。

本発明のシャンプー組成物で有用な両性界面活性剤の例
は、脂肪族置換基が直鎖または分岐鎖であることができ
、そして脂肪族置換基の１つが約８〜約１８個の炭素原
子を宵し、かつ１つが陰イオン水溶化基、例えばカルボ
キシ、スルホネート、サルフェート、ホスフェート、ま
たはホスホネートを含有する脂肪族第二級および第三級
アミンの誘導体と広く記載できる。この種の界面活性剤
の例としては、３−ドデシルアミノプロピオン酸ナトリ
ウム、３−ドデシルアミノプロパンスルホン酸ナトリウ
ム、Ｎ−アルキルタウリン、例えば米国特許第２．６５
８．０７２号明細書の教示に従ってドデシルアミンをイ
セチオン酸ナトリウムと反応させることによって生成さ
れるもの、Ｎ　−ｇ級アルキルアスパラギン酸、例えば
米国特許第２．４３８，０９１号明細書の教示に従って
生成されるもの、および商品名「ミラノール（Ｍｉｒａ
−ｎｏｌ）Ｊで販売されており、かつ米国特：′Ｔ第２
．５２８，３７８号明細書に記載されている製品が挙げ
られる。

好ましくは陰イオン界面活性剤、両性界面活性剤または
双性界面活性剤と併用する非イオン界面活性剤は、アル
キレンオキシド基（性状が親水性）と、性状が脂肪族ま
たはアルキル芳香族であることができる有機疎水性化合
物との縮合によって生成される化合物と広く定義できる
。非イオン界面活性剤のクラスの例は、次の通りである
。

１、　アルキルフェノールのポリエチレンオキシド綜合
物、例えば直鎖または分枝鎖配置のいずれかに約６〜約
１２個の炭素原子を含有するアルキル基を有するアルキ
ルフェノールとエチレンオキシドとの縮合物（該エチレ
ンオキシドはアルキルフェノール１モル当たり１０〜６
０モルに等しい量で（ｊ在する）。このような化合物中
のアルキル置換基は、例えば重合したプロピレン、ジイ
ソブチレン、オクタン、またはノナンから誘導できる。

このクラスからの好ましい界面活性剤としては、デシル
フェノールエトキシレート、ドデシルフェノールエトキ
シレートが挙げられる。

２、　　望まれる疎水エレメントと親水エレメントとの
間のバランスに応じて組成が変化できるエチレンジアミ
ン生成物とプロピレンオキシドとの反応から生ずる生成
物とエチレンオキシドとの縮合から誘導されるもの。例
えば、エチレンジアミンと過剰のプロピレンオキシドと
の反応生成物からなる疎水ベース（該ベースは分子量約
２．５００〜約３，０００程度）とエチレンオキシド基
との反応から生するポリオキシエチレン約４０〜約８０
重量％を含有し、かつ分子量的５．０００〜約１１．０
００を有する化合物が、満足である。

３、　直鎖または分枝鎖配置のいずれかに約８〜約１８
個の炭素原子を宵する脂肪族アルコールとエチレンオキ
シドとの縮合物、例えばココナツツアルコール１モル当
たり約１０〜約３０モ／ｌ、ｃ７）エチレンオキシドを
自“するココナツツアルコールエチレンオキシド縮合物
（ココナツツアルコール画分は約１０〜約１４個の炭素
原子を有する）。

好適な例としては、デシルエトキシレート、ドデシルエ
トキシレートが挙げられる。

４、　次の一般式 ％式％ （式中、Ｒ１は炭素数約８〜約１８のアルキル、アルケ
ニルまたはモノヒドロキシアルキル基、０〜約１０個の
エチレンオキシド部分、および０〜約１個のグリセリル
部分を含み、Ｒ２、Ｒ３は約１〜約３個の炭素原子およ
び０〜杓１個のヒドロキシ基を含有し、例えばメチル、
エチル、プロピル、ヒドロキシエチル、またはヒドロキ
シプロピル基である） に対応する長鎖第三級アミンオキシド。式中の矢印は、
半極性結合の通常の表示である。本発明で使用するのに
好適なアミンオキシドの例としては、ジメチルドデシル
アミンオキシド、オレイルジ（２−ヒドロキシエチル）
アミンオキシド、ジメチルオクチルアミンオキシド、ジ
メチルデシルアミンオキシド、ジメチルテトラデシルア
ミンオキシド、３，６．９−トリオキサヘプタデシルジ
エチルアミンオキシド、ジ（２−ヒドロキシエチル）−
テトラデシルアミンオキシド、２−ドデコキシエチルジ
メチルアミンオキシド、３−ドデコキシー２−ヒドロキ
シプロビルジ（３−ヒドロキシプロピル）アミンオキシ
ド、ジメチルヘキサデシルアミンオキシドが挙げられる
。

