JPS6334868B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6334868B2 JPS6334868B2 JP6641579A JP6641579A JPS6334868B2 JP S6334868 B2 JPS6334868 B2 JP S6334868B2 JP 6641579 A JP6641579 A JP 6641579A JP 6641579 A JP6641579 A JP 6641579A JP S6334868 B2 JPS6334868 B2 JP S6334868B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- group
- lower alkyl
- alkyl group
- derivative
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- NPRXQXFTKCBAAY-UHFFFAOYSA-N 4-benzoylpyrazole Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)C=1C=NNC=1 NPRXQXFTKCBAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 6
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims description 6
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 claims description 4
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 2
- XMSHRLOQLUNKSN-UHFFFAOYSA-N destosyl pyrazolate Chemical group CC1=NN(C)C(O)=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl XMSHRLOQLUNKSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 2
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical class O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 2
- VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N carbodiimide group Chemical group N=C=N VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- ATCRIUVQKHMXSH-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl ATCRIUVQKHMXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 Nitrogen-containing aromatic quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N carbonyldiimidazole Chemical compound C1=CN=CN1C(=O)N1C=CN=C1 PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MKRTXPORKIRPDG-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl azide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(=O)(N=[N+]=[N-])C1=CC=CC=C1 MKRTXPORKIRPDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007867 post-reaction treatment Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- BDNKZNFMNDZQMI-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisopropylcarbodiimide Chemical compound CC(C)N=C=NC(C)C BDNKZNFMNDZQMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEOCVKWBUWKBKA-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl CEOCVKWBUWKBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1Cl IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBULRRSICCGRJV-UHFFFAOYSA-N 4,5-dimethylpyrazol-3-one Chemical compound CC1=C(C)C(=O)N=N1 MBULRRSICCGRJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQSVQGKUUBJKKO-UHFFFAOYSA-N 4-(2-chlorobenzoyl)-2,5-dimethyl-1h-pyrazol-3-one Chemical compound N1N(C)C(=O)C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)Cl)=C1C QQSVQGKUUBJKKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGIJSFNBEUBMGB-UHFFFAOYSA-N 4-(cyclohexyliminomethylideneamino)-n,n-diethylcyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N(CC)CC)CCC1N=C=NC1CCCCC1 IGIJSFNBEUBMGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVXMNHYVCLMLDD-UHFFFAOYSA-N 4-methoxynaphthalene-1-carbaldehyde Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=CC=C(C=O)C2=C1 MVXMNHYVCLMLDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSCMAQMRYQUADP-UHFFFAOYSA-N CC1=NN(C)C(O)=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1[N+]([O-])=O Chemical compound CC1=NN(C)C(O)=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1[N+]([O-])=O PSCMAQMRYQUADP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNPOFXIBHOVFFH-UHFFFAOYSA-N N-cyclohexyl-N'-(2-(4-morpholinyl)ethyl)carbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NCCN1CCOCC1 XNPOFXIBHOVFFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 1
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000001912 cyanamides Chemical class 0.000 description 1
- VLNZUSMTOFYNPS-UHFFFAOYSA-N diethylphosphorylformonitrile Chemical compound CCP(=O)(CC)C#N VLNZUSMTOFYNPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- UHAAFJWANJYDIS-UHFFFAOYSA-N n,n'-diethylmethanediimine Chemical compound CCN=C=NCC UHAAFJWANJYDIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N potassium ethoxide Chemical compound [K+].CC[O-] RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- WBQTXTBONIWRGK-UHFFFAOYSA-N sodium;propan-2-olate Chemical compound [Na+].CC(C)[O-] WBQTXTBONIWRGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は
式
（式中、R1は低級アルキル基又は低級アルケ
ニル基を示し、R2は低級アルキル基を示す。Ｘ
はハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、シアノ基、トリフルオロメチル基又はニト
ロ基を示す。ｎは１，２又は３を示し、ｎが２又
は３のときＸは互いに同一でも異なつてもよい）
を有する４―ベンゾイルピラゾール誘導体及びそ
の金属塩の改良製法に関する。
ニル基を示し、R2は低級アルキル基を示す。Ｘ
はハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、シアノ基、トリフルオロメチル基又はニト
ロ基を示す。ｎは１，２又は３を示し、ｎが２又
は３のときＸは互いに同一でも異なつてもよい）
を有する４―ベンゾイルピラゾール誘導体及びそ
の金属塩の改良製法に関する。
上記式（）の４―ベンゾイルピラゾール誘導
体及びその金属塩は除草剤として有用であり、特
開50−126830及び特開51−106738号公報に知られ
ている。そして、これらの化合物を製造する一般
的方法としては、１，３―ジアルキル―５―ピラ
ゾロンとベンゾイルクロライドとを反応させる方
