JPS63315591A - 単結晶引上制御装置 - Google Patents

単結晶引上制御装置

Info

Publication number
JPS63315591A
JPS63315591A JP14987187A JP14987187A JPS63315591A JP S63315591 A JPS63315591 A JP S63315591A JP 14987187 A JP14987187 A JP 14987187A JP 14987187 A JP14987187 A JP 14987187A JP S63315591 A JPS63315591 A JP S63315591A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
load cell
pulling
value
rotation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14987187A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeru Omori
茂 大森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Fuji Facom Corp
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Fuji Facom Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd, Fuji Facom Corp filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP14987187A priority Critical patent/JPS63315591A/ja
Publication of JPS63315591A publication Critical patent/JPS63315591A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
本発明は単結晶断面径を自動的に一定に制御するために
、単結晶の重さを測定しながら溶融体の加熱電力を制御
し、溶融体から単結晶を成長させつつ引上げる単結晶引
上制御装置に関するもので、特に前記の重さの測定値中
の結晶回転に基づく誤差成分を取除いて、精度のよい単
結晶断面径を得るようにした単結晶引上制御装置に関す
る。 なお以下各図において同一の符号は同一もしくは相当部
分を示す。
【従来の技術】
単結晶引上げ法またはチョクラルスキー法として公知の
結晶成長技術は、物質の単結晶をその物質の溶融体から
引上げるものである。即ちこの溶融体はまずルツボ内の
物質をヒータで加熱してつくられる。次に垂直の引上棒
に取付けられた単一の結晶の種が溶融体中に漬けられ、
それから徐々に引上げられつつ回転される。このとき溶
融体の温度分布と引上速度1回転速度が最適であれば、
単結晶が溶融体から引上げられる。そして溶融体の温度
、引上速度または回転速度を変えると単結品の断面積が
変わる。 単結晶の形状を正確に制御することは極めて望ましいこ
とである。単結晶はその長さ方向に均等な断面を持つこ
とが求められる。これは単結晶を薄切りにして半導体を
作るため、単結晶の体積を最大にできるからである。 引上棒に充分安定な引上速度と回転速度を与えることは
極めて簡単であるが、この条件下での単結晶引上げ中に
常に正しく溶融体の温度を維持することが難しく、種々
な工夫がなされている。 公知の方法では、単結晶成長中、その重さを測定するた
めのロードセルから引上棒を吊下げ、定速度で単結晶を
引上げたとき、その断面積が均等の場合、結晶の重さの
増加は時間(または引上げ長さ)と共に線形に変化する
ことから、ロードセルの出力を線形に増大する標準電圧
と比較し、その差を利用して溶融体加熱用ヒータへの電
力供給補正信号を出力する制御方法、または均等な結晶
断面の場合には一定となる。ロードセル検出値の変化速
度を固定標準電圧と比較し、その差を前記ヒータへの電
力供給補正信号に使用する制御方法が用いられる。 第7図はこのような従来の単結晶引上制御装置の概略図
である。引上げられるべき物質1 (以後溶融体という
)はヒータ3で囲まれたルツボ2内に納められている。 引上げられている結晶4はロードセル6から吊下げられ
た引上棒5の底部に成長させられて付いている。この引
上棒5は引上用モータ7によって軸方向(垂直方向)に
動かされ、かつ回転用モータ8によって回転させられる
。これらモータ7.8の引上速度1回転速度は所望の結
晶断面積に応じて、それぞれ所定の値に決定されてい企
。 溶融体1の温度の制御は、ロードセル6が測定する成長
結晶の重さを、予期される関数と比較して、ヒータ3に
加える電力を制御することで実現している。この電力制
御は制御回路10によって行われ、電力制御装置11、
加熱装置12.ヒータ3により制御ループを構成してい
る。
【発明が解決しようとする問題点】
しかしながら第7図のような単結晶引上制御装置では、
結晶成長を制御する前記ループが、ヒータ3への電力変
動、結晶の成長による溶融体表面の動き、引上げや回転