５、　次の一般式 ％式％ （式中、Ｒは鎖長が約８〜約１８個の炭素原子であるア
ルキル、アルケニルまたはモノヒドロキシアルキル基、
０〜約１０個のエチレンオキシド部分および０〜約１個
のグリセリル部分を含み、Ｒ’　、Ｒ’は各々炭素数約
１〜約３のアルキルまたはモノヒドロキシアルキル基で
ある）に対応する長鎖第三級ホスフィンオキシト。式中
の矢印は、半極性結合の通常の表示である。好適なホス
フィンオキシトの例としては、ドデシルジメチルホスフ
ィンオキシド、テトラデシルジメチルホスフィンオキシ
ド、テトラデシルメチルエチルホスフィンオキシド、３
，６．９−）リオキサオクタデシルジメチルホスフィン
オキシド、セチルジメチルホスフィンオキシト、３−ド
デコキシー２−ヒドロキシプロビルジ（２−ヒドロキシ
エチル）ホスフィンオキシト、ステアリルジメチルホス
フィンオキシト、セチルエチルプロピルホスフィンオキ
シド、オレイルジエチルホスフィンオキシト、ドデシル
ジエチルホスフィンオキシド、テトラデシルジエチルホ
スフィンオキシド、ドデシルジプロピルホスフィンオキ
シド、ドデシルジ（ヒドロキシメチル）ホスフィンオキ
シト、ドデシルジ（２−ヒドロキシエチル）ホスフィン
オキシト、テトラデシルメチル−２−ヒドロキシプロピ
ルホスフィンオキシド、オレイルジメチルホスフィンオ
キシト、２−ヒドロキシドデシルジメチルホスフィンオ
キシドが挙げられる。

６、　炭素数約１〜約３の短鎖アルキルまたはヒドロキ
シアルキル基（通常メチル）１個、および炭素数約８〜
約２０のアルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、
またはケトアルキル基、０〜約１０個のエチレンオキシ
ド部分およびＯ〜約１個のグリセリル部分を含む疎水長
鎖１個を含有する長鎖ジアルキルスルホキシド。例とし
ては、オクタデシルメチルスルホキシド、２−ケトトリ
デシルメチルスルホキシド、３，６．９−トリオキサオ
クタデシル−２−ヒドロキシエチルスルホキシド、ドデ
シルメチルスルホキシド、オレイル３−ヒドロキシプロ
ピルスルホキシド、テトラデシルメチルスルホキシド、
３−メトキシトリデシルメチルスルホキシド、３−ヒド
ロキシトリデシルメチルスルホキシド、３−ヒドロキシ
−４−ドデコキシブチルメチルスルホキシドが挙げられ
る。

本発明で有用な多くの追加の非セッケン界面活性剤は、
マツ力チェオンの［洗剤および乳化剤（ＤｅＬｅｒｇｅ
ｎｔｓ　ａｎｄ　Ｅｍｕｌｓｌｌ’１ｅｒｓ）　Ｊ　、
１９８５アニユアル（Ａｎｎｕａｌ）　　（アルレッド
−パブリッシング・コーポレーション発行）、第７４頁
〜第３０５頁に記載されている。

シリコーン物質 本発明で使用するシリコーン物質は、−数式％式％（） （式中、Ｒ’　、Ｒ’はメチルまたはフェニルであるこ
とができる） の単量体から生成される成る重合体、オリゴマーまたは
共重合体状のシロキサン流体またはゴム、または流体と
ゴムとの混合物である。それ故、有用なシリコーン物質
は、ポリジメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサ
ンである。これらのシリコーン物質は、本発明のリン酸
エステルとの併用時に、予想外に改善されたヘアケア上
の利益、例えば優秀な静電気減少、ヘア柔軟性、扱いや
すさ、乾湿くし通りおよび絹様の感じを付与する。

シリコーン物質は、シャンプーマトリックスに分散し、
本発明の組成物に約０．１％〜約１０．０％、好ましく
は約０．５％〜約５．０％の量で存在する。ここで使用
する重合体なる用語は、オリゴマーおよび共重合体も包
含する。

有用なシリコーン物質は、分子量約３００〜約１．００
０，０００および２５℃での粘度約２〜約２０．０００
，０００センチストークを有する。

粘度は、１９７０年７月２０日ダウ・コーニング・コー
ホレート試験法ＣＴＭＯＯＯ４に記載のようなガラス毛
管粘度計によって測定できる。

シリコーン流体は、好ましくは分子量約３００〜釣１５
０，０００および２５℃での粘度約２〜約１００，００
０センチストークを有し、より好ましくは分子量的２．
０００〜約１００．０００および２５℃での粘度約２０
〜約４０，０００センチストークを有する。２５℃での
粘度的３５０〜３０，０００センチストークを有するポ
リジメチルシロキサンおよびポリジフェニルシロキサン
が、最も好ましい。これらのシロキサンは、例えばゼネ
ラル・エレクトリックΦカンパニーまたはダウ・コーニ
ングから５５６化粧品等級流体として入手できる。「シ
リコーンゴム」物質は、′５ｔｍ分子は約２００．００
０〜約１，０００，０００を４する上記ポリジオルガノ
シロキサンを意味する。これらのシリコーンゴムは、単
独またはシリコーン流体との組み合わせで使用できる。

