JPS63315935A - 異物検査除去装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は被検査部材表面に付着する異物を検出除去する
異物検出除去装置に係り、特に半導体製造のためのフォ
トエツチングプロセスに用いられるフォトマスクやレテ
ィクル、あるいは液晶や光ディスクの基板製造時におけ
る微小異物の検出除去に好適な異物検出除去装置に関す
る。

〔従来の技術〕

被検査部材の表面に付着した異物を検出し除去する手段
としては、従来から種々の提案がなされている。例えば
特開昭５６−１５０８２７号公報に記載されたように、
平面状表面に付着した異物を検出する検査部と、検出さ
れた異物を除去する洗浄部とにより構成された装置が公
知である。このＶｉａは第４図及び第５図に示すように
、被検査部材１を検査台２上に載Ｉ固定し、この査検査
部材１の表面を光源３からの光で照射して目視による異
常を検出し、検出された異物４に対しノズル５を直上に
置き、Ｎ２ガス６の噴出と吸引排気７とにより非接触で
異物４を除去するようにしたものである。

また特開昭５９−８２７２７号公報に記載されたように
、目視困難な微小微量の異物の検出位置座標を所定の位
置に呼び出すことのできる装置も公知である。さらにま
た米国特許第４，０２８，１３５号公報に記載されたよ
うに、短波長紫外線の光化学作用で有機物を除去する方
法や、特開昭６０−２４０１２８号公報に記載されたよ
うに、前記紫外線の他に赤外線を併用して、この赤外線
の作用による昇温と原子間振動の励起による酸化反応の
促進効果によって有機物を除去する方法も公知である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら上記特開昭５り　−８２７２７号公報によ
る提案によると、極微小の異物の目視検出は困難であり
、かつ降下した塵埃などはＮ２ガスの吹付けで除去でき
るが、レジストの残滓のように貼り付いた異物の除去は
困難であるという問題があった。また上記の他の従来技
術によっても選択的に局部洗浄を有効に行うことが十分
にできず、また短波長紫外線などが周辺にもれて人体や
内部代理に対し悪影響を及ぼすなどの問題もあった。

本発明の目的は、目視検出が困難な微量有機物を確実に
検出し、かつ周辺に悪影響を及ぼすことなく選択的に有
効に除去することのできる異物検出除去装置を提供する
ことにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は上記目的を達成するために、被検査部材を移動
台上に載置してその平面状表面に付着する異物の有無を
検出し、該異物の座標位置を異物除去位置に呼び出し、
短波長紫外線と赤外線を照射して該異物を除去する異物
検査除去装置において、前記移動台を案内するステージ
に沿って、前記被検査部材を該移動台上に載置するロー
ディング手段と、該被検査部材上の異物の有無及び位置
座標を検出する異物検出手段と、該異物検出手段によっ
て検出された異物を顕微鏡で観察し異常の判定を行うＭ
察手段と、該観察手段によって異常と判定された異物短
波長紫外線及び赤外線で照射する照射ヘッドと該照射に
よって発生したオゾンガス及びシールドガスの吸排気を
行う吸排気孔とが設けられた洗浄手段と、をそれぞれ配
設するとともに、前記各段を制御する制御装置を設けた
ものである。

〔作用〕

上記の構成によると、目視で検出困難な微量異物の検出
も顕微鏡を用いることにより容易に検出でき、この検出
位置座標を制御装置により洗浄位置に呼び出すことがで
きる。また短波長紫外線と赤外線を前記洗浄位置に局部
的に照射することができ、しかもシールドガスで洗浄位
置が遮蔽されているので、人体や周辺機器に有害なオゾ
ンと紫外線の外部の漏洩を最小限に止めることができる
。

