JPS6336581A - 半導体圧力変換器 - Google Patents

半導体圧力変換器

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JPS6336581A
JPS6336581A JP17773686A JP17773686A JPS6336581A JP S6336581 A JPS6336581 A JP S6336581A JP 17773686 A JP17773686 A JP 17773686A JP 17773686 A JP17773686 A JP 17773686A JP S6336581 A JPS6336581 A JP S6336581A
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JP
Japan
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piezoresistive element
single crystal
crystal substrate
thick
semiconductor single
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Pending
Application number
JP17773686A
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English (en)
Inventor
Haruo Yamauchi
山内 治男
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Azbil Corp
Original Assignee
Azbil Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、工業計測をはじめとする禮々の用途に広く用
いられる半導体圧力変換器に関するものである。
〔従来の技術〕
この種の変換器は、例えば第9図または第10図に示す
ように、固定部となる厚肉部1人と薄肉ダイアフラム部
1Bとを備えたシリコンチップ等の半導体単結晶基板1
を用い、その薄肉ダイアフラム部IBK、拡散領域から
なるピエゾ抵抗素子2を形成した構成を有している。こ
の半導体単結晶基板1は、厚肉部1Aにおいて、圧力導
入口を備えたガラスチューブ等の支持部材に固定され、
ピエゾ抵抗索子2によシ、半導体単結晶基板1の表裏の
圧力P1およびP!の差圧に対応した電気的出力が得ら
れる。
外部との電気的接続は、一般に外周部においてワイヤボ
ンディングによシ行なわれ、そのために第9図において
は、S1o!からなるパッシベーション膜3に開口した
コンタクト孔を通してピエゾ抵抗素子2に接続された、
比較的厚い(すなわちワイヤボンディング可能な)At
膜からなる引出し電極4が用いられ、また第10図にお
いては、電極パッド5を介してピエゾ抵抗素子2に接続
されたボンディングワイヤ6が用いられている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した構成においては、ピエゾ抵抗素子2と、引出し
電極4またはボンディングワイヤ6との接続部を構成す
る比較的厚い金属膜が薄肉ダイアプラム部1B上に存在
し、この薄肉ダイアプラム部1B上に存在する引出し電
極4や電極パッド5等の金属と半導体単結晶基板1また
はその上に形成されたSin、などからなるパッシベー
ション膜7との間の熱膨張差によって生ずる応力が圧力
変換器のヒステリシスを増大させるなどの欠点があった
〔問題点を解決するための手段〕
この発明は、ピエゾ抵抗素子またはピエゾ抵抗素子に連
続して半導体単結晶基板に形成された導電性層を、厚肉
部まで延長して内部接続用電極部に接続し、かつこの内
部接続用電極部相互間およびこれと、同じく厚肉部上に
形成された外部接続用電極部との間を、ボンディングワ
イヤまたは上記各接続用電極部よυ薄い導電性膜で接続
したものである。
〔作用〕
薄肉ダイアプラム部には金属膜等が存在せず、厚肉部に
ついても、接続用電極部のみは接続に必要な厚みを確保
するものの、他の部分については半導体単結晶基板に直
接接触する異物は全く存在しないかごく薄いものでよく
、シたがってその影響も小さい。