最も好ましい態様は、ゴム対流体のｍＷ比約１＝２から
約２：１のシリコーンゴムと流体物質との組み合わせか
らなる。

好適なシリコーン物質を開示している文献としては、米
国特許第２，８２６，５５１号明細書、米国特許第３，
％４，５００号明細書、米国特許第４．３６４．８３７
号明細書、英国特許第８４９．４３３号明細書が挙げろ
れる。１９８４年１こベトラーチ・システムズ拳インコ
ーボレーテッドによって頒布されたｒケイ素化合物（Ｓ
ｉｌｉｃｏｎＣｏｍｐｏｕｎｄｓ　）　Ｊ　、第１８１
頁〜第２１７頁も参照。

この文献は、ここに記載のシリコーン物質の非常に良好
なリストを与える。

リン酸エステル 本発明で使用するリン酸エステルは、成るアルキルエト
キシ化リン酸モノエステルおよびそれらの塩である。

陰イオン界面活性剤を含有するシャンプーから帯電防止
組成物をヘア上に付着させる場合の問題は、静電荷上の
間巧を解決するのに不適当な量の帯電防止剤がヘア上に
付着することであった。本発明のリン酸エステルは、シ
ャンプーでの洗浄／すすぎプロセス時に水道水中の二価
または三価金２＋ 属イオン（例えば、Ｃａ　　およびＭ　ｇ　”）と錯化
すると信じられる。これらの錯体は、このプロセス時に
沈殿し、ヘア上に付着する。

リン酸エステルは、摩擦電気現象によって帯電防止効能
を与えると信じられる。ヘアをとかすかブラシをかける
時に、電子は、ヘアからナイロン製くしまたはブラシへ
通過する。このことは、ヘア上の正の静電荷発生を生ず
る。この効果の大きさは、低い相対湿度で増大する。本
発明のリン酸エステルは、ヘアおよびナイロン製くしお
よびブラシの両方よりも高い電子親和力を有すると信じ
られる。これらのリン酸エステルが本発明のシャンプー
組成物によってヘア上に付着する時には、電子の正味移
動が減少され、それによって静電荷蓄積を排除する。

これらのリン酸エステルは、シャンプー組成物に約０．
１〜約５．０％、好ましくは約０．４％〜約２．０％の
量で存在する。

本発明で有用なアルキルエトキシ化リン酸モノエステル
は、ＧＡＦコーポレーションからガファック（ＧＡＦＡ
Ｃ）　Ｒ３−６１０として市販されているトリデセトー
６−ホスフエート、ＧＡＦコーポレーションからＧＡＦ
　　ＲＤ−５１０として入手可能なラウレト−４−ホス
フェートおよびラウレト−５−ホスフェート、クロダ・
インコーホレーテッドからクロダフォス（Ｃｒｏｄａｒ
ｏｓ）　Ｎ　−３として人手可能なオレト−３−ホスフ
ェート、シクロ争ケミカル・コーポレーションからシク
ロフォス（ｃｙｃｌｏｐｈｏｓ　）　Ｐ　Ｌ　３として
入手可能なラウレト−３−ホスフェートおよびそれらの
塩である。これらのエステルの好適な塩としては、例え
ばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、マグネ
シウム塩、リチウム塩、モノエタノールアミン塩、ジェ
タノールアミン塩、トリエタノールアミン塩が挙げられ
る。ラウレト−３−ホスフェート、ラウレト−４−ホス
フェート、ラウレト−５−ホスフェートおよびオレト−
３−ホスフェートが、最も好ましい。

上記リン酸エステルは、単独または２以上の混合物とし
て使用できる。

好適なアルキルエトキシ化リン酸モノエステルを開示し
ている文献としては、米国特許節４．４７９．８９３号
明細書およびマツ力チェオンの「官能材料（Ｆｕｎｃｔ
ｉｏｎａｌ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）　Ｊ、１９８５　ア
ニュアル（アルし・ソド拳パブリ・ソシング・コーポレ
ーション発行）、第２６頁〜第３４頁が挙げられる。

沈殿防止剤　　　　゛ 本組成物で使用する沈殿防止剤は、数種の長鎖アシル誘
導体のいずれが、このような物質の混合物およびキサン
タンゴムであることができる。炭素数約１６〜約２２の
脂肪酸のエチレングリコールエステルが、包含される。