を与えるために発生するロードセル出力への誤差成分の
含有などのために、不安定であるという問題点がある。 本発明の目的は、ロードセル出力信号に含まれる誤差成
分のうち結晶の回転と共に変化する成分を補償し、単結
晶成長を制御するループを安定させ、より均一な断面径
の単結晶を得ることができる単結晶引上制御装置を提供
することにある。
【問題点を解決するための手段および作用】前記目的を
達成するために本発明の装置は、「ロードセル(6など
)を介し吊下げられた単結晶保持手段(引上棒5など)
を用いて単結晶(4など)を保持し、この単結晶保持手
段を(回転用モータ8などを介し)所定の回転周期で回
転させつつ、(引上用モータ7などを介し)所定の引上
速度で引上げることにより、(ヒータ3.加熱装置12
などを介し)電力によって加熱される溶融体く1など)
から前記単結晶を成長させつつ引上げ、この引上げの間
、(制御回路10.電力制御装置11などを介し)前記
電力を前記ロードセルからの重量検出値(Flなど)に
基づいて制御する単結晶引上制御装置において、 前記単結晶保持手段の回転角を検出する回転角検出手段
(回転角センサ20など)と、前記回転角ごとの前記ロ
ードセルの検出値(Fなど)から、少なくとも前記回転
周期で変化する成分(誤差項ΔFなど)を取除いた値を
前記重量検出値とするロードセル検出値補正手段(補正
回路21など)と、を備えたjものとする。
【実施例】 以下第1図ないし第6図を用いて本発明の詳細な説明す
る。第1図は本発明の一実施例としての基本構成を示す
ブロック図で第7図に対応する。 第2図は同じく第1図中の補正回路の細部構成を示すブ
ロック図、第3図ないし第5図はロードセル検出値に含
まれる誤差項の説明図、第6図は補正値RAM領域の構
成図である。 第1図においては第7図の従来例に対し、新たに引上棒
5および結晶4 (これらは同一の回転軸を中心として
一体に回転している。)の回転角を検出するための回転
角センサ20を設け、さらにロードセル6の回転角に対
応する出力値(ロードセル検出値ともいう)から、回転
が与える誤差項ΔFを算出し、ロードセル6からの検出
イ直Fからこの誤差項ΔFを取除(補正回路21を設け
ている。 ところで単結晶成長中にロードセル6が検出する力、つ
まりロードセル検出値Fは、引上棒5の一定重さWAと
、固体の結晶自体の重さWcと。 溶融体1の表面の動きに基づ(力(βa−βb)と、引
上棒5を回転させることによる応力k(φ)等より成る
。ただし単結晶自体の重さWcには、一定半径rでの成
長に対応する重さWrと、結晶半径の誤差に対応する重
さδWrを含む。 第3図はロードセル6に加わる力を説明するための概念
図であり、Xlはロードセル6の部分の回転軸で便宜上
基軸という、なおこの基軸は垂直方向を向くものとする
。X2は引上棒5および結晶4の回転軸4の回転軸で、
この2軸XI、X2は支点Aで交じっている。なおこの
図では引上棒5と結晶4は括めて重iWとして示されて
いる。 前記の2軸XI、X2は少なくとも軸の回転方向には互
いに拘束されて、一体に回転する。 また同図の実線は両軸XI、X2が一致している場合を
、同しく点線は何等かの理由で両軸XI。 X2が軸傾き角φで交わるような形になった場合をそれ
ぞれ示している。 このように軸Xi、X2が一致しない場合には、第4図
のベクトル図のようにロードセル6には引上棒5および
結晶4の重量を主体とする垂直方向の分力(ロードセル
重量検出値ともいう)Flと、回転軸(XIまたはX2
)の回転角速度ωを基本の角速度として変化する水平方
向の分力F2との合成力F、つまり F−v’己Z +F、!  −・・−・−・・−・−−
−−−・−・・・−・(1)が加わり、ロードセル6は
この方Fを検出することになる。但し、ここで Fl−Wl+(Wr+δWr)+(βa−βb) −1
21F2= k (φ)sin(ωt +θ)    
 −−−−−−−−−−−−−(3)第5図はこのよう
な水平分力F2の時間的変化の例を示している。 従ってこの場合ロードセル6は垂直分力(ロードセル重
量検出値)Flを最小値とし、これに軸XI、X2の回
転角速度ωの2倍の角速度2ωで変化する誤差項の加わ
った力Fを検出することになる。 なお現実のロードセル6の検出値は直流分のほかに軸X
I、X2の回転角速度ωと同じ角速度で変化する誤差項
をも含み、これは溶融体1から結晶4に垂直方向に加わ
る力が何等かの理由で軸回転と共に周期的に変化するた
めとも考えられる。 結果としてロードセル6の検出値(力)Fは、引上棒5
および結晶4の重量を主体とする直流分Fl(ただしこ
の直流分F1は引上棒5の極めてゆるやかな引上速度に
よって、時間と共にゆるやかに直線的に増大する)と、
少なくとも回転輪X1、x2の角速度ωを基本角速度と
する(換言すれば少な(とも回転軸XI、X2の回転周
期で変化する)誤差項ΔFとの和として表わされる。 第1図の補正回路21はロードセル検出値(力)Fから
、このような誤差項ΔFを補正して取り除き、結晶の重
さWcと所定重量との和である直流分くロードセル重量
検出値)Flを求める回路である。次にこの補正回路2
1を第2図を用いて説明する。同図においては前記回転
角センサ20(たとえばアブソリュートエンコーダ等)
