JPS63311737A - 回転型カセット装填装置 - Google Patents
回転型カセット装填装置Info
- Publication number
- JPS63311737A JPS63311737A JP62147521A JP14752187A JPS63311737A JP S63311737 A JPS63311737 A JP S63311737A JP 62147521 A JP62147521 A JP 62147521A JP 14752187 A JP14752187 A JP 14752187A JP S63311737 A JPS63311737 A JP S63311737A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- center
- cassette
- stage
- sample
- rotation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005484 gravity Effects 0.000 abstract description 16
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- SEPPVOUBHWNCAW-FNORWQNLSA-N (E)-4-oxonon-2-enal Chemical compound CCCCCC(=O)\C=C\C=O SEPPVOUBHWNCAW-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- LLBZPESJRQGYMB-UHFFFAOYSA-N 4-one Natural products O1C(C(=O)CC)CC(C)C11C2(C)CCC(C3(C)C(C(C)(CO)C(OC4C(C(O)C(O)C(COC5C(C(O)C(O)CO5)OC5C(C(OC6C(C(O)C(O)C(CO)O6)O)C(O)C(CO)O5)OC5C(C(O)C(O)C(C)O5)O)O4)O)CC3)CC3)=C3C2(C)CC1 LLBZPESJRQGYMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N azaperone Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C(=O)CCCN1CCN(C=2N=CC=CC=2)CC1 XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明は電子ビーム描画装置、精密測定機器。
エネルギービーム加工装置等に用いられ、試料を回転さ
せつつ保持するカセットを機器本体に装填するための回
転型カセット装填装置に関するものである。
せつつ保持するカセットを機器本体に装填するための回
転型カセット装填装置に関するものである。
（従来技術）
例えばフレネルレンズ等の微細なパターンを円板状の試
料に描画して形成するためには電子ビーム等によるパタ
ーン描画が用いられる。電子ビームによるパターン描画
は例えば第５図に示すように真空中の回転ステージ１０
０上に試料１０１を押さえ部材１０２を用いて保持して
回転させると共に、電子ビームの照射位置を回転毎にず
らせることによって同心円上の微細なパターンを描画し
ている。このように電子ビームの描画装置においては試
料を回転させるための回転ステージが設けられるが、回
転ステージの中心に正確に試料を固定する必要がある。
料に描画して形成するためには電子ビーム等によるパタ
ーン描画が用いられる。電子ビームによるパターン描画
は例えば第５図に示すように真空中の回転ステージ１０
０上に試料１０１を押さえ部材１０２を用いて保持して
回転させると共に、電子ビームの照射位置を回転毎にず
らせることによって同心円上の微細なパターンを描画し
ている。このように電子ビームの描画装置においては試
料を回転させるための回転ステージが設けられるが、回
転ステージの中心に正確に試料を固定する必要がある。
（発明が解決しようとする問題点）
しかるに試料の中心と回転ステージの回転中心とが一致
していなければ試料の重心も回転中心とは異なることと
なる。従って回転ステージを回転させた場合には、試料
に正確に同心円上のパターンを形成することができない
。又試料の重心と回転中心も異なっているため試料に遠
心力が加わり、回転ムラが生じたり試料が移動したりす
る可能性があるという問題点があった。従って加工前に
は必ず試料の重心を回転ステージの回転中心と一致させ
るために調整作業が複雑となる。又描画時には真空中で