これらのエチレングリコールエステルの例としては、エ
チレングリコールモノパルミテート、エチレングリコー
ルジパルミテート、エチレングリコールモノステアレー
トおよびエチレングリコールジステアレートが挙げられ
る。エチレングリコールステアレート（モノステアレー
トとジステアレートとの両方）が、好ましい。エチレン
グリコールジステアレートが、最も好ましい。有用であ
ることが見出された他の沈殿防止剤は、炭素数約１６〜
約２２、好ましくは炭素数約１６〜約１８の脂肪酸のア
ルカノールアミドである。好ましいアルカノールアミド
は、ステアリン酸モノエタノールアミド、ステアリン酸
ジェタノールアミド、ステアリン酸モノイソプロパツー
ルアミド、ステアリン酸ジイソプロパツールアミドであ
る。他の長鎖アシル誘導体としては、長鎖脂肪酸の長鎖
エステル（例えば、ステアリン酸ステアリル、パルミチ
ン酸セチルなど）、グリセリルエステル（例えば、グリ
セリルジステアレート）、長鎖アルカノールアミドの長
鎖エステル（例えば、ステアロアミドＤＥＡジステアレ
ート、ステアロアミドＭ　Ｅ　Ａステアレート）が挙げ
られる。

なお他の好適な沈殿防止剤は、ステアリルジメチルアミ
ンオキシドなどの炭素数約１６〜約２２のアルキルジメ
チルアミンオキシドである。組成物が界面活性剤として
アミンオキシドまたは長鎖アシル誘導体を含有するなら
ば、沈殿防止剤の機能は、その成分によって与えること
もでき、そしてそれらの物質の工が少なくとも以下に与
えられる最小量であるならば、追加の沈殿防止剤は、必
要ではないことがある。

沈殿防止剤は、シャンプー組成物の約０．５％〜約５．
０％、好ましくは約０．５９．６〜約３．０％の量で存
在する。沈殿防止剤は、シリコーン物質をシャンプーに
懸濁するのを助長するのに役立ち、へ珠光沢を製品に与
える。沈殿防止剤の混合物も、本発明の組成物で使用す
るのに好適である。

水 水は、本発明の最後の必須成分である。水は、一般にシ
ャンプー組成物の約２９％〜約９４％、好ましくは約６
０％〜約８５％の量で存在する。

任意成分 本発明のシャンプーは、組成物をより許容可能にさせる
のに好適なシャンプーにしばしば配合される各種の任意
成分を包含できる。このような通常の任意成分は、当業
者に周知であり、それらの技術上確立された量で使用さ
れる。このような成分としては、例えば、ベンジルアル
コール、メチルパラベン、プロピルパラベン、イミダゾ
リジニル尿素などの防腐剤；セチルトリメチルアンモニ
ウムクロリド、ラウリルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、トリセチルメチルアンモニウムクロリド、ステアリ
ルジメチルベンジルアンモウニムクロリド、ジ（部分水
素添加タロー）ジメチルアンモニウムクロリドなどの陽
イオン界面活性剤：長鎖脂肪酸のジェタノールアミド（
例えば、ＰＥ０３ラウリンアミド）、エチレンオキシド
とプロピレンオキシドとのブロック重合体（例えば、Ｂ
ＡＳＦワイアンドットによって提供されているプルロニ
ック（Ｐｌｕｒｏｎｌｃ）　Ｆ　８８）　、塩化ナトリ
ウム、キシレンスルホン酸アンモニウム、硫酸ナトリウ
ム、ポリビニルアルコール、エチルアルコールなどの増
粘剤および粘度３ｓ整剤；クエン酸、コハク酸、リン酸
、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどのｐＨ調節剤
；香料；染料；エチレンジアミン四酢酸二ナトリウムな
どの金属イオン封鎖剤が挙げられる。

沈殿防止剤も、上記キサンタンゴムおよび長鎖アシル誘
導体に加えて、本発明で使用できる。このような沈殿防
止剤は、各種の膨張性三層粘土のいずれでもあることが
できる。好ましくは、これらの粘土は、イオン交換容量
少なくとも約５０ｍｅｑ／粘土１００ｇ、より好ましく
は少なくとも約６０ｍｅｑ／粘土１００ｇを有する。こ
こで使用する三層膨張性粘土は、地質学上スメクタイト
と分類される。このようなスメクタイト粘土は、グリム
の「粘土鉱物学（Ｃ１ａｙ　Ｍｉｎｅｒａｌｏｇｙ　）
　Ｊ（第２版）、第７７頁〜第７９頁（１％８年）、パ
ン・オレフエンの「粘土コロイド化学入門（＾ｎＩｎｔ
ｒｏｄｕｃｔｉｏｎ　ｔｏ　Ｃ１ａｙ　Ｃｏ１１ｌｄ　
Ｃｂｅｍｉｓｔｒｙ　）　　（第２版）、第６４頁〜第
７６頁（１９７７年）および同時出願の特許出願に記載
されている。

本発明で使用するのに好ましいスメクタイト粘土鉱物は
、モンモリロナイト、ヘクトライトおよびサポライト（
最も好ましくはへクトライト）であり、この中の対イオ
ンは主としてナトリウム、カリウム、カルシウム、マグ
ネシウム、リチウムなど（好ましくはナトリウム、リチ
ウム、マグネシウム）である。

