JPS6343299A - 電子サイクロトロン共鳴によるプラズマ発生装置 - Google Patents
電子サイクロトロン共鳴によるプラズマ発生装置Info
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- JPS6343299A JPS6343299A JP61185462A JP18546286A JPS6343299A JP S6343299 A JPS6343299 A JP S6343299A JP 61185462 A JP61185462 A JP 61185462A JP 18546286 A JP18546286 A JP 18546286A JP S6343299 A JPS6343299 A JP S6343299A
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- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
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Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子サイクロトロン共鳴によってプラズマを発
生する装置に関する。
生する装置に関する。
電磁波を共鳴磁場中に供給し、希薄気体中で電子サイク
ロトロン共鳴(ECR)を生じてプラズマを発生する装
置が知ちれており、半導体製造分野等において使用され
始めている。このような、ECR型のプラズマ発生装置
として、共鳴磁場形成用の磁石として永久磁石を使用し
、更にこの永久磁石を真空内に設置するようにした形態
のものが考えられている。この形態の装置は、コンパク
トである、局所的にプラズマを発生することができる等
の利点を有している。
ロトロン共鳴(ECR)を生じてプラズマを発生する装
置が知ちれており、半導体製造分野等において使用され
始めている。このような、ECR型のプラズマ発生装置
として、共鳴磁場形成用の磁石として永久磁石を使用し
、更にこの永久磁石を真空内に設置するようにした形態
のものが考えられている。この形態の装置は、コンパク
トである、局所的にプラズマを発生することができる等
の利点を有している。
しかしながら、このように磁石が真空内に配置されてい
ると次の峰な問題点が生じる。即ち、永久磁石として多
孔性のもの、あるいは有機バインダーを含有したものを
使用するとプラズマ発生の際の加熱によって激しいガス
放出が生じる。永久磁石がスパッタされ磁性扮が分散さ
れる。および磁石の冷却が困難である等の問題が生じる
。
ると次の峰な問題点が生じる。即ち、永久磁石として多
孔性のもの、あるいは有機バインダーを含有したものを
使用するとプラズマ発生の際の加熱によって激しいガス
放出が生じる。永久磁石がスパッタされ磁性扮が分散さ
れる。および磁石の冷却が困難である等の問題が生じる
。
本発明の目的は永久磁石を真空中に設置した場合に生じ
る種々の問題点を解決することにある。
る種々の問題点を解決することにある。
上記問題点は、内部を真空状態に保持しi尋る真空容器
、この真空容器中に電磁波を輻射するアンテナ、共鳴磁
場を形成する永久磁石、および前記真空容器内に伸び、
内部に前記永久磁石が収容され、透′6′!1.性およ
び気密性を有するカバーから構成される電子サイクロト
ロン共鳴によるプラズマ発生装置を用いることによって
解決される。
、この真空容器中に電磁波を輻射するアンテナ、共鳴磁
場を形成する永久磁石、および前記真空容器内に伸び、
内部に前記永久磁石が収容され、透′6′!1.性およ
び気密性を有するカバーから構成される電子サイクロト
ロン共鳴によるプラズマ発生装置を用いることによって
解決される。
二作 用〕
永久磁石から発生した磁力線はカバーを透過して真空容
器内に共鳴磁場を形成する。このカバー外であって真空
容器内に作り出された共鳴磁場と、アンテナから輻射さ
れた電磁波とが相互作用して電子サイクロトロン共鳴が
生じ、真空容器中の希薄気体が電離してプラズマが発生
する。
器内に共鳴磁場を形成する。このカバー外であって真空
容器内に作り出された共鳴磁場と、アンテナから輻射さ
れた電磁波とが相互作用して電子サイクロトロン共鳴が
生じ、真空容器中の希薄気体が電離してプラズマが発生
する。
〔発明の効果〕
本発明においては、共鳴磁場発生用の永久磁石が透磁性
および気密性を有するカバーの内部に収容されているの
で、プラズマ発生時に磁石が加熱されてガスが発生して
も、この噴出ガスが真空槽内にまわらず、プラズマ発生
状態が変動したり、真空ト曹内が汚染されることがない
。また、永久磁石がカバー内に収容されているので直接
スパッタされることはなく、真空槽内に磁性扮が堆積す
ることがない。さらに、永久磁石を大気圧中に設置する
ことができるので、磁石の冷却および移動を容易に行う
ことができるという新たな利点が生じるとともに、局所
的にプラズマを発生し得ること、多量の磁石を使用する
必要のないこと、およびコンパクト化を可能にするとい
う磁石内蔵型のプラズマ発生装置の利点を損なうことが
なし)。
および気密性を有するカバーの内部に収容されているの
で、プラズマ発生時に磁石が加熱されてガスが発生して
も、この噴出ガスが真空槽内にまわらず、プラズマ発生
状態が変動したり、真空ト曹内が汚染されることがない
。また、永久磁石がカバー内に収容されているので直接
スパッタされることはなく、真空槽内に磁性扮が堆積す