試料を回転させる必要があるため調整の毎に真空環境か
ら大気中に戻さなければならない。従って試料を回転ス
テージ上に設置する際の作業性が悪いという問題点があ
った。又１つの試料を描画した後他の試料を回転ステー
ジ上に設置するためには、一旦大気状態に戻して試料を
取り外し再び他の試料を配置する必要があり、作業能率
が悪いという問題点もあった。
していなければ試料の重心も回転中心とは異なることと
なる。従って回転ステージを回転させた場合には、試料
に正確に同心円上のパターンを形成することができない
。又試料の重心と回転中心も異なっているため試料に遠
心力が加わり、回転ムラが生じたり試料が移動したりす
る可能性があるという問題点があった。従って加工前に
は必ず試料の重心を回転ステージの回転中心と一致させ
るために調整作業が複雑となる。又描画時には真空中で
試料を回転させる必要があるため調整の毎に真空環境か
ら大気中に戻さなければならない。従って試料を回転ス
テージ上に設置する際の作業性が悪いという問題点があ
った。又１つの試料を描画した後他の試料を回転ステー
ジ上に設置するためには、一旦大気状態に戻して試料を
取り外し再び他の試料を配置する必要があり、作業能率
が悪いという問題点もあった。
本発明はこのような従来の問題点に鑑みてなされたもの
であって、試料をカセット上に保持することによって試
料の交換を容易にすると共に、カセットの重心と回転ス
テージの回転中心とを常に一致させるようにすることを
技術的課題とする。
であって、試料をカセット上に保持することによって試
料の交換を容易にすると共に、カセットの重心と回転ス
テージの回転中心とを常に一致させるようにすることを
技術的課題とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明は試料を保持するカセット部と、上面にカセット
部を保持して回転させる回転ステージ部とを有し、試料
に微細なパターンを描画する描画装置に用いられる回転
型カセット装填装置であって、第１図及び第２図に示す
ように、カセット部は、円板形でその中心下面に突出す
る円錐形の中心軸を有し、その上面に固定された試料を
保持する試料台と、中心位置に試料台を保持する環状枠
型の部材であって下面に開口部が狭くなるよう構成され
たテーパ状の円形の窪みを有するカセット枠と、を有す
るものであり、回転ステージ部は、中央上面に円錐形の
溝を有するセンターリングと、回転軸に一体に固定され
センターリングの溝を該回転中心とすべくその中心に弾
性的に保持すると共に、側方に仮バネの先端に設けられ
た押圧部材を保持し、該押圧部材を押圧部材力セント枠
のテーパ状開口に嵌入させて少な（とも回転時にカセソ
１−枠を固定する回転ステージ枠と、を有することを特
徴とするものである。
部を保持して回転させる回転ステージ部とを有し、試料
に微細なパターンを描画する描画装置に用いられる回転
型カセット装填装置であって、第１図及び第２図に示す
ように、カセット部は、円板形でその中心下面に突出す
る円錐形の中心軸を有し、その上面に固定された試料を
保持する試料台と、中心位置に試料台を保持する環状枠
型の部材であって下面に開口部が狭くなるよう構成され
たテーパ状の円形の窪みを有するカセット枠と、を有す
るものであり、回転ステージ部は、中央上面に円錐形の
溝を有するセンターリングと、回転軸に一体に固定され
センターリングの溝を該回転中心とすべくその中心に弾
性的に保持すると共に、側方に仮バネの先端に設けられ
た押圧部材を保持し、該押圧部材を押圧部材力セント枠
のテーパ状開口に嵌入させて少な（とも回転時にカセソ
１−枠を固定する回転ステージ枠と、を有することを特
徴とするものである。
（作用）
このような特徴を有する本発明によれば、上面に試料を
有するカセット部を回転ステージ上に保持するようにし
ている。そしてカセット部の試料台はその中心下面位置
に円錐状の突起を有しており、回転ステージは中心のセ
ンターリングに円錐形の溝を設けてカセットの回転中心
を保持するようにしている。回転ステージの下方には側
方に突出する押圧部材が設けられているためカ七ノド部
のテーパ状の開口の側面を押圧してカセ、）部を固定す
る。従ってカセット部は自動的に回転ステージの中心に
保持されることとなる。
有するカセット部を回転ステージ上に保持するようにし
ている。そしてカセット部の試料台はその中心下面位置
に円錐状の突起を有しており、回転ステージは中心のセ
ンターリングに円錐形の溝を設けてカセットの回転中心
を保持するようにしている。回転ステージの下方には側
方に突出する押圧部材が設けられているためカ七ノド部
のテーパ状の開口の側面を押圧してカセ、）部を固定す
る。従ってカセット部は自動的に回転ステージの中心に