法が知られている。しかしながら、この方法にお
いては４位のＣ―アシル化物と共に５位のＯ―ア
シル化物が副生する。例えば、Ｃ―アシル化物を
得る最もよい条件であるジオキサン中で生石灰の
存在下で反応を行つても、Ｃ―アシル化物の収率
は70〜75％であつて、約15％のＯ―アシル化物を
副生する（Khimiya Geterotsiklicheskikh
SoedineniiNo.６，PP.799−804，1972） さらに、上記文献記載の方法により、１，３―
ジメチル―５―ピラゾロンと２，４―ジクロロベ
ンゾイルクロライドとを反応させた場合は、４位
へのアシル化が進行し難く、かつ多量の２，４―
ジクロロ安息香酸が生成し、目的物の収率は50％
以下であつた。
体及びその金属塩は除草剤として有用であり、特
開50−126830及び特開51−106738号公報に知られ
ている。そして、これらの化合物を製造する一般
的方法としては、１，３―ジアルキル―５―ピラ
ゾロンとベンゾイルクロライドとを反応させる方
法が知られている。しかしながら、この方法にお
いては４位のＣ―アシル化物と共に５位のＯ―ア
シル化物が副生する。例えば、Ｃ―アシル化物を
得る最もよい条件であるジオキサン中で生石灰の
存在下で反応を行つても、Ｃ―アシル化物の収率
は70〜75％であつて、約15％のＯ―アシル化物を
副生する（Khimiya Geterotsiklicheskikh
SoedineniiNo.６，PP.799−804，1972） さらに、上記文献記載の方法により、１，３―
ジメチル―５―ピラゾロンと２，４―ジクロロベ
ンゾイルクロライドとを反応させた場合は、４位
へのアシル化が進行し難く、かつ多量の２，４―
ジクロロ安息香酸が生成し、目的物の収率は50％
以下であつた。
そこで、本発明者等は収率よく式（）の化合
物を得る方法を研究し、ベンゾイルクロライドを
用いることなく、遊難の安息香酸を使用して４位
をＣ―アシル化する方法を見い出し、高収率で目
的物を得ることに成功した。
物を得る方法を研究し、ベンゾイルクロライドを
用いることなく、遊難の安息香酸を使用して４位
をＣ―アシル化する方法を見い出し、高収率で目
的物を得ることに成功した。
本発明の方法によれば、前記式（）を有する
４―ベンゾイルピラゾール誘導体及びその金属
塩、とくに１，３―ジメチル―４―（２，４―ジ
クロロベンゾイル）―５―ヒドロキシピラゾール
は次のようにして製造することができる。
４―ベンゾイルピラゾール誘導体及びその金属
塩、とくに１，３―ジメチル―４―（２，４―ジ
クロロベンゾイル）―５―ヒドロキシピラゾール
は次のようにして製造することができる。
即ち、
式
（式中R1及びR2は前述したものと同意義を示
す）を有するピラゾロン誘導体と、 式 （式中Ｘ及びｎは前述したものと同意義を示
す）を有する安息香酸とを、有機脱水縮合剤及び
アルカリ金属の塩基性塩又はアルカリ土類金属の
水酸化物もしくは塩基性塩の存在下で反応させる
ことによつて得ることができる。
す）を有するピラゾロン誘導体と、 式 （式中Ｘ及びｎは前述したものと同意義を示
す）を有する安息香酸とを、有機脱水縮合剤及び
アルカリ金属の塩基性塩又はアルカリ土類金属の
水酸化物もしくは塩基性塩の存在下で反応させる
ことによつて得ることができる。
ここに、脱水縮合剤は分子間より脱水により縮
合させる有機試薬であり、例えば、Ｎ，N′―ジ
シクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ―シクロヘキ
シル―N′―モルホリノエチルカルボジイミド、
Ｎ―シクロヘキシル―N′―（４―ジエチルアミ
ノシクロヘキシル）カルボジイミド、Ｎ，N′―
ジエチルカルボジイミド、Ｎ，N′―ジイソプロ
ピルカルボジイミドのようなカルボジイミド類；
１―メチル―２―ハロゲノピリジニウム塩のよう
な含窒素芳香族四級アンモニウム塩類；Ｎ，
N′―カルボニルジイミダゾール；ジエチルホス
ホリルシアニド；ジフエニルホスホリルアジド；
トリフエニルホスフイン―ジフエニルジスルフイ
ド混合物などが使用できるが、とくにカルボジイ
ミド類が好適である。これらの脱水縮合剤は通常
原料と等モルが用いられる。
合させる有機試薬であり、例えば、Ｎ，N′―ジ
シクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ―シクロヘキ
シル―N′―モルホリノエチルカルボジイミド、
Ｎ―シクロヘキシル―N′―（４―ジエチルアミ
ノシクロヘキシル）カルボジイミド、Ｎ，N′―
ジエチルカルボジイミド、Ｎ，N′―ジイソプロ
ピルカルボジイミドのようなカルボジイミド類；
１―メチル―２―ハロゲノピリジニウム塩のよう
な含窒素芳香族四級アンモニウム塩類；Ｎ，
N′―カルボニルジイミダゾール；ジエチルホス
ホリルシアニド；ジフエニルホスホリルアジド；
トリフエニルホスフイン―ジフエニルジスルフイ
ド混合物などが使用できるが、とくにカルボジイ
ミド類が好適である。これらの脱水縮合剤は通常
原料と等モルが用いられる。
塩基性塩としては、例えば炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムのような炭酸塩；カルシウムシアナミ
ドのようなシアナミド類；ナトリウムメトキシ
ド、カリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポ
キシド、カリウム第三ブトキシドのようなアルコ
