JPS6340717A - シリカ粒子の表面処理法 - Google Patents
シリカ粒子の表面処理法Info
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- JPS6340717A JPS6340717A JP18188086A JP18188086A JPS6340717A JP S6340717 A JPS6340717 A JP S6340717A JP 18188086 A JP18188086 A JP 18188086A JP 18188086 A JP18188086 A JP 18188086A JP S6340717 A JPS6340717 A JP S6340717A
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Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は接着剤、塗料、磁気テープ、充填剤など広範囲
に利用されているシリカ粒子の表面を改質するための表
面処理法に関する。
に利用されているシリカ粒子の表面を改質するための表
面処理法に関する。
〈従来の技術〉
無機化合物であるシリカ粒子と有機化合物との複合材料
を形成する際、シリカ粒子を均一に分散させることと、
シリカ粒子と有機化合物との接着性を向上させることが
本質的に重要である。
を形成する際、シリカ粒子を均一に分散させることと、
シリカ粒子と有機化合物との接着性を向上させることが
本質的に重要である。
無機化合物と有機化合物では、相界れない性質を有する
ため、均一に分散するのに長時間の機械的混合がなされ
るが、摩擦熱による有機化合物の変性、機械的磨耗など
の問題がある。
ため、均一に分散するのに長時間の機械的混合がなされ
るが、摩擦熱による有機化合物の変性、機械的磨耗など
の問題がある。
近年、シリカ粒子に有機化合物との親和性を付与させる
方法が種々検討され実用化してきている。たとえば、シ
リカ粒子に有機化合物との親和性を与えるためにシリカ
粒子をカップリング剤で処理する方法がある(特開昭5
8−175204号公報)。
方法が種々検討され実用化してきている。たとえば、シ
リカ粒子に有機化合物との親和性を与えるためにシリカ
粒子をカップリング剤で処理する方法がある(特開昭5
8−175204号公報)。
〈発明が解決しようとする問題点〉
カップリング剤により有機化合物との親和性を付与され
たシリカ粒子は有機化合物に均一に分散し易くなり複合
材料としての性能も向上する。
たシリカ粒子は有機化合物に均一に分散し易くなり複合
材料としての性能も向上する。
しかし、カップリング剤と反応するためには、シリカ粒
子表面にカップリング剤の官能基と反応できるシラノー
ル基が必要でおる。溶融シリカ、結晶性シリカなどのシ
リカでは粒子表面上のシラノール基が十分でないためカ
ップリング剤との反応が不十分でめった。このため有機
化合物との複合体を得るのにカップリング剤の効果が十
分発揮されていないのが現状の問題点である。
子表面にカップリング剤の官能基と反応できるシラノー
ル基が必要でおる。溶融シリカ、結晶性シリカなどのシ
リカでは粒子表面上のシラノール基が十分でないためカ
ップリング剤との反応が不十分でめった。このため有機
化合物との複合体を得るのにカップリング剤の効果が十
分発揮されていないのが現状の問題点である。
く問題点を解決するための手段〉
本発明者らは、かかる従来技術の問題点を解決するため
にシリカ粒子表面上にシラノール基を増大させ、カップ
リング剤との反応量を増大させることを目的として鋭意
研究の結果本発明に到達した。
にシリカ粒子表面上にシラノール基を増大させ、カップ
リング剤との反応量を増大させることを目的として鋭意
研究の結果本発明に到達した。
すなわち、本発明はシリカ粒子を、水、アルカリ性水溶
液あるいは酸性水溶液の存在下液相系で90’Cから2
50 ’Cの範囲で処理し、次いでカップリング剤と反
応させることを特徴とするシリカ粒子の表面処理法であ
る。
液あるいは酸性水溶液の存在下液相系で90’Cから2
50 ’Cの範囲で処理し、次いでカップリング剤と反
応させることを特徴とするシリカ粒子の表面処理法であ
る。
乾燥剤、触媒、触媒担体、吸着剤として用いられる多孔
性シリカ、すなわちシリカゲルを水熱処理して比平均孔
径を増加せしめることは公知である(特開昭53−70
098号)が、かかるシリカゲルはもともとシラノール
基を大量に有するものでおるため、シラノール基を増大
させるという本発明のような著しい効果はみられない。
性シリカ、すなわちシリカゲルを水熱処理して比平均孔
径を増加せしめることは公知である(特開昭53−70