ることがない。さらに、永久磁石を大気圧中に設置する
ことができるので、磁石の冷却および移動を容易に行う
ことができるという新たな利点が生じるとともに、局所
的にプラズマを発生し得ること、多量の磁石を使用する
必要のないこと、およびコンパクト化を可能にするとい
う磁石内蔵型のプラズマ発生装置の利点を損なうことが
なし)。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。第1図は本
発明の第1実施例の概略図であり、第2図は第1実施例
の一部拡大斜視図である。真空容器1の側壁に真空容器
1内方へ延びる筒状のカバー2が取り付けられている。
発明の第1実施例の概略図であり、第2図は第1実施例
の一部拡大斜視図である。真空容器1の側壁に真空容器
1内方へ延びる筒状のカバー2が取り付けられている。
このカバー2は電磁e、透過性の物質、具体的にはセラ
ミックから形成されており、且つ気密性を有している。
ミックから形成されており、且つ気密性を有している。
このカバー2の内部にはらせん状のアンテナ3が収容さ
れている。このアンテナ3の各端部はそれぞれ同軸導波
管4の内1す1導体4aと外側導体4bとに接続されて
いる。カバー2内のアンテナ3の前方には共鳴磁場形成
用の永久磁石5が収容されている。
れている。このアンテナ3の各端部はそれぞれ同軸導波
管4の内1す1導体4aと外側導体4bとに接続されて
いる。カバー2内のアンテナ3の前方には共鳴磁場形成
用の永久磁石5が収容されている。
このように構成されたプラズマ発生装置においては、真
空排気系6によって真空容器1内部が一度高真空に排気
された後、ガス供給系7から供給される例えば成膜用ガ
スで内部が充満される。高周波発振器8から同軸導波管
4を介して高周波電力をアンテナ3に供給すると、アン
テナから電磁波が放射される。この電磁波はカバー2を
透過して、永久磁石5の共鳴磁場とF自互作用して電子
サイクロトロン共鳴現象を起し、プラズマが発生される
。
空排気系6によって真空容器1内部が一度高真空に排気
された後、ガス供給系7から供給される例えば成膜用ガ
スで内部が充満される。高周波発振器8から同軸導波管
4を介して高周波電力をアンテナ3に供給すると、アン
テナから電磁波が放射される。この電磁波はカバー2を
透過して、永久磁石5の共鳴磁場とF自互作用して電子
サイクロトロン共鳴現象を起し、プラズマが発生される
。
充項ガスが成膜用ガスであると、プラズマ発生の際の解
1雅により作り出された固体種が基板9上に堆積し、薄
膜が形成される。成膜用ガスの代わりにエツチング用ガ
スを用いると基板9がエツチングされる。
1雅により作り出された固体種が基板9上に堆積し、薄
膜が形成される。成膜用ガスの代わりにエツチング用ガ
スを用いると基板9がエツチングされる。
本実施例においては、電磁波放射用のアンテナ3もカバ
ー2内に収容されているのでアンテナ3がスパッタされ
る恐れがない。また、磁石5およびアンテナ3が大気中
に設置されているので、これらのイ立萱を自由に変える
ことができ、プラズマ発生領域を調節し得るという付加
的な効果を得ることができる。
ー2内に収容されているのでアンテナ3がスパッタされ
る恐れがない。また、磁石5およびアンテナ3が大気中
に設置されているので、これらのイ立萱を自由に変える
ことができ、プラズマ発生領域を調節し得るという付加
的な効果を得ることができる。
第3図は本発明の第2実施例の概略図である。
本実施例においては、電磁波放射用のアンテナ3は一対
の対向する平板電極からなっており、直接真空容器1内
に設置されている。従って、カバー2′は透磁性を有す
れば足り、例えばステンレススチールから形成すること
ができる。また、カバ−2内部にはコンプレッサー10
によって圧搾空気が送られ、永久磁石5が冷却されるよ
うになっている。
の対向する平板電極からなっており、直接真空容器1内
に設置されている。従って、カバー2′は透磁性を有す
れば足り、例えばステンレススチールから形成すること
ができる。また、カバ−2内部にはコンプレッサー10
によって圧搾空気が送られ、永久磁石5が冷却されるよ
うになっている。
本実施例においても、磁石5を自由に移動することがで
き、プラズマ発生領域を変化することができる。
き、プラズマ発生領域を変化することができる。
第4図:ま本発明の第3実施例の概略図である。
本実施例においては、らせん状アンテナ3が別のカバー
11内に収容されており、アンテナ3自体がスバ、りさ
れて、金属粉が真空容器1内に飛散することのないよう
にされている。
11内に収容されており、アンテナ3自体がスバ、りさ
れて、金属粉が真空容器1内に飛散することのないよう
にされている。
第5図は本発明の第4実施例の概略図であり、第1実施
例と同様にアンテナ3と永久磁石5との両方がカバー2
内に収容されている。従って、カバー2は電磁透過性の
物質によって形成されているっ本実施例における永久磁
石5はアンテナ3と一体的にされている。
例と同様にアンテナ3と永久磁石5との両方がカバー2
内に収容されている。従って、カバー2は電磁透過性の
物質によって形成されているっ本実施例における永久磁
石5はアンテナ3と一体的にされている。
第1図は本発明の第1実施例を示す概略図、第2図は第
1実施例の一部拡大斜視図、第3図は本発明の第2実施
例を示す概略図、第4図は本発明の第3実施例を示す概
略図、第5図は本発明の第4実施例を示す概略図である
。 1・・・・・・真空容器、 2・・・・・・カバー
、3・・・・・・アンテナ、 4・・・・・・同