シャンプー組成物への配合前に、粘土を全て水ｆ口する
ことが好ましい。水和は、技術上既知の各種の方法のい
ずれが、例えば粘土を水に浸漬して枯Ｉユが水を吸収す
るのを可能にする方法によって行なう。粘土を水和する
他の方法は、グリムショーの［粘土の化学および物理（
Ｔｈｅ　ＣｈｅｍｉｓＬｒｙ　ａｎｃｌＰｂｙｓｉｃｓ
　）　Ｊ　、第５２５頁〜第５２７頁（１９７１年）に
記載されている。このような成分は、一般に組成物の約
０．０１〜約１０重量％、好ましくは約０．５〜約５．
　０ｆｌＩｆｆｉ％の量で個々に使用される。

本組成物のｐＨは、臨界的ではなく、約２〜約１０の範
囲内であってもよい。

本発明のシャンプーは、従来技術で既知の各種の方法の
いずれかによって調製できる。例えば先ず粘土を攪拌下
に水中で水和し、次いでそれと他の物質とを一緒に混合
し、約７２℃に加熱する。

混合物を７２℃の温度で約１０分間完全に混合した後高
剪断ミルを通してポンプ給送し次いで熱交換器を通して
ポンプ給送して約２７℃に冷却する。

高剪断ミルは、粘−におよびシリコーン物質の過半な分
散を与えるために使用される。このことは、粘土および
シリコーン物質の平均粒径を好ましくは約１００μ以下
にさせることによって達成される。

本組成物は、ヘアをクリーニングするために常法で使用
される。組成物的０．１ｇ〜約１０ｇを一般に水でぬれ
ているヘアに適用し、ヘアを通して働かせ、次いで洗い
落とす。

試験法 静電気フライ試験は、プラスチック／ナイロン製くして
とかすことからヘア見本上に発生された電荷量を測定す
るのに使用される。静電気コントロールは、ヘアケア製
品によって与えられる扱いやすさの重要な部分であると
信じられる。ヘア見本は、次の方法で調製し、試験する
。

静電気フライ試験 １、見本調製 標本見本は、長さ約９．５インチ（２４ｃｍ）のヘア４
ｇからなる。ヘア８インチ（２０ｃ＋ｎ）がとかすこと
ができるように、２個の黄銅製クランプを使用して見本
を板端で締める。クランプ上のヘアをデュコ（Ｄｕｃｏ
Ｒ）セメント（マサチュセッツ州ダンバーズ０１９２３
のダブコン・コーポレーションから人手可能）で接着し
てとかす時の脱毛を最小限にする。

これらの見本の３個を１００″Ｆ（３８℃）に調節され
た水道水で完全にぬらす。試験すべきシャンプー０．４
ｃｃを各見本に適用し、ヘアを通して完全に働かせる。

泡を手でだしながら、シャンプーを３０秒間泡立てる。

２回の洗浄およびすすぎをするためにこのプロセスを２
回繰り返す。

次いで、見本をラックに掛け、８０”Ｆ　（２８℃）、
２０％相対湿皮で１６時間乾燥する。

次いで、各乾燥見本を３行程でくしでとかして、いかな
る絡み合いも除去する。ゼロスタット（Ｚｃｒｏｓｔａ
ｔＲ）ガン（ディスクウオッシャ−・コーポレーション
から得られるモデル＃３）を使用して、見本上のいかな
る電荷も中性にする。一般に、ゼロスタットＲガンの引
き金が２または３回押し下げられた後に、見本が中性に
なる。

２、静電気測定 ファラデーケージを使用してヘア見本の静電荷を測定し
た。

ファラデーケージ装置は、１μＦコンデンサによって接
続されたステンレス鋼製の内側のシリンダおよび外側の
シリンダからなる。内側のシリンダの寸法は、直径９イ
ンチ（２３ｃａ）Ｘ高さ１４インチ（３６ｃｍ）である
。外側のシリンダの寸法は、直径１２インチ（３０ｃｍ
）Ｘ高さ１４インチ（３６ｃｍ）である。内側のシリン
ダの底は、外側のシリンダの底から絶縁されている。コ
ンデンサを横切っての電圧を６０ＯＡ電位計（オハイオ
州クリープランドのカイトレイ・インスツルメンツから
得られる）によって測定する。

試験すべきヘア見本をファラデーケージの内側のシリン
ダに対して触れさせる。電荷が零でないならば、ゼロス
タットＲガンを使用して上記操作を繰り返すことによっ
て、見本を再度中性にする。

中性ヘア見本を定常の終始一貫したくし通り速度および
圧力において手で１０回とかす。とかした後、見本を内
側のシリンダに対して触れさせ、静電気電圧を電位′：
［によって測定する。