098号)が、かかるシリカゲルはもともとシラノール
基を大量に有するものでおるため、シラノール基を増大
させるという本発明のような著しい効果はみられない。
以下、本発明の椙成を詳細に説明する。
本発明に適用されるシリカ粒子は、溶融シリカ、結晶性
シリカいずれでもよく、もちろん、一部結晶性成分を含
有する溶融シリカでもよい。
シリカいずれでもよく、もちろん、一部結晶性成分を含
有する溶融シリカでもよい。
本発明においてはシリカ粒子を、水;アルカリ性水溶液
あるいは酸性水溶液の存在下、液相系で処理することが
重要であり、この処理によりシラノール基の増大を達成
することができる。
あるいは酸性水溶液の存在下、液相系で処理することが
重要であり、この処理によりシラノール基の増大を達成
することができる。
処理温度は90℃から250℃である。大気圧下、沸点
以上の温度で処理する場合には、液相状態を維持するた
めオート・クレープ中で処理する。この場合圧力は自制
圧力下あるいは加圧下にて行われる。
以上の温度で処理する場合には、液相状態を維持するた
めオート・クレープ中で処理する。この場合圧力は自制
圧力下あるいは加圧下にて行われる。
本発明において用いられるアルカリ性水溶液のアルカリ
成分は具体的には窒素含有化合物が好ましい。窒素含有
化合物としてはたとえば、アンモニア、尿素、NRI
R2R3(ここで、R1、R2,R3はアルキル基また
は水素原子を示し、R1、R2、R3のうち少なくとも
1つはアルキル基である〉で表わされる1級、2扱およ
び3級のアルキルアミン、4級アルキルアンモニウム化
合物などが挙げられる。1@、2@および3級のアルキ
ルアミンにおけるアルキル基R1、R2、R3ならびに
4級アルキルアンモニウム化合物におけるアルキル基は
、特に限定されないが、好ましくは炭素原子数1〜3の
ものをそれぞれ用いる。これらの窒素含有化合物の好ま
しい具体例としては、アンモニア、尿素、n−エチルア
ミン、n−プロピルアミン、テトラメチルアンモニウム
水酸化物、テトラエチルアンモニウム水酸化物などを挙
げることができる。
成分は具体的には窒素含有化合物が好ましい。窒素含有
化合物としてはたとえば、アンモニア、尿素、NRI
R2R3(ここで、R1、R2,R3はアルキル基また
は水素原子を示し、R1、R2、R3のうち少なくとも
1つはアルキル基である〉で表わされる1級、2扱およ
び3級のアルキルアミン、4級アルキルアンモニウム化
合物などが挙げられる。1@、2@および3級のアルキ
ルアミンにおけるアルキル基R1、R2、R3ならびに
4級アルキルアンモニウム化合物におけるアルキル基は
、特に限定されないが、好ましくは炭素原子数1〜3の
ものをそれぞれ用いる。これらの窒素含有化合物の好ま
しい具体例としては、アンモニア、尿素、n−エチルア
ミン、n−プロピルアミン、テトラメチルアンモニウム
水酸化物、テトラエチルアンモニウム水酸化物などを挙
げることができる。
本発明において用いられる酸性水溶液の酸としては塩酸
、消散、硫酸などの無機酸あるいはギ酸、酢酸、プロピ
オン酸などの有機酸を例として挙げることができる。
、消散、硫酸などの無機酸あるいはギ酸、酢酸、プロピ
オン酸などの有機酸を例として挙げることができる。
アルカリ性水溶液あるいは酸性水溶液の濃度は選択する
化合物により異なるので一義的には決められないが、お
よそ0.01規定から1規定の範囲が通常用いられる。
化合物により異なるので一義的には決められないが、お
よそ0.01規定から1規定の範囲が通常用いられる。
このような条件のもとて30分以上、好ましくは2時間
以上、1週間以下、好ましくは72時間以内で接触せし
め処理することにより本発明が達成できる。
以上、1週間以下、好ましくは72時間以内で接触せし
め処理することにより本発明が達成できる。
このようにして処理されたシリカ粒子を水、好ましくは
蒸留水で洗浄し、濾過する。ン濾過したシリカ粒子を室
温から350°C1好ましくは90’Cから200 ’
Cで乾燥し、シラノール基が増大したシリカ粒子を得る
ことができる。
蒸留水で洗浄し、濾過する。ン濾過したシリカ粒子を室
温から350°C1好ましくは90’Cから200 ’
Cで乾燥し、シラノール基が増大したシリカ粒子を得る
ことができる。
シリカ粒子のシラノール基を測定するにはたとえば、J
、Am、Chem、Soc、vo 112 (”198
0)7606〜7607ページに記載されているように
固体の高分解能NMRである29S i CP/MA
S−NMRによって実施することができる。この方法に
よってシリカ粒子のシラノール基が増大したことが確認
できる。
、Am、Chem、Soc、vo 112 (”198