の回転角検出出力(回転角センサ出力ともいう)20a
を変換器31を通してデジタル値(回転角データという
)31aに変換する。他方ロードセル6の検出値FをA
/D変換器32を通してデジタル値(ロードセル検出デ
ータという)F“に変換する。ただし回転角センサ20
の出力20aとロードセル6の出力Fとは同期している
必要があるので、同時にサンプリングを行い、MPU3
3によって読出せるように構成している。 MPU33は回転角データ31aとロードセル検出デー
タF“とを、それぞれバッファ34と35とを介して読
込み前記誤差項ΔFに対応するデジタル値(補正値デー
タという)(−ΔF”)を求めて補正値RAM37に各
回転角ごとに書込む。 このために補正値格納用RAM37は少なくとも回転角
センサ20の持つ分解脂分のアドレス領域を持ち、デー
タ長は補正値データ(−ΔF”)の最大予測値骨を持つ
ようにする。またMPU33からデータを書込めると同
時に回転角ごとの補正を行うため回転角データ31aを
レジスタ36を介しアドレスとして補正値RAM37に
与えるようにする。 従って補正値RAM37領域の構成は第6図のようにな
る。 加算器38は前記ロードセル検出データF2と、回転角
データ31aに対応する補正値RAM37の出力(補正
値データ)(−ΔF”)の単純加算を行うためのもので
あり、加算器38の出力はロードセル検出値FのA/D
変換毎に出力レジスタ39にラッチされて、前記直流分
(ロードセル重量検出値)Flのデジタル値としての補
正後出力データF1′が得られる。 以上の構成で次のようにプログラムすることにより回転
に起因する誤差項ΔFを補償することができる。 (11初期化により補正値データ(−ΔF”)をセント
する方式: 装置の稼動前にキャリブレーションを行うもので、回転
角とロードセル出力を測定し、回転角に対応したロード
セル検出値Fから回転角の分解脂分の補正値データΔF
0を算出し、第6図に示すように回転角データ31aに
対応させ、補正値データ(−ΔF”)を補正値RAM3
7領域にセントする。 (この場合回転速度は既知であ
ることから数点のロードセル検出値Fを測定することに
より、補正値データ (−ΔF”)を作成できる。)以
後、動作モードは運転状態に入り、サンプリングタイミ
ングにより、ロードセル検出データF9と、回転角デー
タ31aに対応した補正値データ(−ΔF”)を加算し
、その出力をラッチすることにより常に補正されたロー
ドセルの出力F1についてのデジタル値(補正後出力デ
ータ)F1′を制御回路10に送出することができる。 (2)定周期で補正値データ(−ΔF”)を更新させる
方式: (1)の方式での欠点は運転中に発生する結晶と溶融体
との動きから回転軸中心が経時的にズレることや、同一
回転角に対応する誤差項ΔFの値が変化することに対応
できない事である。従ってMPU33は装置運転中も常
時、回転角とロードセルのデータをデータRAM40に
保持し、補正値データ(−ΔF”)の算出をしておくこ
とにより、定周期で補正値RAM37の更新をさせるも
のである。 以上のような方法をとることによりロードセルにかかる
重さのうち回転速度を与えることに起因する(つまり回
転軸Xi、X2の角速度ωを基本角速度として変化する
)誤差項ΔFを補償してやることが可能となる。 本補正はプログラムによって行うことも可能であるが、
ヒータ3の制御は通常ロードセル検出値の変化分(微分
値)に対して行われることから、ロードセル検出値Fの
A/D変換とほぼ同時にその補正後出力データF1“を
取出すことが望ましい。 以上の実施例では成長結晶4を回転させた場合について
説明したが、ルツボ2を回転させた場合でも同様にでき
る。また補正値データ (=ΔF”)は補正値RAM3
7に演算結果を格納しているが、装置のキャリブレーシ
ョン時に計測し、ROMにより実現してもよい。
【発明の効果】
この発明によれば、ロードセル出力の誤差信号のうち、
結晶成長の間、結晶とルツボとの間に相対的な回転を与
えるために発生する誤差項を補償することとしたので、
結晶成長の制御ループを安定させ、断面径のより均一な
単結晶を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例としての基本構成を示すブロ
ック図、第2図は同じく、第1図中の補正回路の細部構
成を示すブロック図、第3図ないし第5図はロードセル
検出値に含まれる誤差項の説明図、第6図は補正値RA
M領域の構成図、第7図は第1図に対応する従来のブロ
ック図である・1:溶融体、2ニルツボ、3:ヒータ、
4:結晶、5:引上棒、6°:ロードセル、7:引上用
モータ、8:回転用モータ、10:制御回路、II:電
力制御装置、12:加熱装置、20:回転角センサ、2
1:補正回路、F:ロードセル検出値、F“ 二ロード
セル検出データ、ΔF=誤差項、−ΔF1 :補正値デ
ータ、Fl:ロードセル重量検出値、Fl″:補正後出
力データ、20a:回転角センサ出力、31a:回転角
データ。 オ 1 図 LJ×に基軸(ロード上1カ転軸) 第3図 第4− 回卓1センg(エンコーダ苓の基準溝−回転山子一タ3
1a       柿辱(HEX)       丁−
夕 廿  ■ 56図 47囚

