JPS6343389A - 外部共振器型半導体レーザ装置 - Google Patents

外部共振器型半導体レーザ装置

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JPS6343389A
JPS6343389A JP61187597A JP18759786A JPS6343389A JP S6343389 A JPS6343389 A JP S6343389A JP 61187597 A JP61187597 A JP 61187597A JP 18759786 A JP18759786 A JP 18759786A JP S6343389 A JPS6343389 A JP S6343389A
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JP
Japan
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semiconductor laser
temperature
wavelength
external resonator
laser element
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JP61187597A
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JPH0523515B2 (ja
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Shusuke Kasai
秀典 河西
Osamu Yamamoto
修 山本
Nobuyuki Miyauchi
宮内 伸幸
Shigeki Maei
茂樹 前井
Hiroshi Hayashi
寛 林
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Sharp Corp
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Sharp Corp
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/14External cavity lasers

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 くイ)産業上の利用分野 この発明は、半導体レーザの後方出射光を外部反射部材
(ミラー)によって帰還させる外部共振器形半導体レー
ザ装置に関する。
(ロ)従来の技術 従来の半導体レーザの発振軸モードは、レーザ媒質の利
3q分布と、レーザ共振器の透過特性によって選択され
る。第6図は、従来の半導体レーザの発振軸モード選択
性を表わす図であり、第6図ja)は波長(横軸)に対
するレーザ媒質の利得分布を、同図<b+は波長に対す
る各軸モードのスペクトルを、同図(C)は上記(ωと
+b+とを重畳させたスーパーラディアント状態のスペ
クトルをそれぞれ模式的に示している。レーザの各軸モ
ードのうち、利得分布のピーク(最大値)に近い波長の
ものが最大の利1qを得て発振軸モードとなるが、周囲
温度が変化すると、半導体のバンドギャップが変化する
ため利得分布のピーク波長は2〜3人/ degの割合
で長波長側へ変化する。また、媒質の屈折率が変化する
上にレーザ索子自体も熱膨張するため、レーザ共振器の
実効的な光学長が変わり、それによって各軸モードは約
3人の間隔を保ちながら0.7A / deg稈度の割
合で長波長側へ変化する。
従って、ある状態より温度を上昇させると、利得分布の
変化Φが軸モードの変化mよりも大きいため、しばらく
は発振波長は連続変化をするが、やがてモードホッピン
グをおこし、以後、第8図に示すように連続変化とモー
ドホッピングをくり返し、階段状に変化する。また、半
導体レーザを駆動する電流値によっても波長は変化する
ため、将来に期待される波長多重光通信や高分解能の分
光の光源としての応用を妨げてきた。
ソコテ、5EC1/−ザ(3hort  E xter
nalCavity L aser diode)が発
明サレタカ、コレハ半導体レーザの後方出射光を外部ミ
ラーにより半導体レーザ本体に帰還させるもので、この
場合の発振軸モードは、通常のレーザの利得分布とレー
ザ軸モードと外部共振器による波長選択性の3つの要因
により選択される。この様子を模式的に第6図に対応さ
せて示したのが第7図であり、第7図(Jは波長に対す
るレーザ媒質の利得分布を、同図+b+は波長に対する
各軸モードのスペクトルを、同図(C)は波長に対する
外部共振器の共振特性を、同図+d+は上記<aJ (
bl (C)を重畳したスーパーラディアント状態のス
ペクトルを示している。スーパーラディアント状態での
スペクトルの包絡線は第6図の場合と異なり、第7図(
dlのようにリップルを有している。この場合、包絡線
のピークの温度特性は、外部共振器長、すなわち、半導
体レーザと外部ミラーとのギャップ長を変えることによ