保持されることとなる。
（発明の効果）
そのため本発明によれば、試料をあ−らかしめカセット
の中心に固定すると共に、カセットの重心をその中心位
置とするように調整するだけで試１′４の中心軸と回転
ステージの回転中心とを正確に一致させることができる
。又回転時にも試１’４の偏心がなくなり、パターンの
描画精度を向上することができる。又試料が移動したり
回転ムラが生じる恐れもないという効果が得られる。
の中心に固定すると共に、カセットの重心をその中心位
置とするように調整するだけで試１′４の中心軸と回転
ステージの回転中心とを正確に一致させることができる
。又回転時にも試１’４の偏心がなくなり、パターンの
描画精度を向上することができる。又試料が移動したり
回転ムラが生じる恐れもないという効果が得られる。
〔実施例の説明〕
（第１実施例の説明）
第１図（ａｌは本発明の一実施例による回転ステージに
カセットを装着した状態を示す上面図、第１図（ｂｌは
そのＡ−Ａ線断面図であり、第２図は試料を保持するカ
セット部を示す断面図、第３図は回転ステージのみの構
造を示す断面図である。これらの図において回転軸１上
には回転ステージ２が回転自在に保持されており、回転
ステージ２上に試料を保持するカセット部３が取付けら
れる。回転ステージ２は回転軸Ｉに垂直に固定され中央
部に円形の窪みを有するステージ枠１１を有しており、
その上面の開口部内側には環状の仮バネ取付部材１２が
固定されている。取付部材１２の内周は図示のように２
枚の平板形環状板バ＄１３．１゛ ４を介してセンター
リング１５が設けられる。センターリング１５の上面に
は中心が回転軸１の回転中心と一致し断面がＶ字形とな
る円錐形の溝１５ａが設けられる。又回転ステージ枠１
１の側面には１２０°毎に中心より対称な位置に図示の
ように側方に突出する板バネ１６２〜１６Ｃが設けられ
る。そして板バネ１６２〜１６ｃの先端には略円弧状の
カセット押圧部材１７ａ〜１７ｃが外向きに取付けられ
ている。
カセットを装着した状態を示す上面図、第１図（ｂｌは
そのＡ−Ａ線断面図であり、第２図は試料を保持するカ
セット部を示す断面図、第３図は回転ステージのみの構
造を示す断面図である。これらの図において回転軸１上
には回転ステージ２が回転自在に保持されており、回転
ステージ２上に試料を保持するカセット部３が取付けら
れる。回転ステージ２は回転軸Ｉに垂直に固定され中央
部に円形の窪みを有するステージ枠１１を有しており、
その上面の開口部内側には環状の仮バネ取付部材１２が
固定されている。取付部材１２の内周は図示のように２
枚の平板形環状板バ＄１３．１゛ ４を介してセンター
リング１５が設けられる。センターリング１５の上面に
は中心が回転軸１の回転中心と一致し断面がＶ字形とな
る円錐形の溝１５ａが設けられる。又回転ステージ枠１
１の側面には１２０°毎に中心より対称な位置に図示の
ように側方に突出する板バネ１６２〜１６Ｃが設けられ
る。そして板バネ１６２〜１６ｃの先端には略円弧状の
カセット押圧部材１７ａ〜１７ｃが外向きに取付けられ
ている。
一方カセント部３は回転ステージ２より大きい開口を有
する環状のカセット枠２１を有しており、その上面には
試料台２２が設けられる。試料台２２は上面に試料を保
持する円板であって、底面が小さくなるようテーバ状に
形成されている。そして試料台２２の中心には第２図に
示すように下方に突出する円錐形の回転中心軸２３が設
けられている。さてカセット枠２１には第１図及び第２
図に示すように側方より中心に向かって３ケ所にメネジ
２４ａ〜２４ｃが切られており、そのメネジに噛合する
３個の止めネジ２５ａ〜２５Ｃによって試料台２２が保
持される。又メネジ２４ａ〜２４Ｃにはカセット部３の
重心を調整するための調整ネジ２６３〜２６ｃが設けら
れている。さてカセット枠２１は下方に平たい円形の窪
み２１ａを有しており、この窪み２１ａは図示のように
下方の開口が狭くなるようにテーバ状に形成されている
。又窪み２１ａの開口は前述した回転ステージ２のステ
ージ枠１１よりわずかに広くなるように構成される。
する環状のカセット枠２１を有しており、その上面には
試料台２２が設けられる。試料台２２は上面に試料を保
持する円板であって、底面が小さくなるようテーバ状に
形成されている。そして試料台２２の中心には第２図に
示すように下方に突出する円錐形の回転中心軸２３が設
けられている。さてカセット枠２１には第１図及び第２
図に示すように側方より中心に向かって３ケ所にメネジ
２４ａ〜２４ｃが切られており、そのメネジに噛合する
３個の止めネジ２５ａ〜２５Ｃによって試料台２２が保
持される。又メネジ２４ａ〜２４Ｃにはカセット部３の