３、湿式くし通り試験 この試験を使用して洗髪したでのぬれたヘアをとかす容
易さを測定する。

この試験を以下の修正が施されたＪ、　Ｓｏｃ。

Ｃｏ５ＬＩｃｔ、　Ｃｈｅｗ、、　Ｖｏｌ、　２７．　
ｐｐ３７９−３９８　＋＝記載の方法に準拠して行った
。

１、　　インストロンモデルメトリックテーブルモデル
、ＴＭ−Ｍの代わりにシエビッッ（Ｓｃｈａｅｖｉｔｚ
　）ロードセル、モデルＰＴＯ−Ｇ１０００を使用した
。

２、　ヘア見本を静電気フライ試験の場合において上記
したように調製した。

コントロール組成物 シリコーンもリン酸エステル物質も含有しなかったシャ
ンプー組成物（Ａ）および米国特許第４．４７９，８９
３号明細書に開示のような従来技術のシャンプー組成物
（Ｂ、Ｃ，Ｄ）は、以下の成分を一緒にすることによっ
て調製した。

型口０６ ラウリル硫酸アンモニウム　　　　　　　　１２．０　
１５．０　１５．０　１５．０ラウレト−３−硫酸アン
モニウム　　　　　４．０　−　　−　　−キシレンス
ルホン酸アンモニウム　　　　　　１．４　−　　−　
　−キサンタンゴム　　　　　　　　　　　　　　０．
５　−　　−　　−エチレングリコールジステアレート
　　　　　１．５　−　　−　　−ココアミドＭＥＡ　
　　　　　　　　　　　　　１．０　−　−　　−セテ
アリルアルコール　　　　　　　　　　　０．５　−　
　−　　−ポリエーテル変性シロキサンｌ）−１，０−
３，０ポリエーテル変性シロキサン２）　　　　　　　
−−１，０−トリセチルメチルアンモニウムクロリド　
　０．５　−　　−　　−ラウレト−３−ホスフェート
　　　　　　　−１，０１，０１，０香料および微二成
分　　　　　　　　　　　　１．２　−　　−　　−水
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７７．４
　　ｇ３．０　８３．０　８１．Ｏｌ）タウ・コーニン
グコーポレーションからＤＣ−１９０ジメチコンコポリ
オール（Ｄｉｍｃｔｈｉ−ｅｏｎｃ　Ｃｏｐｏｌｙｏｌ
　）として得られるポリエーテル変性シロキサン ２）　ゼネラル・エレクトリックからＧＥ　　５Ｆ−１
１８８ジメチコンコポリオールとして１ワられるポリエ
ーテル変性シロキサン 以下の例は、本発明を使用する組成物、利益および方法
を説明し、実証する。

例１〜■ 以ドの組成物は、本発明を代表する。

／′ ／′ ２・″ 、／’ 重量？６ 成　　分　　　　　　　　　　　　　１ｎＩＩＩＩＶＶ
ＶＩラウリル硫酸アンモニウム　　　　　１２．０１２
．０１２．０１２．０　　ｇ、０　１０．０ラウレト−
３−硫酸アンモニウム　　　４．０　４．０　４．０　
４．０　４．０　　’１．０キンレンスルホン酸アンモ
ニウム　　　１．４　１．４　１．４　１．４　２．５
　２．０キサンタンゴム　　　　　　　　　　　０．５
　０．５　０．５　０．５　１．０　０．７５エチレン
グリコールジステアレート　　１．５　１．５　１．５
　１．５　２．５　２．０ココアミドＭＥＡ　　　　　
　　　　　　　１．０　１．０　１．０　１．０　１．
０　２．０セテアリルアルコール　　　　　　　　０．
５　０．５　０．５　０．５　０．７５　０．１ポリジ
メチルシロキサン流体１）１．ｌｉ　　１．８　１．８
　１．８　２．０　１．５ポリジメチルシロキサンゴム
２）１．２　１．２　　ｋ、２　１．２　１．０　０．
５トリセチルメチルアンモニウムクロ　　０．５　０．
５　０．５　０．５　０．７５　０．２５リド ラウレト−４−ホスフェート　　　　　２．０　−　　
−−　　２．５　２．０オレト−３−ホスフェート−２
，０−−−−ラウレト−３−ホスフェート−−１，５１
，０−−香料および微二成分　　　　　　　　　１．２
　　＋、２　１．２１．２　１．２１．２水　　　　　
　　　　　　　　　　　　　７２．４７２．４７２．９
７３．４７２．８　　Ｂ８．７１）粘度３５０センチス
トークおよび分子量１３．６５０を有するポリジメチル
シロキサン流２）粘度２，０００，０００および分子量
４００．０００を角°するポリジメチルシロキサンゴム シロキサンゴムとシロキサン流体とを一緒にし、ゴムが
流体に十分に分散されるまで、リード（１？ｅａｄＲ）
標準混合物（テレダイン・リード・カンパニーから入手
可能）中でゆっくりと攪拌する。

次いで、シリコーン混合物、界面活性剤混合物および残
りの成分を７０に設定されたチクマー（ＴｃｋｍａｒＲ
）ミル中で７０℃で２分間−緒にブレンドする。得られ
たシャンプーは、約１２０゛Ｆ（４９℃）までの温度で
長時間安定である。