〔実施例〕

以下１本発明の係る異物検出除去装置の一実施例を図面
を参照して説明する。

第１図及至第３図の本発明の一実施例を示す。

異物検査除去装置８は第２図に示すように装置本体９と
制御装置１０とにより構成されている。装置本体９は第
１図に示すように移動台１１を装着して矢印ｘ−Ｘ方向
に案内するステージ１２と、このステージ１２に沿って
設けられたローディングステーションＰｔ　、洗浄ステ
ーションｐ２．ｌｏｔ察ステーションＰ３及び異物検出
ステーションＰ４とよりなっている。なお第１図では説
明を理解しやすくするために各ステーション毎に移・助
合１１を図示しているが、実装置では移動台１１は１台
であり、ステージ１２上を矢印Ｘ−Ｘ方向に摺動する下
部台１１ａと、この下部台１１ａ上を矢印Ｙ−Ｙ方向に
摺動する上部台１１ｂとからなっている。そして上部台
１１ｂ上にケース１３から取出された被検査部材１が載
置固定されている。

洗浄ステーションＰ２には第３図に示すような洗浄装置
１４が設けられているにの洗浄装置１４はスタンド１５
に支持された洗浄ヘッド１６と、オゾン発生器１７．紫
外線発生器１８．赤外線発生器１９．吸引排気装置２０
及びシールドガス供給器２１とからなっている。この洗
浄ヘッド１６にはオゾン発生器１７に接続されたノズル
２２、紫外線発生器１８及び赤外線発生器１９に光ファ
イバ２３を介して接続された照射ヘッド２４、吸排気装
置２０に接続された吸排気孔２５及びシールドガス供給
器２１に接続されたシールドガス排気孔２６がそれぞれ
設れられている。そしてこの洗浄ヘッド１６と被検査部
材１との間には適当な間隙が形成されている。

前記観察ステーションＰ３には顕微鏡２７が設けられて
おり、異物検出ステーションＰ４には被検査部材１を照
明する光源３、反射光を受光して被検査部材１上の異状
を検出する検出器２８及び光ｔＡ３からの光をスキャン
走査する走査装置ｉ！１（図示せず）が設けられている
。

次に本実施例の作用を説明する。ローディングステーシ
ョンＰＩにおいて、被検査部材１が収納されたケース１
３をセットすると、図示せぬ装着機構によってケース１
３から被検査部材１が取出されて移動台１１上に載置固
定される。ローディングされた被検査部材１はステージ
１２を移動して異物検出ステーションＰ４に至り、移動
台１１のＸ−Ｙ方向の移動により光源３からの入射光が
被検査部材１上を照明できる位置に停止する。この異物
検出ステーションＰ４において、レーザによる検出照明
のビームをスキャン走査し、異常光を検出器２８で受光
して異物の有無を検査する。

このとき異常個所の位置座標は制御装置１０に取り込ま
れ、各種データの出力がなされるとともに、洗浄ステー
ションＰｚ及びｍ察ステーションＰ８における位置設定
が数μＩオーダの位置精度で呼び出しが可能になる。そ
してＨＦ３ステーシヨンＰ３において顕微鏡２７により
異常個所の判定を行う。この判定により洗浄が必要と判
定された場合は、被検査部材１を洗浄ステーションＰ２
に送り洗浄を行う。このとき洗浄ヘッド１６の外周部は
シールドガス排気孔２６から吹き出されるＮ２ガスまた
はドライエアなどのシールドガス２９によって、外部と
の非接触遮蔽が行われる。この状態で光ファイバ２３を
介してノズル２４から短波長紫外線（１８４，９ｎｍお
よび２５３．７ｒ＋ｎ＋の波長）と赤外線（少なくとも
２，５ｎｍから４０ｎｍの波長のものを含む）を照射し
、かつノズル２２からオゾンガス３０を供給する。この
とき被検査部材１上に付着した異物４に短波長紫外線が
照射されることにより、一連の光化学反応プロセス、す
なわち化学結合切断、オゾンの生成、励起酸素原子の生
成。