重心を調整するための調整ネジ２６３〜２６ｃが設けら
れている。さてカセット枠２１は下方に平たい円形の窪
み２１ａを有しており、この窪み２１ａは図示のように
下方の開口が狭くなるようにテーバ状に形成されている
。又窪み２１ａの開口は前述した回転ステージ２のステ
ージ枠１１よりわずかに広くなるように構成される。
こうして構成されたカセット部３の試料台２２の中心に
あらかじめ所定の試料４を装着する。そして試料を装着
した状態でカセット部３、即ちカセット枠２１と試料台
２２及びその上面に固定された試料４の重心を試料台２
２の下方に設けられる円錐状の回転中心軸２３の中心に
一致させるように重心調整ネジ２６２〜２６Ｃを用いて
調整する。これらのネジを調整することによってカセソ
ｌ一部３全体の重心をあらかじめ回転中心軸２３に正確
に一致させるようにしている。こうして構成されたカセ
ット部３を回転ステージ２の中心と一致するようにして
垂直に押下することによって装着する。このとき力セン
ト部３の試料台２２に設けられた回転中心軸２３の突起
が回転ステージ２のセンターリング１５の溝１５ａに係
合するため、カセット部３の重心と回転ステージ２の回
転中心とが一致する。更に装着時にはセンターリング１
５がわずかに押し下げられた状態となり、カセット押圧
部材１７ａ〜１７ｃによってカセット枠２１のテーパ状
窪み２１．］の側壁が当接し中心から周囲方向に押圧さ
れるため、回転ステージ２の中心にカセット部３が固定
される。従ってカセット部３を回転ステージ２の枠部に
押し込むだけでカセット部３の重心及び試料４の中心は
回転ステージ２の回転中心位置と一致して保持されるこ
ととなる。
あらかじめ所定の試料４を装着する。そして試料を装着
した状態でカセット部３、即ちカセット枠２１と試料台
２２及びその上面に固定された試料４の重心を試料台２
２の下方に設けられる円錐状の回転中心軸２３の中心に
一致させるように重心調整ネジ２６２〜２６Ｃを用いて
調整する。これらのネジを調整することによってカセソ
ｌ一部３全体の重心をあらかじめ回転中心軸２３に正確
に一致させるようにしている。こうして構成されたカセ
ット部３を回転ステージ２の中心と一致するようにして
垂直に押下することによって装着する。このとき力セン
ト部３の試料台２２に設けられた回転中心軸２３の突起
が回転ステージ２のセンターリング１５の溝１５ａに係
合するため、カセット部３の重心と回転ステージ２の回
転中心とが一致する。更に装着時にはセンターリング１
５がわずかに押し下げられた状態となり、カセット押圧
部材１７ａ〜１７ｃによってカセット枠２１のテーパ状
窪み２１．］の側壁が当接し中心から周囲方向に押圧さ
れるため、回転ステージ２の中心にカセット部３が固定
される。従ってカセット部３を回転ステージ２の枠部に
押し込むだけでカセット部３の重心及び試料４の中心は
回転ステージ２の回転中心位置と一致して保持されるこ
ととなる。
（第２実施例の説明）
前述した第１実施例では回転ステージ２の側方に板バネ
１６２〜１６Ｃを介して押圧部材１７ａ〜１７ｃを突出
させ、板バネのバネ力によってカセット部を回転ステー
ジの中心位置に保持するようにしている。しかし第４図
に示すようにこの板バネ１６ａ〜１６ｃを外向きに突出
させないようにしてもよい。その他の構成は前述した第
１実施例と同様である。こうすればカセット部３を回転
ステージ２に装着しても回転ステージ２を回転させなけ
れば押圧部材１７ａ〜１７ｃはカセット部３のテーパ状
窪み２１の側壁に当接することがなく、カセット部３は
固定されない。しかし回転ステージ２を所定速度以上で
回転させれば、遠心力によって押圧部材１７ａ−１７ｃ
がカセット部３のテーパ状溝２１ａに当接することとな
り、同一の力でカセット部の開口側壁を押圧するため正
確にカセット部を回転ステージの中心位置に保持するこ
とができる。
１６２〜１６Ｃを介して押圧部材１７ａ〜１７ｃを突出
させ、板バネのバネ力によってカセット部を回転ステー
ジの中心位置に保持するようにしている。しかし第４図
に示すようにこの板バネ１６ａ〜１６ｃを外向きに突出
させないようにしてもよい。その他の構成は前述した第
１実施例と同様である。こうすればカセット部３を回転
ステージ２に装着しても回転ステージ２を回転させなけ
れば押圧部材１７ａ〜１７ｃはカセット部３のテーパ状
窪み２１の側壁に当接することがなく、カセット部３は
固定されない。しかし回転ステージ２を所定速度以上で
回転させれば、遠心力によって押圧部材１７ａ−１７ｃ
がカセット部３のテーパ状溝２１ａに当接することとな
り、同一の力でカセット部の開口側壁を押圧するため正
確にカセット部を回転ステージの中心位置に保持するこ
とができる。