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)ロードセルを介し吊下げられた単結晶保持手段を用
    いて単結晶を保持し、この単結晶保持手段を所定の回転
    周期で回転させつつ、所定の引上速度で引上げることに
    より、電力によって加熱される溶融体から前記単結晶を
    成長させつつ引上げ、この引上げの間、前記電力を前記
    ロードセルからの重量検出値に基づいて制御する単結晶
    引上制御装置において、 前記単結晶保持手段の回転角を検出する回転角検出手段
    と、 前記回転角ごとの前記ロードセルの検出値から、少なく
    とも前記回転周期で変化する成分を取除いた値を前記重
    量検出値とするロードセル検出値補正手段と、を備えた
    ことを特徴とする単結晶引上制御装置。
JP14987187A 1987-06-16 1987-06-16 単結晶引上制御装置 Pending JPS63315591A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14987187A JPS63315591A (ja) 1987-06-16 1987-06-16 単結晶引上制御装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14987187A JPS63315591A (ja) 1987-06-16 1987-06-16 単結晶引上制御装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63315591A true JPS63315591A (ja) 1988-12-23

Family

ID=15484472

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14987187A Pending JPS63315591A (ja) 1987-06-16 1987-06-16 単結晶引上制御装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63315591A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63242991A (ja) 結晶径制御方法
KR950004788B1 (ko) 관상결정체 성장장치의 제어시스템
JPS5943439B2 (ja) 2相の液体/固体システムの凝固を制御する方法と装置
JPS5848517B2 (ja) ケツシヨウセイチヨウノ ジドウセイギヨソウチ
RU2423559C2 (ru) Способ выращивания монокристалла сапфира на затравочном кристалле, остающемся в расплаве, в автоматическом режиме
JPS63315591A (ja) 単結晶引上制御装置
Yoshimoto et al. Sound velocity measurements of molten germanium
JP2649052B2 (ja) 結晶育成方法および育成装置
JPH0930889A (ja) 半導体単結晶の引上装置
US6294017B1 (en) Growth of semiconductor single crystals
US3259467A (en) Apparatus for pulling rod-shaped crystals of semiconductor material from a melt in acrucible
JPH04219388A (ja) シリコン単結晶の直径制御方法及び装置
Fengquan et al. Solidification parameters of the solid-liquid interface in crystal growth in response to vibration
JPS5848518B2 (ja) 結晶直径の自動制御装置
US5476064A (en) Pull method for growth of single crystal using density detector and apparatus therefor
JPS63139090A (ja) 単結晶の育成方法
JPH0255289A (ja) 高解離圧化合物半導体単結晶成長方法及びその装置
JPH04218705A (ja) シリコン単結晶の直径計測方法及び装置
JPH05208893A (ja) 単結晶引上げ装置およびその制御方法
JPH0193493A (ja) 結晶成長の監視方法
KR940009944B1 (ko) 고해리압 화합물 반도체 단결정 성장방법 및 그 장치
SU899740A1 (ru) Способ контрол диаметра кристалла
JPH07257990A (ja) 単結晶引上げ方法
JPH03159984A (ja) 単結晶育成装置および単結晶育成方法
Kakimoto et al. Correlation between temperature and impurity concentration fluctuations in silicon crystals grown by the Czochralski method