0)7606〜7607ページに記載されているように
固体の高分解能NMRである29S i CP/MA
S−NMRによって実施することができる。この方法に
よってシリカ粒子のシラノール基が増大したことが確認
できる。
かくして処理されたシリカ粒子をカップリング剤との反
応に供する。
応に供する。
本発明で用いられるカップリング剤は、反応性官能基成
分と有機化合物との親和性を有する成分とを含む化合物
でおり、たとえば、ビニルトリメトキシシラン、γ−ア
ニリノプロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキ
シシラン、メチルトリメトキシシランなどのシランカッ
プリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネ
ート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト
)チタネートなどのチタネートカップリング剤、アセト
アルコキシアルミニウムジイソプロピレートなどのアル
ミニウムカップリング剤などが挙げられる。そのうちシ
ランカップリング剤が好ましく用いられる。
分と有機化合物との親和性を有する成分とを含む化合物
でおり、たとえば、ビニルトリメトキシシラン、γ−ア
ニリノプロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキ
シシラン、メチルトリメトキシシランなどのシランカッ
プリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネ
ート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト
)チタネートなどのチタネートカップリング剤、アセト
アルコキシアルミニウムジイソプロピレートなどのアル
ミニウムカップリング剤などが挙げられる。そのうちシ
ランカップリング剤が好ましく用いられる。
シリカ粒子とカップリング剤との反応は、両者を溶媒の
存在下または不存在下で混合加熱することによって行う
ことができる。
存在下または不存在下で混合加熱することによって行う
ことができる。
溶媒としては無水で反応性の低いものならばいがなるも
のも使用可能でおり、好ましくは無水メタノールなどの
無水アルコールが用いられる。
のも使用可能でおり、好ましくは無水メタノールなどの
無水アルコールが用いられる。
反応温度は30〜200’C,好ましくは40〜150
°Cでおる。
°Cでおる。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
なお、実施例においてシリカ粒子のシラノール基濃度を
調べるために行なった29Si CP/MAS−NM
Rの測定条件は次のとおりでおる。
調べるために行なった29Si CP/MAS−NM
Rの測定条件は次のとおりでおる。
測定条件
装 置 JEOL JNM−FX−200
型(4,7T) 温 度 至温 基準物質 シリコーンゴム−22D l)m(テトラ
メチルシラン基準) 29 ・ 測定核 Sl 共鳴周波数 39.65MHz パルス幅 5.5μsec パルス繰返し時間 1sec データ点 4K (Doub I e ACCum) スペクトル幅 16.000H2 精算回数 86,800回 精算時間 24.1時間 パルスモード CP/MAS コンタクトタイム 10m5eC テトラメチルシラン(TMS)から−80〜−120p
pmずれた位置にあるピークがシラノール基に起因する
シグナルであり、シグナルが大きいほどシラノール基濃
度が高いことを示す。
型(4,7T) 温 度 至温 基準物質 シリコーンゴム−22D l)m(テトラ
メチルシラン基準) 29 ・ 測定核 Sl 共鳴周波数 39.65MHz パルス幅 5.5μsec パルス繰返し時間 1sec データ点 4K (Doub I e ACCum) スペクトル幅 16.000H2 精算回数 86,800回 精算時間 24.1時間 パルスモード CP/MAS コンタクトタイム 10m5eC テトラメチルシラン(TMS)から−80〜−120p
pmずれた位置にあるピークがシラノール基に起因する
シグナルであり、シグナルが大きいほどシラノール基濃
度が高いことを示す。
実施例1
株式会社 龍森から入手した溶融シリカ粒子(商品名”
RD−8”>2009を、テトラエチルアンモニウム水
酸化物を9.89含有している300mのアルカリ性水
溶液とともに500威容のオート・クレープに入れ液相
系を保持しつつ150’C,24時間攪拌しながら処理
した。
RD−8”>2009を、テトラエチルアンモニウム水
酸化物を9.89含有している300mのアルカリ性水