第１図（ａ）は本発明の一実施例によるカセット装填装
置の構造を示す上面図、第１図（ｂ）はそのＡ−Ａ線断
面図、第２図はカセット部、第３図は回転ステージを夫
々示す断面図、第４図は本発明の第２の実施例による回
転ステージの断面図、第５図（ａ）は従来の電子ビーム
描画装置の回転ステージ部分を示す上面図、第５図（ｂ
ｌはその側面図である。 １−−−−一回転軸 ２−−−−−一回転ステージ
３−−−−−・−カセット部 ４−−−一試料
１１−・−回転ステージ台 １２−・−一−−−取付
部材 １５−・−センターリング １５ ａ−−−
−−−−ａｌ ６ ａ〜１６ ｃ −−板バネ １７
ａ〜１７ ｃ−−−−−−カセット押圧部材 ２１−
−−−一カセント枠 ２２−−−−−試料台２４ ａ
〜２４ ｃ −−−−−−−メネジ ２５ａ〜２５
ｃｍ−止めネジ ２６ ａ 〜２６ ｃ−−−−−−
一調整ネジ特許出願人 立石電機株式会社 代理人 弁理士 岡本宜喜（他１名） 第１図（ａ） 第 １ 図（ｂ） １・−−−−一回転軸 ２１−・−−一カセ、ト怪 第２図 第３図 ２・・−−−−一一−−目扛又う−ブ ３−−−−−−−−−・カーフ１戸 １６ａ〜１６ｃｍ−−−・板バネ １７ａ〜１７ｃｍ＝−ｈｉ、＝ ト＋〒ｉｎｎ第４図 第５図（ａ） 第５図（ｂ）
置の構造を示す上面図、第１図（ｂ）はそのＡ−Ａ線断
面図、第２図はカセット部、第３図は回転ステージを夫
々示す断面図、第４図は本発明の第２の実施例による回
転ステージの断面図、第５図（ａ）は従来の電子ビーム
描画装置の回転ステージ部分を示す上面図、第５図（ｂ
ｌはその側面図である。 １−−−−一回転軸 ２−−−−−一回転ステージ
３−−−−−・−カセット部 ４−−−一試料
１１−・−回転ステージ台 １２−・−一−−−取付
部材 １５−・−センターリング １５ ａ−−−
−−−−ａｌ ６ ａ〜１６ ｃ −−板バネ １７
ａ〜１７ ｃ−−−−−−カセット押圧部材 ２１−
−−−一カセント枠 ２２−−−−−試料台２４ ａ
〜２４ ｃ −−−−−−−メネジ ２５ａ〜２５
ｃｍ−止めネジ ２６ ａ 〜２６ ｃ−−−−−−
一調整ネジ特許出願人 立石電機株式会社 代理人 弁理士 岡本宜喜（他１名） 第１図（ａ） 第 １ 図（ｂ） １・−−−−一回転軸 ２１−・−−一カセ、ト怪 第２図 第３図 ２・・−−−−一一−−目扛又う−ブ ３−−−−−−−−−・カーフ１戸 １６ａ〜１６ｃｍ−−−・板バネ １７ａ〜１７ｃｍ＝−ｈｉ、＝ ト＋〒ｉｎｎ第４図 第５図（ａ） 第５図（ｂ）
Claims (1)
- （１）試料を保持するカセット部と、上面に前記カセッ
ト部を保持して回転させる回転ステージ部とを有し、前
記試料に微細なパターンを描画する描画装置に用いられ
る回転型カセット装填装置であって、 前記カセット部は、 円板形でその中心下面に突出する円錐形の中心軸を有し
、その上面に固定された試料を保持する試料台と、 中心位置に前記試料台を保持する環状枠型の部材であっ
て下面に開口部が狭くなるよう構成されたテーパ状の円
形の窪みを有するカセット枠と、を有するものであり、 前記回転ステージ部は、 中央上面に円錐形の溝を有するセンターリングと、 回転軸に一体に固定され前記センターリングの溝を該回
転中心とすべくその中心に弾性的に保持すると共に、側
方に板バネの先端に設けられた押圧部材を保持し、該押
圧部材を前記押圧部材カセット枠のテーパ状開口に嵌入
させて少なくとも回転時に前記カセット枠を固定する回
転ステージ枠と、を有するものであることを特徴とする
回転型カセット装填装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62147521A JPS63311737A (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 回転型カセット装填装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62147521A JPS63311737A (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 回転型カセット装填装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63311737A true JPS63311737A (ja) | 1988-12-20 |
Family