〔実施例〕
第1図は本発明の第1の実施例を示す断面図である。第
9図あるいは第10図に示したものと同様に、矩形板状
のシリコンチップからなる半導体単結晶基板11は、外
周部に厚肉部11Aを有するとともに、中央部に円形状
の薄肉ダイアフラム部11Bを有している。
薄肉ダイアフラム部11Bには、拡散領域からなるピエ
ゾ抵抗素子12が形成しであるが、本実施例ではこのピ
エゾ抵抗素子12は薄肉ダイアプラム部11Bのみなら
ず、厚肉部11 Atで延長して形成してあシ、そこで
、5lotからなるパッシベーション膜13に形成した
コンタクト孔を通して  ・Atからなる引出し電極1
4の内部接続部14AK接続している。引出し電極14
の他端は、半導体単結晶基板11の最外周部まで延在し
外部接続部14Bを構成している。
ここで、引出し電極14は、上記外部接続部14Bおよ
びピエゾ抵抗素子12と接続する内部接続部14Aの部
分に比較して、他の部分においては、電気的導通がとれ
る範囲で薄く形成されておシ、厚肉部11Aにも不要な
応力が極力束じないようにしである。なお、引出し電極
14は、Atに限らず、他の金IJ4または多結晶シリ
コンなどの導電性膜を用いてもよいことはいうまでもな
い。
第2図は、本発明の第2の実施例を示す断面図である。
本実施例では、厚肉部11Aまで延長させたピエゾ抵抗
素子12に接続する内部接続用電極パッド15および外
周部に外部接続用電極パッド16が設けてあり、両パッ
ド間をボンディングワイヤ1Tによって接続しである。
第1図の実施例においても、両接続部14A、14B間
を接続する引出し電極14は、極力薄く形成してセンサ
特性への影響を小さくしていたが、本実施例ではボンデ
ィングワイヤ1Tによシ、厚肉部11Aには全く触れず
に両パッド15.16間を接続することができ、その間
の影響を皆無とすることができる。接続すべき電極パッ
ドの配置がらまシ高密度でない限シは、安価でもあシ、
有利である。
第3図は、本発明の第3の実施例を示す断面図である。
本実施例では、ピエゾ抵抗素子自体を延長する代シに、
ピエゾ抵抗素子12は従来同様に薄肉ダイアプラム部1
1Bに設けておき、これに連続する拡散領域からなる引
出し層18を厚肉部11Aまで延在させている。
本実施例の場合、第1および第2の実施例に比較して、
ピエゾ抵抗素子12の他に引出し層18を形成するため
に2重の拡散プロセスが必要となるが、引出しff11
8を高不純物濃度とすることによシその抵抗値を、例え
ばピエゾ抵抗素子12の1/100に低くし、ゲインを
上げることができる。
第4図は本発明の第4の実施例を示す断面図である。本
実施例は、引出し層18を用いてゲインの増大をはかる
とと本に、内部接続用電極・くラド15と外部接続用電
極パッド16との間をボンディングワイヤ17で接続し
てその間のセンサ特性に与える影響を皆無としている。
上述した各実施例において、各内部接続部14Aまたは
内部接続用電極パッド15は、外部接続部14Biたは
内部接続用電極パッド16に接続されると同様に、必要
に応じ、第5図に示すように相互に接続される。
第5図は、本発明の第5の実施例を示す平面図であるが
、内部接続部14Aは、それより薄いA/=からなる引
出し電極14により外部接続部14Bに接続されるとと
もに、目標のktからなる接続電極19により相互に接
続されている。また、外部接続部14Aはボンディング
ワイヤ20により外部回路に接続される。もちろん、接
続電極19の代りに、ボンディングワイヤを用いてもよ
いことはいうまでもない。なお、第5図では、ノくツシ
ベーション膜は省略しである。
以上5周部を厚肉部とし、中央部に薄肉ダイアフラム部
を設けたいわゆるC形の半導体単結晶基板を用いた場合
について説明したが、本発明はこれに限定されるもので
はない。例えば第6図に示すように、外周部および中央
部を厚肉部とし、その間に環状の薄肉ダイアプラム部を
形成したいわゆるE形の基板、あるいは上記薄肉ダイア
フラム部にさらに突起(厚肉部)を設けたものなどにお
いても同様に適用できる。
第7図はE形の半導体単結晶基板11を用いた例で、薄
肉ダイアフラム部11Bに形成したピエゾ抵抗素子12
から、低抵抗の拡散領域からなる引出し層18を厚肉部
11A、11Cまで延在させ、そこで内部接続用電極パ
ッド15に接続している。