キシドがあげられるが、反応溶剤中でこれらの塩
基性塩類が形成されるような系を用いてもよい。
また、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムの
ようなアルカリ土類金属の水酸化物も用いること
もできる。これらの塩類は通常原料の1/2モルな
いし等モルが用いられる。
酸カリウムのような炭酸塩；カルシウムシアナミ
ドのようなシアナミド類；ナトリウムメトキシ
ド、カリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポ
キシド、カリウム第三ブトキシドのようなアルコ
キシドがあげられるが、反応溶剤中でこれらの塩
基性塩類が形成されるような系を用いてもよい。
また、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムの
ようなアルカリ土類金属の水酸化物も用いること
もできる。これらの塩類は通常原料の1/2モルな
いし等モルが用いられる。
反応は不活性溶剤中で行われ、例えば、イソプ
ロパノール、第三プタノールのような低級アルコ
ール類；メチルエチルケトン、ジエチルケトンの
ようなケトン類；アセトニトリル、プロピオニト
リルのようなニトリル類があげられ、とくに低級
アルコール類が好適に使用される。溶媒は原料の
５倍ないし10倍モルが用いられ、反応温度は40〜
120℃、好ましくは50〜70℃で、通常30分ないし
２時間反応させる。
ロパノール、第三プタノールのような低級アルコ
ール類；メチルエチルケトン、ジエチルケトンの
ようなケトン類；アセトニトリル、プロピオニト
リルのようなニトリル類があげられ、とくに低級
アルコール類が好適に使用される。溶媒は原料の
５倍ないし10倍モルが用いられ、反応温度は40〜
120℃、好ましくは50〜70℃で、通常30分ないし
２時間反応させる。
反応終了後、目的化合物は常法により反応混合
物から採取される。例えば、反応終了後、反応混
合物より溶剤を留去することによつて反応系に使
用したアルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩と
して得られる。得られた塩類は通常酸を加えてPH
３以下に調整することにより目的物を遊離の形で
単離することができる。このものは再結晶等によ
つて精製して純品を得る。
物から採取される。例えば、反応終了後、反応混
合物より溶剤を留去することによつて反応系に使
用したアルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩と
して得られる。得られた塩類は通常酸を加えてPH
３以下に調整することにより目的物を遊離の形で
単離することができる。このものは再結晶等によ
つて精製して純品を得る。
実施例 １
１，３―ジメチル―４―（２，４―ジクロロベ
ンゾイル）―５―ヒドロキシピラゾール １，３―ジメチル―５―ピラゾロン（112mg）
をtert―ブタノール（２ml）に溶解後、２，４
―ジクロル安息香酸（179mg）、１，３―ジシク
ロヘキシルカルボジイミド（206mg）、炭酸カリ
ウム（70mg）を加え、60−65℃にて1.5時間撹
拌した。溶剤を減圧留去し、得られた残留物を
クロロホルムで洗滌すると、粗製の目的物のカ
リウム塩が得られた。これに水（10ml）を加え
た後、不溶物を去した。液を塩酸々性とし
た後、エーテル抽出した。乾燥（無水硫酸ナト
リウム）後、溶剤を留去すると、粗結晶の目的
化合物が得られた。これをクロロホルムから再
結晶すると、融点165−166℃を有する無色板状
晶の目的物231mg（収率81.8％）を得た。
ンゾイル）―５―ヒドロキシピラゾール １，３―ジメチル―５―ピラゾロン（112mg）
をtert―ブタノール（２ml）に溶解後、２，４
―ジクロル安息香酸（179mg）、１，３―ジシク
ロヘキシルカルボジイミド（206mg）、炭酸カリ
ウム（70mg）を加え、60−65℃にて1.5時間撹
拌した。溶剤を減圧留去し、得られた残留物を
クロロホルムで洗滌すると、粗製の目的物のカ
リウム塩が得られた。これに水（10ml）を加え
た後、不溶物を去した。液を塩酸々性とし
た後、エーテル抽出した。乾燥（無水硫酸ナト
リウム）後、溶剤を留去すると、粗結晶の目的
化合物が得られた。これをクロロホルムから再
結晶すると、融点165−166℃を有する無色板状
晶の目的物231mg（収率81.8％）を得た。
元素分析値（％） C12H10Cl2N2O2として
計算値 Ｃ，50.53；Ｈ，3.51；Ｎ，9.82；
Cl，24.91
実測値 Ｃ，50.25；Ｈ，3.38；Ｎ，9.46；
Cl，24.74
実施例１のにおいて１，３―ジシクロヘキ
シルカルボジイミド（206mg）を使用する代り
にジフエニルホスホリルアジド（227mg）を使
用する以外は実施例１のと同様に反応を行な
い反応後の処理をすると目的化合物を78.9％の
収率で得た。
シルカルボジイミド（206mg）を使用する代り
にジフエニルホスホリルアジド（227mg）を使
用する以外は実施例１のと同様に反応を行な
い反応後の処理をすると目的化合物を78.9％の
収率で得た。
実施例１のにおいて１，３―ジシクロヘキ
シルカルボジイミド（206mg）を使用する代り
に、トリフエニルホスフイン（262mg）―ジフ
エニルジスルフイド（141mg）を使用する以外
は、実施例１のと同様に反応を行ない反応後
の処理をすると目的化合物を78.6％の収率で得
た。