このシャンプー組成物１ｇを水でぬれているヘアに加え
、ヘアを通して働かせ、洗い落す。洗浄されたヘアは、
減少された静電荷、改善された乾湿＜シ通り性、柔軟性
および扱いやすさを示す。

ラウリル硫酸アンモニウムとラウレト−３〜硫酸アンモ
ニウムとの界面活性剤混合物を全部または一部分、個々
または混合物で使用する以下の界面活性剤のいずれかの
当量で代替する時に、実質上同様の結果が得られるニラ
ウリル硫酸カリウム、ラウレト硫酸カリウム、ラウリル
硫酸ナトリウム、ラウレト硫酸ナトリウム、ラウリル硫
酸トリエタノールアミン、ラウレト硫酸トリエタノール
アミン、トリデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムおよ
びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム。

また、例１〜■のポリジメチルシロキサン流体／ゴム混
合物を全部または一部分当量のポリジフェニルシロキサ
ン流体、ポリジフェニルシロキサンゴムまたはそれらの
混合物で代替する時に、実質上同様の結果が得られる。

また、例Ｉ〜■のリン酸エステルを全部または一部分当
量のラウレト−５−ホスフェート、トリデセト−６−ホ
スフエートまたはそれらの混合物で代替する時に、実質
上同様の結果が得られる。

例■ 本例は、本発明のシャンプーで洗浄後のヘア中の静電荷
の減少を実証する。例１〜■のシャンプーを調製し、コ
ントロールシャンプー組成物（Ａ〜Ｄ）に対して試験し
た。上記静電気フライ試験を使用して、三つ組のヘア見
本を各シャンプー中で洗浄し、静電電圧を測定した。

以下に示される電圧データは、各シャンプーの２回の試
み（各々３個の見本）の平均である。

セット＃　　シャンプー　　　　電圧（Ｖ）１　　　コ
ントロールＡ　　　　０．４６±０．０５２　　　コン
トロールＢ　　　　Ｏ，３９±０．０５３　　　コント
ロールＣＯ，５３±０．０５４　　　コントロールＤ　
　　　０．８０±０．１０５　　　例１のシャンプー　
　０．０８±０．０５６　　　例Ｈのシャンプー　　０
．１２±０．０５７　　　例■のシャンプー　　０．１
２±０．０５最初の４つのエントリー（セット１〜４）
に示されるデータは、コントロールシャンプー中で洗浄
されたヘアが比較的高い静電荷を有していたことを示し
、このような高い電荷は「フライアウェイ」ヘアを生ず
るであろう。

最後の３つのエントリー（セット５〜７）に示されたデ
ータは、本発明のシャンプー組成物で洗浄されたヘアが
実質上減少された静電荷を有することを実証する。それ
故、これらのシャンプー組成物で洗浄されたヘアは、比
較的少しの「フライアウェイ」ヘアしか示さないであろ
う。

例■ 本例は、本発明のシャンプーによってヘアに付与された
改善された湿潤くし通り性を実証する。

上記湿潤くし通り試験を使用して、例■のシャンプーを
調製し、コントロールシャンプー組成物Ｂ、Ｄに対して
試験した。以下の表に示される力の値は、１２個の艶本
の平均である。