り制御できるため、モードホップを抑制することが可能
となる。            − このSECレーザの温度に対する発振波長の特性の代表
例を第9図(al (b) (C)に示すが、いずれも
△【という温度範囲では同一の軸モードが維持され、△
Tという温度範囲では、第7図+d>に示すスペクトル
の包絡線の同一の山において順次軸モードが最大利得を
得て発振軸モードとなり、6丁を越えると発振軸モード
が包絡線の次の山のピークに移行して大きいモードホッ
プを生じる。
ざらに、第9図(ωは、第7図(d>に示す包48線の
ピーク波長の温度係数dλ/ dTと第7図(b)に示
す軸モードの温度係数αについて、dλ/ dT〈αの
ときに、発振軸モードが短波長側に隣接する軸モードに
順次移行して、6丁の範囲内で小さいモードホップを起
こす状態を示し、第9図(b)はdλ/ dT−αのと
きに△T=△【となって大きいモードホップのみが生じ
る状態を示す。さらに、第9図(C)は、d″X/dT
>αのときに、発振軸モードが長波長側に隣接する軸モ
ードに順次移行して、小さいモードホップを生じる状態
を示している。
(ハ)発明が解決しようとする問題点 従来のSECレーザは、Ga As基板上にGa As
 −Ga AI As −DH(ダブルへテロ)構造を
有するVSIS型半導体レーザと全反射ミラーとしてA
I 203コーテイングを施したGa Asチップとを
、CLIを材質とする載置台に、所定の外部共振器長(
半導体レーザの出射端面とミラー反射面との間隔)だけ
離して固定したものである。このSECレーザの外部共
振器長りと、第9図(a)山)(C)に示す温度範囲Δ
下との関係の一例を示したのが第3図(ハ)であるdま
た、この時スペクトルの包絡線のピーク波長の温度係数
d、R/dTはLに対して第4図(ハ)のような特性を
示す。そこで、これらの図からし〉50)aとするとΔ
T〈35℃となり、また、L < 5Laとすると6丁
〉35℃となるが、△T〉35℃の場合には発振波長の
変化量が第9図(C)のように大きくなる。そこでこの
場合には、△Tを広く、かつ、発振波長の変化量を小さ
く抑えるために、従来は、dl/dTを軸モードの温度
係数に一致させ、第9図市)の特性になるよう設定して
きた。
従って、dΣ/ dTを軸モードの温度係数(0,7人
/deQ>に一致させるためにll−50pに設定する
と、Δ丁=35℃の範囲でモードホップを起こさないよ
うにできるが、△Tにおける発振波長の変化は35℃×
0.7人/’C−24.5Aと大きくなる。
この発明は、このような事情を考慮してなされたもので
、発振波長の変化量を小さく抑えると共に6丁をさらに
大ぎくすることが可能な外部共振器形半導体レーザ装置
を提供するものである。
(ニ)問題点を解決するための手段 第1図はこの発明の構成を示す説明図であり、101は
半導体レーザ素子、102は半導体レーザ素子の一方の
出射端面101aから出射されたレーザ光を半導体レー
ザ素子101に帰還させる反)j面102aを有する反
射部材、103は半導体レーザ素子101と反射部!3
102を載置固定する載置部材、Lは出射端面101a
と反射面102aとの間隔、つまり、外部共振器長、L
lは半導体レーザ素子101と反射部材102の各中心
間距離、L2は半導体レーザ素子101の中心から出射
端面101aまでの距離、L3は反射部材102の中心
から反射面1.02aまでの距離であり、載置部材10
3の線膨張係数は半導体レーザ素子101および反射部
材102の線膨張係数よりも小さく、外部共振器長しが
温度上昇にともない短縮されるように構成されている。
(ホ)作 用 第1図の構成において、載置部材103の線膨張係数が
、半導体レーザ素子101および反射部材102の線膨
張係数よりも大きい場合には、温度上昇に対してLlの
伸びは(L2 +13 )の伸びよりも大きみなるため
しは増大する。逆に、載置部材103の線膨張係数が、
半導体レーザ素子101および反射部材102の線膨張
係数よりも小さい場合には、温度上昇に対して(L2 
+13 )の伸びかLlの伸びよりも大きくなるためL
t、tN少する。
ところで、外部共振器の共振特性(第7図(C)参照)
のピーク波長λの温度係数dλ/ dTは、一般に、 dT   Lo  dT (た9し、Loはλ0を共振波長とする任意の外部共振
器長) で表わされ、上記のように外部共振器長りが温度上着に
ともなって減少する場合、すなわちdL/dT〈0の場
合には、(1)式より dλ/ dT< O−−−121 となる。第7図(d+に示す包絡線は、第7図(alに
示す利得分布特性と第7図(C)に示す外部共振器の共
振特性とが重畳されて決定される。利得分布特性は、前
述のように2〜3人/ degの割り合いで温度上昇に
対して長波長側に移動するため、共振器の共振特性のピ
ーク波長の温度係数dλ/ dT〉0の場合には第7図
+d+の包絡線のピーク波長の温度係数dΣ/ dTは
例えば第4図(ハ)に示すように外部共振器長りできま
る正の値をとる。しかし、(2)式のようにdλ/dT