シルカルボジイミド（206mg）を使用する代り
に、トリフエニルホスフイン（262mg）―ジフ
エニルジスルフイド（141mg）を使用する以外
は、実施例１のと同様に反応を行ない反応後
の処理をすると目的化合物を78.6％の収率で得
た。
実施例 ２
１，３―ジメチル―４―（４―メチルベンゾイ
ル）―５―ヒドロキシピラゾール １，３―ジメチル―５―ピラゾロン（112mg），
４―メチル安息香酸（136mg）、１，３―ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（206mg）、炭酸カリウム
（70mg）をイソプロパノール中、60℃にて２時間
反応後、実施例１のと同様に後処理をすると、
融点114〜116℃を有する淡黄色プリズム状晶の目
的化合物166mg（72.4％）を得た。
ル）―５―ヒドロキシピラゾール １，３―ジメチル―５―ピラゾロン（112mg），
４―メチル安息香酸（136mg）、１，３―ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（206mg）、炭酸カリウム
（70mg）をイソプロパノール中、60℃にて２時間
反応後、実施例１のと同様に後処理をすると、
融点114〜116℃を有する淡黄色プリズム状晶の目
的化合物166mg（72.4％）を得た。
元素分析値（％） C13H14N2O2として
計算値 Ｃ，67.81；Ｈ，6.28；Ｎ，12.17
実測値 Ｃ，67.61；Ｈ，6.18；Ｎ，12.28
実施例 ３
１，３―ジメチル―４―（２―クロルベンゾイ
ル）―５―ヒドロキシピラゾール 実施例１のにおいて２，４―ジクロロ安息香
酸（179mg）に代りに２―クロル安息香酸（157
mg）を使用し、以下同様に処理すると融点154−
155℃を有する目的化合物174mg（69.5％）を得
た。
ル）―５―ヒドロキシピラゾール 実施例１のにおいて２，４―ジクロロ安息香
酸（179mg）に代りに２―クロル安息香酸（157
mg）を使用し、以下同様に処理すると融点154−
155℃を有する目的化合物174mg（69.5％）を得
た。
元素分析値（％） C12H10N2O2Cl
計算値 Ｃ，57.72；Ｈ，4.01；Ｎ，11.22；
Cl，14.23
実測値 Ｃ，57.68；Ｈ，4.00；Ｎ，11.25；
Cl，4.28
実施例 ４
１，３―ジメチル―４―（２―ニトロ―４―ク
ロルベンゾイル）―５―ヒドロキシピラゾール 実施例１のにおいて２，４―ジクロロ安息香
酸（179mg）の代りに２―ニトロ―４―クロル安
息香酸（202mg）を使用し、以下同様に処理する
と融点223−224℃を有する淡黄色結晶の目的化合
物202mg（68.4％）を得た。
ロルベンゾイル）―５―ヒドロキシピラゾール 実施例１のにおいて２，４―ジクロロ安息香
酸（179mg）の代りに２―ニトロ―４―クロル安
息香酸（202mg）を使用し、以下同様に処理する
と融点223−224℃を有する淡黄色結晶の目的化合
物202mg（68.4％）を得た。
元素分析値（％） C12H10N3O4Clとして
計算値：Ｃ，48.75；Ｈ，3.41；Ｎ，14.21；
Cl，11.99
実測値 Ｃ，48.88；Ｈ，3.51；Ｎ，14.22；
Cl，11.90。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 （式中、R1は低級アルキル基又は低級アルケ
ニル基を示し、R2は低級アルキル基を示す。Ｘ
はハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、シアノ基、トリフルオロメチル基又はニト
ロ基を示す。ｎは１，２又は３を示し、ｎが２又
は３のときＸは互いに同一でも異なつてもよい。）
を有する４―ベンゾイルピラゾール誘導体及びそ
の金属塩の製造に際し、 式 （式中、R1及びR2は前述したものと同意義を
示す）を有するピラゾロン誘導体と、 式 （式中Ｘ及びｎは前述したものと同意義を示
す）を有する安息香酸とを、有機脱水縮合剤及び
アルカリ金属の塩基性塩又はアルカリ土類金属の
水酸化物もしくは塩基性塩の存在下で反応させる
ことを特徴とする４―ベンゾイルピラゾール誘導
体及びその金属塩の製造法。 ２ ４―ベンゾイルピラゾール誘導体が１，３―
ジメチル―４―（２，４―ジクロロベンゾイル）
―５―ヒドロキシピラゾールである特許請求の範
囲第１項記載の方法。 ３ 有機脱水縮合剤がカルボジイミド類である特
許請求の範囲第１項又は第２項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6641579A JPS55160765A (en) | 1979-05-29 | 1979-05-29 | Preparation of 4-benzoylpyrazole |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6641579A JPS55160765A (en) | 1979-05-29 | 1979-05-29 | Preparation of 4-benzoylpyrazole |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55160765A JPS55160765A (en) | 1980-12-13 |
| JPS6334868B2 true JPS6334868B2 (ja) | 1988-07-12 |