シャンプー　　　　　　　　力（ｇ） コントロールＢ　　　　　６０００±１４００コントロ
ールＤ　　　　　４７００土　６３０例■のシャンプー
　　　３３００＋　　６７０これらのデータは、本発明
のシャンプーが従来技術のシャンプー組成物と比較して
ぬれたヘアのくし通りの容易さを増大することを実証す
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、
   非イオン界面活性剤、双性界面活性剤、両性界面活性剤
   、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる合成界
   面活性剤約５％〜約６０％、 （ｂ）ポリジメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキ
   サン、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる分
   子量約３００〜約１，０００，０００および２５℃での
   粘度約２〜約２０，０００，０００センチストークを有
   する分散シリコーン重合体約０．０１％〜約１０％、 （ｃ）トリデセト−６−ホスフェート、ラウレト−３−
   ホスフェート、ラウレト−４−ホスフェート、ラウレト
   −５−ホスフェート、オレト−３−ホスフェート、それ
   らの塩およびそれらの混合物からなる群から選ばれるア
   ルキルエトキシ化リン酸モノエステル約０．１％〜約５
   ．０％、 （ｄ）キサンタンゴム、炭素数約１６〜約２２の脂肪酸
   のエチレングリコールエステル、炭素数約１６〜約２２
   の脂肪酸のアルカノールアミド、炭素数約１６〜約２２
   のアルキルジメチルアミンオキシド、およびそれらの混
   合物からなる群から選ばれる沈殿防止剤約０．５％〜約
   ５％、 （ｅ）水約２９％〜約９４％ を含むことを特徴とするシャンプー組成物。 ２、シリコーン重合体成分約０．５％〜約５．０％を含
   む、特許請求の範囲第１項に記載のシャンプー組成物。 ３、界面活性剤成分が、陰イオン界面活性剤、双性界面
   活性剤、両性界面活性剤、およびそれらの混合物からな
   る群から選ばれる、特許請求の範囲第２項に記載のシャ
   ンプー組成物。 ４、アルキルエトキシ化リン酸モノエステル成分約０．
   ４％〜約２．０％を含む、特許請求の範囲第３項に記載
   のシャンプー組成物。 ５、沈殿防止剤成分が、キサンタンゴム、炭素数約１６
   〜２２の脂肪酸のエチレングリコールエステル、および
   それらの混合物からなる群から選ばれる、特許請求の範
   囲第４項に記載のシャンプー組成物。 ６、シリコーン成分が、ポリジメチルシロキサンである
   、特許請求の範囲第５項に記載のシャンプー組成物。 ７、アルキルエトキシ化リン酸モノエステル成分が、ラ
   ウレト−３−ホスフェート、ラウレト−４−ホスフェー
   ト、ラウレト−５−ホスフェート、オレト−３−ホスフ
   ェート、それらの塩、およびそれらの混合物からなる群
   から選ばれる、特許請求の範囲第６項に記載のシャンプ
   ー組成物。 ８、界面活性剤成分が、陰イオン界面活性剤である、特
   許請求の範囲第７項に記載のシャンプー組成物。 ９、界面活性剤成分約１０％〜約３０％を含む、特許請
   求の範囲第８項に記載のシャンプー組成物。 １０、界面活性剤成分約１０％〜約２２％および水約６
   ０％〜約８５％を含む、特許請求の範囲第９項に記載の
   シャンプー組成物。 １１、界面活性剤成分が、ラウリル硫酸アンモニウム、
   ラウレト硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸トリエタノー
   ルアミン、ラウレト硫酸トリエタノールアミン、ラウリ
   ル硫酸モノエタノールアミン、ラウレト硫酸モノエタノ
   ールアミン、ラウリル硫酸ジエタノールアミン、ラウレ
   ト硫酸ジエタノールアミン、ラウリン酸モノグリセリド
   硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウレト硫
   酸ナトリウム、ラウリル硫酸カリウム、ラウレト硫酸カ
   リウム、ラウリルサルコシン、ココイルサルコシン、コ
   コイル硫酸アンモニウム、ココイル硫酸ナトリウム、コ
   コイル硫酸カリウム、ココイル硫酸トリエタノールアミ
   ン、ココイル硫酸モノエタノールアミン、トリデシルベ
   ンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホ
   ン酸ナトリウム、およびそれらの混合物からなる群から
   選ばれる、特許請求の範囲第１０項に記載のシャンプー
   組成物。 １２、界面活性剤成分が、ラウリル硫酸アンモニウム、
   ラウレト硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸トリエタノー
   ルアミン、ラウレト硫酸トリエタノールアミン、トリデ
   シルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼン
   スルホン酸ナトリウム、およびそれらの混合物からなる
   群から選ばれる、特許請求の範囲第１１項に記載のシャ
   ンプー組成物。 １３、シリコーン重合体成分が、分子量約３００〜約１
   ５０，０００および２５℃での粘度約２〜約１００，０
   ００センチストークを有する流体である、特許請求の範
   囲第１２項に記載のシャンプー組成物。 １４、シリコーン重合体流体が、分子量約２，０００〜
   約１００，０００および２５℃での粘度約２０〜約４０
   ，０００センチストークを有する、特許請求の範囲第１
   ３項に記載のシャンプー組成物。 １５、シリコーン重合体成分が、シリコーンゴム対シリ
   コーン流体の重量比約１：２から約２：１を有するシリ
   コーンゴムとシリコーン流体との混合物である、特許請
   求の範囲第１２項に記載のシャンプー組成物。 １６、シリコーンゴム物質とシリコーン流体物質との両
   方が、ポリジメチルシロキサンである、特許請求の範囲
   第１５項に記載のシャンプー組成物。 １７、シリコーン重合体流体成分が、２５℃での粘度約
   ３５０〜約３０，０００センチストークを有するポリジ
   メチルシロキサンである、特許請求の範囲第１４項に記
   載のシャンプー組成物。 １８、沈殿防止成分が、エチレングリコールジステアレ
   ート、キサンタンゴム、およびそれらの混合物からなる
   群から選ばれる、特許請求の範囲第１６項に記載のシャ
   ンプー組成物。 １９、沈殿防止剤成分が、エチレングリコールジステア
   レート、キサンタンゴム、およびそれらの混合物からな
   る群から選ばれる、特許請求の範囲第１７項に記載のシ
   ャンプー組成物。 ２０、沈殿防止剤成分が、エチレングリコールジステア
   レート、キサンタンゴム、およびそれらの混合物からな
   る群から選ばれる、特許請求の範囲第６項に記載のシャ
   ンプー組成物。