ID=15432204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62147521A Pending JPS63311737A (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 回転型カセット装填装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63311737A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006222262A (ja) * | 2005-02-10 | 2006-08-24 | Mitsubishi Electric Corp | マスク位置合わせ装置 |
| CN113808977A (zh) * | 2020-06-16 | 2021-12-17 | 大立钰科技有限公司 | 晶圆存取总成及其晶圆存取装置与晶圆载具 |
-
1987
- 1987-06-12 JP JP62147521A patent/JPS63311737A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006222262A (ja) * | 2005-02-10 | 2006-08-24 | Mitsubishi Electric Corp | マスク位置合わせ装置 |
| JP4648028B2 (ja) * | 2005-02-10 | 2011-03-09 | 三菱電機株式会社 | マスク位置合わせ装置 |
| CN113808977A (zh) * | 2020-06-16 | 2021-12-17 | 大立钰科技有限公司 | 晶圆存取总成及其晶圆存取装置与晶圆载具 |
| CN113808977B (zh) * | 2020-06-16 | 2023-12-12 | 大立钰科技有限公司 | 晶圆存取总成及其晶圆存取装置与晶圆载具 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0298923A (ja) | 薄い基板用の支持装置 | |
| JP2002319613A (ja) | ウェーハ保持装置 | |
| US4443098A (en) | Pellicle mounting fixture | |
| JPH0610775B2 (ja) | 円形基板の位置決め装置 | |
| US3486237A (en) | Positioning tool for vacuum chamber workholder | |
| JPS63311737A (ja) | 回転型カセット装填装置 | |
| JPH053699B2 (ja) | ||
| JP6936161B2 (ja) | 位置決めピンの位置調整に使用される治具セット | |
| JP3763619B2 (ja) | 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 | |
| US2378243A (en) | Method and apparatus for grinding and polishing wedges | |
| JPS63311739A (ja) | 回転型カセット装填装置 | |
| JP2001124543A (ja) | 薄板材の平坦度測定方法および装置 | |
| JP3143896B2 (ja) | 荷電粒子線露光装置 | |
| US3924936A (en) | Method of and apparatus for aligning optical lenses | |
| JPH09260468A (ja) | 電子ビーム描画装置用試料ステージ | |
| JP3412852B2 (ja) | 単結晶インゴットのマーキング装置 | |
| JPS6324619Y2 (ja) | ||
| JP2526199Y2 (ja) | ウェハホルダの固定構造 | |
| JP3254274B2 (ja) | Ｘ線単結晶方位測定装置 | |
| JPH11121596A (ja) | 基板回転保持装置および回転式基板処理装置 | |
| US3876325A (en) | Method of and apparatus for aligning optical lenses | |
| JP2000074859A (ja) | 試料台およびそれを用いた蛍光ｘ線分析装置 | |
| JPS5919353A (ja) | 切削ポイント設定用微調回転治具 | |
| JP2003508736A (ja) | ウェハの歪みを測定するための方法及び装置 | |
| US5777979A (en) | Apparatus for laser exposure of a substrate disk and a method for the centered mounting of a substrate disk |