軸導波管、5・・・・・・永久磁石、 6・・・・
・・真空排気系、7・・・・・・ガス供給系、 8・
・・・・・高周波発振器、9・・・・・・基板、
10・・・・・・コンプレッサー。 第1図 第3図 第4図
1実施例の一部拡大斜視図、第3図は本発明の第2実施
例を示す概略図、第4図は本発明の第3実施例を示す概
略図、第5図は本発明の第4実施例を示す概略図である
。 1・・・・・・真空容器、 2・・・・・・カバー
、3・・・・・・アンテナ、 4・・・・・・同
軸導波管、5・・・・・・永久磁石、 6・・・・
・・真空排気系、7・・・・・・ガス供給系、 8・
・・・・・高周波発振器、9・・・・・・基板、
10・・・・・・コンプレッサー。 第1図 第3図 第4図
Claims (2)
- (1)内部を真空状態に保持し得る真空容器、この真空
容器中に電磁波を輻射するアンテナ、共鳴磁場を形成す
る永久磁石、および前記真空容器内に伸び、内部に前記
永久磁石が収容され、透磁性および気密性を有するカバ
ーから構成される電子サイクロトロン共鳴によるプラズ
マ発生装置。 - (2)前記アンテナも前記カバー内に収容され、このカ
バーが電磁波透過性を有する特許請求の範囲第(1)項
記載のプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61185462A JPH07107877B2 (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | 電子サイクロトロン共鳴によるプラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61185462A JPH07107877B2 (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | 電子サイクロトロン共鳴によるプラズマ発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6343299A true JPS6343299A (ja) | 1988-02-24 |
JPH07107877B2 JPH07107877B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=16171210
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61185462A Expired - Lifetime JPH07107877B2 (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | 電子サイクロトロン共鳴によるプラズマ発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07107877B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03201703A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-03 | Rikagaku Kenkyusho | プラズマ発生用マイクロ波アンテナ |
JP2007231304A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-13 | Ykk Ap株式会社 | 薄膜の製造方法及び製造装置、並びに成形体の製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60200528A (ja) * | 1984-03-26 | 1985-10-11 | Anelva Corp | ドライエツチング装置 |
-
1986
- 1986-08-07 JP JP61185462A patent/JPH07107877B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60200528A (ja) * | 1984-03-26 | 1985-10-11 | Anelva Corp | ドライエツチング装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03201703A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-03 | Rikagaku Kenkyusho | プラズマ発生用マイクロ波アンテナ |
JPH0750844B2 (ja) * | 1989-12-28 | 1995-05-31 | 理化学研究所 | プラズマ発生用マイクロ波アンテナ |
JP2007231304A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-13 | Ykk Ap株式会社 | 薄膜の製造方法及び製造装置、並びに成形体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07107877B2 (ja) | 1995-11-15 |
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Legal Events
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EXPY | Cancellation because of completion of term |