溶液とともに500威容のオート・クレープに入れ液相
系を保持しつつ150’C,24時間攪拌しながら処理
した。
処理後オート・クレープから取出し、水洗、濾過を行い
その後約150℃で一晩乾燥した。このようにして得た
シリカ粒子のシラノール基を29S i CP/MA
S−NMRで測定した結果を第1図に示す。
その後約150℃で一晩乾燥した。このようにして得た
シリカ粒子のシラノール基を29S i CP/MA
S−NMRで測定した結果を第1図に示す。
次いで、あらかじめ脱水したメタノール50dに日本ユ
ニカー製シランカップリング剤(商品名1ゝA−186
”>1gを溶解し、蒸発皿に入れ前記により調製したシ
リカ粒子を100!IJ加え、55℃で加熱攪拌しなが
ら約1時間かけて乾固した。乾燥物を減圧下(20#H
(J) 100℃で2時間加熱処理した。このようにし
てカップリング剤と反応させたシリカ粒子のシラノール
基を29S i CP/MAS−NMRで測定した結
果を第2図に示す。
ニカー製シランカップリング剤(商品名1ゝA−186
”>1gを溶解し、蒸発皿に入れ前記により調製したシ
リカ粒子を100!IJ加え、55℃で加熱攪拌しなが
ら約1時間かけて乾固した。乾燥物を減圧下(20#H
(J) 100℃で2時間加熱処理した。このようにし
てカップリング剤と反応させたシリカ粒子のシラノール
基を29S i CP/MAS−NMRで測定した結
果を第2図に示す。
一方、比較のため、アルカリ性水溶液で処理していない
溶融シリカ粒子のシラノール基を29Si CP/M
AS−NMRで測定した結果を第3図に示す。
溶融シリカ粒子のシラノール基を29Si CP/M
AS−NMRで測定した結果を第3図に示す。
第1図と第3図を比較すると、明らかにアルカリ性水溶
液で処理したシリカ粒子(第1図)は未処理シリカ粒子
(第3図)に比べてシラノール基が増大している。また
、第1図と第2図を比較すると、アルカリ性水溶液で処
理したシリカ粒子(第1図)は、カップリング剤との反
応後(第2図)シラノール基が大幅に減少している。こ
のことはシリカ粒子表面にあるシラノール基がカップリ
ング剤と反応したことを示しでいる。したがって、シラ
ノール基が増大することはカップリング剤との反応量が
増大することになる。
液で処理したシリカ粒子(第1図)は未処理シリカ粒子
(第3図)に比べてシラノール基が増大している。また
、第1図と第2図を比較すると、アルカリ性水溶液で処
理したシリカ粒子(第1図)は、カップリング剤との反
応後(第2図)シラノール基が大幅に減少している。こ
のことはシリカ粒子表面にあるシラノール基がカップリ
ング剤と反応したことを示しでいる。したがって、シラ
ノール基が増大することはカップリング剤との反応量が
増大することになる。
実施例2
溶融シリカ粒子200gを水300dとともに500I
nf!容のオート・クレープに入れた。密封復液相系を
保持しつつ攪拌しながら200℃で24時間処理した。
nf!容のオート・クレープに入れた。密封復液相系を
保持しつつ攪拌しながら200℃で24時間処理した。
圧力は自制圧で行った。
処理後オート・クレープから取出して水洗、濾過した。
濾過後約150℃の乾燥器の中で一晩乾燥した。このよ
うにして得たシリカ粒子のシラノール基を29S i
CP/MAS−NMRで測定した結果を第4図に示す
。処理前のシリカ粒子のシラノール基(第3図)よりも
明らかにシラノール基が増大したことがわかる。
うにして得たシリカ粒子のシラノール基を29S i
CP/MAS−NMRで測定した結果を第4図に示す
。処理前のシリカ粒子のシラノール基(第3図)よりも
明らかにシラノール基が増大したことがわかる。
実施例3
濃塩酸(35%HCI>6.759を水に加え300m
の酸性水溶液とした。溶融シリカ200gを酸性水溶液
300−とともに冷却器付のフラスコに入れ約100℃
で6時間速流した。
の酸性水溶液とした。溶融シリカ200gを酸性水溶液
300−とともに冷却器付のフラスコに入れ約100℃
で6時間速流した。
還流処理後水洗、濾過し約150℃で一晩乾燥した。こ
のようにして得たシリカ粒子のシラノール基を”9S
i CP/MAS−NMRで測定した結果を第5図に
示す。
のようにして得たシリカ粒子のシラノール基を”9S
i CP/MAS−NMRで測定した結果を第5図に
示す。
〈発明の効果〉
本発明によれば、シリカ粒子表面上にシラノール基を増
大させることができ、シリカ粒子とカップリング剤との
反応量を増大させることができる。シリカ粒子表面に有
機化合物との親和性成分が増えることにより、有機化合
物とシリカ粒子との均一な分散を図ることができ、かつ
、有機化合物とシリカ粒子との接着性の向上した複合材