内部接続用電極パッド15と外部接続用電極パッド16
とは、ボンディングワイヤ17によシ接続しているみな
お、薄肉ダイアフラム部21B内部でのピエゾ抵抗素子
12相互間の接続は、引出し層18と同様の低抵抗の拡
散領域からなる接続層21により行なっている。なお、
この第7図も、パッシベーション膜は省略して示しであ
る。
各実施例の半導体単結晶基板11は、外周部の厚肉部1
1Aにおいて、ピエゾ抵抗素子12を形成した側と反対
側の主表面で、圧力導入口を備えた台座状の支持部材に
固定され、さらに、ヘッダ内に実装される。
第8図は、この実施例を示す断面図である。31は、半
導体単結晶基板11に熱膨張係数の近いガラスチューブ
からなる支持部材でオシ、圧力導入口31Aを備えてい
る。この支持部材31は、底部にリードピン32を気密
に貫通させたヘッダ33の内部に固定され、半導体単結
晶基板11内部のピエゾ抵抗素子12に接続されたボン
ディングワイヤ20は、端子板34表面のメタライズ膜
を介してリードビン32に電気的に接続されている。
35は絶縁性のスペーサ、36は圧力導入口36Aを備
えたキャップである。
なお、半導体単結晶基板11は、シリコンチップに限定
されるものではなく、例えば、いわゆるSO8構造の基
板を用いてもよい。つまシ、サファイア、スピネルある
いは単結晶セラミックのような絶縁性の結晶基板上にシ
リコン、ゲルマニウム等の半導体単結晶層を成長させた
ものでもよい。
シリコンチップを用い、pn接合で分離をはかったもの
に比較して、SO8構造を用いたものは、アイソレーシ
ョンが良好で、高温での使用が可能となる。その結果、
耐熱性が150℃程度から200℃程度に向上し、使用
温度範囲の上限を100〜120℃から150〜160
℃まで引上げることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、ピエゾ抵抗素子
またはピエゾ抵抗素子に連続して半導体単結晶基板に形
成された導電性層を、厚肉部まで延長して内部接続用電
極部に接続し、薄肉ダイアプラム部には当該接続部を設
けないようにしたことにより、また、上記内部接続用電
極部相互間および当該内部接続用電極部と外部接続用電
極部との間を、ボンディングワイヤまたは各接続用電極
部よシ薄い導電性膜で接続し、厚肉部上の異物質も極力
排除するようにしたことにより、ヒステリシスを低減す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す概略断面図、第2図な
いし第4図はそれぞれ本発明の他の実施例を示す概略断
面図、第5図は同じく本発明の実施例を示す平面図、第
6図は半導体単結晶基板の他の構成例を示す断面図、第
7図は本発明の他の実施例を示す平面図、第8図は半導
体単結晶基板の実装例を示す断面図、第9図および第1
0図はそれぞれ従来例を示す概略断面図である。 11・・−・半導体単結晶基板、11A、11C・・・
・厚肉部、11B・・・曖薄肉ダイアフラム部、12・
・・φピエゾ抵抗素子、14・・・・引出し電極、14
A・・・・外部接続部、14B−・・・内部接続部、1
5・・・・内部接続用電極パッド、16・・・・外部接
続用電極パッド、17・・・・ボンディングワイヤ、1
8・・・・引出し層、19・拳・・接続電極。 第9図       Pl ↓

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 厚肉部と薄肉ダイアフラム部とを備えた半導体単結晶基
    板の、上記薄肉ダイアフラム部にピエゾ抵抗素子を形成
    するとともに、当該ピエゾ抵抗素子または当該ピエゾ抵
    抗素子に連続して上記半導体単結晶基板に形成された導
    電性層を、厚肉部まで延長して当該厚肉部上に形成され
    た内部接続用電極部に接続し、かつこの内部接続用電極
    部相互間および当該内部接続用電極部と厚肉部上に形成
    された外部接続用電極部との間を、ボンディングワイヤ
    または各接続用電極部より薄い導電性膜で接続してなる
    半導体圧力変換器。
JP17773686A 1986-07-30 1986-07-30 半導体圧力変換器 Pending JPS6336581A (ja)

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