有機物の酸化分解により有機異物４がＣＯＺやＨ２０な
どとして揮発し、被検査部材１の表面がドライ洗浄され
る。

このとき赤外線の照射は表面微量異物４が赤外線を吸収
して昇温するとともに、有機物分子間振動や分子内の原
子間振動を励起して光学反応を促進させる。またオゾン
ガスの供給は上記した紫外の照射によるオゾン生成作用
が局部照射のために不足するような洗浄条件のときに、
酸素ガスをキャリアにして補足的に供給する。また上記
の短波長紫外線とオゾンは人体に有害なばかりでなく、
異物検査除去装置本体９の内部機器に対しても悪影響を
及ぼすので、洗浄ヘッド１６を極力小形にし、シールド
エリアを極小化しである。さらに内部雰囲気ガスは吸排
気孔２５を介して吸引排気装置２０により排気されるの
で、上記悪影響はさらに少なくなる。そして必要に応じ
て局部洗浄後再度被検査部材１を観察ステーションＰ３
に戻して洗浄効果を確認することもできる。

本実施例によれば、目視検出困難な微量有機異物４を装
置本体９内にセツトシたまま、異物４の検出と除去が容
易にでき、しかも内部雰囲気ガスがジ−ドルガス２９に
よりシールドされ吸引排気装置２０により排気されるの
で、被検査部材１及び′！Ａ置本棒本体９部機器が再汚
染されることを防止することができる。

〔発明の効果〕

上述したように本発明によれば、異物検査除去装置にロ
ーディング手段、異物検出手段、観察手段及び洗浄手段
を設けて、移動台上に載置された被検査部材を順次各手
段の位置に移動して異物の検出、観察、洗浄を行うよう
にし、しかも内部雰囲気が外部に漏洩しないようにした
ので、目視検出が困難な微量有機物の異物を確実に検出
し、かつ周辺に悪影響を及ぼすことなく選択的に有効に
除去することができ、被検査部材を能率的にかつ迅速に
検査洗浄することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る異物検査除去装置の一実施例の装
置本体内の要部を示す斜視図、第２図は本実施例による
装置全体を示す斜視図、第３図は第１図の洗浄装置を示
す一部断面側面図、第４図は従来の異物検査除去装置を
示す斜視図、第５図は第４図のノズルを示す縦断面図で
ある。 １・・被検査部材、３・・・光源（照明部材）、４・・
・異物、８　異物検出除去装置、９・・・装置本体、１
０・・・制御装置、１１・・・移動台、１２・・ステー
ジ、１４・・・洗浄装置、１６・・・洗浄ヘッド、２４
・・・照射ヘッド、２５・・・吸排気孔、２７・顕微鏡
、２８　・検出器、２９・・・シールドガス、Ｐｌ・・
・ローティングステーション、Ｐ２・・・洗浄ステーシ
ョン、Ｐ３・・・徊（察ステーション、Ｐ４・・・異物
検出ステーション。 代理人　弁理士　小川勝馬　、・・、 隼　）の Ｖ’４ ネ４り　　　　　　専５Ｉ２１ 埠３目

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、被検査部材を移動台上に載置してその平面状表面に
   付着する異物の有無を検出し、該異物の座標位置を異物
   除去位置に呼び出し、短波長紫外線と赤外線を照射して
   該異物を除去する異物検査除去装置において、前記移動
   台を案内するステージに沿つて前記被検査部材を該移動
   台に載置するローディング手段と、該被検査部材上の異
   物の有無及び位置座標を検出する異物検出手段と、該異
   物検出手段によつて検出された異物を顕微鏡で観察し異
   常の判定を行う観察手段と、該観察手段によつて異常と
   判定された異物を短波長紫外線及び赤外線で照射する照
   射ヘッドと該照射によつて発生したオゾンガス及びシー
   ルドガスの吸排気を行う吸排気孔とが設けられた洗浄手
   段と、をそれぞれ配設するとともに、前記各手段を制御
   する制御装置を設けたことを特徴とする異物検査除去装
   置。 ２、前記異物検出手段はレーザ光による照明部材と、該
   レーザ光を被検査部材上でスキャン走査させる走査部材
   と、異常光を検出する検出器とよりなることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の異物検査除去装置。 ３、前記洗浄手段は被検査部位を被覆する洗浄ヘッドに
   各照射ヘッド及び各ノズルが取付けられ、洗浄ヘッド周
   辺と被検査部材との間はシールドガスによつて遮へいさ
   れてなることを特徴とする特許請求の範囲第１項または
   第２項記載の異物検査除去装置。