<0の場合には、第7図(d)の包絡線の温度に対する
変化の割合が減少するので、dΣ/ dT= Oとする
ことが可能になる。つまり、第7図(小の包絡線が温度
に対して変化せず、発振軸モードはその包絡線の中で短
波長側に隣接する軸モードに順次移行して、小さなモー
ドホップを生じるが、波長の変動幅は各軸モードの間隔
以内に抑えられ、しかも大きいモードホップを生じる温
度範囲6丁を十分大きくとることができる。
(へ)実施例 以下、図面に示す実施例に基づいてこの発明を詳述する
。なお、これによってこの発明が限定されるものではな
い。
第2図はこの発明の一実施例を示す斜視図であり、1は
Ga AS基板上にGa Ad −Ga AtAS−D
H構造を有するVS+IS型半導体レーザ、2はQa 
ASチップ、3は半導体レーザ1の後方出射光を半導体
レーザ1へ帰還させるようQa Asチップ2の一つの
面にAl2O3をコーティングして形成した全反射ミラ
ー、4は半導体レーザ1とGa Asチップ2を設置す
る載置板、5は半導体レーザ1への給電用リード線、L
aは半導体レーザ1の長さ、lbはチップ2の長ざ、L
は半導体レーザ1の出射端面からミラー3の反射面まで
の距離(外部共振器長)である。
このような構成において、載置板4の材料として、半導
体レーザ素子1およびチップ2の構成材FIGaAsの
線膨張係数(5,9X 10’ deg −’ ) J
:りも小さい線膨張係数<  2,4x 10’ de
a ’ )を有する3iを用い、その寸法を1.5mm
X 3.0mmX1.0mm(厚さ)とすると共に、半
導体レーザ素子1 (Dlc51a = 250/J、
チップ2の長さ1b=500、aとし、外部共振器長し
に対する△T(第9図)およびdA、、’dTを実測し
た。その測定結果を第3図(イ)および第4図(イ)に
示す。
第4図(イ)から1=20.iのときにd、;l/dT
−〇、その時、第3図〈イ)から△T=55℃となる。
従って、外部共振器良りを20−に設定することにより
、この実施例の発振波長の温度特性は第5図(Jのよう
になり、波長変動幅が各軸モードの波長間隔(3人)以
内に納まることが確認された。
第3図(ロ)および第4図(ロ)は前記第1の実施例に
おいて、チップ2の長さのみを1b=250虜とした第
2の実施例における測定結果を示す。また、第3図(ハ
)および第4図(ハ)は比較のため、第2の実施例にお
いて載置板4の材料として線膨脹係数が17.Ox 1
0’ deg ’のCLIを用いた場合の測定結果を示
している。第2の実施例においては、第4図(ロ)から
1=40p771のときにdλ/dT=o、その時第4
図(ロ)から△T=31℃となり、発振波長の温度特性
は第5図+b+のようになる。
また、第4図(ハ)は6276丁−0となる外部発振器
長しは存在しないことを示している。
以上のように、載置台4の線膨脹係数が半導体レーザ索
子1113よびチップ2の線膨脹係数よりも小ざい場合
にdλ/ dTミ0とすることが可能となるが、その場
合チップ2(又は半導体レーザ素子1)の長さくLa又
はLl))によっても外部共振器長しの温度に対する変
化率が制御され、それによって温度範囲6丁を広く設定
することができる。
なお、これらの実施例においてはチップ2の材料をQa
 Asとしたが、さらに熱膨張係数の大きな材料たとえ
ば金属を用いることにより、上記と同様の効果を1qる
ことができる。
また、レーザ共擾器長を長くすると、上記の効果の他に
軸モード間隔が狭くなることにより波長変動幅を前記3
人よりさらに狭くすることも可能である。
(ト)発明の効果 この発明によれば、広い温度範囲において温度変化に対
する発振波長の変動量を軸モードの最小波長間隔以内に
制御することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の構成を示す側面図、第2図はこの発
明の一実施例を示す斜視図、第3図は外部共振器長りと
大きいモードホップのない温度範囲6丁との関係を示す
グラフ、第4図は外部共振器長しと軸モードスペクトル
の包絡線のピーク波長温度、係数dλ/ dTとの関係
を示すグラフ、第5図(alは第1の実施例における発
振波長の温度特性を示すグラフ、第5図+b+は第2の
実施例における発振波長の温度特性を示すグラフ、第6
図は従来の半導体レーザの発振軸モードの選択性を示す
説明図、第7図はこの発明に係るSEC半導体レーザの
発振軸モードの選択性を示す説明図、第8図は従来の半
導体レーザの発振波長の温度特性を示すグラフ、第9図
+a+ +b+ (C1は一般的なSEC半導体レーザ
の発j辰波長の温度特性の各種態様を示すグラフである
。 1・・・・・・半導体レーザ素子、2・・・・・・チッ
プ、3・・・・・・ミラー、      4・・・・・
・li!置板、5・・・・・・給電用リード線。 第1図 第2図 クトelR*S& (、#m ) タト音p1モE振X*<ンにm) 第6図 =2〜3人/deg 第7図 →2〜3人/deg →0.7人/deg 第8図 第9図(b) 温度 第9図(a) 第91¥](C) j温度