Family
ID=13315133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6641579A Granted JPS55160765A (en) | 1979-05-29 | 1979-05-29 | Preparation of 4-benzoylpyrazole |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55160765A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02158440A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-18 | Honda Electron Co Ltd | 自動車塔載装置の駆動装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4816815B2 (ja) * | 2009-10-30 | 2011-11-16 | 新東工業株式会社 | 多角柱状部材の研磨装置およびその研磨方法 |
-
1979
- 1979-05-29 JP JP6641579A patent/JPS55160765A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02158440A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-18 | Honda Electron Co Ltd | 自動車塔載装置の駆動装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55160765A (en) | 1980-12-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6053027B2 (ja) | テトラゾ−ル誘導体 | |
| JPS60231645A (ja) | Ｏ―置換オキシム化合物の合成方法および相当ヒドロキシルアミンｏ―置換化合物への転化方法 | |
| JPS6126538B2 (ja) | ||
| US4070536A (en) | Process for the preparation of 4-benzoylpyrazole derivatives | |
| JPS6334868B2 (ja) | ||
| EP0453731A2 (en) | Improved process for the synthesis of N-3-(1H-imidazol-1-yl)phenyl-4-(substituted)-2-pyrimidinamines | |
| AU2006240772B2 (en) | Method for producing nicotinic acid derivative or salt thereof | |
| JPH09500632A (ja) | 置換４，６−ジアミノ−５−シアノピリミジン類の製造方法 | |
| JP2587336B2 (ja) | 塩酸ベバントロールの製造方法 | |
| US5633387A (en) | Process for producing 1-(2-chlorophenyl)-5(4H)-tetrazolinone | |
| US4515958A (en) | Process for preparing 1-alkyl-5-mercaptotetrazoles | |
| US3951995A (en) | Method for industrial production of N-substituted dipropylacetamides | |
| JP2717842B2 (ja) | アミノカルボニル置換ピリジンスルフィン酸又はその塩 | |
| KR890002250B1 (ko) | 트리아진유도체의 새로운 제조방법 | |
| JPS6134424B2 (ja) | ||
| JP4675234B2 (ja) | 光学活性なキノロンカルボン酸誘導体の製造中間体およびその製造法 | |
| SU1657496A1 (ru) | Способ получени амида 4-гидроксихинолон-2-карбоновой-3-кислоты | |
| JPH06100539A (ja) | 置換ピリジニルスルホニルカーバメートの製造方法 | |
| JPS6334869B2 (ja) | ||
| SU471713A3 (ru) | Способ получени -/аминофенил/алифатических производных карбоновых кислот или их солей,или их -окисей | |
| SU523090A1 (ru) | Способ получени производных хиназолина | |
| WO2003057680A1 (fr) | Procede de production de 2-cyanoimino-1,3-thiazolidine | |
| JP3388046B2 (ja) | チエニルエーテル誘導体の製造方法 | |
| JP2767295B2 (ja) | インドール―３―カルボニトリル化合物の製造方法 | |
| KR810000802B1 (ko) | 4-벤조일피라졸 유도체 및 그의 금속염의 제조방법 |