料を得ることができる。
大させることができ、シリカ粒子とカップリング剤との
反応量を増大させることができる。シリカ粒子表面に有
機化合物との親和性成分が増えることにより、有機化合
物とシリカ粒子との均一な分散を図ることができ、かつ
、有機化合物とシリカ粒子との接着性の向上した複合材
料を得ることができる。
第1図はアルカリ性水溶液で処理したシリカ粒子、第2
図はアルカリ性水溶液で処理した後ざらにカップリング
剤と反応せしめたシリカ粒子、第3図は未処理シリカ粒
子、第4図は水で処理したシリカ粒子、第5図は酸性水
溶液で処理したシリカ粒子の各々の”9Si CP/
MAS−NMRのチャートを示す。
図はアルカリ性水溶液で処理した後ざらにカップリング
剤と反応せしめたシリカ粒子、第3図は未処理シリカ粒
子、第4図は水で処理したシリカ粒子、第5図は酸性水
溶液で処理したシリカ粒子の各々の”9Si CP/
MAS−NMRのチャートを示す。
Claims (1)
- シリカ粒子を、水、アルカリ性水溶液あるいは酸性水溶
液の存在下液相系で90℃から250℃の範囲で処理し
、次いでカップリング剤と反応させることを特徴とする
シリカ粒子の表面処理法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18188086A JPS6340717A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | シリカ粒子の表面処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18188086A JPS6340717A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | シリカ粒子の表面処理法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6340717A true JPS6340717A (ja) | 1988-02-22 |
Family
ID=16108481
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18188086A Pending JPS6340717A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | シリカ粒子の表面処理法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6340717A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003055800A1 (fr) * | 2001-12-25 | 2003-07-10 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Oxyde inorganique |
JP2013215633A (ja) * | 2011-04-07 | 2013-10-24 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 消泡剤用オイルコンパウンド及び消泡剤組成物 |
-
1986
- 1986-08-04 JP JP18188086A patent/JPS6340717A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003055800A1 (fr) * | 2001-12-25 | 2003-07-10 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Oxyde inorganique |
KR100744976B1 (ko) | 2001-12-25 | 2007-08-02 | 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 | 무기 산화물 |
JP2013215633A (ja) * | 2011-04-07 | 2013-10-24 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 消泡剤用オイルコンパウンド及び消泡剤組成物 |
US9278298B2 (en) | 2011-04-07 | 2016-03-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Oil compound and defoamer composition |
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