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、半導体レーザ素子と、この半導体レーザ素子の一方
    の出射端面から出射されたレーザ光を前記半導体レーザ
    素子に帰還させる反射面を有する反射部材と、前記半導
    体レーザ素子および反射部材を載置固定する載置部材と
    を備え、かつ、前記載置部材の線膨脹係数が前記半導体
    レーザ素子および前記反射部材の線膨張係数よりも小さ
    く、前記出射端面と前記反射面との間隔が温度上昇にと
    もなつて短縮されるよう構成されてなる外部共振器形半
    導体レーザ装置。
JP61187597A 1986-08-09 1986-08-09 外部共振器型半導体レーザ装置 Granted JPS6343389A (ja)

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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4935939A (en) * 1989-05-24 1990-06-19 Liau Zong Long Surface emitting laser with monolithic integrated lens
DE3943470A1 (de) * 1989-05-29 1990-12-13 Rainer Thiessen Gegenstands-naeherungs und troepfchendetektor
DE3917388C1 (ja) * 1989-05-29 1990-11-29 Rainer 8000 Muenchen De Thiessen
JP2914586B2 (ja) * 1990-12-12 1999-07-05 株式会社アドバンテスト 発振器及びこの発振器を利用した光周波数測定装置
DE19506093C2 (de) * 1995-02-22 2000-12-07 Dilas Diodenlaser Gmbh Diodenlaserbauelement
JP4902044B2 (ja) * 1999-09-24 2012-03-21 シャープ株式会社 半導体レーザ装置、光伝送装置、光伝送システム、電子機器、制御装置、接続コネクタ、通信装置、ならびに光伝送方法、データ送受信方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58111393A (ja) * 1981-12-25 1983-07-02 Hitachi Ltd 半導体レ−ザ装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4178564A (en) * 1976-01-15 1979-12-11 Rca Corporation Half wave protection layers on injection lasers
JPS6043680B2 (ja) * 1979-09-21 1985-09-30 日本電信電話株式会社 温度安定化レ−ザ装置
JPS58111391A (ja) * 1981-12-25 1983-07-02 Hitachi Ltd 半導体レ−ザ装置
GB2115217B (en) * 1982-02-09 1986-04-03 Standard Telephones Cables Ltd Semiconductor lasers
JPS5917292A (ja) * 1982-07-20 1984-01-28 Sharp Corp 半導体レ−ザ素子
JPS60130187A (ja) * 1983-12-17 1985-07-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体レ−ザ装置
DE3410729A1 (de) * 1984-03-23 1985-09-26 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Stabilisierter halbleiterlaser

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58111393A (ja) * 1981-12-25 1983-07-02 Hitachi Ltd 半導体レ−ザ装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0257898A3 (en) 1989-05-31
EP0257898A2 (en) 1988-03-02
EP0257898B1 (en) 1993-10-20
US4829531A (en) 1989-05-09
DE3787853T2 (de) 1994-02-10
DE3787853D1 (de) 1993-11-25
JPH0523515B2 (ja) 1993-04-02

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